KR900000487Y1 - 침지식 전극 접촉 구조 - Google Patents

침지식 전극 접촉 구조 Download PDF

Info

Publication number
KR900000487Y1
KR900000487Y1 KR2019840007571U KR840007571U KR900000487Y1 KR 900000487 Y1 KR900000487 Y1 KR 900000487Y1 KR 2019840007571 U KR2019840007571 U KR 2019840007571U KR 840007571 U KR840007571 U KR 840007571U KR 900000487 Y1 KR900000487 Y1 KR 900000487Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
immersion
busbar
power supply
type electrode
anode
Prior art date
Application number
KR2019840007571U
Other languages
English (en)
Other versions
KR850009589U (ko
Inventor
데루고 다까야스
Original Assignee
가부시끼 가이샤 시요우와엥떼쯔
데루고 다까야스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시끼 가이샤 시요우와엥떼쯔, 데루고 다까야스 filed Critical 가부시끼 가이샤 시요우와엥떼쯔
Publication of KR850009589U publication Critical patent/KR850009589U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR900000487Y1 publication Critical patent/KR900000487Y1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

침지식 전극 접촉 구조
제1도는 본 고안에 따른 침지식 접촉구조의 양호한 실시예의 개요도.
제2도는 본 고안에 사용되는 전력 공급 부스바(power bus bar)의 단면도.
본 고안은 침지식 전극 접촉구조에 관한 것으로, 특히 전기도금시 에너지 및 자원절약에 유리한 침지식 전극 접촉구조에 관한 것이다.
전기 도금시 양극에 전류 공급 수단으로써, 보통 구리로 만들어진 전력 공급 부스바가 도금액 통에 연장되어 있고, 양극이 상기 부스바로 부터 현수되는 구조가 지금까지 사용되어 왔다.
즉, 전력 공급 부스바와 양극이 상기 도금액의 상부 표면에서 서로 접촉되는 구조를 가진다.
그러나, 부스바로써의 나동(bare copper)이 도금액의 상부면위에 위치할 때 즉각적으로 나쁜 주위 환경영향 때문에 단시간에 부식되어 다음과 같은 여러 문제점을 야기시킨다.
(1) 나동의 표면이 단시간에 부식되어 녹청(verdigris)을 발생시키기 때문에, 부스바를 자주 수선할 지라도 상기 부스바를 만족스럽게 사용할 수 있는 시간이 짧아진다.
(2) 부스바와 양극 사이의 접촉 전류 공급부의 전기저항이 부스바의 부식에 의해 시간이 경과됨에 따라 증가하여 전류 공급효율이 저하한다.
(3) 전기 에너지의 소요량은 접촉저하의 증가에 기인한 전압의 상승에 따라 증가하고, 또한 부스바 자체를 수선하고 교환해야 할 필요성 때문에 비경제적이다.
(4) 접촉부의 발열과 그 발열부에 도금액의 비산(spattering)에 의한 가스 발생 때문에 공해의 측면에서도 문제점이 제거된다.
(5) 도금액의 상부면위에서 조작과 취급을 할 필요가 있기 때문에 작업도는 약화된다.
본 고안자가 상술한 종래 기술의 문제점을 검토 연구한 결과 부스바가 도금액내의 양극과 접촉하게 되는 소위 말하는 "침지식 전극 전극 접촉구조"가 제안되게 되었다.
본 고안에 따른 침지식 전극 접촉구조는 그 일부분이 전기 도금액 통내에 충입된 도금액으로 침지되는 전력 공급 부스바와, 상기 전력 공급 부스바의 침지된 부분과 접촉하는 현수전류 공급부가 제공되는 양극으로 구성되고, 적어도 상기 양극의 현수 공급부와 상기 전력 공급 부스바의 침지부가 내식성 금속 박판으로 피복된다.
전력 공급 부스바의 침지부와 상기 현수 전류 공급부의 침지부를 피복하는 내식성 금속 박판으로써 Ti, Nb, Ta 및 Zr이 채택되는데 이 두께는 약 0.2㎜∼2㎜가 양호하다.
이하 첨부도면을 참조하여, 본 고안을 상세하게 설명할 것이다.
제1도에는 본 고안에 따른 침지식 전극구조의 양호한 실시예를 예시한 것으로, 예시번호 1은 전력 공급 부스바를 표기한 것이다.
제2도에 단면으로 예시된 바와 같이 예시된 실시예에서 부스바(1)가 동 부스바 몸체(2)의 전체 표면을 티탄의 박판(3)으로 피복하여 구성된다.
또한, 예시번호(4)는 니켈 도금용 바구니(basket)형태의 양극으로써 티탄으로 피복된 현수된 전류공급부(5)가 제공된다.
이러한 전극 구조에 있어서 전력 공급 부스바의 침지부와 양극의 현수 전류 공급부를 피복하는 티탄판(3)과 같은 내식성 금속 박판이 도금액에서 부동태화되기 때문에, 금속박판의 표면으로 부터 전류가 흘러 나가는 일이 전혀 없다.
그러나, 상기 침지부와 현수부가 서로 접촉하여 있을때, 상기 두 부분 사이의 접촉부에 금속 박판의 부동태가 쉽게 해제되어 전류 흐름 특성이 실제 도금 공정에 방해됨이 없이 전류가 점 접촉부(point contact)를 통해 양극에 효과적으로 흘러 들어 온다.
내식성 금속 박판의 피복 방법으로써, 시임 클래드 용접방법(seam clad welding method)이 유리한 방법을 제공해 주는 것으로 알려져 있는데, 상기 피복 공정이 상술한 방법으로 수행될때 전류 흐름의 저하가 거의 생기지 않는다.
본 고안의 장점은 다음과 같이 요약될 수 있다.
(1) 전력 공급 부스바가 내식성 금속 박판으로 피복되기 때문에, 그 표면이 부식되지 않아 반영국적으로 사용될 수 있어 자원의 절약을 기할 수 있다.
(2) 상기 전류가 도금액 내의 표유전류(stray current)를 야기함이 없이 점 접촉부를 통해 효과적으로 흐르기 때문에 전류흐름이 감소됨이 없이 우수하다.
(3) 전류 공급 접촉부가 도금액 중에 있기 때문에, 접촉저항이 작고 전류의 흐름 효율이 100%가 되어 전력 손실이 거의 발생하지 않는다.
또한, 부스바 자체가 상술한 바와 같이 반영구적으로 사용될 수 있기 때문에 본고안은 에너지 절약의 차원에서 매우 경제적이다.
(4) 접촉부가 도금액 중에 있기 때문에 접촉에 따른 열 발생과 가스 발생이 전혀 없어 공해에 대한 염려도 전혀 없다.
(5) 가스발생에 대한 염려나 또는 도금액의 상부 표면부에서의 장해가 거의 없기 때문에 작업성이 현저히 향상된다.

Claims (3)

  1. 그 일부분이 도금액 통속으로 충입된 도금액내로 침지되는 전력 공급 부스바와, 전력 공급 부스바의 침지부와 접촉하는 현수 전류 공급부에 제공되는 양극으로 구성되고, 적어도 전력 공급부의 침지부와 양극의 현수 전류공급부가 내식성 금속 박판으로 피복됨을 특징으로 하는 침지식 전극 접촉구조.
  2. 제1항에 있어서, 상기 내식성 금속 박판은 Ti, Nb, Ta 또는 Zr로 형성됨을 특징으로 하는 침지식 전극 접촉구조.
  3. 제1항에 있어서, 상기 내식성 금속 박판의 두께가 0.2㎜∼2㎜의 범위내에 있음을 특징으로 하는 침지식 전극 접촉구조.
KR2019840007571U 1983-08-05 1984-08-03 침지식 전극 접촉 구조 KR900000487Y1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1983121257U JPS6029169U (ja) 1983-08-05 1983-08-05 電気めっき装置
JP58-121257 1983-08-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR850009589U KR850009589U (ko) 1985-12-05
KR900000487Y1 true KR900000487Y1 (ko) 1990-01-30

Family

ID=14806775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019840007571U KR900000487Y1 (ko) 1983-08-05 1984-08-03 침지식 전극 접촉 구조

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4610773A (ko)
EP (1) EP0133363B1 (ko)
JP (1) JPS6029169U (ko)
KR (1) KR900000487Y1 (ko)
DE (1) DE3462928D1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4820396A (en) * 1985-03-18 1989-04-11 Masi Amerigo De Rack or transport tool for the manufacturing of printed wired boards
US5766430A (en) * 1996-06-06 1998-06-16 Mehler; Vern A. Conductive anode basket with submerged electrical connection
US5744013A (en) * 1996-12-12 1998-04-28 Mitsubishi Semiconductor America, Inc. Anode basket for controlling plating thickness distribution
JP4646369B2 (ja) * 2000-08-31 2011-03-09 株式会社クボタ 耐食性に優れた銅ブスバーおよびその製造方法
US8038855B2 (en) * 2009-04-29 2011-10-18 Freeport-Mcmoran Corporation Anode structure for copper electrowinning
CN106435701A (zh) * 2016-12-14 2017-02-22 陕西宝光真空电器股份有限公司 一种具有均衡电阻值的电镀用挂具

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2109975A (en) * 1936-06-18 1938-03-01 Wellman Bronze And Aluminum Co Anode
GB1028395A (en) * 1964-03-20 1966-05-04 John Preston And Company Ltd Improvements in or relating to titanium anode plating baskets
GB1069605A (en) * 1965-04-20 1967-05-17 Ici Ltd Anode assembly
GB1415793A (en) * 1973-01-26 1975-11-26 Imp Metal Ind Kynoch Ltd Cathodes
JPS503038A (ko) * 1973-05-15 1975-01-13
GB1458368A (en) * 1973-06-22 1976-12-15 Lucas Electrical Ltd Electroplating basket
GB1476055A (en) * 1975-03-05 1977-06-10 Imp Metal Ind Kynoch Ltd Eletro-winning metals
GB1548276A (en) * 1975-05-23 1979-07-11 Schering Ag Anode cage
US4012309A (en) * 1975-05-27 1977-03-15 Ultra Plating Corporation Apparatus for manufacturing pellet sizing screen rods
JPS5351859U (ko) * 1976-10-05 1978-05-02
JPS5351859A (en) * 1976-10-20 1978-05-11 Hitachi Ltd Coiled steel handling device
JPS5653133Y2 (ko) * 1978-07-28 1981-12-11
US4328076A (en) * 1980-09-02 1982-05-04 The International Nickel Co., Inc. Electrode and sludge collector support device and electroplating therewith
US4391695A (en) * 1981-02-03 1983-07-05 Conradty Gmbh Metallelektroden Kg Coated metal anode or the electrolytic recovery of metals
JPS5822560A (ja) * 1981-08-03 1983-02-09 Toshiba Corp 抜板の支持装置
KR100206921B1 (ko) * 1996-07-22 1999-07-01 구본준 출력버퍼회로

Also Published As

Publication number Publication date
DE3462928D1 (en) 1987-05-07
EP0133363B1 (en) 1987-04-01
JPS6235030Y2 (ko) 1987-09-05
US4610773A (en) 1986-09-09
JPS6029169U (ja) 1985-02-27
KR850009589U (ko) 1985-12-05
EP0133363A1 (en) 1985-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5028304A (en) Method of electrochemical machining of articles made of conducting materials
US4431501A (en) Apparatus for electrolytic polishing
KR900000487Y1 (ko) 침지식 전극 접촉 구조
KR890007202Y1 (ko) 불용성 납합금 전극
CN1780939B (zh) 用于制造阴极板的方法和装置
CN210052874U (zh) 一种新型电锌阴、阳极板的防腐铜铝过渡头
US5409156A (en) Spot-weldable aluminum sheet and production thereof
KR20220016914A (ko) 전기화학적 처리를 위한 전극 어셈블리
JPH0156149B2 (ko)
US5679240A (en) Anode for the electrolytic winning of metals and process
JPS5993900A (ja) 溶接性に優れた亜鉛メツキ鋼板
KR20050026407A (ko) 캡슐화된 캐소드 행거 바 및 제조 방법
CN206916244U (zh) 一种新型电镀用挂架
CN111206267A (zh) 一种节能电解电积导电联接装置
JPS5842453Y2 (ja) 不溶性アノ−ド
JPH05179478A (ja) 銅精錬用カソードプレート
KR102532620B1 (ko) 코일 강판의 고효율 도금장치
KR100297636B1 (ko) 전기도금장치의가용성양극
WO2009152640A1 (zh) 铅酸电池极性接头的补缀方法
JPH0156871B2 (ko)
JPS6021392A (ja) 連続部分めつきロ−ル
RU2086711C1 (ru) Катод для получения электролитического хрома
JPH048519B2 (ko)
JPS6318676B2 (ko)
FI84372B (fi) Katod.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19990115

Year of fee payment: 10

EXPY Expiration of term