KR910000606A

KR910000606A - 신규 제초성 아크릴로니트릴 유도체, 이들의 제조 및 그러한 유도체를 함유하는 제초 조성물

Info

Publication number: KR910000606A
Application number: KR1019890007650A
Authority: KR
Inventors: 길커어슨 테런스; 윌리엄 쇼오 로버트
Original assignee: 오노 알버어스; 셀 인터나쵸 나아레 레사아치 마아츠 샤피 비이부이
Priority date: 1988-06-22
Filing date: 1989-06-03
Publication date: 1991-01-29

Abstract

내용 없음

Description

신규 제초성 아크릴로니트릴 유도체, 이들의 제조 및 그러한 유도체를 함유하는 제초 조성물

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims

하기 일반 구조식(I)의 신규한 제초성 아크릴로 니트릴 유도체 화합물.

상기식에서, R¹및 R²는 각각 독립적으로 알킬기를 나타내며, Z는 질소 원자 또는 치환체 X에 의해 치환되거나 비치환된 CH기를 나타내며 m은 0 또는 1 내지 4의 정수이며, 그 또는 각Y는 독립적으로 할로겐 원자를 나타내며 n은 0 또는 1 내지 5의 정수이며 그 또는 각X는 독립적으로 할로겐 원자 또는 알킬, 할로 알킬, 시아노알킬, 알케닐, 알키닐, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알콕시, 알킬티오, 알케닐티오, 알키닐티오, 시아노, 니트로, 알킬술포닐, 알킬술피닐 및 술폰아미도로부터 선택된 것이다.
제1항에 있어서, R¹및 R²가 같고 각각 메틸기를 나타내는 화합물.
제1항 또는 제2항에 있어서, Z가 비치환된 CH기를 나타내는 화합물.
제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, m이 1이고 Y가 염소 원자이거나, m이 0인 화합물
제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, n이 1 또는 2인 화합물.
제5항에 있어서, 그 또는 각X가 독립적으로 할로겐원자, C_1-6알킬기, C_1-6할로알킬기, C_1-6시아노알킬기, C_1-6알콕시기, C_1-6알킬티오기, C_1-6알킬술피닐기, C_1-6알킬술포닐기, 시아노기 및 니트로기로부터 선택된 화합물.
제6항에 있어서, 그 또는 각X가 독립적으로 불소, 염소 및 브롬원자 및 C_1-4알킬, 트리플루오로메틸, 시아노메틸, 메톡시, 메틸티오, 메틸술피닐, 메틸술포닐, 시아노 및 니트로기로 부터 선택된 화합물.
하기 일반 구조식(II)의 화합물 :

(상기식에서, Z는 질소 원자 또는 치환체 X에 의해 치환되거나 비치환된 CH기를 나타내며 m은 0 또는 1 내지 4의 정수이며, 그 또는 각Y는 독립적으로 할로겐 원자를 나타내며 n은 0 또는 1 내지 5의 정수이며 그 또는 X는 독립적으로 할로겐 원자 또는 알킬, 할로 알킬, 시아노알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐 옥시, 알킬티오, 알케닐티오, 알키닐티오, 시아노, 니트로, 알킬술포닐, 알킬술피닐 및 술폰아미드로 부터 선택된 기를 나타내고 W는 할로겐 원자 또는 시아노메틸기를 나타냄)을 W가 할로겐인 경우, 염기성 조건하에서 디알킬아미노아크릴로니트릴과 반응시키거나 W가 시아노메틸인 경우, 디알킬포름아미드 디알킬아세탈과 또는 트리알킬오르토포름에이트와 반응시킨 후 디알킬 아민과 반응시키거나, 하기 일반 구조식(III)의 화합물 :

(여기서 n,x 및 z는 상기한 바와 같고 L은 이탈기임)을 하기 일반 구조식(IV)의 화합물 :

(상기식에서, R¹및 R²는 각각 독립적으로 알킬기를 나타내며 m, y는 상기한 바와 같음)과 염기 조건하에서 반응시키고 원하거나 필요한 경우, 결과 일반구조식(I)의 화합물을 또다른 일반구조식(I)의 화합물로 전환시키는 것을 포함하는, 제1항에서 청구된 일반 구조식(I)의 화합물의 제조방법.
제8항에 있어서, W가 시아노메틸기이며, 일반 구조식(II)의 화합물을 0 내지 50°C의 범위에서 불활성 용매내 디알킬포름아미드 디메틸 아세탈과 반응시키는 방법.
제8항에서 정의된 일반 구조식(II)의 화합물.
하기 일반 구조식(V)의 화합물 :

(상기식에서, Z는 질소 원자 또는 치환체 X에 의해 치환되거나 비치환된 CH기를 나타내며 m은 0 또는 1 내지 4의 정수이며, 그 또는 각Y는 독립적으로 할로겐 원자를 나타내며 n은 0 또는 1 내지 5의 정수이며 그 또는 각X는 독립적으로 할로겐 원자 또는 알킬, 할로알킬, 시아노알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알킬티오, 알케닐티오, 알키닐티오, 시아노, 니트로, 알킬술포닐, 알킬술피닐 및 술폰아미드로 부터 선택된 기를 나타내며 R은 알킬기임)을 염기 조건하에서 아세토니트릴과 반응시키는 것을 포함하는, 제10항에서 청구된 일반 구조식(II)화합물의 제조방법.
적어도 1개의 담체와 제1항 내지 제7항중 어느 한 항에서 청구된 화합물을 포함하는 제초 조성물.
제12항에 있어서, 적어도 2개의 담체를 포함하고 이들중 적어도 1개는 계면 활성제인 조성물.
제1항 내지 제7항중 어느 한 항에서 청구된 화합물 또는 제12항 또는 제13항에서 청구된 조성물로 해당지역을 처리하는 것을 포함하는, 해당 지역에서 원하지 않는 식물 성장을 막는 방법.
제1항 내지 제7항중 어느 한 항에서 청구된 화합물 또는 제12항 또는 제13항에서 청구된 조성물의 제초제로서의 사용.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.