KR880000908A - 열적으로 독취 가능한 표면 특징 부여장치 배열과 이것을 온도활성화를 위한 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

열적으로 독취 가능한 표면 특징 부여장치 배열과 이것을 온도활성화를 위한 방법 및 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 온도활성화장치 및 주사장치를 가지는 표면 특징부여 장치의 단면도. 제2도는 표면 특징부여 장치의 평면도.

Claims (22)

1. 특징 부여 장치를 독취할 때 목적물의 마아크된 구역들이 마아크되지 않은 구역들과는 그들의 표면 온도에서 상이한 목적물상의 열적으로 독취 가능한 표면 특징 부여 장치 배열에 있어서, 온도 차이들을 생성하기 위하여 열이 표면 특징 부여 장치 배열(1,31,41,51,61,81,101,111,121,131)에 공급되거나 거기서부터 배출되며 마아크된 구역들(3,33,43,53,63,83,103,113,123,133)들은 온도에서의 변화에 있어서 마아크되지 않은 구역들과 상이한 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
2. 제1항에 있어서, 구역들(3,2 : 33, 32 : 43,45 : 53,55 : 63,62 : 83,82 : 103,101 : 113,111 : 123,121)은 그들의 열전도도에 있어서, 상이한 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
3. 제1항에 있어서, 구역들(3,2 : 33, 32 : 43,45 : 53,55 : 63,62 : 83,82 : 103,101 : 113,111 : 123,121)은 그들의 열용량에 있어서 상이한 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
4. 전항들중의 하나의 항에 있어서, 구역들(133,134)는 입사하는 방사선에 대한 그들의 반사성에 있어서 상이한 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
5. 전항들중의 하나의 항에 있어서, 표면 특징 부여 장치(31)는 하나의 금속필름 특징부여장치를 가지는 플라스틱필름 라벨(32)로 되어 있는 것을 특징으로 하는 특징 부여 장치.
6. 전항들중의 하나의 항에 있어서, 표면 특징 부여 장치(1,31,41,51,61,81,101,111,121,131)는 가시적인 스펙트럼 범위에서는 투과성이 아닌 작은 열전도도의 커버층(5,35,45,55,65,135)으로 덮혀져 있는 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
7. 전항들중의 하나의 항에서 청구된 바와같이 열적으로 독취 가능한 표면 특징 부여 장치 배열에서 열을 공급하고 배출하는 방법에 있어서, 주사되어질 표면 구역들(9,69,89,109,119,128)은 열의 공급 또는 배출에 의하여 열처리를 균일하게 당하게 되며 여기서 열처리(12,72,86,106,114,132)는 주사와는 별도로 일어나는 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.
8. 제7항에 있어서, 열처리는 가열체 또는 냉각체(86,106)와의 표면 접촉에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제7항에 있어서, 열처리는 방사선(12,72,112,132)의 입사각에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제7항 내지 제9항의 하나의 항에 있어서, 열처리(제8도, 제13도)는 표면 특징 부여 장치(81,131)의 면적의 전체의 표면 위에서 행하여지는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제7항 내지 제9항의 하나의 항에 있어서, 열처리는 주사트랙(9)을 덮고 있는 좁은 범위(12)에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제7항 내지 제11항의 하나의 항에 있어서, 분리는 시간적으로 이루어지는 것(제1도, 제7도, 제8도)을 특징으로 하는 방법.
13. 제7항 내지 제9항의 하나의 항 및 제11항에 있어서, 분리는 공간적인 것(제1도, 제7도, 제10도, 제11도)을 특징으로 하는 방법.
14. 주사트랙에 횡으로 뻗쳐있는 상이한 열전도의 특성을 가지는 제13항에 있어서, 열처리는 주사트랙(109,119)에 평행하게 놓여 있으며 그곳으로부터 간격을 떼어 놓여 있는 좁은 조각(106,114)에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제9항에 있어서, 분리의 목적을 위하여 입사 방사선의 스펙트럼 구역은 감지기의 감지범위로부터 분명히 떨어져서 놓여 있는 것(제12도)을 특징으로 하는 방법.
16. 제1항 내지 제15항의 하나의 항에서 청구된 방법을 실시하기 위한 장치에 있어서, 열원(10,86)은 표면 특징 부여 장치(1,31,41,51,61,81,101,111,121,131)를 가열하거나 냉각하기 위하여 주어지는 것을 특징으로 하는 장치.
17. 제16항에 있어서, 열원은 접촉표면을 가지는 가열체 또는 냉각체(86)로서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
18. 가열을 위한 제16항에 의한 장치에 있어서, 열원은 열방사원(10)으로서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
19. 제18항에 있어서, 방사원(10)은 초점조정장치(11)을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
20. 제16항 내지 제19항의 하나의 항에 있어서, 열원(10)은 표면 특징 부여 장치(1)에 평행하게 움직일 수 있도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
21. 제20항에 있어서, 열원(10)은 온도주사장치(6)과 함께 움직이도록 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
22. 독취될 때 그들의 열방사에서 상이한 특징 부여된 그리고 특징 부여되지 않은 구역들을 가지는 열적으로 독취할 수 있는 표면 특징 부여 장치 배열에 있어서, 상이하게 특징 부여된 구역들(142,143)의 표면들은 열방사의 스펙트럼 범위에서 상이한 방사율을 갖는 것을 특징으로 하는 표면 특징 부여 장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.