KR880004002A - 방향족술피드아미드중합체 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예 1에서 얻은 중합체의 적외선 흡수 스펙트럼도이고,
제2도는 실시예 1에서 얻는 중합체의 X-선 화절도이다.
Claims (5)
- 중합체의 구성단위의 1-100몰%가 다음 일반식(I)을 지니는 반복단위로 이루어지며 구성단위의 99-0몰%가 다음 일반식(II)을 지니는 반복단위로 이루어지고, N-메틸-2-피롤리돈/염화리듐(95/5 중량비) 용제에서 30℃, 0.1g/dl 농도로 측정될때, 또는 클로로나프탈렌 용제에서 210℃, 0.1g/dl 농도로 측정될때 0.02 내지 10dl/g의 고유점도를 지니는 것을 특징으로 하는 방향족 술피드 아미드중합체.식중 Ar1,Ar2, Ar3, Ar4은 동일하거나 다른 방향족환이고, R1, R2, R3및 R4은 1-20 탄소수를 지니는 알킬기, 3-20 탄소수를 지니는 시클로알킬기, 6-20 탄소수를 지니는 아릴기, 1-20 탄소수를 지니는 알콕시기, 2-20 탄소수를 지지는 아실기와 7-20 탄소수를 지니는 아랄킬기로 이루어지는 군으로 부터 선택된 기들로서 이들은 상호 서로 동일하거나 다를 수도 있으며 a,b,c 및 d는 0-4의 정수를 나타내고 서로 같거나 다를수도 있다.
- 제1항에 있어서 상기 Ar1, Ar2, Ar3은로 부터 선택된 동일하거나 다른 방향족환인 것을 특징으로 하는 방향족술피드 아미드중합체 (여기서 Z는를 나타낸다).
- 일반식(III)(III)으로 표시된 아미드기함유 디할로겐화물과 일반식(IV) X-Ar4(R4)d-Y (IV)로 표시된 방향족 디할로겐화물과의 술피드형성제의 작용하에서 술피드형성반응으로 이루어진 아음 일반식이루어지는 것을 특징으로 하는 방향족 술피드 아미드중합체 또는 공중합체를 제조하는 방법.식에서, Arl, Ar2, Ar3및 Ar4는 방향족환이고 Rl, R2, R3및 R4는 1-20 탄수소를 지니는 알킬기, 3-20 탄소수를 지니는 시클로알킬기, 6-20 탄소수를 지니는 아릴기, 1-20 탄소수를 지니는 알콕실기, 2-20 탄소수를 지니는 아실기와 7-20 탄소수를 지니는 아랄킬기로 이루어지는 군으로 부터 선택된 기들이며 이들은 각기 서로 동일 또는 다를 수도 있고, a,b,c 및 d는 0-4의 정수를 나타내며 서로 동일하거나 다를 수 있고 X와 Y는 각기 서로 같거나 다를 수 있는 할로겐들이며, p/g비는 100/0 내지 1/99의 범위이다.
- 제3항에 있어서, 방향족 디할로겐화물(IV)이 디클로로벤젠, 디클로로벤조페논과 디클로로디페닐술폰으로 이루어지는 군으로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 술피드형성반응이 유기극성용제 중에서 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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