KR950032146A - 트리아졸 화합물 및 이의 제조방법 및 용도 - Google Patents

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히로키 고다마
미치히코 가와구치
요시유키 가토
요시미 니와노
마사노리 요시다
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무라타 도시카즈
니혼노야쿠 가부시키가이샤
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    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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Abstract

본 발명은 다음 일반식(I)의 트리아졸 화합물 또는 제학적으로 허용되는 이의 염에 관한 것이다.
상기 식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C6트리할로알킬그룹이고, R3는 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 치환될 수 있는 헤테로사이클릭 방향족 환을 나타내며, X는 S, SO2또는 -(CH2)n-을 나타내고, 여기에서 n은 0 또는 1 내지 2의 정수이며, 단 R1및 R2가 동시에 수소원자인 경우는 제외된다.

Description

트리아졸 화합물 및 이의 제조방법 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (11)

  1. 일반식(I)의 트리아졸 화합물 또는 제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C6트리할로알킬그룹이고, R3는 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 헤테로사이틀릭 방향족 환을 나타내며, X는 S, SO2또는 -(CH2)n-이고, 여기에서 n은 0 또는 1 내지 2의 정수이며, 단 R1및 R2가 동시에 수소원자인 경우는 제외된다.
  2. 제1항에 있어서, R3가 할로겐 원자, C1-C6알킬그룹, C1-C6알콕시 그룹, C1-C6할로알콕시 그룹, C1-C6할로알킬 그룹, 시아노 그룹, 아미노 그룹 및 헤테로사이클릭 방향족 환으로 구성된 그룹으로부터 선택된 그룹에 의해 치환될 수 있는, 페닐 그룹 또는 헤테로사이클릭 방향족 환인 트리아졸 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  3. 제1항에 있어서, R1및 R2가 서로 동일하거나 상이하며, 각각이 할로겐 원자 또는 C1-C4트리할로일킬 그룹이고, R3가 할로겐 원자, C1-C|4할로알콕시 그룹, C1-C4알킬티오 그룹, C1-C4할로알킬티오 그룹, 니트로 그룹, 시아노 그룹 및 1,2,4-트리아졸릴 그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1개 또는 2개의 치환체 그룹에 의해 치환된 피리딜 또는 페닐 그룹이고, X가 단일 결합 또는 C1-C2알킬렌 그룹인 트리아졸 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  4. 일반식(Ⅱ)의 화합물을 환원시킴을 포함하여, 일반식(Ⅰ)의 트리아졸 화합물을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C6트리할로알킬 그룹을 나타내고, R3는 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 치환될 수 있는 헤테로사이틀릭 방향족 환을 나타내며, X는 S, SO2또는 -(CH2)n-을 나타내고, 여기에서 n은 0 또는 1 내지 2의 정수이며, 단 R1및 R2가 동시에 수소원자인 경우는 제외된다.
  5. 일반식(Ⅳ)의 화합물을 1,2,4-트리아졸과 반응시킴을 포함하여, 일반식(Ⅰ)의 트리아졸 화합물을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C6트리할로알킬 그룹이고, R3는 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 치환될 수 있는 헤테로사이클릭 방향족 환을 나타내며, X는 S, S02또는 -(CH2)n-을 나타내고, 여기에서 n은 0 또는 1 내지 2의 정수이며, 단 R1및 R2가 동시에 수소원자인 경우는 제외된다.
  6. 활성 성분으로서 일반식(I)의 트리아졸 화합물 또는 약제학적을 허용되는 이의 염을 함유하는 항진균제.
    상기 식에서, R1및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C6트리할로알킬 그룹을 나타내고, R3는 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 치환될 수 있는 헤테로사이틀릭 방향족 환을 나타내며, X는 S, SO2또는 -(CH2)n-을 나타내고, 여기에서 n은 0 또는 1 내지 2의 정수이며, 단 R1및 R2가 동시에 수소원자인 경우는 제외된다.
  7. 제6항에 있어서, R3가 할로겐 원자, C1-C6알킬 그룹, C1-C6알콕시 그룹, C1-C6할로알콕시 그룹, C1-C6할로알킬 그룹, 시아노 그룹, 아미노 그룹 및 헤테로사이클릭 방향족 환으로 구성된 그룹으로부터 선택된 그룹에 의해 치환될 수 있는 페닐 그룹 또는 헤테로사이클릭 방향족 환인 일반식(I)의 화합물을 함유하는 항진균제.
  8. 제6항에 있어서, R1및 R2가 서로 동일하거나 상이하며, 각각 할로겐 원자 또는 C1-C4트리할로알킬 그룹을 나타내고, R3가 할로겐 원자, C1-C|4트리할로알킬 그룹을 나타내고, R3가 할로겐 원자, C1-C4할로알콕시 그룹, C1-C|4알킬티오 그룹, C1-C4할로알킬티오 그룹, 니트로 그룹, 시아노 그룹 및 1,2,4-트리아졸릴 그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환체 그룹에 의해 치환된 피리딜 또는 페닐 그룹이며, X가 단일 결합 또는 C1-C2알킬렌 그룹을 나타내는 일반식(I)의 화합물을 함유하는 항진균제.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 트리아졸 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염, 및 약제학적으로 허용되는 담체 또는 희석제를 포함하는 조성물.
  10. 사람 또는 동물에게, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 트리오졸 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염의 유효향을 투여함을 포함하여, 진균 감염을 치료하는 방법.
  11. 진균 감염 치료용 약제의 제조를 위한, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 트리아졸 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염의 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950006643A 1994-03-28 1995-03-28 트리아졸 화합물 및 이의 제조방법 및 용도 KR950032146A (ko)

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