KR890001029B1 - 강철판 구성물 표면의 침지 처리방법 및 그 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

강철판 구성물 표면의 침지 처리방법 및 그 장치

제1도는 본 발명에 관한 일실시예의 침지 처리 장치의 요부를 약시적으로 표시한 설명도.

제2도는 동 장치에 있어서의 다른 실시예의 요부를 약시적으로 표시한 설명도.

제3도는 제2도의 Ⅲ-Ⅲ선에 연한 단면도.

제4도는 더욱 다른 실시예에 관한 덕트식 처리 장치의 요부를 약시적으로 표시한 설명도.

제5도는 인산염 처리액의 유속과 강철판 구조물 표면에 생성하는 화성 피막의 특성을 표시하는 그래프.

제6도는 인산염 처리액의 유속과 화성피막 특성(결정 및 결정의 크기)을 표시하는 그래프.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 인산 염화성 처리조 2 : 저면

3 : 차체 4 : 컨베이어

5 : 만곡부 5a : 상승부

5b : 하강부 6a, 6b : 현수부재

7 : 인산 염화성 처리용액 9 : 오우버 플로우 탱크

10 : 천정부 11 : 배출구

12 : 밸브 13 : 펌프

14 : 순환 파이프 15 : 슬러리 제거장치

16 : 이송 파이프 17 : 펌프

22 : 상부분사 파이프 23 : 하부분사 파이프

24 : 가열 순환 파이프

본 발명은 강판 구조물 특히 자동차 차체등의 강판에 도장을 위한 하지(下地)처리를 행하는 방법 및 장치에 관한 것이다.

자동차 차체등의 강판 구조물의 도장에 있어서의 하지 처리로서 인산 염화성(化成)처리의 방법이 일반적으로 행하여져 있다. 이 인산 염화성 처리의 방법으로서는 침지법 및 스프레이법이 대표적인 방법이지만 이들의 방법에는 각각 이점이나 결점이 있다. 특히 자동차 차체등과 같이 흐름 작업에 의한 피처리 물체에는 생산성 및 품질의 안정성이 우수할 스프레이 처리 방법이 많이 채용되고 있다.

근년 북미나 구라파의 적설지대에 있어서는 용설제 (

雪劑)로서 암 염이나 암염과 모래와를 혼합한 것이 노면에 산포되게 되어 그 때문에 자동차의 외판부나 하부 및 도아내부가 염분에 의하여 현저하게 부식하게 되어 내스캬브(scab)성 및 내천공성의 향상이 요구되게 되었다.

외판부분에 대하여는 인산염 처리조성의 균형을 개량하고 주로 저아염가 (Zn/PO₄=1/12 이하)로 적정한 도막두께로 하는 것에 의하여 크게 개선되었지만 복잡한 현상으로 형성된 차체 구조물의 내측 벽면에는 처리액이 직접 스프레이 되지 않든지 직접 스프레이되어도 처리 시간이 짧은 것인지 혹은 처리액량이 부족한지 명확하지 않고 세척 공정에서의 만족한 탈지 및 화성 처리에 있어서의 양호한 피막 화성을 바랄 수 없는 결점이 있다.

또 침지 처리의 방법에서는 처리시간이 300초 이상이고 스프레이 처리의 90 내지 150초와 비교하여 장시간을 요하는 것, 피막중량도 스프레이법에 의하면 1.5 내지 2.5g/m²인 것에 대하여 도료의 도포때도 포막의 부착성이 떨어지고 있다.

침지 처리에서의 시간을 단축하고 피막중량도 2.0 내지 3.5g/㎡의 범위로 하여 부착성이 좋은 인산 염화성 피막을 얻기 위해서는 인산염 처리액의 조성과 침지 처리장치의 조건이 큰 요인으로 된다. 예를들면 침지처리에 의하여 얻어지는 우수한 인산 아연 피막의 특성은 제1표에 표시하는 범위인 것이 문헌에 명백하게 표시되어 있다.

제1표 인산 아연 피막의 특성

(주) (1) P/P+H

P는 포스포필라이트(Phosphophy llite)→Zn₂Fe(PO₄)₂-4H₂O H는 호페이트 (Hopeite)→Zn₃(PO₄)₂·4H₂O 인산아연 피막의 결정은 포스포필라이트와 호페이트와가 있고 상기표의 경우는 포스포필라이트의 함유율을 표시한다. (2) 결정크기 : 결정의 최대길이를 의미한다. (3) 결정형상 : 스프레이법 및 종래의 침지법에 의한 인산아연 처리화성 피막은 거의 침엽상(針葉狀)의 결정형상이다.

침지 처리에 있어서의 처리액의 조성 및 온도를 제어하여도 침지조건이 다르면 얻어지는 화성 피막의 특성이 달라진다.

강철판 구조물의 침지인산염 피막 화성 처리에 있어서 전착(電着)도장하지에 적합한 피막의 얼룩이 없는 균일하고 우수한 피막을 형성 시키기 위해서는 그 구성물의 피막화성 처리액조로의 입조부근에 있어서의 이 액표면부터 어느 깊이를 가지는 액층을 미리 매분 20m까지 바람직하게는 매분 10m로 될때까지 유동시키는 것 및 차체의 어느 한점이 그 액층을 통과하는 시간이 15초 이하 바람직하게는 10초 이하가 되게 하는 것이 좋다. 그 액층의 유동속도를 매분 20m이상 및 그층을 자체의 어느 한점이 통과하는 시간을 15초 이상으로하는 경우에도 얼룩이 없는 균일한 인산염 피막이 형성되지만 그 피막특성에 있어서 결정 크기가 15μ 이상 및 결정형이 침상으로 되어 더우기 P/P+H의 비율이 0.8이하로 되는 등에 의하여 전착 도장하지로서 A불적절한 저품위의 피막으로 된다.

또 강철판 구조물의 침지 인산염 피막 화성처리에 있어서 그 물체의 주로 내면에 공기나 화학 반응에 의하여 생성하는 가스등이 정체하는 부분 및 그뜻 침지 인산염 피막 화성처리에 있어서 그 물체의 주로 내면에 공기나 화학 반응에 의하여 생성하는 가스등이 정체하는 부분 및 된다.

이들의 피막화성 불량부는 도장후의 피막 부착성 및 내식성이 명백하게 나쁘다.

따라서 양호한 화성피막을 형성시키기 위해서는 침지 처리에 있어서 상술의 화학반응에 있어서 생긴 가스를 구성물체부터 배출하기 쉽게 하는 것과 이 가스의 이동을 용이하게 하는 것이 필요하다.

또 인산염 피막화성 처리에 있어서 반응에 의하여 생기는 슬러지가 피처리 물체의 수평부 혹은 포대부내등에 침강하여 피막의 결정대에 끼여지든지 혹은 표면에 부착하든지 하여 뒤의 수세 공정에서 스프레이 세정하여도 용이하게 제거할 수 없게 되어 그후의 전착 도장 공정에서의 불량한 원인이 되어 도장후의 품질로서의 도막 부착성이나 내수성, 기포성의 열화를 초래한다. 그 때문에 처리조의 바닥의 형상에 고려를 하든지 처리액중의 슬러지의 양을 감소하게 하지 않으면 안된다.

본 발명은 종래의 여러 문제점을 해결하기 위한 것으로서 그 주된 목적은 복잡한 형상을 가진 강철판 구조물의 내외표면을 균등하게 처리액에 접촉시켜서 균일 피막을 형성시키는 침지 처리 방법 및 장치를 제공하고저 하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 처리액중의 슬러지 농도를 조정하여 결정 피막으로의 부착을 방지한 침지 처리방법 및 장치를 제공하고저 하는 것이다.

우선 제1도에 있어서 부호 1은 인산 염화성 처리조이고 이 처리조는 전체적으로는 대략 접시형을 하고 저면(2)을 평탄한면으로 형성하고 있다. 이 처리조내에서 처리되는 강철판 구조물은 성형된 자동차 차체에(3)이고 자동차 차체(3)는 컨베이어(4)에 의하여 반송되고 인산 염화성 처리조(1)내를 연속적으로 통과하도록 구성되는 동시에 인산 염화성 처리조(1)의 대략 중간부근에 있어서 자동차 차체가 승강하도록 상기 컨베이어(4)에 산형의 만곡부(5)가 형성되어 있다. 이 산형은 상승부(5a)와 하강부(5b) 및 그것에 이은 연장부(57)를 가진다. 자동차 차체(3)의 반송은 컨베이어(4)에 대달린 2개의 현수부재(6a,6b)에 의하여 매달린 상태로 지지하고 소정의 속도로 인산염화성 처리조(1)내의 인산 염화성 처리용액(7)중을 전몰상태로 통과하여 처리된다. 이 반송 방향은 화살표시(8)로 표시하는 방향이고 자동차 차체의 전물에 의하여 흘러나오는 처리액은 오우버플로우 탱크(9)를 거쳐서 외부로 취출되든지 또는 순환 제공된다. 또 컨베이어(4)의 상부는 컨베이어의 형상에 따라서 각 구획 마다에 천정부(10)가 형성되어 있다. 도면에서는 인산 염화성 처리장치의 부분만이 표시되어 있지만 실제에는 이 장치의 전단측에는 스프레이식 및 딥브식의 탈지수단과 복수개의 세정수단과 딤브식의 표면 조정조와가 설치되어 장치의 후단측에는 스프레이식과 딤브식의 세정수단과 건조수단 및 이것에 연속한 상태로 도장수단과가 설치되어 있다. 결국 탈지부터 세정을 거쳐서 표면 처리하여 도장 마무리까지를 일련으로 연속하여 행할 수 있게 되어 있다.

이 실시예에 있어서 컨베이어(4)에 의하여 반송되어온 판금 구성물은 자동차 차체(3)는 인산 염화성 처리용액에 대하여 경사한 상태로 침입하여 전몰한다. 이 경우의 경사 각도는 20 내지 30°정도가 좋다. 자동차 차체(3)가 전몰 상태로 처리 되지만 인산 염화성 처리에 있어서는 강판 표면과의 반응에 의하여 수소 가스등이 발생하는 동시에 지입된 기포가 자동차 차체의 천정내부에 잔류하여 외부로 배출되지 않게된다. 가스 및 기포가 잔류한 부분은 인산 염화성 처리용액과 접촉하지 않게 되므로 그 부분만이 화성 처리되지 않고 처리의 얼룩이 생기게 된다. 그래서 자동차 차체(3)가 인산연 화성 처리용액(7)중에 전몰후 소정의 시간 경과후에 컨베이어(4)의 산형 만곡부(5)를 현수부재(6a,6b)가 통과하면 그 통과에 의하여 자동차 차체(3)가 승강 운동을 하고 상승부 (5a)에 달하였을 때에 진행 방향의 전방의 개구부부터 수소 가스등을 배출하고 하강부(5b)에 달하면 진행 방향의 후방 개구부측부터 수소 가스등을 배출하고 천정 내부의 기체를 전부 배출하여 인산 염화성 처리용액과 접촉하도록 하여 더욱 연장부(5c)에 있어서 전몰 상태에서 최종적으로 처리가 행하여진다. 그리고 컨베이어의 이동속도(매분 2 내지 8m)에 의하여 자동차 차체가 처리조로부터 서서히 밖으로 나가게 된다.

제2도에 표시한 실시예는 먼저의 실시예에 처리액의 순환수단 및 슬러지 제거수단등을 부가한 것이다. 즉 처리조(1)의 저부에 인산 염화성 처리용액의 배출구(11)를 개구시켜 이 배출구에 밸브(12) 및 펌프(13)를 구비한 순환 파이프(14)를 접속하여 이 순환 파이프에는 슬러지 제거장치(15)를 연결하여 이 슬러지 제거장치에 의하여 슬러지가 제거된 인산 염화성 처리용액이 오우버 플로우 탱크(9)에 이송되도록 이송 파이프 (16)가 접속되어 있다.

오우버플로우 탱크(9)에는 펌프(17)를 거쳐서 다른 순환 파이프(18)가 접속되어 이 순환 파이프는 열교환기(19)를 통과하여서 두갈래로 갈라져 한쪽의 순환 파이프 81(a)는 밸브(20)를 거쳐서 인산 염화성 처리조(1)의 저부에 접속시키고, 다른쪽의 순환 파이프(18b)는 밸브(21)를 거쳐서 처리조(1)의 자동차 차체 반입측에 배설하여 조내에 있어서의 상부 분사 파이프(22)와를 접속시킨다.

상부 분사 파이프(22)는 인간 염화성 처리 용액중에 몰입시키는 동시에 각상(角狀)으로 분기시켜서 액면 가까이에 배설하고 각각의 분사 파이프로부터 서로 대향하게 인산 염화성 처리 용액을 분사시키도록 파이프의 측면에 소정 크기의 분사공을 설치하여 분사에 의하여 액면에 소정의 유속을 생기게 하는 동시에 작은 파도를 형성 시킨다. 하부 분사 파이프(23)는 저부에 연하여 배설시키고 하부를 향하여 인산 염화성 처리용액을 분사시켜서 슬러지의 저부 침적을 방지하고 있다. 요컨대 처리조(1)내에서 생성한 슬러지는 처리조내에 정체하지 않고 배출구(11)로부터 순환 파이프(14)를 거쳐서 인산 염화성 처리 용액과 함께 슬러지 제거장치(15)로 이송된다. 그리고 슬러지 제거장치 (15)로 슬러지를 침강시켜 위의 맑은 액을 오우버플로우 탱크(9)에 이송시켜 열교환기 (19)로 가열한 후에 상부 분사 파이프(22) 및 하부 분사 파이프(23)로부터 처리조(1)내로 공급차여 순환 시킨다. 상기 열교환기(19)는 액체 가열에 사용되는 공지된 것으로서 열탕등의 액체의 가열 매체가 가열 순환 파이프(24)를 거쳐서 열교환기(19)에 공급시키도록 구성된 것이다.

이 실시예에 있어서 처리해야할 자동차 차체를 인산 염화성 처리조(1)내에 반입시키는 경우에는 반입측에 설치하고 있는 상부 분사파이프(22)부터 처리액을 분사시킨 상태로 행하고 액면에 소정의 음속과 작은 파도를 일으킨 상태속에서 자동차 차체를 침지시킨다. 이와같이 하면 이송 컨베이어(4)의 이송 동작에 있어서 수 10초의 중단이 있어도 침지 도상에 있어서의 액면의 경계선이 피처리물체 즉 자동차 차체상에 선상이 되어서 표출하지 않는다. 즉 자동차 차체가 처리액중에 침지하는 경우 이송 컨베이어(4)의 이동 속도가 매분 2 내지 8m정도이고 거의 그 이동 속도로 연속적으로 침지되어 연속적으로 처리액과 접촉한다. 그리고 강판자 처리액과의 접촉 초기의 반응이 빨리 행하여지는 것부터 이송이 중단하면 침지한 부분과 안한 부분과의 경계 즉 액면이 선상으로 되어 뚜렷하게 차체구성의 강판면상에 표출되고 만다. 그러나 액면이 파도치고 있는 것에 의하여 경계선이 흐릿해져 선상으로 표출되지 않는다. 또 분사 파이프(22)부터 처리액을 분사시키는 것에 의하여 피처리체가 반입되는 부분의 처리액면의 부분적인 이동 속도를 매분 20m, 바람직하게는 10m 이내가 되게 하여 이 액면을 통과하는 처리체의 어느 점의 통과시간을 15초 이하 바람직하게는 10초 이하가 되게하면 피막화성의 얼룩이 극도로 경감하고 전착 도막의 석출광도 균일화된다. 이와같이 이 초기의 화성 반응을 연장하는 것은 피처리물의 연속적 이송에 있어서 균일한 결정 석출에 의한 화성 피막의 형성이 품질에 크게 영향을 미치기 때문이다. 그리고 피처리체가 전몰상태에 있어서도 적어도 일회의 승강을 행하는 것에 의하여 가스 배기를 행한다.

제4도에 표시한 다른 실시예는 덕트식 처리장치가 제공된 것으로서 처리조(31)는 대략 장방형상을 이루는 것으로서 이 처리조의 상부에는 상기 실시예와 같게 피처리물, 즉 자동차 차체(3)를 이송하기 위한 컨베이어(32)가 배설되어 있고 이 컨베이어에는 소정의 간격을 가지고 한쌍의 드롭리프터(33,34)가 부착되어 이 드롭리프터에 각각 권취자재로 조강(吊綱)(35,36)이 부착되어 이들 조강의 하단에 가대(37)가 부착되어 이 가대에 자동차 차체(3)가 재치되어 있다. 이 덕트식 장치에 있어서도 상기 실시예와 같게 전단에는 탈지 수단 및 세정 수단이 있고 후단에는 세정, 건조 및 도장수단이 연속적으로 설치되어 있다.

이 실시예에 있어서는 자동차 차체(3)를 처리액중에 전몰시킨 후에 드록리프터 (33,34)를 조작하여 교대로 경사시키면 자동차 차체의 천정 내측에 잔류하여 있는 가스 또는 기름등을 배출하여 천정내측에 완전히 처리액이 접촉하게 한다. 따라서 덕트식 처리 장치라도 자동차 차체를 전몰상태에서 경사시키는 것에 의하여 내부 전체가 거의 균등하게 처리된다.

사용되는 처리액은 상기 제1표에 표시된 바와같은 특성의 인산염 피막을 얻기 위하여

Zn 0.5-2.0 g/l

Ni 0-1.5 g/l

No₃3- 25 g/l

Po₄10- 18 g/l

F 0- 1.3g/l

ClO₃0-2.0 g/l

No₂0.06-0.14g/l

의 조성의 인산아연 처리액으로 하여 이 처리액의 전체산도(Total Acid)를 15 내지 20포인트, 그때의 유리산도(Free Acid)와 전체 산도와의 비(Acid Ratio)가 12 내지 26이 되게 가성 소오다(NaOH)또는 탄산소오다(Na₂Co₃)로 중화 조정하여 처리온도를 40 내지 60℃의 사이로 설정하여 설정온도 ±3℃로 제어하여 처리한다. 이 경우 동일 처리액 조정이라도 침지 조건에 의하여 얻어진 화성 피막의 특성이 크게 달라지게 된다.

이 처리 조건에 의한 화성 피막의 특성을 제5도 및 제6도에 표시하고 있다. 즉 인산 아연 처리시에 피처리물인 동판의 면과 처리액의 접측하는 속도의 차이에 의하여 석출하는 피막의 특성치가 다르다. 그 이유는 여러가지로 생각되지만 가장 큰 하나의 요인은 반응계면의 경막층의 상승속도가 다르기 때문이라고 생각된다. 특히 침지법으로 처리하는 경우 피처리물과 접하는 처리액과의 사이에 있어서의 상대적인 이동속도(도면에서는 처리액의 유속으로서 표시하고 있지만 실적에는 피처리물이 이동하므로 어드 이동속도로 하여도 실질적으로는 같다)를 매분 2 내지 10m, 바람직하게는 2 내지 5m의 범위로 제어하는 것으로서 우수한 특성의 화성 피막이 얻어진다. 즉 처리액 유속이 10m 이하의 경우에는 주상 또는 주립상(柱粒狀)의 바람직한 결정이 얻어지고 20m를 넘어면 침엽상의 결정으로 되어 바람직한 피막으로 안된다. 환원하면 처리액의 이동속도가 매분 20m이상으로 되면 피막의 특성인 결정 크기가 15μ 이상으로 되어(제6도 참조)결정형이 침엽상으로 되어 P/P+H 비율이 0.8이하(제5도 참조)의 저품질로 된다.

그러나 처리조에 대하여 연속적으로 반입 되는 침지 처리의 경우 입조시의 초기 화성 반응시에 있어서는 가령 0.5 내지 1초 정도의 컨베이어의 불연속 이송이 있어도 그 부분의 액면의 경계선이 생겨 피막의 얼룩이 생기고 있다. 그결과 이 피막의 얼룩은 그후의 전착 도장에 있어서도 강판면의 전위 기타의 조건이 변화하는 것이 되어 전착도료의 석출량이 달라서 전착 도장에 얼룩이 생기는 것이 된다. 이 반응 초기에 있어서의 화성 피막의 얼룩은 입조시에 있어서의 처리액의 표면 유속을 매분 20m정도로 하면 초기 반응에서 반응 계면에 있어서 PH가 급격하게 상승하여 결정이 석출하는 것을 반응계면의 경막(境膜)중에 새로운 액이 송입되는 것에 의하여 경막의 PH상승을 완만하게 하여 초기 반응을 약간 늦어지도록 한다.

따라서 컨베이어의 이송에 불연속 이송이 있었다고 하여도 액면의 경계선이 나타나지 않고 분사 파이프로부터의 처리액의 분사에 의하여 균등화성 피막이 형성된다.

또 이와같은 침지법에 의하여 처리되는 자동차 차체는 시간당 20 내지 60대이고 1대당의 처리면적을 80m²이라고 하면 시간마다에 1600 내지 4800m²의 강판이 처리된다. 그 경우 반응에 의하여 생성하는 슬러지량은 1m²당 3 내지 4g이고 20대/시간의 경우 4.8 내지 6.4Kg의 슬러지가 생성되며 60대/시간의 경우는 14.4 내지 19.2Kg의 슬러지가 발생한다. 이 발생한 슬러지는 대단히 미세하여 부유상태로 존재하지만 경시적으로 집합하여 약 50내지 500μ의 입경의 슬러지로 성장하여 침강속도로 매분 0.08 내지 0.13m 정도의 침강성 슬러지로 된다.

그러나 본 발명에 있어서는 연속적으로 인산 염화성 처리용액을 지출하여 슬러지 제거 장치에 의하여 이들의 슬러지를 거의 제거하도록 하고 있기 때문에 인산 염화성 처리조내로 침강하는 일은 없다. 따라서 인산 염화성 처리조의 저부를 평탄하게 하는 것에 위하여 슬러지의 지출 및 인산 염화성 처리조내의 인산 염화성 처리용액의 균등한 교반이 가능하게 되어 처리물체에 대한 슬러지의 침적 혹은 부착이 방지된다.

이상 설명한 바와같이 본 발명에 있어서는 자동차 차체에 인산 염화성 처리에 있어서 침지 처리법이 사용되어 차체내부 특히 천정 내부에 기름 또는 수소 가스등의 기체가 모이지만 이들은 차체를 상하로 경사시키는 것에 의하여 천정내부로부터 배출되고 차체의 모든 부분에 있어서 처리액과 균등하게 접촉시키므로 처리의 얼룩이 해소되는 것에 의하여 모든 부분에 있어서의 내스캬브성 및 내천공성에 우수한 강판 처리가 된다.

Claims (8)

1. 인산 염화성 처리조(1)안의 인산 염화성 처리용액 내에서 강철판 구조물 표면에 인산염 침지처리를 수행하는 방법에 있어서, 인산 염화성 처리용액(7)내에서 작은 파도를 형성하고 인산 염화성 처리조(1)를 따라 인산 염화성 처리용액의 흐름을 유발시키도록 인산 염화성 처리조(1)의 공급측면을 향해 인산 염화성 처리용액의 표면층 아래의 인산 염화성 처리용액(7)을 분사하는 단계와, 인산 염화성 처리용액(7)내로 강철판 구조물을 전몰시키는 단계와, 인산 염화성 처리조(1)내에서 구조물 표면과 인산 염화성 처리용액(7)과의 접촉에 있어서 접촉을 위한 이동속도를 2 내지 10m/분의 범위로 하도록 인산 염화성 처리조(1)를 따라서 전몰된 구조물을 인산 염화성 처리용액(7)내에서 이동시키는 단계와, 구조물의 내부에 모인 기름, 반응가스 및 공기를 배출시키도록 구조물을 상하 경사시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리 방법.
2. 제1항에 있어서, 인산 염화성 처리조(1)내에서 인산 염화성 처리용액(7)을 2 내지 5m/분 정도의 범위로 유동시켜 인산 염화성 처리용액(7)중의 반응 생성 슬러지의 분포를 균일화하고 일정량의 인산 염화성 처리용액(7)을 인산 염화성 처리조 밖으로 연속적으로 취출하여 슬러지 제거장치(15)에 도입하고 연속적으로 슬러지를 제거하여 위의 맑은 용액을 인산 염화성 처리조(1)에 되돌리게 하는 단계를 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리 방법.
3. 제1항에 있어서, 인산 염화성 처리용액(7)의 분사는 인산 염화성 처리용액(7)에서 파도를 발생시키기 위하여 인산 염화성 처리조(1)의 대향 양측면으로부터 인산 염화성 처리용액(7)을 분사하는 단계를 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리방법.
4. 강철판 구조물의 표면을 인산염 침지 처리하기 위한 장치에 있어서, 인산 염화성 처리조(1)와 구조물을 운반하기 위해 인산 염화성 처리조(1)상에 장치된 컨베이어(4)와 구조물 내부에 모인 기름, 반응가스 및 공기를 배출시키도록 구조물을 선택적으로 상하 경사시키기 위해 컨베이너(4)에 포함된 이동 수단(5,5a,5b,5c)과, 인산 염화성 처리조(1)의 측면에 설치되어 인산염화성 처리조를(1)따라 인산 염화성 처리용액(7)의 흐름과 작은 파도를 발생시키기 위하여 인산 염화성 처리조(1)의 대향 측면을 향해 예정된 속도로 인산염화성 처리용액을 분사하기 위한 2개의 분사 파이프(22,23)를 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 각 분사 파이프(22,23)는 인산염화성 처리조(1)의 대향 양측면의 하나를 따라 각각 연장하고, 인산염화성 처리조(1)의 대향측면을 향해 인산염화성 처리용액(7)을 분사하는 출구를 가지며, 인산염화성 처리용액에 작은 파도를 형성하도록 작동하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리장치.
6. 제5항에 있어서, 저면을 갖는 상기 인산염화성 처리조(1)는 상기 인산염화성 처리조내(1)의 인산염화성 처리용액(7)을 상기 인산염화성 처리조를 따라 예정된 속도로 흐르도록 상기 인산염화성 처리조의 저면 주변에 설치되어 인산염화성 처리용액(7)을 교반하고 상기 인산염화성 처리조의 저면상에 슬러지의 침식을 방지하는 분사 파이프 (22,23)를 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리장치.
7. 제5항에 있어서, 상기 인산염화성 처리조(1)로부터 인산 염화성 처리용액(7)을 연속적으로 취하기 위해 인산 염화성 처리조(1)에 연결된 순환파이프(14)아 인산 염화성 처리용액(7)을 움직이게 하기 위한 순환파이프(14)에 연결된 펌프(13) 및 밸브 (12)와 슬러지가 세척된 인산염화성 처리용액을 운반하기 위해 분사파이프에 연결된 순환 파이프(14)와 연결되어 인산염화성 처리용액으로부터 슬러지를 제거하기 위한 슬러지 제거장치(15)와, 순환 파이프 내의 인산염화성 처리용액을 가열한기 위한 열교환기(19)를 또한 구비하는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리장치.
8. 제5항에 있어서, 상기 컨베이어(4)는 인산염화성 처리조(1)를 따라 일정한 속도로 구조물을 이동시키고, 상기 분사 파이프(22,23)는 인산염화성 처리조 내에서 구조물 표면과 인산염화성 처리용액과의 접촉에 있어서 접촉을 위한 이동속도를 2 내지 10m/분 범위의 속도로 인산염화성 처리조(1)를 따라 인산염화성 처리용액(7)을 이동시키는 것을 특징으로 하는 인산염 침지 처리장치.

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