KR900019076A - 일렉트릿과 그 일렉트릿의 제조 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의해 구성된 일렉트릿과 결합하는 마이크로폰을 제2도의 라인 1-1을 따라 절취한 단면도, 제2도는 제1도의 라인 2-2을 따라 절취한 일렉트릿 마이크로폰의 단면도, 제5도는 개별 회로 기판들이 형성되는 기질의 평면도, 제6도는 제5도에 도시된 기질의 상부 좌측부의 확대 부분 평면도.
Claims (28)
- 이온화가능 기체에 인접하여 유전체를 배치하는 단계와, 주어진 극성의 하전 입자를 생성하도록 알파 방사에 상기 기체를 노출시키는 단계와, 상기 유전체상으로 상기 하전 입자를 정전기적으로 배치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 영구분극 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 입자를 배치할때 상기 유전체를 가열하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 입자는 음전하로 된것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유전체는 탄화플루오르를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유전체는 불화된 에틸렌-프로필렌 혼성 중합체를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기체는 공기인것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기체는 폴로늄 210 소오스로부터 알파 방사에 노출되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 이온화가능 기체를 수용할수 있는 영역을 한정하는 한쌍의 간격진 전극과, 상기 가스로부터 주어진 극성의 하전 입자를 생성하도록 알파 방사에 상기 영역을 노출시키기 위한 수단과, 상기 영역내에 배치된 유전체상의 상기 입자의 정전배치를 수행하도록 상기 전극에 전위를 인가하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 영구 분극 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 전극중의 하나는 상기 유전체를 지지하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 하나의 전극을 가열하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 영역내의 상기 유전체를 가열하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제11항에 있어서, 상기 가열 수단으로부터 상기 알파 방사 수단을 시일드하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 알파 방사 수단은 상기 전극중의 하나에 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 알파 방사 수단은 폴로늄 210 소오스를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 지지부의 표면에 액체 용제내 상기 유전체의 피막을 도포하는 단계와, 상기 도포된 피막으로부터 상기 용제를 제거하는 단계와, 상기 용제의 제거 다음에 상기 일렉트릿을 형성하기 위해 상기 유전체를 분극하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 지지부상에 일렉트릿을 형성하는 방법.
- 특허청구범위 제15항의 방법에 따라 제조되는 것을 특징으로 일렉트릿.
- 액체 용제내 유전체의 피막을 절연 기질에 의해 운반된 전도성 지지부의 표면에 도포하는 단계와, 상기 유전체 층을 형성하기 위해 상기 도포된 피막으로부터 상기 용제를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 분극가능 유전체층 형성 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 피막은 상기 기질에 의해 운반된 복수의 전도성 지지부에 도포되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 유전체는 탄화플루오르를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 유전체는 불화된 에틸렌-프로필렌 혼성중합체를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 용제는 물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 지지부의 상기 표면에 유전체의 복수의 피막이 도포되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 마스크를 통해 상기 지지부의 표면에 상기 피막이 도포되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 피막은 상기 지지부의 상기 표면상에 분무 되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 피막은 그로부터 상기 용제를 제거하기 위해 가열되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 피막의 도포후 상기 기질에 활성 회로소자가 인가되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 유전체는 그로부터 상기 용제의 제거후 일렉트릿을 형성하도록 분극되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 특허 청구범위 제17항 내지 제27항중 어느 한항의 방법에 따라 제조되는 것을 특징으로 하는 유전체 층.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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