KR900019111A - 형광면, 그 제조방법 및 그 형광면을 이용한 x선 이미지관 - Google Patents
형광면, 그 제조방법 및 그 형광면을 이용한 x선 이미지관 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 관한 형광면의 단면도, 제4도는 본 발명에 관한 형광면에서 빛의 파트의 한예를 나타낸 모식도, 제5도는 본 발명에 관한 X선 이미지관의 개략도.
Claims (19)
- 페이스 플레이트와, 이 페이스 플레이트상 또는 미립자 사이에 형성된 형광층을 구비한 형광면에 있어서, 전술한 페이스플레이트와 형광체층과의 사이에 형광체층 보다도 굴절율이 작은 미립자의 집합으로 된 미립자층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자는 0.5-0.3 m의 평균입자 지름을 가진 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자에 의한 페이스 플레이트의 피복율은 가장 밀접하게 충전된 경우를 100%로 하면 50%이상인 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자는 세라믹인 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자는 실리카인 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자층은 0.5-3.0 m두께를 가진 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 미립자는 0.8이상의 진도구를 가진 것을 특징으로 하는 형광면.
- 제1항에 있어서, 형광체는 굴절율이 1.5보다 큰 것을 특징으로 하는 형광면.
- 비용융 실리콘 수지 미립자의 분산액을 수면에 떨어뜨리고 비용융 실리콘 수지 미립자의 집합막을 수면상에 형성하는 공정과, 비용융 실리콘 수지 미립자의 집합막을 페이스 플레이트에 부착시키는 공정과, 그후 부착된 비용융 실리콘 수지 미립자의 집합막을 산소를 포함한 분위기중 500℃이상의 온도로 소성함으로써 비용융을 실리콘수지 미립자의 집합막을 구상 미립자 실리카층으로 변화시키는 공정, 구상 미립자 실리카층상 또는 미립자 사이에 형광체층을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 형광면의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 미립자 실리카는 평균 입자지름이 0.5-3.0m인 것을 특징으로 하는 형광면의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 형광체는 굴절율이 1.5보다 큰 것을 특징으로 하는 형광면의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 비용융 실리콘 수지는 메틸실리콘, 에틸실리콘, 비닐실리콘,페닐 실리콘등으로 된 군에서 선택되는 적어도 한종류인 것을 특징으로 하는 형광면의 제조방법.
- 진공외곽용기와, 진공외각용기의 입력쪽에 설치된 입력형광면과, 진공외곽용기의 출력폭에 설치된 출력형광면으로 이루어진 페이스 플레이트와 이 페이스 플레이트상 또는 미립자 사이에 형성된 형광체층과, 진공외각용기 내의 측벽에 따라 배치된 집속전극을 구비한 X선 이미지관에 있어서, 전술한 출력형광면은 페이스 플레이트와 형광체층과의 사이에 형광체층 보다도 굴절율이 작은 미립자의 집합으로 된 미립자층을 가진 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자는 굴절율이 전술한 형광체보다 작은 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자는 평균입자 지름이 0.5-3.0m인 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자는 세라믹인 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자는 실리카인 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자층은 0.5-3.0m의 두께를 가진 것을 특징으로 하는 X선 이미지관.
- 제13항에 있어서, 미립자는 0.8이상의 진구도를 가진 것을 특징으로 하는 X선 이미지관※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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