KR890003464B1 - 탈수용 계면활성제-용매 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

탈수용 계면활성제-용매 조성물
본 발명은 탈수용 계면활성제-용매조성물, 좀더 상세히는, 휘발성 용매성분 및 하나이상의 계면활성제를 포함하여 구성되며 광범위한 기질 들의 표면으로부터 수분 및 수성필름을 제거할 수 있는 능력을 지닌 조성물에 관한것이다.
종래에 있어서, 여러가지 다양한 건조용 용매조성물들이 사용되어 왔다. 그러한 조성물들이 몇가지 예를 들어 미국특허, 제 4,438,026호, 제 4,401,584호 및 독일특허 제 3,319,023호 등에 개시되어 있다. 이 조성물들은 치환(displacement)에 의하여 건조되어질 기질로부터 수분을 제거한다. 이러한 건조방법은 에너지소비형 건조단계를 필요로하지 않을 뿐만 아니라 기질의 추후처리를 매우 신속하게 행할 수 있는 장점이 있다.
그러나 공지의 조성물들은 여러가지 결점을 지니고 있다. 예를들면, 일부조성물들은 건조되어질 기질로부터 수분을 효과적으로 제거하지 못하였으며, 또한 일부 조성물들은 일련의 금속 기질들(예를들면, 스테인레스 스틸, 알루미늄, 구리등)로 부터 수분을 제거하는 것은 효과적이나 비금속기질(예를들면, 유리 또는 세라믹)로부터 수분을 제거하는 데는 실질적으로 효과적이지 못하였다.
은 조성물 용액이 물과함께 유상화하거나 덩어리를 형성하는 경향이 있으며 정화하거나 또는 수성불순물을 제거하는데 어려움이 있으므로 탈수 조성물로서 재사용하는데 제약이 따른다른 점이다.
유상액 또는 기타 불용성 생성물의 존재는 단순한 기울여 따르기(decantation)등에 의한 수분의 제거를 방해하므로 결국 탈수처리의 근본목적인 수분-치환 공정(water-displacement process)을 불완전하게 하는 것이다. 일종의 탈수조성물에 있어서, 물과함께 유상액을 형성하는 경향은 적당한 향유화제(dimulsifier)를 혼합첨가함으로서 제어될 수 있다. 그러나 향유화제가 유상화를 방지하기는 하나, 모든 기질로부터 수분을 제거할 수 있는 조성물 효과를 향상시키지는 못한다. 더구나, 그러한 공지의 부가제는 물에 배우 잘 추출되므로 조성물의 성능을 유지하기 위하여는 정기적으로 조성물에 그러한 부가제를 첨가하여야만 한다.
이에 따라, 상기한 바와같은 공지조성물의 제결점을 개선한 새로운 탈수용 계면활성제-용매조성물을 제공하고자하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명에 따라서, 여러가지 다양한 기질로부터 수분을 제거하는데 유용한 새로운 계면환성제-용매조성물이 제공된다.
본 조성물은 한가지 이상의 휘발성 유기할로카본 및 인산에스테르의 4차암모늄으로 구성된다. 상기 염은 다음 일반식을 갖는다.
[A+]·[B-]
식중 A+는 다음 일반식의 양이온이다.
Figure kpo00001
식중 B-는 다음 일반식의 음이온이다.
Figure kpo00002
상기 A+및 B-의 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2와 동일하고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 m+n은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다. 또한 본 발명의 조성물을 사용하여 비흡수성 물품을 건조 또는 세척하는 공정이 제공된다. 본 공정은 다음 단계들로 구성된다.
(a) 기질(물품)의 표면전부 또는 일부를 본 조성물과 접촉시킴.
(b) 시질을 조성물로부터 분리함.
(c) 기질의 표면전부 또는 일부를 계면활성제를 함유하지 않은 용매에 접촉시킴.
(d) 기질을 용매로부터 분리함.
(e) 기질의 표면으로부터 상기 조성물을 증발시켜 기질을 건조시킴.
상기 단계중(c)와 (d)는 임의적으로 제외시킬 수도 있으나, 그러한 단계를 행함으로서 기질표면에 잔류하는 계면활정제의 양을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 건조조성물은 여러가지 기질들로부터 수분을 치환제거하는데 매우효과적이다. 상세히 말하자면, 본 발명의 건조조성물은 스테인리스스틸, 알루미늄 합금, 청동등과같은 금속류, 석회유리, 보로실리케이트 유리등과같은 유리류 및 세라믹류, 비반수알루미나, 실리카(반도체 제조에 사용되는 실리콘 웨이퍼), 알루미나 등과 같은 다양한 기질 표면으로부터 수분을 치환, 제거하는데 유용하다. 특히, 본 발명의 조성물은 치환된 수분과 함께 유상액을 거의 형성하지 않는다. 이러한 성질은 상용 건조장치와 함께 조성물을 사용하여, 기울여 따르기에 의하여 수분을 제거하는 실질적용에 있어서, 장치의 막힘이나 공정의 지연을 방지할 수 있으므로 매우 중요한 성질적인것이다. 더구나, 본 발명의 조성물은 장시간 동안 건조장치내에 사용되는 경우에도 맣은 주의나 검색을 요하지 아니하며, 계면활성제 성분의 빈번한 보충을 필요로하지 않는다.
앞서 언급하였듯이, 본 발명의 조성물은 두가지 기본성분을 포함하여 구성된다. 첫번째 기본성분은 한가지 이상의 "휘발성 할로카본류"이다. 여기서 "휘발성 할로카본"은 대기압하에서 최소한 20℃이상의 비등점을 갖는 할로카본이다. 바람직한 할로카본은 최소한 두개이상의 탄소원자, 최소한 하나의 불치환체 및 최소한 하나의 연소치환체를 가지며 대기압하에서 최소한 28℃ 이상의 비등점을 갖는것이다. 특히 바람직한 휘발성 할로카본은 염소 및 불소치환 에탄류로서, FC-113(1, 1, 2-트리클로로-1, 2, 2-트리플루오로에탄)이 가장 바람직한 것이다. 조성물에 있어서, 휘발성 할로카본의 양은 다양하게 변화 시킬 수 있는데, 이에 대한 적당한 참고자료로는 전술한 미국특허 제 4,488,026호, 제 4,401,584호 및 독일연방 특허 제 3,319,023호 등이 있다.
조성물의 두번째 기본 성분은 폴리인산 에스테르의 4차암모늄염(이하 계면활성제라 칭함)이다. 본 발명에 있어서, 계면활성제의 기본 요소는 그것(염)이 최소한 하나의 방향족 치환제 및 양이온성 4차 암모늄기 또는 음이온성 인산 에스테르기를 포함한다는 것이다. 방향족 치환제의 존재로 인하여, 본 발명 조성물에 사용되는 상기염은 수분과 함께 안정한 유상액을 거의 형성하지 않으므로 조성물에 별도의 유화방지제를 첨가할 필요가 없다.
더구나, 상기 염은 휘발성 할로카본에 쉽게 용해되어 근본적으로 균일한 조성물을 형성한다. 조성물에 있어서, 방향족 4차암모늄염(계면활성제)의 양은 할로카본의 건조능을 향상시키는데 효과적인 양으로 사용되는 데, 그 양은 통상 조성물 총중량의 5wt%이다. 본 발명의 조성물에 있어서 계면활성제의 함량은 바람직하게는 조성물 총중량의 약 0.0001-2wt이며, 더욱 바람직하게는 0.001-1wt, 가장 바람직하게는 0.01-0.1wt%이다.
앞서 언급하였듯이, 본 발명의 조성물에 유용한 방향족 4차 암모늄염은 다음 일반식을 갖는 화합물이다.
[A+]·[B]
식중 A+는 다음 일반식의 양이온이다.
Figure kpo00003
식중, B-는 다음 일반식의 음이온이다.
Figure kpo00004
상기 A+및 B-의 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2와 동일하고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 m+n은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
본 발명의 조성물에 유용한 4차 암모늄염은 상용제품을 구입하거나 표준 제조방법에 의한 제조를 통하여 마련할 수 있다. 전형적인 제법의 한가지를 예로들면 다음과 같다. 옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트와같은 적당한 인산에스테르를 트리에틸아민과 같은 적당한 아민과 반응시켜 트리에틸아민 옥틸 페닐 포스페이트와 같은 상응하는 아민염을 형성한 다음, 상기 아민염을 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄 클로라이드와같은 적당한 4차 암모늄 클로라이드와 함께 반응시켜 상응하는 옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄 염과 같은 방향족 4차 암모늄염을 산출한다.
본 발명의 조성물에 유용한 방향족 4차 암모늄염으로는 다음과 같은 것들이 있다.
옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질암모늄염 : 비스(2-에틸헥실)하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄염 : 비스(n-옥틸페닐)하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄염 : 비스(t-부틸페닐)하이드로겐 포스페이트의 n-알킬디메틸 벤질 암모늄염 : 비스(2-에틸헥실)하이드로겐 포스페이트의 미리스틸디메틸벤질 암모늄염 : 비스(2-에틸헥실)하이드로겐 포스페이트의 스테아릴디메틸벤질암모늄염 : 및 비스(2-에틸헥실)하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸나프틸 암모늄염.
본 발명의 유용한 인산 에스테르의 방향족 4차 암모늄염은 일반식 [A+]·[B-]의 화합물이다. 한편, A+와 B+는 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
Figure kpo00005
상기 A+및 B-의 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2와 동일하고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
바람직한 방향족 4차 암모늄염은 상기 일반식에서, R1은 메틸 또는 에틸기이고, R2는 알킬기(C12-C16)이고, R3는 메틸 또는 에틸기이고, R4는 아릴, 아릴알킬기 또는 알알킬기이고, R5, R6, R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18)및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이되, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아닌것이며, m과 n은 각각 0-5의 정수로서 n+m은 5이하인 화합물이다. 더욱 바람직한 방향족 4차 암모늄염은 상기 일반식에서, R1은 메틸기이고, R2는 알킬기(C12, C14또는 C16)이고, R3는 메틸기이고, R4는 벤질기 또는 나프틸기이고, R5,R6,R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18)및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택되며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니며, n과 m은 각각 0 또는 1의 정수인 화합물이다.
가장 바람직한 방향족 4차 암모늄염은 상기 일반식에서, R1은 메틸기이고, R2는 알킬기(C12, C14및 C16의 혼합물)이고, R3는 메틸기이고, R4는 벤질기이고, R5와 R7은 각각 수소 또는 옥틸페닐기이되 그중 하나는 수소가 아니며, n과 m은 0인, 화합물이다. 한편, 본 발명의 조성물에 특히 바람직한 4차 암모늄염 계면활성제는 상기 일반식에서, R1은 메틸기이고, R2는 알킬기(C12, C14또는 C16)이고, R3는 메틸기이고, R4는 벤질기이고, R5, R6, R7및 R8은 각각 수소 또는 알킬기(C8)이되, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니며, n과 m은 각각 0-2의 정수이되, m+n이 3이하인 화합물인데, 그중에서도 특히 비스-(2-에틸헥실)하이드로겐 포스페이트및 옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄염이다.
본 발명의 조성물은 금속, 유리 세라믹등으로 형성된 비흡수성 물품의 건조 및 세척에 사용될 수 있는데, 우선 용액상태의 조성물과 건조된 물품을 접촉시키는 것이 처리과정의 첫단계이다. 이러한 접촉의 방법은 특별히 정해진 것은 아니며, 조성물에 물품을 침지시커간 또는 조성물을 물품에 분무하는 등의 여러가지 선행기술이 사용될 수 있따. 그러나, 물품과 조성물의 완전한 접촉을 고려할 경우, 침지방법이 가장 적합하다. 접촉시간은 다양하게 변화할 수 있는데, 일반적으로 약 10분이하, 바람직하게는 1-5분, 더욱 바람직하게는 1-4분, 가장 바람직하게는 1-3분정도이다. 접촉온도는 조성물에 사용된 할로카본 성분이 비등점에 따라 달라지는데 일반적으로 비등점과 동일하거나 약간 낮은 온도이다. 접촉처리후, 물품을 조성물로부터 분리하고, 증발등과같은 통상의 방법에 따라 물품표면에 부착된 조성물을 제거한다. 한편, 임의적으로 물품을 계면활성제가 없는 용매에 접촉시키고 난 후 용매를 증발시켜 물품에 잔류할 수 있는 소량의 계면활성제를 제거할 수도 있다.
조성물의 증발은 통상 30초이하, 바람직하게는 10초이하동안 행한다. 이때 온도나 압력은 특별히 제한적인 것은 아니다. 대기압이나 아대기압(subatmospheric pressure)이하에서 행할 수 있다.
본 발명의 조성물은 공지의 건조장치에 사용될 수 있는데, 그러한 건조장치는 미국특허 제 3,386,181호 등에 개시되어 있다. 이하 실시예와 함께 본 발명을 좀더 상세히 설명한다.
[실시예 1]
여러가지 조성물에 있어서, 습성기잘로부터의 수분치환능, 물과 용매사이의 분리능과같은 성능을 평가하기 위하여 다음 시험들을 행하였다.
건조능 시험(Drying Test)
본 시험은 수분환능을 측정하기 위한 것이다.
(1) 21들이 스테인리스 스틸 비이커에 다중 권회된 관으로 구성된 냉각코일을 장치한다. 이 코일을 냉각 수원에 연결한다. 이 장치는 "(boiling sump)"라 칭하여 진다.
(2) 비등섬프에 500ml의 시험 조성물을 채운다음 항온 열판(thermostatted hot plate)위에 놓고 용액을 환류비등시켜 냉각코일 표면을 역류하도록 한다.
(3) 시험되어질 기질의 단면(18mm×76mm), 즉 쿠폰(coupon)을 무수분산 정결상태로 미리 세척한다. 쿠폰을 시험하기전에 부유장치에 부유하여 물로 적신다. 흡습쿠폰을 미리 정해진 시간(5초)동안 비등하는 시험용액속에 완전히 담근다음 용액의 증기영역으로 꺼내어 30초간 유지시킨다. 쿠폰을 완전히 꺼내어 표면상의 물의 존재를 검사한다. 만약 건조되었으면, 다시 새로운 흡습쿠폰을 가지고서 시험용액에 담금시간을 계속 축소시키면서 습성 표면이 나타날때까지 시험을 반복하여 행한다. 반대로 표면이 젖어있으면, 시간을 연장시키면서 완전한 건조표면이 나타날때까지 시험을 반복하여 행한다. 수분치환에 필요한 최소시간을 상기한 담금시간으로서 기록한다. 시간이 짧을수록 더 우수한 수분치환을 나타내는 것이다.
상-분리시험(phase-seperation Test)
본 시험은 유상액 형성에 관계되는 물과 용매상(solvent phase)의 분리에 대한 상대속도를 측정하기 위한 것이다. 본 시험에서는 원심 순환펌프등에 의하여 용액에 교반을 행하고 교반기간의 종결후 수성상과 용매상에 대한 분리의 상대속도를 측정한다. 더 빨리 완전하게 상들이 분리될수록 더욱 유용한 용매-계면활성제 조성물인것이다.
(1) 시험은 와링교반기(Waring Blender, Model 1088)에서 행한다. 시험은 저속으로 행하여지며 자동타이머는 10초 시행시간으로 정하여진다. 단단히 고정된 스크류캡을 갖춘 1파인트(pint)들이 혼합자아(jar)가 교반목적에 사용된다.
분리속도 측정은 스크류캡을 갖춘, 측벽이 직선형이 8온스들이 광구 유리 자아에서 행하여진다.
(2) 시험은 교반기 자아속에서 180ml의 용매용액과 함께 실시된다. 이 부분에 18ml(10vol%)의 증류수를 가한다. 자아를 단단히 봉하고 교반기를 10초간 저속으로 가동시킨다. 분산액을 즉시 측정 유리자아에 넣고 최초 시간을 기록한다. 자아안의 총체적 높이를 외벽에서 측정한다. 다음 각각의 상의 높이를 5, 10, 20, 30 및 60분 경과시에 측정한다. 각각의 경우, 명확하게 깨끗이 분리된 층의 깊이를 측정한다.
(3) 상기에서 측정된 깊이를 최초 총부피의 vol% 또는 최초 상부피에 대한 비율로서 환산한다. 부피들을 각각의 측정시간에 따라 각 상에 대하여 플롯트하여 여러 혼합물에 대한 상대적 분리역학을 나타내는 곡선을 얻는다. 선택적으로 30분 및 /또는 60분에서의 상분리 퍼센트가 시험 혼합물의 상대적 분리능을 시험 비교하는 데 사용될 수도 있다.
(4) 각각의 경우, 상내에서나 경계면에서의 안정한 유상액 형성을 노우트한다. 상의 분리퍼센트 계산을 위하여 그러한 유상액의 깊이는 상응하는 명확한 상의 깊이에서 제외시킨다. 예를들면, 만약 60분 방치후, 비록 용매상은 완전히 투명하게 분리되었다 할지라도 수성상이 안정한 유상액으로 되었다면 그상의 분리는 0으로 나타내진다.
수명시험(Life Test)
본 시험은 비등섬프 또는 상분리실내에 수집된 물 존재하에서 시험조성물의 항유상화능을 측정하는 것이다.
(1) 상기 "건조능 시험"에서 기술한 바 있는 비등섬프를 사용한다. 용기에 시험할 조성물 500ml를 채우고 50ml(10vol%)의 증류수를 첨가한다.
(2) 물-시험조성물 혼합물을 30분간 환류 가열시킨 후 분별깔대기내에서 15분간 방치하고 조성물상(phase)을 따로 분리하여 건조능에 대한 시험을 행한다.
(3) 500ml(100vol%)의 물을 부가하고, 상기(2)항의 과정을 행하는 것을 4번 되풀이한다.
(4) 처리된 시험조성물이 앞서 "건조능시험"에서와 거의 동일한 시간에 기질을 건조시킬 수 있어야 조성물이 본 시험을 통과한 것으로 간주한다.
다음 도표1에 상기 시험들에 사용한 조성물들에 대한 사항이 표시되어 있다. 단, 모든 조성물에 있어서 용매성분은 FC-113이다.
[도표 1]
Figure kpo00006
상기 도표1에서, 계면활성제는 알킬성분이 C14-50%, C12-40% 및 C16-10%로 구성된 "Hyamine 3500 T7 (론자 인코포레이티드에서 제조판매하는 n-알킬 디메틸벤질암모늄클로라이드)을 사용하여 제조하였다. 조성물 1, 7 및 8에서는 스타우퍼 케미컬사에서 제조판매하는 인산염을 사용하여 계면활성제를 제조하였으며, 조성물 2 및 3 에서는 모빌 케미컬사에서 제조판매하는 인산염을 사용하여 계면활성제를 제조하였다. 나머지 조성물에서는 덱스터케미컬사에서 제조판매하는 인산 에스테르 : strodex MO-100 T8 을 사용하여 계면활성제를 제조하였다.
상기 조성물들에 대하여 각각 "건조능시험", "상분리시험" 및 "수명시험"을 행하여 성능을 평가하였다. 결과는 다음도표 에 표시하였는데, 각각의 약자는 다음을 의미하는 것이다.
P-시험통과
F-시험실패
NT-측정되지 않았음.
[도표 2]
Figure kpo00007
[실시예 2]
산성 및 알카리성 조건하에서 각각 본 발명의 조성물과 기존의 건조 조성물에 대하여 "건조능시험", "상분리시험" 및 "수명시험"을 행하여 성능을 비교 평가하였다. 기존의 조성물들은 듀퐁사에서 제조판매되고 있는 FC-113의 일종인 "Feron TDFC0"이었다. 시험결과를 다음도표 3과 4에 표시하였다.
[도표 3]
산성조건(PH 2.5)에서의 시험
Figure kpo00008
[도표 4]
알카리성 조건(PH 11.5)에서의 시험
Figure kpo00009

Claims (14)

  1. 한가지 이상의 위발성 할로카본 용매 및 다음 일반식으로 표현되는, 한가지 이상의 인산 에스테르의 방향족 4차 암모늄으로 구성된 탈수용 계면활성제-용매조성물.
    [A+]·[B-]
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    Figure kpo00010
    상기일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2와 동일하고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
  2. 제1항에 있어서, 일반식 [A+]·[B-]의 인산 에스테르의 방향족 4차 암모늄염 한가지 이상을 효과적인 양만큼 포함하여 구성된 계면활성제-용매조성물.
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    Figure kpo00011
    상기일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2와 동일하고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알릴아릴기 이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
  3. 제1항에 있어서, 할로카본이 1, 2, 2-트리클로로-1, 2, 2-트리플루오로에탄인, 계면활성제-용매조성물.
  4. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염이 A+및 B-의 일반식에서, R1및 R3는 각각 메틸기 또는 에틸기이고, R2는 알킬기(C12-C16)이고 R4는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18)및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이되, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아닌것이며, n과 m은 각각 0-5의 정수로서 n+m이 5이하인 화합물인, 계면활성제-용매조성물.
  5. 제4항에 있어서, R1과 R3가 메틸기인, 계면활성제-용매조성물.
  6. 제4항에 있어서, R4가 벤질기 또는 나프틸기인, 계면활성제-용매조성물.
  7. 제4항에 있어서, R5와 R7이 각각 수소 또는 옥틸페닐기인, 계면활성제-용매조성물
  8. 제2항에 있어서, 방향족 4차암모늄이 R2가 C12, C14및 C16의 알킬기인 혼합물로 구성된, 계면활성제-용매조성물.
  9. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염이 비스-(2-에틸헥실)하이드로겐 피로포스페이트의 n-알킬 디메틸벤질 암모늄염 또는 옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄염인, 계면활성제-용매조성물.
  10. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염의 함량이 조성물 총중량의 5퍼센트이하인, 계면활성제-용매조성물.
  11. 다음단계들로 구성된, 비흡수성물품의 건조 및 세척공정.
    (a) 물품을 제1항의 조성물에 침지 접촉시킴.
    (b) 물품을 상기 조성물로부터 분리됨.
    (c) 상기물품의 표면으로부터 상기 조성물을 증발시켜 물품을 건조시킴.
  12. 다음 단계들로 구성된, 비흡습성 물품이 건조 및 세척 공정.
    (a) 물품을 제1항의 조성물에 침지 접촉시킴.
    (b) 물품을 상기 조성물로부터 분리함.
    (c) 분리한 물품을 계면활성제를 함유하지 않는 용매에 접촉시킴.
    (d) 물품을 상기용매로부터 분리함.
    (e) 증발에 의하여 상기 물품을 건조시킴.
  13. 다음 일반식을 갖는 인산에스테르의 4차암모늄염.
    [A+]·[B-]
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    Figure kpo00012
    상기일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2이고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기 이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 한나는 수소가 아니다.
  14. 제13항에 있어서, 상기염이 일반식 [A+]·[B-]의 방향족염인, 인산에스테르의 4차암모늄염.
    식중, A+와 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온임.
    Figure kpo00013
    상기일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2이고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기 및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이되, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니며, n과 m은 각각 0-10의 정수이되, n+m은 10이하이다.
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