KR890013271A - 아민 이온-쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제 및 이의 조성물 - Google Patents

아민 이온-쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제 및 이의 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

아민 이온-쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제 및 이의 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (49)

  1. (ⅰ) 약 5 내지 약 95중량％의 하기 일반식(Ⅰ)의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 이러한 이온쌍 착화합물의 혼합물, 및 (ⅱ) 약 95 내지 약 5중량％의 하기 일반식(Ⅱ)의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 및 이러한 이온쌍 착화합물의 혼합물을 함유하며 평균 직경이 약 10 내지 약 500μ인 수-불용성 입자를 함유함을 특징으로 하는 컨디셔닝제.
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 C12-C20알킬 또는 알케닐이고, R3은 각각, 일반식(Ⅰ)에서는 H 또는 CH3이고, 일반식(Ⅱ)에서는 H, CH3, 또는 C2-C20알킬 또는 알케닐이며, A는 알킬 설포네이트, 아릴 설포네이트 알킬아릴 설포네이트, 알킬 설페이트, 디알킬 설포석시네이트, 알킬 옥시벤젠 설포네이트, 아실 이세티오네이트, 아실알킬 타우레이트, 알킬 에톡실화 설페이트, 및 올레핀 설포네이트 중에서 선택된 유기 음이온이고, B는 니트레이트, 설페이트, 하이드로겐 설페이트, 포스페이트, 하이드로겐 포스페이트 및 디하이드로겐 포스페이트중에서 선택된 무기 음이온이며, x는 1내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, 평균 입자 직경이 약 40 내지 약350μ인 컨디셔닝제.
  3. 제2항에 있어서, 평균 입자 직경이 약 50 내지 약200μ인 컨디셔닝제.
  4. 제1항에 있어서, A가 C1-C20알킬아릴 설포네이트 및 아릴 설포네이트 중에서 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민중에서 선택되는 컨디셔닝제.
  5. 제1항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리탈미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아민, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜중에서 선택되는 컨디셔닝제.
  6. 제4항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아민, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜중에서 선택되는 컨디셔닝제.
  7. 제6항에 있어서, 평균 입자 크기가 약 40 내지 약 350μ인 컨디셔닝제.
  8. 제7항에 있어서, 평균 입자 크기가 약 50 내지 약 200μ인 컨디셔닝제.
  9. 제8항에 있어서, 입자가 약 40 내지 약 90％의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 약 60 내지 약 10％의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제.
  10. 제9항에 있어서, 입자가 약 50 내지 약 80％의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 약 50 내지 약 20％의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제.
  11. 제1항에 있어서, 아민-무기 이온상 착화합물의 R3이 H 또는 CH3인 컨디셔닝제.
  12. 제3항에 있어서, 아민-무기 이온쌍 착화합물의 R3이 H 또는 CH3인 컨디셔닝제.
  13. 제10항에 있어서, 아민-무기 이온쌍 착화합물의 R3이 H 또는 CH3인 컨디셔닝제.
  14. 제11항에 있어서, 아민-무기 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민중에서 선택되는 컨디셔닝제.
  15. 제1항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R3이 C12내지 C20알킬 또는 알케닐인 컨디셔닝제.
  16. 제15항에 있어서, 아민-무기 이온쌍 착화합물의 아민이 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아민, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜중에서 선택되는 컨디셔닝제.
  17. 약 1 내지 약 20％의 제1항의 컨디셔닝제 및 약 1 내지 약98％의 양이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 및 음이온성 계면활성제중에서 선택된 수용성 세제계면활성제(여기에서, 세제 계면활성제의 양은 이온쌍 착화합물에 존재하는 음이온성 음이온의 양을 제외한 양이다)를 함유함을 특징으로 하는 세제 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 평균 입자 직경이 약 40 내지 약 350μ인 세제조성물.
  19. 제18항에 있어서, 평균 입자 직경이 약 50 내지 약 200μ인 세제조성물.
  20. 제17항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리탈미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아민, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜중에서 선택되는 세제 조성물.
  21. 제20항에 있어서, A가 C1-C20알킬아릴 설포네이트 및 아릴 설포네이트중에서 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메닐 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민중에서 선택되는 세제 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 입자가 약 40 내지 약 90％의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 약 60 내지 약 10％의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 함유하는 세제 조성물.
  23. 제22항에 있어서, 입자가 약 50 내지 약 80％의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 약 50 내지 약 20％의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 함유하는 세제조성물.
  24. 제21항에 있어서, 아민-무기 이온쌍 착화합물의 R3이 H 또는 CH3인 세제 조성물.
  25. 제24항에 있어서, A가 벤젠 설포네이트 또는 C1-C20선형 알킬 벤젠 설포네이트인 세제조성물.
  26. 제25항에 있어서, A가 C1-C5선형 알킬 벤젠 설포네이트 및 벤젠 설포네이트 중에서 선택되고, 아민-유기음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민 및 디탈로우 메틸 아민중에서 선택되며, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디탈로우 메틸 아민 및 디스테아릴 메틸 아민중에서 선택되는 세제조성물.
  27. 제26항에 있어서, 무기 음이온이 설페이트이고, 유기 음이온이 C1-C3LAS이며, 아민-유기 및 아민-무기 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민 또는 디스테아릴 아민이고, 아민-무기 이온쌍 착화합물에 대한 아민-유기 이온쌍 착화합물의 중량비가 약 50:50 내지 약 80:20인 세제 조성물.
  28. 제21항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민중의 R3이 C16-C20알킬 또는 알케닐인 세제 조성물.
  29. 제28항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민의 트리탈로우 아민 및 트리스테아릴 아민중에서 선택되는 세제 조성물.
  30. 제29항에 있어서, A가 벤젠 설포네이트 또는 C1-C13선형 알킬 벤젠 설포네이트인 세제 조성물.
  31. 제30항에 있어서, A가 C1-C5선형 알킬 벤젠 설포네이트 및 벤젠 설포네이트 중에서 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민 및 디탈로우 메틸 아민중에서 선택되는 세제 조성물.
  32. 제31항에 있어서, 무기 음이온이 설페이트이고, 유기 음이온이 C1-C3LAS이며, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민 또는 디스테아릴 아민이고, 아민-무기 이온쌍 착화합물에 대한 아민-유기 이온쌍 착화합물의 중량비가 약 50:50 내지 약 80:20인 세제 조성물.
  33. 제21항에 있어서, 액상 담체 및 약 5 내지 약 502％의 세제증강제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  34. 제33항에 있어서, 증강제 성분이 폴리아세테이트, 알케닐 석시네이트, 카보네이트, C10-C18알킬 모노카복실산, 폴리카복실산, 중합성 카복실레이트, 폴리포스폰산, 알칼리 금속, 암모늄 및 이의 치환된 암모늄염, 및 이의 혼합물중에서 선택되는 세제 조성물.
  35. 제33항에 있어서, 약 0.1 내지 약 10％의 킬레이트화제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  36. 제35항에 있어서, 약 0.025 내지 약 2％의 효소를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  37. 제36항에 있어서, 약 0.01 내지 약 5.0％의 클레이 오염 제거제 및 재침착 방지제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  38. 제37항에 있어서, 약 0.1 내지 약 5.0％의 오염 제거제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  39. 제38항에 있어서, 약 0.1 내지 약 10.0％의 안정화제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  40. 제33항에 있어서, 약 0.1 내지 약 10.0％의 안정화제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  41. 제24항에 있어서, 약 10 내지 약 80％의 세제 증강제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  42. 제41항에 있어서, 증강제 성분이 무기 포스페이트, 수-불용성 나트륨 알루미노실리케이트, 실리케이트, 카보네이트, C10-C18알킬 모노카복실산, 폴리카복실산, 중합성 카복실레이트, 폴리포스폰산, 알칼리 금속, 암모늄 또는 이의 치환된 암모늄염, 및 이의 혼합물중에서 선택되는 세제 조성물.
  43. 제41항에 있어서, 약 2 내지 약 15％의 스멕타이트 클레이 연화제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  44. 제41항에 있어서, 약 1.0 내지 약 10％의 킬레이트화제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  45. 제44항에 있어서, 약 0.025 내지 약 2％의 효소를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  46. 제45항에 있어서, 약 0.01 내지 약 5％의 클레이 오염 제거제 및 재침착 방지제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  47. 제46항에 있어서, 약 0.01 내지 약 5.0％의 오염 제거제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  48. 제47항에 있어서, 약 1 내지 약 20％의 표백제를 추가로 함유하는 세제 조성물.
  49. 제1항의 컨디셔닝제 및 스멕타이트 클레이 연화제를 함유하는 섬유 보호 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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