KR900014931A - O-아실티오하이드록사메이트 또는 n-알콕시피리딘 티온을 함유하는 광개시제 조성물 및 이를 함유하는 광경화성 조성물 - Google Patents
O-아실티오하이드록사메이트 또는 n-알콕시피리딘 티온을 함유하는 광개시제 조성물 및 이를 함유하는 광경화성 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (20)
- 화학선을 흡수하고 직접 또는 간접적으로 자유 라디칼을 발생하는 화합물, 및 O-아실티오하이드록사메이트 또는 N-알콕시피리딘티온 화합물을 함유하는 광개시제 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 흡수제 화합물을 퀸싱(quenching)시킬 수 있고 자유 라디칼 및 공-산화제를 발생할 수 있는 화합물을 추가로 함유하는 조성물.
- 제2항에 있어서, O-아실티오하이드록사메이트가 일반식(Ⅰ)의 화합물인 조성물.상기식에서, T는 탄소수가 1내지 30인 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 알킬 그룹, 또는 일반식-OCR(여기서, R은 알킬 그룹 또는 아릴 치환된 알킬 그룹을 나타낸다)의 그룹을 나타내고, A는 직접 결합 -S-, -NR'CO-및 -NR'- (여기서, R'은 알킬 그룹 또는 아릴 그룹을 나타낸다)중에서 선택되고, Z는 단핵 또는 다핵 방향족환에 의해 축합될 수 있는 포화 또는 불포화된5또는 6원 해태로 시이클릭 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타낸다.
- 제3항에 있어서, 추가로 티올을 함유하는 조성물.
- 제4항에 있어서, 티올이 2-머캅토벤조티아졸, 6-에톡시-2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤족사졸, 및 페닐머캅토테트라졸중에서 선택된 조성물.
- 제5항에 있어서, 이온성 염료 착물이 시아닌 염료-붕산염 착물인 조성물.
- 제3항에 있어서, A가 Z와 함께 치환 또는 비치환된 N-옥시 피리딘-2 티온 환, N-옥시(벤즈) 티아졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)이미다졸-2-티온 환, N-옥시(벤즈)옥사졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)셀렌아졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)피리미딘-2-티온 환, 및N-옥시-3-알킬 및3-아릴 치환된2-티옥소-1,2-디하이드로퀴나졸린-4-(3H)-온 환중에서 선택된 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타내는 조성물.
- 자유 라디칼 첨가 중합체성 또는 가교결합성 물질 및 광개시제 조성물 (여기서, 광개시제조성물은 화합선을 흡수하고 직접 또는 간접적으로 자유 라디칼을 발생하는 화합물, 및 O-아실티오하이드록사메이트 또는 N-알콕시 피리딘티온 화합물을 함유한다)을 함유함을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
- 제8항에 있어서, O-아실티오하이드록사메이트가 일반식 (Ⅰ)의 화합물인 조성물.상기식에서, T는 탄소수가 1내지 30인 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 알킬 그룹, 또는 일반식 -OCR(여기서, R은 알킬 그룹 또는 아릴 치환된 알킬 그룹을 나타낸다)의 그룹을 나타내고 A는 직접 결합, -S-,-NR′CO- 및 -NR′-(여기서 R′은 알킬 그룹 또는 아릴 그룹을 나타낸다)중에서 선택되고, Z는 단핵 또는 다핵 방향족환에 의해 축합될 수 있는 포화 또는 불포화된 5또는 6원 해태로 사이클릭 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타낸다.
- 제9항에 있어서, 조성물이 더올을 추가로 함유하는 조성물.
- 제9항에 있어서, A가 Z와 함께 치환 또는 비치환된 N-옥시 피리딘-2 티온 환, N-옥시(벤즈)티아졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)이미다졸-2-티온 환, N-옥시(벤즈)옥시졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)셀렌아졸린-2-티온 환, N- 옥시(벤즈)피리미딘-2-티온 환, 및 N-옥시-3-알킬 및 3-아릴 치환된2-티옥소-1,2-디하이드로퀴나졸린-4-(3H)-은 환중에서 선택된 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타내는 조성물.
- 제10항에 있어서, 티올이 2-머캅토벤조티아졸, 6-에톡시-2-머갑벤조티아졸, 2-캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤족사졸, 및 페닐머캅토테트라졸중에서 선택된 조성물.
- 제11항에 있어서, 이온성 염료 착물이 시아닌 염교-붕산염 착물인 조성물.
- 지지체가 이의 표면에서 자유 라디칼 첨가 중합체성 또는 가교 결합성 물질 및 광개시제 조성물 (여기서, 광개시제 조성물은 화합선을 흡수하고 직접 또는 간접적으로 자유 라디칼을 발생하는 화합물, 및 O-아실티오하이드록사메이트 또는 N-알콕시피리딘티온 화합물을 함유한다)을 함유하는 광경화성 조성물 층을 지님을 특징으로 하는 감광성 조성물.
- 제14항에 있어서, O-아실티오하이드록사메이트가 일반식(Ⅰ)의 화합물인 감광성 물질.상기식에서, T는 탄소수가 1내지 30인 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 알킬 그룹, 또는 일반식 -OCR(여기서, R은 알킬 그룹 또는 아릴 치환된 알킬 그룹을 나타낸다)의 그룹을 나타내고 A는 직접 결합, -S-,-NR′CO- 및 -NR′-(여기서 R′은 알킬 그룹 또는 아릴 그룹을 나타낸다)중에서 선택되고, Z는 단핵 또는 다핵 방향족환에 의해 축합될 수 있는 포화 또는 불포화된 5또는 6원 해태로 사이클릭 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타낸다.
- 제15항에 있어서, 광경화성 조성물이 추가로 티올을 함유하는 감광성 물질.
- 제16항에 있어서, 티올이 2-머캅토벤조티아졸, 6-에톡시-2-머갑토벤조티아졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤족사졸, 및 페닐머캅토테트라졸중에서 선택된 감광성 물질.
- 제17항에 있어서, 이온성 염료 착물이 시아닌 염교-붕산염 착물인 감광성 물질.
- 제15항에 있어서, A가 Z와 함께 치환 또는 비치환된 N-옥시 피리딘-2 티온 환, N-옥시(벤즈)티아졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)이미다졸-2-티온 환, N-옥시(벤즈)옥사졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)셀렌아졸린-2-티온 환, N-옥시(벤즈)피리미딘-2-티온 환, 및 N-옥시-3-알킬 및3-아릴 치환된2-티옥소-1,2-디하이드로퀴나졸린-4-(3H)-은 환중에서 선택된 환을 완성시키는데 필요한 원자를 나타내는 감광성 물질.
- 제13항에 있어서, 광경화성 조성물이 색성형 장치에 의해 마이크로 캡슐화된 감광성 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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US4755446A (en) * | 1987-01-12 | 1988-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive compositions containing microcapsules concentrated in surface layer |
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