KR880002006B1 - 입상 여과층의 재생식 정제방법 및 장치 - Google Patents

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베르즈 울프강
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기막 악티엔 게젤샤프트
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D46/00Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/02Particle separators, e.g. dust precipitators, having hollow filters made of flexible material
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Abstract

내용 없음.

Description

입상 여과층의 재생식 정제방법 및 장치
제1도는 여과제의 간헐적 재생에 사용되는 본 발명 장치의 개략적인 수직단면도.
제2도는 상이한 조작 단계의 제 1도 장치의 개략적 수직 단면도.
제3도는 운반파이프의 저부대역 수직 단면도.
제4도는 스페이서 슬리이브의 예시도.
본 발명은 하나 또는 그이상의 재생단계에서 가스-투과성 부재 사이로 입상형태로 낙하하여 운반 파이프를 통하여 다시 상향 운반되는 여과제(filter medium)의 재생식 정제(regenerative purification)방법에 관한 것이다.
입상 여과제가 중앙으로 배열된 운반 파이프에서 운반가스류에 의하여 최소한 주기적으로 상향 이동되고, 그 다음 운반 가스류의 작동대역으로 낙하하여 순환방식으로 가스-투과성벽 사이로 운반되는 형식의 여과기 설비가 공지되어 있다. 이와 같은 경우, 입상 여과제는 아래로부터 원추형 여과층으로 가해지는 압축공기에 의하여 운반되어 운반 파이프를 통하여 상향 이동된다.
공지의 설비에 있어서는 운반 파이프의 저부 오리피스에서 비대칭 입구 상태가 나타나 운반 파이프를 통한 여과제의 확실한 연속 운반에 어려움을 초래하므로 여과층내로 낙하하는 여과제를 조절하기가 곤간하다 는 결점이 증명되었다. 더우기, 여과제로 부터 압축공기 통로를 분리하는 체 삽입체는 운반 공기층의 먼지나 불순물의 응결에 의하여 비교적 신속하게 막히고. 더우기 조작상의
Figure kpo00001
조래한다는 것이 발견되었다. 더우기 공지의 설비는 공정에 필요로 하는 벽통로 및 압축공기 라인에 의하여 제작이 비교적 복잡하다.
또한 이들 공지 설비는 그들의 조작 특성이 조가스(crude gas)입구에서의 압력 및(또는)운반속도의 불가피한 변동에 부응하지 못하는 결점이 있다.
예컨대 조가스 입구에서의 압력이 상승하는 경우, 이압력 상승은 운반가스류에 반대작용을 하여, 운반되는 용량이 감소될 뿐만 아니라 입상 여과제가 운반 파이프내에 가라
Figure kpo00002
전체 운반 시스템이 붕피되는 위험이 있다.
프랑스 특허출원 제2444490호에는 하나의 시스템이 발표되어 있는데, 이 시스템에 의하면, 입상 여과제가 재생단계중 여과층에 낙하하고, 이러는 동안 먼지로부터 유리되고, 그 다음 중앙 파이프의 저단부에서 송풍되는 압축공기에 의하여 중앙 파이프를 통하여 상향운반된다.
이 경우 중앙 파이프로 운반하는데 사용된 운반가스는 파이프 가스공간으로 공급된다. 그러나 공업적으로 이미 실험을 마친 이 시스템은 중요한 결점을 갖고 있다. 중앙 파이프에 압축 공기를 공급하는데 사용되는 라인의 오리피스에서 필요로 하는 스크리인은 반드시 그 메시폭이 스프리인 상의 입상재료의 최소입자 크기 보다 작도록 선택되어야만 한다. 따라서 스크리인 메시는 짧은 조작기간 후에 먼지에 의하여 막히게 되어 입자의 운반을 감소시킨다는 것이 실제로 증명되었다.
더우기 압축공기 파이프의 오리피스와 중앙 파이프의 입구 사이에 유지되어야만 하는 간격은 압력손실 및 압축공기의 측방향 유동의 부가적인 원인이 된다. 따라서, 실험결과 간단한 맥동적 조작후 운반 시스템이 붕괴되는 원인이 되는 중앙 파이프내의 운반류에 바람직하지 못한 변동이 일어남을 알았다.
이와 같은 동일한 결점은 프랑스 특허출원 제2350128호에 기술된 시스템에도 적용된다. 이의에, 프랑스 특허출원 제2322649호에는 중앙 파이프의 저단부를 다공성 즉 공기-투과성으로 형성하고, 중앙 파이프의 상부출구 오리피스위에 편향부재를 설치하는 것이 발표되어 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 공지 설비의 결점을 제거하여 주며. 특히 여과제의 명확히 한정되고 조절가능한 유동조건하에서 재생단계중 여과제를 아주 만족스럽게 운반하는 입상 여과층의 재생식 정제 장치를 제공 하는데 있다.
이 장치는 아주 만족스럽게 기능을 발휘하면서 가능한한 주기적인 청소를 요하는 스프리인 및 이와 유사한 부재의 사용을 피하도록 의도된 것이며, 또한 조절능력에 의하여 최적 조작조건으로 조절가능하며, 또 조가스압력 및(또는) 조가스 운반속도의 변동에 관계없이 여과제를 실제적으로 일정하게 운반하도록 의도된 것이다. 또한 본 발명은 여과제의 재생식 정제장치를 포함한다.
본 발명을 첨부도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
제1도에 도시한 장치는 정방형 또는 원형단면의 하우징(1)을 갖고 있다. 위치(G)까지 연장하는 가스-불투과성인 하우징(1)은 그의 저부단면에서 일련의 충전파이프(2)를 둘러싸고 있으며, 충전 파이프(2)는 서로 일정한 거리로 고정되어 가스-불투과성인 내측하우징(3)에 의하여 지지되어 있다. 모든 충전 파이프(2)에는 상부에서 개방된 오리피스(0)가 형성되어 있는 반면에, 그들의 저부 오리피스(U)는 서로 일정한 간격으로 배열된 두개의 동심 가스-투과성 벽(W1및 W2)에 의하여 형성된 여과층(F)과 연통하고 있다.
예컨대 금속메시 형태인 이들 두개의 가스-투과성 벽(W1및 W2)은 충전 파이프(2)의 하측변부로 부터 연장되어 있으므로 충전 파이프(2)를 통하여 상부로 부터 낙하하는 입자는 여과층(P)으로 들어간다. 충전 파이프(2)의 상부는 언급한 바와 같이 가스-불투과성인 내측 하우징(3)에 의하여 내측으로 경계져 있으며, 상기 내측 하우징(3)은 절두피라밋 형상의 캡(4)형태로 상향으로 연속되어 있다. 내측 하우징(3)과 캡(4)은 고정리브(도시하지 않았음)를 경유하여 하우징(1)의 내측벽에 고정되는 단일부재가 바람직하다.
캡(4)의 상측변부에 운반 파이프(5)가 연장되어 있으며, 이 운반 파이프(5)는 가스-투과성벽(W1및 W2)에 의하여 형성된 여과층(F)과 동축으로 하향연장되어 있으며 또한 양단부에서 개방되어 있다. 운반 파이프(5)의 저부는 스페이서 슬리이브(spacer sleeve)(6)속으로 돌출하며, 스페이서 슬리이브(6)는 도시한 예에서 원통형 파이프 부분으로서 구성되어 있고, 또 공간(Z)이 저부운반 파이프부분과 스페이서 슬리이브(6)사이에 형성되도록 배열되어 있다. 따라서, 운반 파이프(5)의 입구 대역은 간상의 스페이서 슬리이브(6)에 의하여 둘러싸여져 있다. 하측 단부에서, 상기 스페이서 슬리이브는 운반 파이프(5)의 하측 오리피스(5a)를 지나 상향으로 연장되는 몇개의 하향개방된 슬리트(6b) (제4도)를 갖고 있다. 원통형 칼라(6a)는 스페이서 슬리이브(6)의 주위에 환동가능하게 설치되어 있다. 상기 원통형 칼라는 이것이 스페이서 슬리이브(6)의 스리트(6b)를 부분적으로 은익하토록 자체 공지된 고정부재 예컨대 스크루우(6c)에 의하여 필요한 높이로 고정될 수 있다.
운반 파이프(5)의 하측 오리피스(5a)아래에서 파이프 아래의 저면에 여과기 삽입체(56)가 설치되어 있으며, 그 아래에 압축공기가 공급되는 볼로우 제트(blow jet)(57)가 설치되어 있다. 블로우 제트(57)는 라인 (58)을 경유하여 압축공기원에 연결되어 있으며, 압축공기의 공급원은 차단밸브에 의하여 필요에 따라 개폐 될 수 있다.
스페이서 슬리이브(6)의 저부에 형성되어 있는 슬리트(6b)는 하향으로 유동하는 입자가 스페이서 슬리이브에 의하여 둘러싸여진 공간으로 들어가게하는 작용을 하며, 들어간 이들 입자의 상방에는 스페이서 슬리이브(6)와 운반파이프(5)사이의 환상공간을 통하여 하향 유동하며 운반 파이프의 하단부 대역에서 운반 파이프속으로 재회송되는 운반공기를 위한 충분한 공간이 항상 유지된다.
동시에 상기 운반 공기는 재회송 대역에 존재하는 입자를 운반파이프를 통하여 상향 운반한다.
예컨대 전기 고장과 같은 조작상의 고장이 일어나는 경우, 운반 파이프에 가해진 진공이 약해져 상기 파이프에 존재하는 입자가 낙하하는 일이 일어날 수 있으며, 그와 같은 예상치 않은 고장의 경우, 장치가 갑자기 차단되지 않지만 수초이상 동안 작동이 계속되고, 진공이 서서히 감소된다고 가정하지 않으면 안된다.
이들 상황하에서, 운반 파이프(5)와 스페이서 술리이브(6)사이에 존재하는 환상공간은 운반 파이프속으로 연장되는 지점까지 입자에 의하여 부분적으로 충전되게 되어 장치의 재시동에 어려움을 가중시키는 일이 일어날 수 있다. 이미 언급한 블로우 제트(57)는 그러한 상황에 부합되도록 제공하는 것이다. 장치를 언급한 고장중의 하나가 발행한후 재시동하고자 하는경우, 간단히, 차단밸브를 개방시키면 충분하며, 그러므로서 운반 파이프 입구의 아래에 존재하는 입자가 운반 파이프를 통하여 상향이동되므로 현재작용을 발휘하고 있는 진공에 의하여 정상적인 조작이 이러한 문제점 없이 다시 시작될 수 있다. 압축공기 스위치의 개방과 동시에, 바람직 하기로는 심지어 개방전에 진공을 실시하여야 하는 점을 주의 하지 않으면 안된다.
운반 파이프의 상측 오리피스(5b)는 리브(60)에 의하여 하우징 벽으로부터 연장될 수 있고, 그 내부직경이 어떠한 경우에도 운반 파이프(5)의 내경보다 큰 원통형 분리 파이프(53)에 의하여 둘러 싸여있다. 원통형 분리 파이프(53)의 저부는 하측방향으로 즉, 입자 완충대역(P)의 방향으로 개방된 환상의 자유공간(54)을 형성하도록 운반 파이프의 하측 오리피스상으로 압박된다. 원통형 분리 파이프(53)는 상당한 거리(이 거 리는 모든 경우 그의 직경보다 몇배 더 크다)로 상향 연장되어 있으며, 흡인 라인(28)에서 종단되며, 그의 입구 오리피스 전방에는 편향부재(55)가 설치되어 있다.
입자와 재생식정제에 있어서, 입자는 운반파이프(5)를 통하여 상향흡인되어 비교적 높은 운반파이프의 상측 오리피스(5b)를 지나간다. 그러나, 원통형 분리 파이프(53)로 들어오면 운반가스류에 의하여 운반된 입자는 서서히 하향 낙하하여 운반파이프(5)와 원통형 분리파이프(53)사이의 자유공간(54)을 통하여 입자 완충대역(P)으로 지나간다음, 그곳으로부터 충전 파이프(2)를 경유하여 여과층(F)으로 지나간다. 한편 운반 가스류에 의하여 운반된 먼지는 상기 가스에 의하여 흡인라인(28)을 경유하여 사이클론 분리기(30)로 운반 되어 공기차단 및 먼지 방출장치(35)를 경유하여 방출된다.
편향부재(55)의 기능은 흡인라인(28)으로 들어갈 가능성이 있는 입상 입자를 하향 낙하시켜 흡인라인(28)에 들어가지 못하도록 편향시키는 것이다. 기술된 장치로 실험을 행한결과, 스페이서 슬리이브(6)상의 슬리트(6b)의 구조에 의하여 여가층으로부터 운반 파이프로의 입자의 아주 만족스러운 전달이 이루어지는 반면에, 다른 한편으로는 원통형 분리파이프(53)에서 일어나는 먼지로부터 입자의 분리는 입자에 대해 최소의 손상을 준다는 것이 나타났다. 따라서 이러한 형태의 장치에서 극히 문제가 되는 입자의 마멸은 최소로 감소될 수 있다.
또한 운반파이프(5)의 하측 오리피스(5a)에서 입자에 대한 손상이 추가적으로 회피된다. 특히 제3에 도시한 바와같이, 입자는 운반중에 운반파이프의 하측 오리피스(5a)로부터 멀리떨어져 유지되는바, 그 이유는 상기 오리피스에서 편향된 공기는 위로부터 입자를 포획하여 입자를 운반파이프의 중앙을 향하여 운반 하는 경향이 있기 때문이다. 그다음 입자는 운반 파이프의 전체단면에 걸쳐 분포되기 시작한다.
제(4)(제1도)의 상부에서 운반파이프의 연결은 운반파이프가 높이에 있어서 수 cm씩 조절될 수 있도록 공지수단에 의하여 행하는 것이 바람직하다.
제1도에 도시한 바와같이, 여과층(F)에 의하여 둘러쌓여져 있으며 이후 순수가스공간(Rei)으로 언급되는 공간은 여러위치에서 두개의 인접한 충전파이프(3)사이로 연장되는 환상통로(9)에서 종단된다.
환상통로(9)는 제어밸브(11)를 경유하여 순수가스통로(12)에 이른다. 제어밸브(11)는 하측환상시이트(13)와 상측시이트(14)를 갖고 있으며, 이들 시이트 사이에서 밀폐부재(15)는 자체 공지이며, 공기식으로 작동되는 피스톤(16)에 의하여 이동될 수 있다. 제1도에 도의된 조작단계에서 밀폐부재(15)는 상측시이트(14)에 지지되어 있으며, 그에 의하여 환상통로(9)로부터 순수가스통로(12)로 통로가 개방 된다.
제1도에 의하면, 환상단면의 하우징(17)은 여과층(F)으로 부터 일정한 거리로 배열되므로 조가스공간(Ro)이 여과층(F)과 하우징(17)사이에 형성된다. 하우징(17)의 아래에 수집 깔때기(18)가 제2도에 도시한 바와같이 배치될 수 있으며, 상기 수집 깔때기는 재생단계에서 중력에 의하여 낙하하는 먼지를 컨베이어(19)로 운반하여 그곳으로부터 먼지를 화살표(20)방향으로 방출시킬 수 있다. 그러나 바람직한 실시예에 장치는 간단한 수집깔때기(18)대신에 예비분리기(제1도)를 설치하는바, 상기 예비분리기는 절두원추형 수집깔때기(23)와 내부삽입체(23a)을 갖는 원통형 상측부(22)로 형성되어 있다. 조가스통로(24)는 원통형 상측부(22)와 접선방향으로 연통하고 있으며, 사이클론 작용의 결과로 조가스에 운반된 먼지가 예비분리되고, 먼지는 화살표방향으로 컨베이어(19)속으로 하향낙하한다.
하우징(1)에 연결된 흡인라인(28)은 밸브(29)를 경유하여 사이클론분리기(駱)에 이르며, 사이클론분리기(30)는 다른 연결라인(31)를 경유하여 추출기 팬(fan)(32)에 연결되어 있다. 밸브(29)는 공기 또는 수입 작동피스톤(34)에 의하여 이동될 수 있는 밀폐부재(33)를 갖고 있다.
사이클론분리기(30)는 본기술분야에 숙련된자에게 공지된것이기 때문에, 그 구조에 대한 더 이상의 설명은 생략한다. 사이클론분리기는 공기차단 및 먼지방출장치(35)와 연통한다 추출기 팬(32)은 모우터(36)에 하여 구동되며, 그의 회전방향은 흡인이 상류의 장치 및 라인에서 특히 원통형 분리파이프(53)에서 일어나게 하는 방향이다.
방법에 대한 특징을 설명하면 다음과 같다.
이것을 행함에 있어서 조가스 정제단계를 구별할 필요가 있는바, 이 경우 먼지를 함유한 조가스는 설비 통하여 유동되어 운반된 먼지로부터 유리된다. 상기 단계는 제1도에 도시되어 있으며, 재생단계에 의히 주기적으로 중단될 수 있는바, 이 경우 여과층(F)에 수집되어 있는 먼지는 다시 여과층으로부터 제거된다.
제2도는 상기 재생단계에 기초를 둔 것이다.
조가스는 조가스통로(24)를 통하여 화살표(38)방향으로 예비 분리기(21)속으로 들어가 그곳에서 우선적으로 운반된 먼지로부터 유리된다. 그 다음 아직도 먼지를 함유하고 있는 조가스는 만곡된 화살표방향으로 상향이동되어 조가스공간(Ro)으로부터 여과층(F)을 통하여 순수가스공간(Rei)으로 유동한다. 운반된 먼지는 입상 여과제에 여전히 부착되는 반면에 순수가스는 환상통로(9) 및 제어밸브(11)를 통하여 순수가스통로(12)속으로 유동할 수 있다.
간헐적 조작에 있어서, 제어밸브(11)는 제2도에 따른 재생단계에서 순수가스통로(12)를 폐쇄시키되 세정 공기의 유입을 허용하도록 조절된다. 화살표(39)방향으로 둘어가는 세정공기는 화살표방향으로 팬(42) 및 제어밸브(11)를 경유하여 환상통로(9)를 통하여 순수가스공간(Rei)속을 통과하여 그곳으로부터 여과층(F)을 통하여 만곡된 화살표(제2도)방향으로 의향유동하고, 여과재에 존재하는 먼지를 운반하여 조가스통로(24)(화살표43)를 통하여 조가스 공간을 지나간다. 이 과정중에, 먼지의 일부분은 화살표 방향으로 켄베이어(19)의 대역속으로 낙하한다.
그러나, 추출기 팬(32)을 재생단계의 개시와 동시에 시동하였기 때문에 대단히 감소된 압력이 운반파이프(5)상의 대역에 설정 되었으며, 이는 운반파이프(5)아래에 존재하는 여과층에 대하여 강력한 흡인으로서 작용한다.
제2도에서 화살표(40)로 표시한 바와같이, 세정공기의 일부는 공간(Z)에서 발생된 홉인의 결과로 하향이동하여 상기흡인에 의하여 운반파이프의 하측오리피스(5a)를 통하여 운반파이프속으로 운반된다. 하향방향 으로 여과층(F)을 지나가는 입상여과제는 스패이서 슬리이브(6)(제3도)의 주위대역에 원추형축제층(44)을 형성하며, 상기 원추형 축제층으로부터 여과되는 거리(a)(제4도)를 갖는 하측 오리피스의 슬리트(6b)를 통하여 위로부터(제3도 화살표)도입되는 세정공기의 대역속으로 지나가서 상기공기에 의하여 운반파이프(5)속으로 운반된다. 원추형 축제층(44)으로부터 운반파이프(5)의 흡인대역속으로 입상여과제의 통고는 한편으로는 중력에 의하여 일어나고, 다른 한편으로는 운반파이프에서 발생되는 흡인 및 그 결과 운반파이프의 아래 에서 생기는 운반공기 이동에 의하여 일어난다. 두개의 거리(a 및 b)를 적당히 조정함으로서 원추형 축제 층(44)으로부터 운반파이프(5)속으로의 입상여과제의 마찰없는 연속이동이 달성될 수 있다.
따라서 여과제는 화살표방향으로 운반파이프(5)내에서 상향으로 운반되어 이동중 입자가 그의 높은 비중에 의하여 하측의 환상분리파이프 오리피스를 통하여 낙하하면서 원통형 분리파이프(53)속으로 서서히 이동 된다. 다른 한편으로는, 운반파이프(5)내에서 운반되는 먼지는 그의 낮은 중량으로 인하여 세정공기에 의해 상향으로 운반되어 흡인라인(28)을 통하여 밸브(29)(개방되어 있음)을 경유하여 사이클론분리기(30)속으로 유동되는바, 이경우 운반된 먼지는 공기차단 및 먼지방출장치(35)를 경유하여 하향방향으로 분리된다. 먼지로부터 유리된 세정공기는 추출기 팬(32)에 의해 복귀라인(52)을 경유하여 조가스라인(51)(매니포울드)속으로 도입될 수 있다.
여과제를 함유하는 가스-투과성 벽(W1및 W2)은 상호 30-150mm간격을 유지하며, 바람직한 실시예에서는 45-60mm의 간격을 유지하고 있다. 거리(a 및 b)(제3도 및 제4도)를 상호조정하고, 그리고 운반파이프 상에 가해진 진공의 강도를 조정함으로서, 입상여과제가 한편으로는 원추형 축제층(44)을 경유하여, 운반파이프의 흡인대역으로 연속통과하는 반면에, 다른 한편으로는 충분한 양의 입자가 충전파이프의 오리피스(0)(제l도)상에 존재하여 여과제가 충전 파이프(2)를 통하여 연속통과하도록 할 수 있다. 따라서 충전파이프의 오리피스(0)상에 존재하며, 예정된 놀이(h)보다 작지않아야하는 입자 완충대역(P)의 입자의 양은 일정한 완충작용을 발휘하며 또 충전파이프(2)가 항상 여과제로 균일하게 충전되고, 가스통과 저항이 전체 여과파이프길이에 걸쳐 사실상 일정하도록 한다.
본 설명은 본기술분야에 숙련된자에게 알려져 있는 바와같이 공업적으로는 단독으로 거의 사용되지 않으면서 대부분의 경우 다수의 장치를 병렬로 연결조립하여 하나의 시스템을 형성하는 장치에 관한 것이다. 기술분야에 슥련된자에게 알려져 있는 바와같이 제어밸브의 적당한 배치에 의하여, 재생단계에서 상기 시스템으로부터 기술된 장치중의 하나를 항상 운전할 수 있는 반면에, 다른 장치는 조가스정계공정을 위해 이용할 수 있다.
제1도에 따른 조가스정제단계에저 밸브(29)는 통상 폐쇄되고, 추출기 팬(32)은 작동중에 있지 않다. 그러나 이것은 간헐적 조작의 경우에만 적용되는 것으로, 이 경우 조가스 정제는 입자의 재생중에 중단되고, 또 조가스정제중에 입자의 재생은 일어나지 않는다. 또한 실행가능한 연속조작에 있어서는 재생은 조가스정제와 동시에 일어날 수 있다.
제3도 및 제4도에 따른 실시예에 사용되는 스페이서 슬리이브(6)는 일예에 불과하며 본 기술분야에 숙련된자에 의하여 매우 다양한 방식으로 변형될 수 있다.
따라서, 제1도는 원통형 스페이서 슬리이브(6)가 일정한 간격으로 배치되어 있는 각부(leg)(49)에 의하여 저부(7a)에 지지되어 있는 간단한 실시예를 보여주고 있다.
본 실시예에 관련하여 순수가스에 대하여 언급하면, 이 실시예와 관련하여 이미 언급한 바와 같이 여과제를 운반파이프(5)를 통하여 운반하기 위하여 순수가스 또는 세정가스를 사용할 수 있다. 제2도는 장치가 세정가스 운반을 위하여 이렇게 연결되는가를 보여주고 있다. 순수가스가 여과제를 운반하는데 사용되는 변형에 있어서, 제어밸브(11)는 존재하지 않는다. 이미 기술한 바와 같이, 조가스는 조가스통로(24)를 통하여 장치의 조가스공간(Ro)으로 들어가 여과층(F)을 통과한 후 환상통로(9)를 통하여 순수가스공간(Rei)을 지나간다. 운반파이프(5)에서 발생되는 강한 흡인의 결과로서, 순수가스공간에 존재하는 순수가스의 일부는 스페이서 슬리이브(6)와 운반파이프(5)사이의 환상공간을 통하여 화살표(제2도)방향으로 흡인되어 제2도에 관하여 이미 기술한 바와 같이 여과제를 운반한다.
이 경우, 여과제의 재생은, 사이클론 분리기(30)와 추출기 팬(32)이 일정하게 또는 단지 간헐적으로 작동 하느냐에 따라 연속적으로 또는 불연속적으로 수행할 수 있다.
순수 가스라함은 여과층(P)을 통하여 한번 유동된 가스로서 순수가스공간에 존재하는 모든 가스를 말한다. 따라서 본발명에 따른 장치는 불연속적으로 또는 연속적으로 재생될 수 있다. 양 형태의 조작에 있어서, 순수가스나 또는 특별한 세정가스가 운반파이프(5)를 통하여 여과제를 운반하기 위한 운반가스로서 사 용될 수 있다.
입상 여과제를 재생시 조가스, 세정가스 및 운반스가스의 운반양은 바람직한 실시예에서 그 비율이 약 100 : 15 : 2이다. 따라서 세정가스중의 운반가스의 비율은 약 10-15%이다.
원통형 분리파이프(53)로부터 여과층(F)으로의 입자의 이동은 본 발명의 개념의 범위내에서 본 기술분야 에 숙련된자에 의하여 여러가지 방식으로 변경될 수 있다.
예컨대 충전파이프(2)는 두개의 가스-불투과성 벽으로 대치할 수 있으며, 다수의 경사진 충전 파이프가 캡(4)에 부착될 수 있다.
특별한 세정가스 대신에, 순수가스가 재생에 사용되는 경우, 팬(42)(제2도)은 연결라인(25)을 경유하여 순수가스 통로(12)에 연결될 수 있으며, 연결라인(25)에는 차단밸브(26)가 설치될 수 있다.
운반가스로서 공기분만 아니라 다른 가스 또는 가스 혼합물, 예컨대 불활성가스를 사용할 수 있다.

Claims (8)

  1. 하나 이상의 재생단계에서 가스-투과성부재 사이로 입상 형태로 낙하한 다음, 운반파이프를 통하여 다시 상향운반되는 여과제의 재생식 정제방법에 있어서, 순수가스의 일부 또는 세정가스의 일부를 이용하여 운반 파이프를 통하여 입자를 운반하고, 상기 입자는 눈반 파이프의 상측 오리피스에서 흡인하고, 또 상기 순수가스 또는 세정가스의 일부에 의하여 운반 파이프의 하측오리피스에서 상기 입자를 운반파이프속으로 운반시키고, 입자가 운반파이프의 상측 오리피스를 지나간 후 입자를 운반된 먼지로 부터 감속에 의하여 분리하고, 상측 여과층 부분에 있는 세정가스를 여과층으로 둘러싸인 순수가스 공간속으로 여과층을 통하여 통과시키며, 세정가스의 대부분을 순수가스 공간으로부터 여과층을 통하여 외측으로 유동시키면서 세정가스 의 일부분을 사용하여 운반파이프를 통하여 여파제를 운반시키는 것을 특징으로 하는 여과제의 재생식 정제방법.
  2. 제1항에 있어서, 먼지로 부터 유리된 세정가스를 조가스 주라인으로 도입함을 특징으로 하는 여과제 의 재생식 정제방법.
  3. 순수가스공간의 주위에 위치하며 입자를 포함하는 여과층을 가지며, 상기 입자는 최소한 재생단계중에 운반파이프에서 상향운반되어 여과층의 대역으로 낙하하며, 여과층이 운반파이프의 하측 오리피스(5a) 에 인접한 저부대역에서 상기 오리피스(5a)의 방향으로 서로 접하고 있지 않는 입상여과층의 재생식 정제장치에 있어서, 운반파이프(5)내에서 상향 흡인을 발생하는 추출기 팬(32)을 설치하고, 운반파이프의 하측 오리피스(5a)의 대역에서 가스가 운반파이프(5)속으로 지나갈때 순수가스공간(Rei)에 함유된 가스의 방향변경을 일으키게하는 스페이서 슬리이브(6)와 각부(49)를 설치하고, 운반파이프(5)의 상측 오리피스(5b)를 추출기 팬(32)에 서로 작용가능하게 연결시키고, 운반파이프(5)의 하측 오리피스(5a)를 양단면이 개방된 스페이서 슬리이브(6)로 둘러싸고, 스페이서 슬리이브(6)의 하측 변부는 운반파이프(5)의 하측 오리피 스(5a)아래로 돌출되게 하면서, 운반파이프(5)의 하측 오리피스(5a)와 거리(a)를 두고 위치한 저부(7a)사이에 하나이상의 슬리트(6b)를 형성시키고, 상기 스페이서 슬리이브(6)는 운반파이프의 주위로 안내되어 저부(7a)의 각부(49)상에 지지되는 원통형 파이프 부분으로 형성시킨 것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치.
  4. 제3항에 있어서, 저부(7a)로 부터 스페이서 슬리이브(6)의 하측 변부의 거리(a)를 조절할 수 있고, 저부(7a)로부터 운반 파이프(5)의 하측변부의 거리(b)를 조절할 수 있게 구성시킨것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치.
  5. 제3항에 있어서, 상측 충전 파이프 오리피스의 변부를 절두 피라밋 또는 절두 원추형상의 캡(4)의 옆에 형성시키고, 상기 캡은 그의 상측 단부에서 운반 파이프(5)를 높이 조절가능한 방식으로 지지하도록 구성시키고, 그 높이는 캡(4)의 외면과 하우징(1)사이의 재생대역에서 예정된 최소높이(h)을 갖는 입자완충 대역(p)의 입자가 수집되는 그러한 높이를 갖도록 한것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치.
  6. 제3항에 있어서, 운반파이프(5)를 그 상측단부를 원통형 분리 파이프(53)내에서 종단시키고, 원통형 분리파이프의 내경을 운반파이프(5)의 내경보다 크게 형성시키고, 운반파이프와 반대위치에 있는 원통형 분리파이프의 단부를 추출기 팬(32)에 연결시키며, 원통형 분리파이프(53)와 운반파이프(5) 사이에 존재하는 자유공간(54)을 저부에서 개방시킨 것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치 .
  7. 제3항에 있어서, 운반 파이프의 하측 오리피스 대역에 설치되는 스페이서 슬리이브(6)에 다수의 슬리트(6b)를 형성하여 저부에 지지시키고, 활동가중하게 설치되는 원통형 칼라(6a)를 스페이서 슬리이브(6)의 둘레에 위치시키고, 상기 원통형 칼라를 스페이서 슬리이브(6)의 슬리트(6b)를 부분적으로 은익하기 위하 여 필요한 높이로 고정시킬 수 있게 구성시킨것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치.
  8. 제3항에 있어서, 운반파이프의 하측 오리피스(5a)아래에 위치한 저부에 여과기 삽입체(56)를 설치하고, 블로우 제트(57)를 상기 저부 아래에 위치시킨 것을 특징으로 하는 입상 여과층의 재생식 정제장치.
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