KR870007236A - 성형시 주형 침착물의 감소, 냄새의 감소, 변색을 감소시키는 안정화 옥시메틸렌 중합체 조성물 - Google Patents
성형시 주형 침착물의 감소, 냄새의 감소, 변색을 감소시키는 안정화 옥시메틸렌 중합체 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (19)
- 하기 일반식(Ⅰ)로 나타나는 옥시메틸렌 단일 중합체 및 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 옥시메틸렌 중합체에 하기 일반식(2)의 화합물로 구성되는 안정화 제소량이 섞여있는 옥시메틸렌 중합체 조성물.상기식에서R1및 R2는 각기 수소, 저급알킬 및 할로겐-치환 저급알킬 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, n은 0-5 사이의 정수인데 반복단위의 60-99.6%는 n이 0이다.상기식에서,n는 1 또는 2인데, n이 1일때 R3로 부터 선택되는 일가 라디카이며, n이 2일때 R3는및 -(CH2)4-로 부터 선택되는 2가 라디칼이다.
- 제1항에 있어서, 안정화제가 조성물의 전체 무게를 기준으로 약 0.025-약 5중량 %의 양으로 존재하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 안정화제가 약 0.025-약 3중량 %의 양으로 존재하는 조성물.
- 제3항에 있어서, 안정화제가 약 0.1-0.3중량 %의 양으로 존재하는 조성물.
- 제1항에 있어서, n이 1이고 R이인 조성물.
- 제1항에 있어서, 옥시메틸렌 중합체가 공중합체인 조성물.
- 제6항에 있어서, 공중합체가 트리옥산과 산화 에틸렌, 1,3-디옥소란 또는 둘다의 공중합체인 조성물.
- 하기 일반식(Ⅰ)로 나타나는 옥시메틸렌 단일 중합체 및 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 옥시메틸렌 중합체에 하기 일반식(2)의 화합물로 구성되는 안정화제가 조성물의 전체무게를 기준으로 약 0.025-약 5중량%의 양만큼 섞여 있는 옥시메틸렌 중합체 조성물.상기식에서,R1및 R2는 각기 수소, 저급알킬 및 할로겐-치환 저급알킬 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, n은 0-5사이의 정수인데 반복 단위의 60-99.6%는 n이 0이다.상기식에서,n은 1 또는 2인데, n이 1일때 R3는, CH3-, H3C-(CH2)8-, C2H5-, C3H7-, (CH3)2CH-,, H-, CH3(CH2)16-, 및CH2-,로 부터 선택되는 일가 라디칼이며, n이 2일때, R3는 2가 라디칼또는 -(CH2)4-이다.
- 제8항에 있어서, 안정화제가 약 0.025-약 3중량%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제8항에 있어서, 안정화제가 약 0.1-0.3중량%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제8항에 있어서, n이 1이고 R이인 조성물.
- 제8항에 있어서, 옥시메틸렌 중합체가 공중합체인 조성물.
- 제12항에 있어서, 공중합체가 트리옥산과 산화 에틸렌, 1,3-디옥소란 또는 둘 다의 공중합체인 조성물.
- 하기 일반식(1)로 나타나는 옥시메틸렌 단일 중합체 및 공중합체로 구성된 군으로부터 선택된 옥시메틸렌중합체에 안정화제로서 벤조구안아민 소량이 섞여 있는 옥시메틸렌 중합체 조성물.상기식에서,R1및 R2는 각기 수소, 저급알킬 및 할로겐-치환 저급 알킬 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, n은 0-5사이의 정수인데 반복단위의 60-99.6%는 n이 0이다.
- 제14항에 있어서, 안정화제가 약 0.025-약 5중량%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제15항에 있어서, 안정화제가 약 0.025-약 3중량%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제16항에 있어서, 안정화제가 약 0.1-0.3중량%의 양으로 존재하는 조성물.
- 제14항에 있어서, 옥시메틸렌 중합체가 공중합체인 조성물.
- 제18항에 있어서, 공중합체가 트리옥산과 산화에틸렌, 1,3-디옥소란 또는 둘다의 공중합체인 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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