KR870008921A - 고체의 고분자 안정제 화합물과 그 제조 방법 - Google Patents

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에니켐 신테시 쏘시에떼 퍼 아찌오니
에니켐 신데시 쏘시에떼 퍼 아찌오니
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Abstract

내용 없음

Description

고체의 고분자 안정제 화합물과 그 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 일반식(Ⅰ)을 가지는 고체 고분자 안정화제 화합물:
    여기서 :
    m는 0.01 내지 0.99 (바람직하게는 0.1 내지 0.6);
    l는 0.99 내지 0.01(바람직하게는 0.9 내지 0.4);
    m+l는 l;
    R는 -H, -OH, -OR"〔R"는 (C1-C20)-알킬 ; 아릴, 아릴알킬 시클로알킬〕
    할로겐, (C1-C20)-알킬, 시클로알킬;R'는 H, (C1-C20)-알킬, 시클로알킬이다.
  2. 제1항에 따른 고분자 안정화제 화합물의 제조방법에 있어서, 폴리스티렌을 O-염화히드록시벤조일로 아실화하는 제조방법.
  3. 제2항에 있서, 폴리스티렌을 1 내지 20의 탄소원자를 포함하는 알킬그룹, 또는 시클로알킬그룹으로 가능하게 치환할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제2항에 있어서, O-염화히드록시벤조일을 방향족 고리에서 -OH, OR"(R"는 (C1-C20)-알킬, 시클로알킬로서 치환시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제2항에 있어서, 촉매가 프리이델-크라프쯔 촉매인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 촉매가 바람직하게는 AICl3, BF3, SbCl5, TiCl4, FeCI3, zNCl2에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제2항에 있어서, 반응에클로로벤젠, 디클로로벤젠 및 니트로벤젠에서 선택한 용매를 바람직하게 사용하게 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 안정화된 고분자 조성물에 있어서, 이 조성물이 유기고분자와 1내지 2중량% 이상의 히드록시벤조페논의 농도를 얻는 정도의량의, 제 1항에 따른 고체 고분자 안정화제 화합물을 포함하며, 전술한 안정화제의 평균 분자량이 전술한 유기고분자의 평균 분자량 보다 낮은 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 유기고분자가 폴리올레핀, 폴리디올레핀, 모노올레핀과 디올레핀의 공중합체, 폴리스티렌, 디엔과 비닐방향족의 공중합체, 폴리산화페닐렌, 폴리페닐렌 황화물, 폴리우레탄, 폴리아미드 및 코폴리아미도, 폴리요소, 폴리아미드 및 폴리아미드-아미드, 폴리에스테르, 폴리탄산염, 폴리술폰 및 폴리에스테르-술폰, 불포화 폴리에스테르, 그리고 천연고분자(고무)중의 한 고분자인 조성물.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870002019A 1986-03-07 1987-03-06 고체의 고분자 안정제 화합물과 그 제조방법 KR900002490B1 (ko)

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