KR870011663A - 석판인쇄 시스템의 마스크 검사장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

석판인쇄 시스템의 마스크 검사장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 반도체 제조기의 개략도.
제2도는 본 발명의 장치가 위치한 기판의 설명도
제3도는 엑스레이 석판인쇄 시스템용으로 사용하는 시험용 관련 마스크와 함께 본 발명의 시험장치의 한가지 형태의 설명도.

Claims (50)

  1. 위의 에너지 감응소자들의 배열을 갖는 기판과; 에너지 투과 소공들의 배열과, 그 배열의 각각은 상기한 에너지감응소자들의 하나와 일치하게 정열되고, 상기한 주어진싸이즈와 관련되는 싸이즈를 갖으며, 마스크모양의 측정을 위한 비교수단에 상기한 에너지 감응소자들의 변동된 상태를 명백히 하는 데이터 제공수단을 포함하는 반도체 제조공정중에 제공되어야할 에너지 화상의 원인이 되는 마스크를 향하여 에너지가 제공되는 형의 상기한 반도체 화상시스템에 사용되는 화상확정 마스크위에 주어진 싸이즈보다 더 큰 모양을 검사하는 마스크장치.
  2. 청구범위 제1항에서, 상기한 검사장치는 상기한 화상을 횡단하면서 불연속적인 스텝으로 이동하도록 부착되고, 각 스텝이동은 상기한 주어진 거리와 연관되는 마스크검사장치.
  3. 청구범위 제2항에서, 상기한 반도체 화상시스템은 상기한 제조공정중에 웨이퍼를 상기한 에어레이의 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 이동하는 수단을 포함하고; 상기한 검사장치는 상기한 마스크 검사용 상기한 웨이퍼를 대치하도록 부착된 마스크검사장치.
  4. 청구범위 제3항에서, 상기한 각 에너지 감응소자들은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며, 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이용하도록 부착된 마스크 검사장치.
  5. 청구범위 제2항에서, 상기한 각 에너지 감응소자들은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며, 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사장치.
  6. 청구범위 제1항에서, 상기한 반도체 화상 시스템은 상기한 제조공정중에 반도체 웨이퍼를 사용한 어레이의 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 이동하는 수단을 포함하고; 상기한 검사장치는 상기한 마스크검사용 상기한 웨이퍼를 대치하도록 부착된 마스크 검사장치.
  7. 청구범위 제6항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 각각은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며; 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사장치.
  8. 청구범위 제1항에서, 상기한 에너지감응소자들은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며; 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스템으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사 장치.
  9. 청구범위 제1항에서; 상기한 에너지원은 엑스레이이고; 상기한 소공의 배열은 상기한 에너지 감응소자들의 배열위에 위치하고 그 위치는 엑스레이원과 소공배열간의 거리와 근원의 싸이즈에 관련되는 량에 의하는 마스크 검사장치.
  10. 청구범위 제9항에서, 상기한 에너지감응소자의 배열(어렌이)위에 위치한 상기한 소공의 배열(어레이)의 량은 또 각 에너지 감응소자의 싸이즈에 관련된 마스크 검사장치.
  11. 청구범위 제10항에서; 상기한 장치는 상기한 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 이동하도록 부착되고 각 스텝이동은 상기한 주어진 거리와 관련된 마스크 검사장치.
  12. 청구범위 제11항에서, 상기한 반도체 화상 시스템은 상기한 제조공정중에 상기한 배열의 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 반도체 웨이퍼를 이동하는 수단을 포함하고; 상기한 검사장치는 상기한 마스크 검사용 상기한 웨이퍼를 대치하도록 부착된 마스크 검사장치.
  13. 청구범위 제12항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 각각은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며; 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사장치.
  14. 청구범위 제1항에서, 상기한 에어지원이 광선이고; 상기한 소공의 배열은 소공을 넘어서 광선의 편파적 확산이 에너지검응소자의 싸이즈보다 작도록 에너지검응소자들의 배열로부터의 거리에 위치한 마스크 검사장치.
  15. 청구범위 제14항에서, 상기한 검사장치는 상기한 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 이동하도록 부착되고, 각 스텝이동는 상기한 주어진 거리에 연관되는 마스크 검사장치.
  16. 청구범위 제15항에서, 상기한 반도체 화상시스템은 상기한 조립공정중에 상기한 배열의 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 반도체 웨이퍼를 이동하는 수단을 포함하고; 상기한 검사장치는 상기한 마스크 검사용 상기한 웨이퍼를 대치하도록 부착된 마스크 검사장치.
  17. 청구범위 제1항에서; 상기한 데이터 제공용 수단은 상기한 에너지 검응소자들의 각각에 축적된 엣에너지 검응소자들의 각각에 축적된 엣에너지를 한번에 하나씩 판독하는 수단과, 광선 전송수단 및 판독된 각소자에 대응하여 상기한 광선전송수단을 변조하는 수단을 포함하는 마스크 검사장치.
  18. 청구범위 제17항에서, 상기한 검사장치는 상기한 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 이동되도록 부착되고, 각 스텝이동은 상기한 거리에 연관된 마스크 검사장치.
  19. 청구범위 제18항에서, 상기한 반도체 화상시스템은 상기한 제조공정중에 상기한 배열의 화상을 횡단하여 불연속적인 스텝으로 반도체웨이퍼를 이동하는 수단과; 상기한 검사장치는 상기한 마스크검사용 상기한 웨이퍼를 대치하도록 부착된 마스크 검사장치.
  20. 청구범위 제19항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 각각은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며; 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사장치.
  21. 청구범위 제17항에서, 상기한 에너지원이 엑스레이이고; 상기한 소공의 배열은 상기한 에너지 감응소자들의 배열위에 위치하여 엑스레이의 근원과 소공의 배열간의 거리와 근원의 싸이즈에 관련되는 량에 의하는 마스크 검사장치.
  22. 청구범위 제21항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열위에 위치한 상기한 소공들의 배열의 상기한 량은 또 각 에너지 감응소자의 싸이즈에 관련된 마스크 검사장치.
  23. 청구범위 제17항에서, 상기한 에너지원이 광선이고; 상기한 소공의 배열은 소공을 넘어서 광선의 편파적 확산이 에너지 감응소자의 싸이즈보다 작도록 에너지감응소자들의 배열로부터의 거리에 위치한 마스크 검사장치.
  24. 청구범위 제1항에서, 상기한 주어진 싸이즈와 관련된 불연속적인 스텝으로 이동되기 위한 이동수단과; 어떤 중심과 중심간의 간격을 갖는 에너지감응소자의 제1배열과, 상기한 장치의 배열은 상기한 이동수단위에 위치하고; 상기한 제2배열과, 각 소공은 상기한 에너지감응 소자중의 상이한 한 개와 결합하고 상기한 주어진 싸이즈와 관련된 싸이즈를 갖으며; 상기한 마스크의 소망되는 모양을 명백히 하는 축적된 데이타에 대하여 비교하기 위한 상기한 에너지 감응소자들의 각각의 상태를 명백히 하는 데이터 제공 수단 등을 포함하는 에너지의 패턴의 원인이 되도록 레지스트피복된 웨이퍼를 노출하기 위하여 상기한 마스록를 경유하여 선택적인 에너지를 조사하는 형의 반도체 제조기계에 사용되는 마스록의 주어진 싸이즈위의 모양을 검사하는 마스크 검사 시스템.
  25. 청구범위 제24항에서, 상기한 이동수단은 다수의 스텝을 이동함으로서 전체이동이 상기한 소자들의 배열의 상기한 중심과 중심간의 간격에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  26. 청구범위 제25항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하결합소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  27. 청구범위 제25항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하주입소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  28. 청구범위 제24항에서, 상기한 제2배열의 각 소공은 최대길이가 1미록론 이하인 마스크 검사 시스템.
  29. 청구범위 제28항에서, 상기한 이동수단은 다수의 스텝을 이동함으로써 전체의 이동이 상기한 소자들의 배열의 상기한 중심과 중심간의 간격에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  30. 청구범위 제29항에서, 상기한 에너지 감응소지자들의 배열은 전하결합소자들의 마스크 검사 시스템.
  31. 청구범위 제30항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하주입소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  32. 청구범위 제24항에서, 에너지 감응소자들의 총수자는 각 소자의 싸이즈와 상기한 마스록의 싸이즈에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  33. 청구범위 제32항에서, 상기한 이동수단은 다수의 스텝을 이동하므로서 전체의 이동이 상기한 소자들의 배열의 상기한 중심과 중심간간의 간격에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  34. 청구범위 제33항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하 결합소자들의 배열인 마스크 검사시스템.
  35. 청구범위 제34항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하주입소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  36. 청구범위 제34항에서, 상기한 제2배열의 각 소공은 최대길이에 있어서 1미크론이하인 마스크 검사 시스템.
  37. 청구범위 제24항에서, 상기한 데이터 제공수단은 상기한 에너지 감응소자들의 각각의 에너지 레벨을 판독하는 수단과, 광선전송수단 및 상기한 에너지감응소자들의 상기한 에너지 레벨에 대응하여 상기한 광선전송수단을 변조하는 수단을 포함하는 마스크 검사 시스템.
  38. 청구범위 제24항에서, 상기한 시스템을 상기한 제공된 데이터를 기지의 우량마스록용으로 기억된 데이터와 비교하기 위한 상기한 데이터와 비 제공수단에 의하여 제공된 데이터를 수신하는 수단을 더 포함하는 마스크 검사 시스템.
  39. 청구범위 제38항에서, 상기한 수신수단은 컴퓨터수단과 대용량 데이터기어수단을 포함하는 마스크 검사 시스템.
  40. 청구범위 제39항에서, 상기한 제2배열의 각 소공은 최대 1미크론 이하인 마스크 검사 시스템.
  41. 청구범위 제40항에서, 상기한 수신수단은 상기한 광선전송 수단에 의하여 전송된 광선신호를 수신하는 송광선수신수단을 더 포함하는 마스크 검사 시스템.
  42. 청구범위 제41항에서, 상기한 데이터제공수단은 각 에너지 감응소자의 에너지레벨을 디지털 신호로 변환하는 아날로그 디지털 변환기수단을 더 포함하는 마스크 검사 시스템.
  43. 청구범위 제42항에서, 상기한 이동수단은 다수의 시스템을 이동하므로서 전체이동이 상기한 소자들의 배열의 상기한 중심과 중심간의 간격에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  44. 청구범위 제43항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 적한결합소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  45. 청구범위 제44항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 배열은 전하주입소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  46. 청구범위 제44항에서, 상기한 제2배열의 각 소공은 최대길이에 있어서 1미록론이하인 마스크 검사 시스템.
  47. 청구범위 제44항에서, 에너지 검응소자들의 총수자는 각소자의 싸이즈 및 상기한 싸이즈에 관련되는 마스크 검사 시스템.
  48. 청구범위 제47항에서, 상기한 에너지감응소자들의 배열은 전하주입소자들의 배열인 마스크 검사 시스템.
  49. 청구범위 제48항에서, 상기한 제2배열의 각 소공은 최대길이에 있어서 1미록론 이하인 마스크 검사 시스템.
  50. 청구범위 제16항에서, 상기한 에너지 감응소자들의 각각은 어떤 거리의 싸이즈를 갖으며; 상기한 검사장치는 상기한 불연속적인 스텝으로 상기한 어떤 거리를 이동하도록 부착된 마스크 검사장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870004537A 1986-05-19 1987-05-08 석판인쇄 시스템의 마스크 검사장치 KR920000075B1 (ko)

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