KR890700582A - 살진균성 아미노트리아졸 및 아미노이미다졸 - Google Patents

살진균성 아미노트리아졸 및 아미노이미다졸

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KR890700582A
KR890700582A KR1019880701492A KR880701492A KR890700582A KR 890700582 A KR890700582 A KR 890700582A KR 1019880701492 A KR1019880701492 A KR 1019880701492A KR 880701492 A KR880701492 A KR 880701492A KR 890700582 A KR890700582 A KR 890700582A
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스티븐 바사랍 그레고리
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사무엘 에스. 블라이트
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Abstract

내용 없음.

Description

살진균성 아미노트리아졸 및 아미노이미다졸
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (42)

  1. 다음 일반식(I)의 화합물 및 농학적으로 적합한 이의 염 :
    상기식에서, Ar은 각각 R5, R6및 R7중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환된 페닐, 피리딜 또는 티에닐이고 ; Z는 CH 또는 N이며 ; Q는 H, S(O)nR18(여기에서, n은 0, 1 또는 2이다), 할로겐, CHO, C1-4알킬, 또는 SH 및 이에 상응하는 이황산염이고 ; G는또는(여기에서, 질소는 트리아졸 또는 이미다졸 헤테로사이클에 결합된다)이며 ; R1은 각각 임의로 NO2, CN 또는 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 H, C1-6알킬, C1-4할로알킬, (C3-6사이클로알킬)메틸, C3-6사이클로알킬, CH2CO2R10(C2-4알케닐)메틸, (C2-4할로알케닐)메틸, CH2SCH3, CH2OCH3, (C2-4알키닐)메틸, (CO)R12, C(O)(C1-4할로알킬), CHO, C(O)NH2, CO2R12, C(O)NHR12, 페닐 또는 벤질이고 ; R2는 H, C1-4알킬, C1-4할로알킬, 사이클로프로필, CH2CN, CO2R11, CHO, CH2OH, CN, C2-4알케닐 또는 C2-4알키닐이며 ; R3은 각각 방향족 라디칼상에서 R8및 R9및 지방족 탄소상에서 R16및 R17에 의해 치환된 피리딜메틸, 티에닐메틸, 페닐메틸, 벤질메틸, 페녹시메틸 또는 티오페녹시메틸, R8및 R9에 의해 치환된 페닐, C1-4아킬, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, 임의로 1 내지 2개의 할로겐에 의해 치환된 티에닐, R8및 R9에 의해 치환된 스티릴, 각각 R8및 R9에 의해 치환된(C3-6사이클로알킬)메틸, (C3-6사이클로알킬)에틸, 피리미딘 또는 피리딘이고 ; R4는 R8및 R9에 의해 치환된 페닐, R8및 R9에 의해 치환된 벤질, C3-6사이클로알킬, 임의로 1 내지 2개의 할로겐에 의해 치환된 티에닐, R8및 R9에 의해 치환된 스티릴, 각각 R8및 R9에 의해 치환된 피리딘 또는 피리미딘, (C3-6사이클로알킬)메틸, (C3-6사이클로알킬)에틸, OR13, SR13또는 N(R14)(R15)이며 ; R5는 H 또는 할로겐이고 ; R6은 H, 할로겐, 메틸, CF3또는 OCH3이며 ; R7은 H, 할로겐, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C1-2알콕시, CN, CO2R12, NO2, S(O)mCH3(여기에서, m은 0, 1또는 2이다), 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 페닐, 또는 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 페녹시이고 ; R8은 H 또는 할로겐이며 ; R9는 H, 할로겐, 메틸, CF3, OCH3, CN 또는 CO2R12이고 ; R10은 H, C1-6알킬, 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 벤질, 또는 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 페닐이며 ; R11은 H 또는 C1-3알킬이고 ; R12는 C1-4알킬이며 ; R13은 C1-5알킬, (C2-4알케닐)메틸, (C2-4알키닐)메틸, R8및 R9에 의해 치환된 페닐, R8및 R9에 의해 치환된 벤질, C3-7사이클로알킬, (C3-7사이클로알킬)메틸 또는 C1-5할로알킬이고 ; R14는 H 또는 R13이며 ; R15는 H, C1-4알킬, (C2-4알케닐)메틸 또는 (C2-4알키닐)메틸이거나 ; R14및 R15는 함께 아민질소를 함유하는 5원-또는 6원-포화 헤테로사이클을 형성하고 임의로는 N, O 또는 S의 헤테로원자를 형성할 수 있으며 ; R16은 H, 할로겐, CF3, OH, C1-3알킬, C1-3알콕시 또는 C1-3알킬티오이고 ; R17은 H, F, Cl 또는 CHO3이며 ; R114 Cu4킬, CH2-CN 또는 CH2SCN이고 ; 단, (a) R2또는 R3이 CF3인 경우, 나머지는 n-부틸이 아니며 ; (b) R3이 페녹시메틸 또는 티오페녹시메틸인 경우, R16및 R17은 Br, I, Cl 또는 OH가 아니다.
  2. 제1항에 있어서, Q가 H이고 ; R1은 H, C1-3알킬, 알릴 또는 프로파길이며 ; R2는 H, C1-3알킬, CN 또는 C2-3알케닐이고 ; R3은 R8및 R9에 의해 치환된 페닐, 각각 아릴 라디칼상에서 R8및 R9및 지방족 탄소상에서 R16및 R17에 의해 치환된 페닐메틸, 피리딜메틸, 페녹시메틸, 티오페녹시메틸 또는 티에닐메틸이며 ; R15는 C1-4알킬, C1-4알케닐)메틸, 또는 (C2-4알키닐)메틸이고 ; R4는 R8및 R9에 의해 치환된 페닐, R8및 R9에 의해 치환된 벤질, C3-6사이클로알킬, 임의로 1 내지 2개의 할로겐에 의해 치환된 티에닐, R8및 R9에 의해 치환된 스티릴, R8및 R9에 의해 치환된 피리딘, (C3-6사이클로알킬)메틸 또는 (C3-6사이클로알킬)에틸인 화합물.
  3. 제2항에 있어서, R5가 H, F 또는 Cl이고 ; R6은 F, Cl, CH3또는 CF3이며 ; R7은 할로겐, CH3, OCH3, CN, 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 페닐, 또는 임의로 1 내지 3개의 할로겐에 의해 치환된 페녹시이고 ; R8은 H, F 또는 Cl이며 ; R9는 H, F 또는 Cl이고 ; R16은 H, F, Cl 또는 C1-2알킬이며 ; R17은 H인 화합물.
  4. 제3항에 있어서, G가이고 ; R1은 H 또는 CH3이며 ; R2는 H 또는 CH3이고 ; R3은 임의로 1 내지 3개의 F 또는 Cl에 의해 치환되고 임의로 알킬상에서 H 또는 CH3에 의해 치환된 페닐 또는 페닐메틸이며 ; R7은 H, F, Cl, CH3, OCH3또는 C6H5이고 ; Ar은 페닐이거나 ; G가이고 ; R4는 R8및 R9에 의해 치환된 페닐인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, N-[(2, 4-디클로로페닐)(4-플루오로페닐)메틸]-N-메틸-1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, N-[(2, 4-디클로로페닐)(4-플루오로페닐)메틸]-N-메틸-1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민인 화합물
  7. 제1항에 있어서, N-[비스-(4-플루오로페닐)메틸]-N-메틸-1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, N-[비스-(4-플루오로페닐)메틸]-1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민인 화합물.
  9. 제1항에 있어서, N-[(2, 4-디클로로페닐)(4-플루오로페닐)메틸]-N-메틸-1H-이미다졸-1-아민인 화합물.
  10. 제1항에 있어서, N-[(2, 4-디클로로페닐)(4-플루오로페닐)메틸]-1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민인 화합물.
  11. 제1항에 있어서, 1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민, N-((1-(2, 4-디클로로페닐)-2-(4-플루오로페닐)프로필))인 화합물.
  12. 제1항에 있어서, 1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민, N-(((4-시아노페닐)-(2, 4-디클로로페닐)메틸))-N-메틸인 화합물.
  13. 제1항에 있어서, 1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민, N-((2-(4-클로로페닐)-1-(2, 4-디플루오로페닐)프로필))인 화합물.
  14. 제1항에 있어서, 1H-1, 2, 4-트리아졸-1-아민, N-((1-(2, 4-디플루오로페닐)-2-(4-플루오로페닐)프로필))인 화합물.
  15. 제1항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  16. 제2항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  17. 제3항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  18. 제4항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  19. 제5항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  20. 제6항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  21. 제7항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  22. 제8항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  23. 제9항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  24. 제10항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  25. 제11항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  26. 제12항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  27. 제13항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  28. 제14항의 화합물 유효량 및 계면활성제, 고형 또는 액체 불활성 희석제중의 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 진균방제용 조성물.
  29. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제1항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  30. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제2항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  31. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제3항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  32. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제4항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  33. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제5항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  34. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제6항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  35. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제7항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  36. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제8항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  37. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제9항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  38. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제10항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  39. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제11항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  40. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제12항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  41. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제13항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
  42. 보호하려는 진균-만연 서식처에 제14항의 화합물을 유료량 사용함을 특징으로 하여, 진균병해를 방제하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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