KR900004848A - 블록 중합체에 의해 변성된 에폭시 수지 조성물 - Google Patents

블록 중합체에 의해 변성된 에폭시 수지 조성물 Download PDF

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KR900004848A
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에른스트 알테르
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Abstract

내용없음

Description

블록 중합체에 의해 변성된 에폭시 수지 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. (A) 에폭시 수지; 및 (B) 1,3-디엔-단일중합체 또는 공중합체의 블록(B1) 1이상과 락톤 단일중합체 또는 공중합체의 블록(B2) 2이상을 함유하는 블록 중합체를 포함하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 블록(B1)의 디엔 성분이 부타디엔인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 블록(B1)이 디엔 성분을 함유하는 외에 0.1 내지 50몰%의 비닐방향족 화합물, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 또는 아크릴산 또는 메타크릴산 유도체를 함유하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 블록(B1)의 블록 길이가 500 내지 10000의 분자량 Mn에 상당하는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 블록(B2)의 락톤 성분이 ε-카프로락톤인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 블록(B2)의 블록 길이가 200 내지 10000의 분자량 Mn에 상당하는 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 부가적으로 (C) 일반식(I)의 화합물을 더 포함하는 조성물 :
    상기식에서,m은 1 또는 2이고; n은 2 내지 6이고; R1은 탄성 중합체성 선중합체의 n가 라디칼이고, 이는 말단 이소시아네이트, 아미노 또는 히드록시기 제거후 에폭시 수지에 용해 또는 분산될 수 있으며; X와 Y는 서로 독립적으로 -O- 또는 -NR3-이고, 단 이들 기중 적어도 하나는 -NR3-이어야 하며; R2는 페놀성 히드록시기 또는 아미노기의 제거 후 폴리페놀 또는 아미노페놀의 m+1가 라디칼이고; R3은 수소, C1-C8알킬 또는 페닐이다.
  8. 제1항에 있어서, 부가적으로 에폭시 수지용 경화제(D) 및 임의적인 부가 성분으로서 촉진제(E)를 함유하는 조성물.
  9. 1,3-디엔 단일중합체 또는 공중합체를 기본으로 하는 블록(B1) 1이상 및 락톤 단일중합체 또는 공중합체의 블록(B2) 2이상을 함유하는 블록 중합체(B)를 글리시딜기-함유 에폭시 수지와 반응시킴으로써 수득할 수 있는 글리시딜화된 부가물.
  10. 글리시딜기-함유 에폭시 수지와 1,3-디엔 단일중합체 또는 공중합체의 부가물과 락톤을 반응시킴으로써 수득할 수 있는 글리시딜화된 반응 생성물.
  11. 제8항의 경화시킴으로써 수득할 수 있는 가교된 생성물.
  12. 접착제, 접착성 필름, 패치, 매트릭스 수지, 주형용 수지, 피복 조성물 또는 밀봉성 화합물을 제조하기 위하여 제8항의 조성물을 사용하는 방법.
  13. 오일과 접착제의 상용성(相溶性)을 증진시키기 위해 제1항 또는 제8항의 조성물을 사용하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890012789A 1988-09-06 1989-09-05 블록 중합체에 의해 변성된 에폭시 수지 조성물 KR0138532B1 (ko)

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