KR860004135A - 탈수용 계면활성제-용매 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

탈수용 계면활성제-용매 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (14)

  1. 한가지 이상의 위발성 할로카본 용매 및 다음 일반식으로 표현되는, 한가지 이상의 인산 에스테르의 방향족 4차 암모늄으로 구성된 탈수용 계면활성제-용매조성물.
    [A+]·[B-]
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    상기 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고; R2는 알킬기(C8-C18)이고; R3는 R1또는 R2와 동일하고; R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고; R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
  2. 제1항에 있어서, 일반식 [A+]·[B-]의 인산 에스테르의 방향족 4차 암모늄염 한가지 이상을 효과적인 양만큼 포함하여 구성된 계면활성제-용매조성물.
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    상기 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고; R2는 알킬기(C8-C18)이고; R3는 R1또는 R2와 동일하고; R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알릴아릴기 이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니다.
  3. 제1항에 있어서, 할로카본이 1, 2, 2-트리클로로-1, 2, 2-트리플루오로에탄인, 계면활성제-용매조성물.
  4. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염이 A+및 B-의 일반식에서, R1및 R3는 각각 메틸기 또는 에틸기이고, R2는 알킬기(C12-C16)이고 R4는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18)및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이되, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아닌것이며, n과 m은 각각 0-5의 정수로서 n+m이 5이하인 화합물인, 계면활성제-용매조성물.
  5. 제4항에 있어서, R1과 R3가 메틸기인, 계면활성제-용매조성물.
  6. 제4항에 있어서, R4가 벤질기 또는 나프틸기인, 계면활성제-용매조성물.
  7. 제4항에 있어서, R5와 R7이 각각 수소 또는 옥틸페닐기인, 계면활성제-용매조성물
  8. 제2항에 있어서, 방향족 4차암모늄이 R2가 C12, C14및 C16의 알킬기인 혼합물로 구성된, 계면활성제-용매조성물.
  9. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염이 비스-(2-에틸헥실)하이드로겐 피로포스페이트의 n-알킬 디메틸벤질 암모늄염 또는 옥틸페닐 하이드로겐 포스페이트의 n-알킬 디메틸 벤질 암모늄염인, 계면활성제-용매조성물.
  10. 제2항에 있어서, 방향족 4차 암모늄염의 함량이 조성물 총중량의 5퍼센트이하인, 계면활성제-용매조성물.
  11. 다음단계들로 구성된, 비흡수성물품의 건조 및 세척공정.
    (a) 물품을 제1항의 조성물에 침지 접촉시킴.
    (b) 물품을 상기 조성물로부터 분리됨.
    (c) 상기물품의 표면으로부터 상기 조성물을 증발시켜 물품을 건조시킴.
  12. 다음 단계들로 구성된, 비흡습성 물품이 건조 및 세척 공정.
    (a) 물품을 제1항의 조성물에 침지 접촉시킴.
    (b) 물품을 상기 조성물로부터 분리함.
    (c) 분리한 물품을 계면활성제를 함유하지 않는 용매에 접촉시킴.
    (d) 물품을 상기용매로부터 분리함.
    (e) 증발에 의하여 상기 물품을 건조시킴.
  13. 다음 일반식을 갖는 인산에스테르의 4차암모늄염.
    [A+]·[B-]
    식중, A+및 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온이다.
    상기일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고, R2는 알킬기(C8-C18)이고, R3는 R1또는 R2이고, R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R5및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이며, n과 m은 각각 0-10의 정수로서 n+m은 10이하이고, R5, R6, R7및 R8이 수소 또는 알킬기인 경우에는 반드시 n+m이 1이상이어야 한다. 한편, n+m=0인 경우, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기 이며, R5, R6, R7및 R8중 최소한 한나는 수소가 아니다.
  14. 제13항에 있어서, 상기염이 일반식 [A+]·[B-]의 방향족염인, 인산에스테르의 4차암모늄염.
    식중, A+와 B-는 각각 다음 일반식의 양이온 및 음이온임.
    상기 일반식에서, R1은 알킬기(C1-C2)이고; R2는 알킬기(C8-C18)이고; R3는 R1또는 R2이고; R4는 R1, R2, 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고; R5, R6, R7및 R8은 각각 수소, 알킬기(C8-C18), 아릴기, 알알킬기 및 알킬아릴기로 구성된 그룹으로부터 선택된 라디칼이되, R4, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 아릴기, 알알킬기 또는 알킬아릴기이고, R5, R6, R7및 R8중 최소한 하나는 수소가 아니며; n과 m은 각각 0-10의 정수이되, n+m은 10이하이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5192461A (en) * 1991-08-23 1993-03-09 Enthone-Omi, Inc. Aqueous degreasing solution having high free alkalinity
US5256329A (en) * 1991-11-27 1993-10-26 Alliedsignal Inc. 1,1-dichloro-1-fluoroethane dewatering systems
AU6230594A (en) * 1993-02-01 1994-08-29 University Of Iowa Research Foundation, The Quartenary amine surfactants and methods of using same in isolation of rna
US5610128A (en) * 1994-12-14 1997-03-11 Alliedsignal Inc. Surfactants and drying and drycleaning compositions which utilize said surfactants
US5733416A (en) * 1996-02-22 1998-03-31 Entropic Systems, Inc. Process for water displacement and component recycling
IT1283794B1 (it) * 1996-08-26 1998-04-30 Ausimont Spa Metodo per la rimozione di acqua da superfici
US5868799A (en) * 1996-12-05 1999-02-09 Alliedsignal Inc. Surfactants and drying and drycleaning compositions which utilize said surfactants
US6660701B1 (en) 2000-10-23 2003-12-09 Polysystems Usa, Inc. Stabilized solvent system for cleaning and drying

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3397150A (en) * 1966-03-15 1968-08-13 Du Pont Composition and method for treating surfaces
LU77887A1 (de) * 1977-08-01 1979-05-23 Ciba Geigy Ag Quaternare ammoniumsalze von fettsaeurereste aufweisenden antistatika oder weichgriffmitteln,deren herstellung und verwendung
US4182687A (en) * 1977-12-08 1980-01-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Liquid-water displacement composition
JPS6024840B2 (ja) * 1979-11-14 1985-06-14 ライオン株式会社 ドライクリ−ニング用洗浄剤組成物
JPS58117292A (ja) * 1981-12-30 1983-07-12 ライオン株式会社 硬表面用洗浄剤組成物
US4401584A (en) * 1982-05-17 1983-08-30 Allied Corporation Solvent based dewatering system with demulsifier
FR2527625A1 (fr) * 1982-05-27 1983-12-02 Chloe Chemie Composition a base de fluorochlorohydrocarbure, d'ester phosphorique et d'acide carboxylique
US4461652A (en) * 1982-09-13 1984-07-24 Richmond Therezia L Barnacle removal process and product
US4438026A (en) * 1983-02-28 1984-03-20 Allied Corporation Solvent dewatering composition
DE3569533D1 (en) * 1984-01-14 1989-05-24 Ciba Geigy Ag Phosphonic-acid salts

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