KR900701764A - 제초성 트리아졸리논 - Google Patents

제초성 트리아졸리논

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Description

제초성 트리아졸리논
내용없음

Claims (22)

  1. 하기 일반식 Q-치환체가 페닐 그룹의 5-위치의 환-탄소원자에 결합된, Q-치환된 1-페닐-4, 5-디하이드로-1, 2, 4-트리아졸-5(1H)-온에 의해 특징지워지는 제초성 화합물〔여기서, 상기 화합물은 (a) Q′가 COOH인 카복실산, 또는 (b) 상기 카복실산의 염, 에스테르, 아미드 또는 나이트릴이며; 상기 화합물의 5-메톡시유사화합물 및 5-프로파긴옥시 유시화합물은 제초제이다〕.
    -CH(R2)C(R3)(R4)Q′ 또는 -CH=C(R4)Q′
    상기식에서, R2및 R3는 각각 독립적으로 H 또는 할로겐이며, R4는 H또는 저급 알킬이다.
  2. 하기 일반식 Q-치환체가 페닐 그룹의 5-위치의 환-탄소원자에 결합된, Q-치환된 1-페닐-4, 5-디하이드로-1, 2, 4-트리아졸-5(1H)-온에 의해 특징지워지는 제초성 화합물〔여기서, 상기 화합물의 5-메톡시 유사화합물 및 5-프로파길옥시 유사화합물은 제초제이다〕.
    -CH(R2)C(R3)R4)Q′ 또는 -CH=C(R4)Q′
    상기식에서, Q′는 COOH, COOZ, COOR5, CON(R6)(R7), CN, CHO 또는 C(O)R|5이고, Z는 염-형성 그룹이며, R2및 R3는 각각 독립적으로 H 또는 할로겐이고, R4는 H 또는 저급알킬이며, R5는 알킬, 알콕시카보닐알킬, 사이클로알킬 또는 아르알킬이고, R6및 R7은 각각 독립적으로 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 페닐, 벤질 또는 SO2R6인 라디칼이거나; 또는 하로겐, 알킬 또는 시아노에 의해 치환된 상기 라디칼들중의 하나이다.
  3. 제2항에 있어서, 하기 일반식에 의해 특징지워지는 화합물.
    상기식에서, R은 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬이며, R1은 저급 알킬 또는 할로알킬이고, X는 H, 할로겐, 알킬, 알콕시 또는 니트로이며, Y는 H, 할로겐, 알킬, 알콕시, 할로알킬, 할로 저급 알킬설피닐 또는 할로 저급 알콕시이다.
  4. 제3항에 있어서, R이 CH3이며; R1은 CHF2이고; X는 F 또는 C1이며, Y가 Cl 또는 Br임을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제4항에 있어서, Q가 CH2CH(Cl)COOR5이며, R5가 저급 알킬임을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제3항에 있어서, R5가 에틸이고, X는 F이며, Y는 C1임을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제4항에 있어서, Q가 CH=CHQ′임을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제4항에 있어서, Q가 CH2CHQ′임을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제3항에 있어서, Q가 CH2CH(Cl)Q′임을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제초 유효량의 제1항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 의해 특징지워지는 제초성 조성물.
  11. 제10항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적응시킴을 특징으로 하는, 바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  12. 제초 유효량의 제3항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 비해 특징지워지는 제초성 조성물.
  13. 제12항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적응시킴을 특징으로 하는,바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  14. 제초 유효량의 제5항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 의해 특징지워지는 제초성 조성물.
  15. 제14항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적용시킴을 특징으로 하는, 바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  16. 제초 유효량의 제7항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 의해 특징지워지는 제초성 조성물.
  17. 제16항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적용시킴을 특징으로 하는, 바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  18. 제초 유효량의 제8항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 의해 특징지워지는 제초성 조성물.
  19. 제18항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적용시킴을 특징으로 하는, 바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  20. 제초 유효량의 제9항의 화합물과 적합한 담체와의 혼합물에 의해 특징지워지는 제초성 조성물.
  21. 제20항의 조성물 제초 유효량을 방제가 필요한 장소에 적용시킴을 특징으로 하는, 바람직하지 못한 식물의 방제 방법.
  22. (a) 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물을 미어웨인(Meerwein)아릴화 반응에 따라 일반식 CH(R2)=C(R4)(Q′)(여기서, R2, R4및 Q′는 하기 정의되는 바와같다)의 화합물과 반응시키거나, 또는 (b) 하기 일반식(Ⅲ′)의 화합물을 위티그(wittig) 반응에 따라 알킬리덴이 일반식=C(R4)Q′(여기서, R4및 Q′는 하기 정의되는 바와 같다)를 갖는 알킬리덴 포르포란 또는 P원자에 직접 부착된 일반식 -CH(R4)Q′(여기서, R4및 Q는 하기 정의되는 바와 같다)의 그룹을 갖는 포스트네이트 일리드와 반응시키거나, 또는 (c) 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물을 염기의 존재하에 승온에서 일반식 R1-X1(여기서, R1은 하기 정의되는 바와 같으며; X1은 Cl, Br, I 또는 아릴설포닐옥시이다)과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(I) 또는 (Ⅱ) 화합물의 제조방법.
    상기식에서, Q는 -CH(R2)C(R3)(R4)Q′또는 -CH=C(R4)(Q′)이고, Q′는 COOH,COOZ, COOR5,CON(R6)(R7), CN,CHO 또는 C(O)R5이며, X는 H, 하로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시 또는 니트로이고, Y는 H, 할로겐, 알킬, 알콕시, 할로알킬, 할로 저급 알킬설피닐 또는 할로 저급 알콕시이며, Z는 염-형성 그룹이고, R은 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 할로알킬이며, R1은 저급 알킬 또는 할로알킬이고, R2및 R|3는 각각 독립적으로 H 또는 할로겐이며, R4는 H 또는 저급 알킬이고, R5는 알킬, 알콕시카보닐알킬, 사이클로알킬 또는 아르알킬이며, R6및 R7은 각각 독립적으로 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시, 페닐, 벤질 또는 SO2R6인 라디칼이거나; 또는 할로겐, 알킬 또는 시아노에 의해 치환된 상기 라디칼들중의 하나이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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