KR900016129A - 4-알콕시알킬-4-아미노페닐피페리딘 및 그들의 유도체의 제조 방법 - Google Patents

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린 보-싱
케니스 스펜서 에이취
다불류 슈블레인 조오지프
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테리 아아르 커세트
비이오우시이 인코포레이팃드
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Abstract

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Description

4-알콕시알킬-4-아미노페닐피페리딘 및 그들의 유도체의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

  1. (a) N-치환-4-피페리돈 화합물을 아닐린 화합물과 반응시켜 시프 염기(shiff base) 화합물을 제조하는 단계, (b) 시프염기 화합물을 음이온 안정화기를 갖는 일반식 :
    x-CYM-Z
    (상기식에서, X는 음이온 안정화기들로 구성된 군중에서 선택된 원(員)이고, Y는 수소 및 저급-알킬로 구성된 군중에서 선택된 원이고, Z는 저급-알콕시 및 페닐 메톡시로 구성된 군중에서 선택된 원이고, M은 알카리 및 알카리 토금속으로 구성된 군중에서 선택된 금속 원자이고, C는 탄소 원자임)을 갖는 음이온제와 반응시켜 아민화합물을 제조하는 단계, 및 (c) 단계 (b) 내의 아민 화합물을 환원제로 환원시켜 음이온 안정화기를 치환시키는 단계로 구성된, 4-알콕시알킬-4-아미노페닐피페디딘 화합물의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, X가 티오페닐, 술피닐페닐, 및 술포닐페닐로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  3. 제1항에 있어서, Y가 수소, 메틸 및 에틸로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  4. 제1항에 있어서, Z가 메톡시, 에톡시, n-프토판옥시, 및 페닐메톡시로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  5. 제1항에 있어서, M이 리튬, 나트륨 및 칼륨으로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  6. 제1항에 있어서, 음이온제가 메톡시메틸 페닐 술파이드 및 메톡시 메틸페닐술폭사이드의 알카리튬 유도체로 구성된 군중에서 선택된 방법.
  7. 제1항에 있어서, 환원제가 라네이 닉켈, 금속 수소화물, 및 나트륨아말감으로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  8. 제7항에 있어서, 환원제가 n-트리부틸주석 수소화물 및 트리페닐주석 수소화물로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  9. 제1항에 있어서, N-치환-4-피페리돈 화합물이 N-페닐메틸-4-피페리돈 및 N-(2-페닐에틸)-4-피페리돈으로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  10. 제1항에 있어서, 4-알콕시알킬-4-아미노페닐 피페리딘 화합물이 하기 일반식을 갖는 방법 :
    (상기식에서, R은 페닐 및 치환된 페닐로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R1은 수소, 저급알킬 카르보닐, 저급-알케닐 카르보닐, 저급-알콕시 저급-알킬 카르보닐 및 시클로알킬 카르보닐로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R2는 수소, 저급-알킬, 시클로알킬메틸, 페닐 저급/알킬, 및 헤테로 시클릭 고리 시스템 저급-알킬로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R3는 저급-알콕시, 저급-알킬 및 페닐 메톡시 저급-알킬로 구성된 군중에서 선택된 원이다.
  11. 제10항에 있어서, R이 페닐, 2-플루오로페닐 및 2-메톡시페닐로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R1은 에틸 카르보닐, 에테닐카르보닐, 메톡시 메틸 카르보닐 및 메톡시에틸카르보닐로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R2가 수소, 저급-알킬, 시클로알킬메틸, 페닐 저급/알킬, 피롤릴 저급-알킬, 피라졸릴 저급-알킬, 이미다졸릴 저급-알킬, 이미다졸리닐 저급-알킬, 이미다졸릴 저급-티오알킬, 트리아졸릴 저급-알킬, 트리아졸릴 저급-티오알킬, 테트라졸릴 저급-알킬, 테트라졸리 저급-티오알킬, 티에닐 저급-알킬, 티에닐 저급-옥시알킬, 티에닐 저급-히드록시알킬, 푸라닐 저급-히드록시알킬, 티아졸릴 저급-알킬, 옥사졸릴 저급-알킬, 티아디아졸릴 저급-알킬, 옥사디아졸릴 저급-알킬, 피리딘-1-일 저급-알킬, 피리딘-3-일 저급-알킬, 피리딘-4-일 저급-알킬, 피페리디닐 저급-알킬, 피리미디닐 저급-알킬, 피리다지닐 저급-알킬, 트리아지닐저급-알킬, 인돌일 저급-알킬, 이소인돌릴 저급-알킬, 벤즈이미다졸릴 저급-알킬, 벤조피라졸릴 저급-알킬, 벤즈옥사졸릴 저급-알킬, 벤조피라닐 저급-알킬, 벤조디옥사닐 저급-알킬, 벤조티아지닐 저급-알킬, 퀴나졸리닐 저급-알킬, 푸리닐 저급-알킬, 프탈-이미딜 저급-알킬, 나프탈렌카르복스이미딜 저급-알킬, 및 나프탈렌 술파 미딜 저급-알킬으로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R3가 메톡시 메틸, 에톡시메틸, 메톡시에틸 및 에톡시 에틸로 구성된 군중에서 선택된 원인 방법.
  12. 제11항에 있어서, R이 페닐이고, R1이 에틸카르보닐이고, R2가 2-(2-티에닐)에틸 및 2-(4-에틸-4,5-디히드로-5-옥소-1H-테트라졸-1-일)에틸로 구성된 군중에서 선택된 원이고, R3가 메톡시메틸인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900003205A 1989-04-20 1990-03-10 4-알콕시알킬-4-아미노페닐피페리딘 및 그들의 유도체의 제조 방법 KR900016129A (ko)

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