KR890007356A - 하전 입자 빔 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 빔 기록 장치의 도해도.
제2도는 본 발명에 따른 입자 광학 시스템의 도해도.
제3도는 조리개의 영역에서 하전 입자 빔의 밀도 분포의 도해도.
Claims (9)
- 입자 소오스, 빔 촛점 시스템 및 빔 제한 조리개를 구비하는 하전 입자 빔 장치에 있어서, 상기 장치는 빔 분할기 및 개개의 서브-빔 또는 서브-빔 그룹의 방향에 개별적으로 영향을 미치는 합성 빔 정렬 시스템을 구비하는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 제1항에 있어서, 입자 소오스는 개개의 에미터들에 의해 방사된 빔의 방향에 개별적 또는 그룹 형태의 영향을 주는 빔 전향 전극을 구비한 개개의 에미터들의 매트릭스로 구성되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 제2항에 있어서, 빔 정렬 수단은 매트릭스에 제공되는 전극에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치
- 제1항, 제2항 또는 제3항중 어느 한 항에 있어서, 다수의 동심원에서 빔 분할이 실현되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 제1항, 제2항 또는 제3항중 어느 한 항에 있어서, 직교 시스템에서 빔 분할이 실현되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 선행항중 어느 한 항에 있어서, 개개의 에미터들은 반도체 전자 에미터인 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 선행항중 어느 한 항에 있어서, 하전 입자 빔 장치는 원형 빔 제한 조리개를 구비하며 개개의 에미터들의 매브릭스는 원내에서 방향 설정되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치
- 제1항 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 하전 입자 빔 장치는 사각형 빔 모양 형성 조리개 및 직교상으로 방향 설정된 개개의 에미터들의 매트릭스를 구비하는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치.
- 선행항중 어느 한 항에 있어서, 빔 제한 조리개의 평면에서 근축상의 빔은 최적의 촛점 맞추기에 필요한 이하로 촛점이 맞춰지도록 빔 방향의 영향이 실현되는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 장치※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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