KR910005070A - 다중-노치 루게이트 필터 및 이의 제어된 제조 방법 - Google Patents

다중-노치 루게이트 필터 및 이의 제어된 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR910005070A
KR910005070A KR1019900012588A KR900012588A KR910005070A KR 910005070 A KR910005070 A KR 910005070A KR 1019900012588 A KR1019900012588 A KR 1019900012588A KR 900012588 A KR900012588 A KR 900012588A KR 910005070 A KR910005070 A KR 910005070A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
optical
profile
refractive index
lugate
Prior art date
Application number
KR1019900012588A
Other languages
English (en)
Other versions
KR930007581B1 (ko
Inventor
티. 홀 제임스
Original Assignee
완다 케이. 덴슨-로우
휴우즈 에어크라프트 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 완다 케이. 덴슨-로우, 휴우즈 에어크라프트 캄파니 filed Critical 완다 케이. 덴슨-로우
Publication of KR910005070A publication Critical patent/KR910005070A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR930007581B1 publication Critical patent/KR930007581B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/289Rugate filters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52Controlling or regulating the coating process
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

다중-노치 루게이트 필터 및 이의 제어된 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는다중 노치 필터 구조의 간단한 예시적인 예로서 이상적인 개략적 트리플-노치, 정현적 루게이트 프로필대 기판상에 코팅된 광학적 작용 물질의 필름 성장을 도시한 도면.
제2a도는 트리플-노치 필터의 경우에서 굴절을 프로필 대 성장 두께를 그래프로 나타내어, 이상적인 무에러 프로필에 관련하여 랜덤 및 체계적인 공정 에러에 종속되는 시뮬레이트된 굴절율 프로필을 비교한 도면.
제2b도는 반사율 대 제2a도에 주어진 굴절율 프로필들의 파장을 그래프로 나타낸 도면.

Claims (13)

  1. 층의 두께의 함수로서 연속적인 선정된 패턴에 따라 변화하는 굴절율을 갖는 광학 물질의 층이 위에 형성된 기판을 포함하는 다중-노치 루게이트 필터를 형성하기 위한 방법에 있어서, (a)상기 기판을 제공하는 단계, (b)상기 기판상의 층으로서 상기 광학 물질을 형성하도록 물리적 또는 화학적으로 상호작용하는 반응물들을 제공하는 단계, (c)중첩된 단일-노치 패턴으로부터 형성된 다중-노치 합성 필터를 갖는 프로필인 굴절율의 이상적인 타겟 프로필 대 상기 층의 두께를 제공하여, 상기 프로필에 따르는 점들에 대응하는 시간에서의 연속점들에서 광학 두께의 상기 타겟 프로필의 이상적인 값들로부터 결정하는 단계, (d) 상기 이상적인 타켓 프로필을 갖는 상기 층을 형성하도록 동작되는 상기 반응물들에 시간의 함수로서 타겟 공정 조건들을 제공하는 단계, (e)피착 프로필을 갖는 층을 형성하기 위해서 상기 공정 조건들을 초기 설정하는 단계, (f) 피착된 만큼의 상기 층의 광학 두께의 측정된 증가들을 상기 광학 신호로부터 결정하여 광학 두께의 상기 증가들을 연속적으로 모니터하는 단계, (h) 상기 광학 두께 값이 상기 이상적인 타겟 프로필을 발생시키는 상기 타겟 공정 조건들에 관련하여 선정된 시간에서 측정되는지 여부를 결정하는 단계, (i)(h)단계의 결과들에 기초하여, 상기 이상적인 타겟 프로필을 정확하게 따르기 위해서 요구되는 굴절율의 피착 프로필 대 상기 층의 두께로 되도록 다중 정현적 위상-각 조정들을 결정하는 단계, (j)상기 조정들을 상기 실질 프로필에 제공하도록 시간에 걸쳐서 상기 공정 조건들을 변경하는 단계, (k)상기 다중-노치 루게이트 필터를 형성하는데 필요한 횟수로 단게 "f" 내지"j"를 반복하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, (a)단계"h"에서의 상기 광학 두께값이 상기 선정된 시간 이후에 측정되고, (b)단계"i"에서의 상기 조정들이 연속적인 수평 세그멘트 조정을 상기 피착 프로필에 명령하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, (a)단계 "h"에서의 상기 광학 두께값이 상기 선정된 시간 이전에 측정되고, (b)단계 "i"에서의 상기 조정들이 수직 세그멘트 조정을 상기 피착 프로필에 명령하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, (a)단계 "h"에서의 상기 광학 두께 값이 상기 선정된 시간에서 측정되고, (b)상기 조정들이 제로인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 단계 "c"내지 "k"가 컴퓨터 제어하에 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 광학 모니터링 단계 "f"가 상기 광 비임이 광학검출기 수단내로 수직 또는 거의 수직인 입사각으로 상기 층에서 반사되거나 상기 층을 통해 전송되도록 피착된 상기 층에서 광학 모니터링광 비임을 향하는 것을 포함하고, 상기 검출기 수단이 상기 검출기 내로 유도된 상기 광 비임의 함수인 상기 광학 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 반응물들이 방사선 유도시 화학적으로 상호작용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 반응물들이 실란 및 이산화 질소를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 요구되는 상기 다중 정현적 위상-각 조정들의 상기 결정이 다음 식
  10. 여기서, n=광학물질의 굴절율,=필름 두께 공간(z)에서의 한 주기에 걸친 평균 굴절율, m=루게이트 전송 노치의 총수, z=층의 설계 위치,i=성분 정수, △ni=i번째 피크-골 굴절율 변조, λi= i번째 노치 파장, φi**=λΔi에서의 브래그 반사를 보증하기 위해서 알고리즘에 의해 연속적로 갱신되는 i번째 정현 위상 각 조정,*=φi에 의해 보상되는 국부 에러들을 가질 수 있는 파라메타들을 적용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항의 방법에 의해 형성된 다중-노치 루게이트 필터에 있어서, 상기 필터가 파장의 다중 대역을에서 반사를 발생시키고, 파장의 각각의 상기 대역에서의 상기 반사가 브래그 법칙을 따르는 것을 특징으로 하는 다중-노치 루게이트 필터.
  12. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900012588A 1989-08-17 1990-08-16 다중-노치 루게이트 필터 및 그 제조방법 KR930007581B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US394,909 1989-08-17
US07/394,909 US5009485A (en) 1989-08-17 1989-08-17 Multiple-notch rugate filters and a controlled method of manufacture thereof
US394.909 1989-08-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR910005070A true KR910005070A (ko) 1991-03-29
KR930007581B1 KR930007581B1 (ko) 1993-08-13

Family

ID=23560896

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900012588A KR930007581B1 (ko) 1989-08-17 1990-08-16 다중-노치 루게이트 필터 및 그 제조방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5009485A (ko)
EP (1) EP0416251B1 (ko)
JP (1) JP2542114B2 (ko)
KR (1) KR930007581B1 (ko)
DE (1) DE69009909T2 (ko)
HK (1) HK107094A (ko)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5525156A (en) * 1989-11-24 1996-06-11 Research Development Corporation Apparatus for epitaxially growing a chemical compound crystal
US5472748A (en) * 1990-10-15 1995-12-05 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Permanent laser conditioning of thin film optical materials
US5181143A (en) * 1991-10-03 1993-01-19 Rockwell International Corporation Multiple line rugate filter with index clipping
GB9206463D0 (en) * 1992-03-25 1992-07-22 Marconi Gec Ltd Head-up display system
US5289314A (en) * 1992-03-25 1994-02-22 Hughes Aircraft Company Coatings for laser detector etalons
US5293548A (en) * 1992-03-25 1994-03-08 Hughes Aircraft Company Dispersive rugate coatings
US5432638A (en) * 1992-04-03 1995-07-11 Hughes Aircraft Company Spatially tunable rugate narrow reflection band filter and applications therefor
US5488511A (en) * 1992-04-03 1996-01-30 Hughes Aircraft Company Spatially tunable rugate narrow reflection band filter
US5258872A (en) * 1992-10-01 1993-11-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Optical filter
US5354575A (en) * 1993-04-16 1994-10-11 University Of Maryland Ellipsometric approach to anti-reflection coatings of semiconductor laser amplifiers
RU2125620C1 (ru) * 1993-04-16 1999-01-27 Либби-Оуэнс-Форд Ко. Способ нанесения покрытия на поверхность основы (варианты) и устройство для их осуществления
EP0623834A1 (en) * 1993-05-06 1994-11-09 Hughes Aircraft Company Rugate filter having suppressed harmonics
US5330610A (en) * 1993-05-28 1994-07-19 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Method of digital epilaxy by externally controlled closed-loop feedback
EP0665577A1 (en) * 1994-01-28 1995-08-02 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for monitoring the deposition rate of films during physical vapour deposition
US5549756A (en) * 1994-02-02 1996-08-27 Applied Materials, Inc. Optical pyrometer for a thin film deposition system
US5928713A (en) * 1994-09-22 1999-07-27 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method for fabricating a gradient refractive index optical filter
US5472505A (en) * 1994-12-19 1995-12-05 Electronics & Telecommunications Research Institute Apparatus for monitoring films during MOCVD
USH1572H (en) * 1995-01-03 1996-08-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Wavelength stabilizing laser mirror
US5724189A (en) * 1995-12-15 1998-03-03 Mcdonnell Douglas Corporation Methods and apparatus for creating an aspheric optical element and the aspheric optical elements formed thereby
US5871805A (en) * 1996-04-08 1999-02-16 Lemelson; Jerome Computer controlled vapor deposition processes
US6162488A (en) * 1996-05-14 2000-12-19 Boston University Method for closed loop control of chemical vapor deposition process
DE19747597B4 (de) * 1997-02-12 2006-10-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur Darstellung statischer und bewegter Bilder unter Verwendung einer Bildwand, Bildwand sowie Verfahren zur Darstellung und zur Herstellung
US6038525A (en) * 1997-04-30 2000-03-14 Southwest Research Institute Process control for pulsed laser deposition using raman spectroscopy
US6453264B1 (en) 1997-04-30 2002-09-17 Southwest Research Institute Surface flaw detection using spatial raman-based imaging
US6342265B1 (en) * 1997-08-20 2002-01-29 Triumf Apparatus and method for in-situ thickness and stoichiometry measurement of thin films
US6179039B1 (en) 1999-03-25 2001-01-30 Visteon Global Technologies, Inc. Method of reducing distortion in a spray formed rapid tool
EP1229356A3 (en) * 2001-01-31 2004-01-21 Planar Systems, Inc. Methods and apparatus for the production of optical filters
JP3848571B2 (ja) * 2001-12-28 2006-11-22 Hoya株式会社 薄膜形成方法及び装置
AU2002364719A1 (en) * 2001-12-31 2003-07-24 Tokyo Electron Limited Method of fault detection for material process system
JP2003342728A (ja) * 2002-05-24 2003-12-03 Alps Electric Co Ltd 光学薄膜の成膜装置及び成膜方法
US6956702B2 (en) * 2003-04-23 2005-10-18 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Projector with spectral filter
FR2859485B1 (fr) * 2003-09-04 2006-09-15 Essilor Int Procede de realisation d'un traitement anti-reflets sur un substrat optique, substrat optique obtenu par ce procede et dispositif de mise en oeuvre du procede
US7901870B1 (en) 2004-05-12 2011-03-08 Cirrex Systems Llc Adjusting optical properties of optical thin films
US7565084B1 (en) 2004-09-15 2009-07-21 Wach Michael L Robustly stabilizing laser systems
US7130062B2 (en) * 2005-01-28 2006-10-31 Raytheon Company Rapid-response electron-beam deposition system having a controller utilizing leading and trailing deposition indicators
GB0516477D0 (en) * 2005-08-11 2005-09-14 Optical Reference Systems Ltd Apparatus for measuring semiconductor physical characteristics
US7903338B1 (en) 2006-07-08 2011-03-08 Cirrex Systems Llc Method and system for managing light at an optical interface
EP3208520B1 (en) * 2014-10-16 2023-05-03 Toppan Printing Co., Ltd. Quantum dot protective film, quantum dot film using same, and backlight unit
CN111687143B (zh) * 2020-05-20 2021-09-24 中国民用航空飞行学院 一种飞机蒙皮激光分层除漆的实时监测控制方法及系统

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4332833A (en) * 1980-02-29 1982-06-01 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Method for optical monitoring in materials fabrication
DE3135443A1 (de) * 1981-09-08 1983-03-24 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten
US4545646A (en) * 1983-09-02 1985-10-08 Hughes Aircraft Company Process for forming a graded index optical material and structures formed thereby
US4582431A (en) * 1983-10-11 1986-04-15 Honeywell Inc. Optical monitor for direct thickness control of transparent films
US4676646A (en) * 1985-10-15 1987-06-30 Energy Conversion Devices, Inc. Method and apparatus for controlling thickness of a layer of an optical data storage device by measuring an optical property of the layer
IL79391A (en) * 1985-08-14 1994-06-24 Hughes Aircraft Co Non-spherical patch with a stepped key and a display system that uses it
US4837044A (en) * 1987-01-23 1989-06-06 Itt Research Institute Rugate optical filter systems
US4915476A (en) * 1988-05-31 1990-04-10 Hughes Aircraft Company Single-notch rugate filters and a controlled method of manufacture thereof

Also Published As

Publication number Publication date
EP0416251B1 (en) 1994-06-15
JPH03149501A (ja) 1991-06-26
DE69009909D1 (de) 1994-07-21
EP0416251A3 (en) 1991-10-09
US5009485A (en) 1991-04-23
EP0416251A2 (en) 1991-03-13
JP2542114B2 (ja) 1996-10-09
HK107094A (en) 1994-10-14
KR930007581B1 (ko) 1993-08-13
DE69009909T2 (de) 1994-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910005070A (ko) 다중-노치 루게이트 필터 및 이의 제어된 제조 방법
CA1149209A (en) Evanescent-wave fiber reflector
DE69011918T3 (de) Kodiereinrichtung.
US5361137A (en) Process control for submicron linewidth measurement
US4707611A (en) Incremental monitoring of thin films
US4906844A (en) Phase sensitive optical monitor for thin film deposition
US8736851B2 (en) Film thickness measuring device and film thickness measuring method
CN101329186B (zh) 表面反射编码器标尺和使用该标尺的表面反射编码器
US5000575A (en) Method of fabricating gradient index optical films
JPH02179402A (ja) 光学式膜厚測定装置
US6574395B1 (en) Photowritten Bragg grating apodization method
US5100233A (en) Refractive index monitor for deposition of gradient-index films
KR930020190A (ko) 레이저 검출기 에탈론을 위한 개량된 코팅
US8200448B2 (en) Optical monitor for rugate filter deposition
KR100426045B1 (ko) 다중 박층 구조물의 두께를 결정하는 방법
Stauffer et al. Broadband measurement of electron cyclotron emission in TFTR using a quasioptical light collection system and a polarizing Michelson interferometer
US20020001668A1 (en) Method and apparatus for forming an optical multilayer filter
EP3770652A1 (en) Diffractive optical element
US4970380A (en) Method for optical code pattern enhancement and generation
CN1105924C (zh) 啁啾和切趾函数可调的光纤光栅制作方法
JPH102761A (ja) 光電式エンコーダ
Goebel et al. Multilayer technology for diffractive optical elements
González-Vila et al. Optical power-based interrogation of plasmonic tilted fiber Bragg grating biosensors
DE69125079T2 (de) Gerät zur Detektion von Bewegungsinformation
US4953974A (en) Optical measurement of thin films

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee