KR870006917A - 무전해 구리도금배스의 화학적 균형유지용 전기투석장치 - Google Patents

무전해 구리도금배스의 화학적 균형유지용 전기투석장치 Download PDF

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KR870006917A
KR870006917A KR1019860000161A KR860000161A KR870006917A KR 870006917 A KR870006917 A KR 870006917A KR 1019860000161 A KR1019860000161 A KR 1019860000161A KR 860000161 A KR860000161 A KR 860000161A KR 870006917 A KR870006917 A KR 870006917A
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Abstract

내용 없음.

Description

무전해 구리도금배스의 화학적 균형유지용 전기투석장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 3구획 전기투석전지를 사용한 시스템 및 그 방법을 계통적으로 도시한 도면이며,
제4도는 제2도의 시스템 및 그 방법의 실시에 있어서 본 발명에 따른 단일 전기투석전기 단위의 바람직한 배열을 도시한 분해 부품 배열도이며.

Claims (28)

  1. 캐소드액 구획, 애노드액구획 및 제1음이온 투과선택막에 의해 캐소드액 구획과 분리되며, 또한 제2음이온 투과 선택막에 의해 애노드액 구획과 분리되는 무전해 구리 용액 구획으로 구성되는 전기 투석전지; 수산 화나트륨원으로부터 수산화나트륨 수용액을 상기 캐소드액 구획의 내부 및 외부로 흐르게 하는 수단; 황산원으로부터 황산 수용액을 상기 애노드액 구획 내부 및 외부를 흐르게 하는 수단; 및 보충되어야 하는 무전해 구리도금 배스로부터 무전해 구리 용액을 무전해 구리 용액 구획의 내부 및 외부로 흐르게 하는 수단으로 구성되며, 상기 캐소드액애, 노드액 및 무전해구리 용액구획 속으로 흐르는 유동액의 유동 속도는 각각 거의 동일하여 제 1투과 선택막 및 제2투과 선택막에 수반되는 물리적 응력이 최소로 되는 것을 특징으로 하는 구리도금 조건 및 환원 조건하에서 소모시 반응 생성물로서 알칼리 금속 염을 함유하는 알칼리성 용액에서 물용해성 제2 구리염의 환원 결과로서 무전해 구리 도금 배스를 보충하여 화학적으로 유지시키기 위한 전기 투석 장치.
  2. 제1항에 있어서, 캐소드액, 애노드액 및 무전해 구리 용액구획의 내부 및 외부로 흐르게 하는 각각의 수단은 펌프로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 펌프들은 서로 동일한 펌프인 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 펌프 각각은 펌프되는 용액과 접촉하는 부분에 금속성 부품을 포함하지 않는 것을 특징으로하는 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전기투석 전기 구획 각각의 유동액 부피 대 상기 각막의 한쪽면의 표면적의 비는 1:1 이하 내지 1: 10이상인 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제1항에 있어서, 물리적 지지력을 제공하고 상기 막의 움직임을 배제하기 위해 설치된 다공성 스페이서 수단이 포함되는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 다공성 스페이서 수단은 제1 평면상에 위치한 서로 평행하는 여러 가느다란 제1로우드와 제1로우드와 십자형으로 교차하면서 제1로우드와 접속되는 또다른 제2평면상에 위치한 여러 가느다란 제2로우드로 구성되며, 또한 상기 스페이서 수단은 막들 사이와 막의 서로 반대편상에 각각 위치하며, 각막의 표면을 통과하는 캐소드액, 애노드액 및 무전해 구리는 라미나형이고 난류형으로 도입되어 음이온이 막을 통과한 후 막의반대편에 나타나자마자 제거되는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 스페이서 수단은 에이지를 가지고 있어 상기 에이지가 근접의 막의 표면과 접촉되어막의 표면을 손상시키는 것을 방지하기 위해 중첩 가스킷트 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제1음이온 막에 의해 재생 구획과 캐소드 구획이 분리되며, 제2음이온막에 의해 재생 구획과 애노드 구획이 분리되는 재생구획, 캐소드 구획 및 애노드 구획으로 구성된 전기투석전지; 황산구리, 포름알데히드 및 적절한 킬레이트제의 나트륨염 및 알칼리 금속 황산염 및 알칼리 금속 포르메이트등을 포함하는 포름알데히드에 의한 황산 구리의 환원 반응 생성물을 함유한 알칼리 금속 수산화물 용액을 상기 재생 구획에서 흐르게하는 제1수단; 수용성 알칼리 금속 수산화물을 상기 캐소드 구획에서 흐르게 하는 제2수단; 및 수용성 황산을 애노드 구획에서 흐르게하는 제3수단으로 구성되며, 상기 제1수단, 제2수단 및 제3수단에 의해 확립된 유속은 거의 동일하여 상기 막의 반대편에 있어서의 유압은 전기투석 전지의 작동동안 거의 동일한 것을 특징으로 하는 무전해 구리 도금 배스의 pH조절을 위한 시스템.
  10. 제1구획, 제2구획 및 제3구획으로 구성되며, 상기 제1구획 및 상기 제2구획 사이에 화학 장벽을 형성하는 제1투과선택막 및 상기 제2구획 및 상기 제3구획 사이에 화학장벽을 형성하는 제2투과 선택막과, 상기 제1구획에 위치한 제1전극 및 상기 제3구획에 위치한 제2전극을 포함하다 전기투석 전지; 제1, 제2 및 제3 펌프수단; 알칼리 금속 수산화물원으로부터 알칼리 금속 수산화물 수용액을 상기 제1구획의 내부 및 외부로 흐르게하는 상기 제1펌프수단을 포함하는 수단; 무전해 구리 도금 배스로부터 무전해 구리를 상기 제2 구획의 내부 및 외부로 흐르게하는 제2펌프 수단을 포함하는 수단; 황산원으로부터 황산 수용액을 상기 제3구획의 내부 및 외부로 흐르게하는 제3펌프수단을 포함하는 수단; 및 제2 전극상의 포텐살은 제1 전극상의 텔포살에 대해 포지티브 값을 갖는 제1 전극 및 제2 전극 사이에 전기 포텐살 차이를 확립시켜 주기 위한 수단으로 구성되며, 상기 제1, 제2 및 제3 펌프 수단은 실질적으로 거의 동일하여 상기 각막의 서로 반대편상의 유압 차이를 최소로하는 것을 특징으로 하는 무전해 구리 도금조건 및 환원 조건하에서 소모시 반응 생성물로서 알칼리 금속염을 함유한 알칼리성 용액중의 물용해성 제이 구리염의 환원결과로서 소모되는 무전해 구리 도금 배스를 보충하여 화학적으로 유지시켜 주기 위한 장치.
  11. 제10항에 있어서, 물리적 지지력을 제공하며 상기 막이 상기 장치로 움직이는 것을 방지하기 위해 상기 제1, 제2 및 제3구획에 위치한 다공성 스페이서 수단이 포함되는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 스페이서 수단은 제1평면상에 위치한 서로 평행하는 여러 가느다란 제1로우드와 제1로우드와 십자형으로 교차하면서 제1로우드와 접속되는 또다른 제2평면 상에 위치한 여러 가느다란 제2로우드로 구성되며, 또한 상기 스페이서 수단은 막들 사이와 막의 서로 반대편상에 각각 위치하며 각 막의 표면을 통과하는 용액의 흐름은 라미나형이고 난류형으로 도입되어 음이온이 막을 통과한 후 막의 반대평에 나타나자마자 제거되는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제10항에 있어서, 제1구획, 제2구획 및 제3구를 규정하며, 중앙에 구멍 및 제1, 제2 및 제3다공성스페서 수단이 구비된 제1, 제1 및 제2구획 프레임 수단을 부가적으로 부가적으로 포함하며, 상기 제1스페이서 수단은 상기 제1구획 프레임 수단의 구멍을 충진하는 위치에 위치하며, 상기 제2스페이서 수단은 상기 제2구획 프레임 수단의 구멍을 충진하는 위치에 위치하며, 제3스페이서 수단은 상기 제3구획 프럽임 수단의 구멍을 충진하는 위치에 위치하며, 각 제1, 제2 및 제3스페이서 수단은 제1평면에 위치한 서로 평행하는 여러 가느다란 제1로우드와, 제1로우드와 접촉하면서 십자형으로 고차하며 제2평면에 위치한 가느다란 여러 제2로우드로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제13항에 있어서, 중앙에 구멍을 구비한 제1, 제2, 제3 및 제4의 가스킷트 프레임 수단을 부가적으로 포함하며, 제1가스킷트 프레임 수단은 상기 제1구획 프레임 수단 및 상기 제1투과 선택막 사이에 위치하며, 제2가스킷트 프레임 수단은 상기 제2구획 프레임 수단 및 상기 제1투과선택막 사이에 위치하며, 제3스가킷트 프레임 수단은 상기 제2구획 프레임 수단 및 상기 제2투과선택막 사이에 위치하며, 제4 가스킷트 프레임 수단은 상기 제3구획 프레임 수단 및 상기 제2투과선택막 사이에 위치하며, 상기 각각의 제1, 제2, 제3 및 제4의 가스킷트 프레임 수단의 중앙 구멍의 크기는 상기 제1, 제2 및 제3구획 프레임 수단의 각각의 중앙 구멍보다 작아서 상기 제1, 제2 및 제3구획 프레임 수단의 각각의 구멍 에이지 및 제1, 제2 및 제3다공성 스페이서 수단의 각각의 에이지와 상기 제1 및 제2투과선택막 각각의 표면이 접촉하는 것을 막을 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제1백업 플레이트, 제1플라스틱 프레스 블럭, 캐소드 전극, 캐소드 구획 커버 프레임, 캐소드 구획 프레임, 제1다공성 스페이서, 캐소드 구획을 규정하는 중첩 가스킷트 프레임, 제1투과선택막, 제1중첩 가스킷트 프레임, 무전해 구리용액 구획커버 프레임, 무전해 구리 용액구획을 규정하는 무전해 구리 용액구획프레임, 제2다공성 스페이서, 제2중첩 가스킷트 프레임, 제2투과선택막, 제3중첩 가스킷트 프레임, 애노드 구획을 규정하는 애노드 구획 프레임, 제3중첩 가스킷트 프레임, 애노드 구획을 규정하는 애노드 구획, 제3다공성스페이서, 애노드 구획 커버 프레임, 애노드 전극, 제2 플라스틱 프레스 블럭 및 제2 블럭 플레이트를 포함하는 성분들이 차례로 쌓아진 어셈블리로 구성되며, 상기 프레임 각각은 중앙에 위치한 구을 구비하고 있으며, 상기 중첩 프레임의 중앙 구멍은 다른 프레임의 구멍보다 작으며, 상기 제1다공성 스페이서는 상기 캐소드 구획 프레임의 구멍에 위치하며, 상기 제2다공성 스페이서는 상기 무전해 구리구획 프레임의 구멍에 위치하며, 상기 제3다공성 스페이서는 상기 애노드 구획 프레임의 구멍에 위치하며, 각 성분들의 어셈블리를 서로 고정하기 위한 수단이 또한 구비되어 있으며, 캐소드 액, 무전해 구리 용액 및 애노드액이 캐소드 구획, 무전해 구리 용액 구획 및 애노드 구획의 속으로 또는 밖으로 각각 흐르게하는 내적 흐름은 제1플라스틱 프레스블럭 및 제2플라스틱 프레스 블럭 사이에 쌓여진 성분에 구비된 여러포트에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 무전해 구리도금 조건 및 환원 조건하에서 소모시 반응 생성물로서 알칼리금속염을 함유하는 알칼리성 용액에서의 물용해성 제 이구리염의 환원 결과로서 소모되는 무전해 구리 도금 배스를 보충하기 위한 전기 투석 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 제1플라스틱 프레스 블럭은 캐소드액원의 외적유입 접속기, 애노드 애원의 외적 유입 접속기 및 애노드 액원의 외적 유출 접속기를 포함하며, 상기 제2 플라스틱 프레스 블럭은 캐소드 액원의 외적유출 접속기, 무전해 구리 용액원의 외적 유입 접속기 및 무전해 구리 용액원의 외적유출 접속기를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제15항에 있어서, 상기 각각의 제1, 제2 및 제3다공성 스페이서는 제1평면에 위치한 서로 평행하는 가느다란 여러 제1로우드 및 제1로우드와 십자형으로 교차하면서 제1평면중의 제1로우드와 서로 접속되는 제2평면에 위치한 여러 가느다란 제2로우드로 구성되며, 상기 제1, 제2 및 제3다공성 스페이서는 상기 캐소드 구획프레임, 상기 무전해 구리 용액프레임 및 상기 애노드 구획 프레임 각각의 중앙에 위치한 구멍에 위치하는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 캐소드 전극은 캐소드 액용액에 용해되지 않는 금속으로 만들어지며, 상기 애노드 전극은 상기 애노드구획 프레임을 향하고 있는 면상이 디멘젼적으로 적합한 피복물로 피복된 티타늄으로 만들어지는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제17항에 있어서, 상기 제1 및 제2플라스틱 프레스 블럭 사이에 존재하는 성분들의 어셈블리는 캐소드 구획 커버 플레임으로부터 시작되어 애노드 전극으로 끝나는 순서들이 여러번 반복되며, 상기의 처음에 쌓아진 어셈블리의 캐소드 전극은 부의 단자를 형성하며, 마지막에 쌓아진 어셈블리의 애노드 전극은 처음에 규정된 어셈블리 및 그후 반복된 어셈블리의 정의 단자를 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제17항에 있어서, 제1 및 제2플라스틱 프레스 블럭 사이에 존재하는 성분들의 어셈블리는 상기 애노드 구획 커버 프레일으로부터 시작되어 상기 캐소드 전극으로 끝나는 제1 배열과, 캐소드 구획 커버 프레임으로부터 시작되어 상기 애노드 전극으로 끝나는 제2배열이 서로 교대적으로 여러번 반복되며, 반복시 어셈블리의 캐소드 전극 각각은 부의 단자를 형성하며 애노드 전극의 각각은 정의 단자를 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 캐소드액 구획, 캐소드액 구획중의 캐소드, 애노드액 구획, 애노드액 구획중의 애노드, 중간구획, 제1표면과 제2표면을 지닌 제1음이온 투과선택막, 제1표면 및 제2표면을 지닌 제2음이온 투과선택막, 각각의 에이지를 지닌 제1, 제2 및 제3스페이서 수단, 제1, 제2, 제3 및 제4중첩 가스킷트 수단으로 구성되며, 상기 제1투과선택막은 중간 구획을 캐소드액 구획으로부터 분리하며, 상기 제2투과선택막은 중간구획을 애노드액 구획으로부터 분리하며, 상기 제1스페이서 장치는 캐소드를 상기 제1투과선택막으로부터 분리하고, 상기 제2스페이서 장치는 상기 제1 및 제2 선택투과 막을 분리하고, 상기 제3스페이서는 상기 애노드를 상기 제2투과선택막으로부터 분리하고, 상기 제1중첩 가스킷트 수단은 상기 제1스페이서 수단의 에이지로부터 상기 제1투과선택막의 제1표면을 보호하고, 상기 제2중첩 가스캐트 수단은 상기 제2스페이서 수단의 에이지로부터 상기 제2선택투과막의 제1표면을 보호하며, 상기 제2중첩 가스킷트 수단은 상기 제3스페이서 수단의 에이지로부터 상기 제2투막의 제2표면을 보호하는 것을 특징으로 하는 전기투석전지.
  22. 제21항에 있어서, 캐소드액 구획을 규정하며 상기 구획의 경계부분의 중앙에 개폐 구멍을 구비한 캐소드액 구획 프레임, 중간구획을 규정하며 상기 구획의 경계 부분의 중앙에 개폐 구멍을 구비한 중간구획프레임 및 애노드액 구획을 규정하며 상기 구획의 중앙에 개폐 구멍을 구비한 애노드액 구획 프레임, 상기 캐소드액 구획 프레임의 구멍에 위치함 제1스페이서 수단, 상기 중간 구획 프레임의 구멍에 위치한 상기 제2스페이서 수단, 상기 애노드액구획 프레임의 구멍에 위치한 상기 제3스페이서 수단을 포함하며, 따라서 상기 제1, 제2, 제3 및 제4의 가스킷트 수단은 제1 및 제2투과선택막의 관련 표면을 상기 캐소드액, 중간 및 애노드액 구획의 관련 구멍 경계부로부터 보호하는 것을 특징으로 하는 전기투석 전지.
  23. 제22항에 있어서, 각 스페이서 수단은 상호 연결되는 쌍들의 플라스틱 로우드로 구성되며, 각 쌍의 로우드는 실질적으로 거의 평행하며 서로 다른 쌍의 로우드에 대해 어떠한 각도를 지니면서 위치하는 것을 특징으로 하는 전기투석 장치.
  24. 제23항에 있어서, 캐소드 유동액을 캐소드액 구획을 통해 흐르게 하는 제1펌프 수단, 화학적으로 처리되는 유동액을 상기 중간구획을 통해 흐르게 하는 제2펌프 수단 및 애노드액을 애노드액 구획을 통해 흐르게 하는 제3펌프 수단을 포함하며, 상기 제1, 제2 및 제3스페이서 수단 각각은 관련된 막의 표면을 통과하는 유동액의 흐름을 라미나 형태로 흐르게 하여 전기투석 전기가 과도한 열을 발생하고 화학적 처리능력을 제한하는 요소를 최소로 하는 것을 특징으로하는 전기 투석전지.
  25. 제24항에 있어서, 상기 제1, 제2 및 제3스페이서 수단 각각이 관련 막의 표면을 통과하는 유동액의 흐름을 라미나 형태로 흐르게하고 점차 와류 또는 난류가 도입되게 함으로써 전기투석 전지의 화학 처리능력을 제한하는 과도한 열의 발생을 최소로 하고, 막을 통과한후 막의 표면에 음이온이 나타나자마자 음이온을 제거하여 이온 전이의 효율을 높이고 캐소드액, 중간 및 애노드액 구획 각각에서의 유속을 더 높일 수 있는 것을 특징으로 하는 전기 투석 전지.
  26. 제25항에 있어서, 제1, 제2 및 제3펌프 수단은 실질적으로 동일하고 캐소드액, 중간 및 애노드액 구획각각을 흐르는 유속도 실질적으로 동일하여 제1 및 제2 투과선택막의 반대편에 산출되는 압력 차이를 최소로 할 수 있는 것을 특징으로 하는 전기 투석전지.
  27. 제26항에 있어서, 상기 중간 구획에서 화학적으로 처리되는 유동액은 무전해 구리도금 배스의 작동으로부터 유래된 용액이며, 상기 캐소드액 구획에서의 유동액은 알칼리 금속 수산화물 수용액이며, 상.애노드액 구획에서의 유동액은 수용성 산의 수용액인 것을 특징으로 하는 전기 투석전지.
  28. 제27항에 있어서, 캐소드 및 애노드 사이에 전기 포텐살 차이를 확립시켜 주는 수단을 포함하며, 상기 제1, 제2 및 제3 펌프수단은 펌프는 유동액과 접촉되는 부위에 금속 부품을 포함하지 않아서 스트레이 전류를 유발하는 구리 도금을 피할 수 있는 것을 특징으로 하는 전기투석 전지.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860000161A 1985-01-14 1986-01-14 무전해 구리도금욕의 화학적 균형 유지용 전기투석 장치 KR910001230B1 (ko)

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NO (1) NO860088L (ko)
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ZA (1) ZA859506B (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3536778A1 (de) * 1985-10-16 1987-05-14 Stantech Gmbh Elektrodialyse-membranstapeleinheit fuer mehrkammerprozesse
US4786393A (en) * 1986-01-24 1988-11-22 Morton Thiokol, Inc. Leak-free plastic flow spacers for electrodialysis apparatus and a method for the making thereof
US4671861A (en) * 1986-03-31 1987-06-09 Morton Thiokol, Inc. Measurement and control of net caustic production during electrodialysis
US4719128A (en) * 1986-10-27 1988-01-12 Morton Thiokol, Inc. Method of and apparatus for bailout elimination and for enhancing plating bath stability in electrosynthesis/electrodialysis electroless copper purification process
US4762601A (en) * 1986-11-10 1988-08-09 Morton Thiokol, Inc. Copper bath for electroless plating having excess counter-cation and process using same
DE3929137C1 (ko) * 1989-09-01 1991-02-28 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
FR2689523B1 (fr) * 1992-04-02 1995-06-30 Billes Jean Louis Cellule bipolaire pour l'electrolyse en continu du chlorure de sodium.
IT1262169B (it) * 1993-07-29 1996-06-19 Lab Taboga Di Taboga Leandro Procedimento per la prevenzione dell'esaurimento dei bagni acidi di ramatura e per il recupero di rame metallico da soluzioni e fanghi contenenti rame in forma ionica
DE19719020A1 (de) * 1997-05-07 1998-11-12 Km Europa Metal Ag Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren von Verzinnungslösungen
CN1235667C (zh) * 2000-10-06 2006-01-11 格拉迪普有限公司 多口分离装置及方法
US6391177B1 (en) 2001-02-20 2002-05-21 David Crotty High temperature continuous electrodialysis of electroless plating solutions
DE102004002778C5 (de) * 2004-01-20 2017-04-20 Enthone Inc. Verfahren zur Regenerierung von Metallisierungsbädern
DE102007027705A1 (de) * 2007-06-15 2008-12-18 Ziemann Ludwigsburg Gmbh Verfahren zum Behandeln von Flüssigkeiten führenden Anlagen, insbesondere von Brauerei- und Getränkeanlagen, und deren Teile, und Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens
CN102703921A (zh) * 2007-11-16 2012-10-03 阿克佐诺贝尔股份有限公司 电极
KR20110019573A (ko) * 2009-08-20 2011-02-28 삼성전자주식회사 전기 흡착 탈이온 장치
KR101688530B1 (ko) * 2009-12-21 2016-12-21 삼성전자주식회사 전기 흡착 탈이온 장치
KR20110080893A (ko) * 2010-01-07 2011-07-13 삼성전자주식회사 탈이온 장치
GB2487246B (en) * 2011-01-17 2016-10-05 Oceansaver As Water treatment
GB2487248B (en) 2011-01-17 2017-07-26 Oceansaver As Water treatment
GB2487247B (en) 2011-01-17 2017-04-12 Oceansaver As Water treatment
JP2012200666A (ja) * 2011-03-25 2012-10-22 Dowa Eco-System Co Ltd Ｌｉ溶液回収装置及びＬｉ溶液回収方法
DE102011087314A1 (de) 2011-11-29 2013-05-29 Henkel Ag & Co. Kgaa Verfahren zur Regeneration wässriger Dispersionen sowie Zellpaket für die Elektrodialyse
CN111439813A (zh) * 2019-01-16 2020-07-24 先丰通讯股份有限公司 电化学处理系统

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2860095A (en) * 1952-07-22 1958-11-11 Ionics Separation of electrolytic solutions into concentrated and dilute streams
US3359196A (en) * 1959-05-22 1967-12-19 American Mach & Foundry Electrodialysis device having tapered gasket thickness
GB981562A (en) * 1960-12-01 1965-01-27 The Negev Institute Method of producing ion-exchange material and permselective membranes from polyolefines and the products produced thereby
US3375179A (en) * 1964-10-29 1968-03-26 Litton Systems Inc Method of anodizing beryllium and product thereof
US3496091A (en) * 1966-04-15 1970-02-17 Ionics Electrolytic-electrodialysis apparatus
US3398091A (en) * 1966-08-09 1968-08-20 Ionics Membrane separation apparatus and process
US3488276A (en) * 1966-08-15 1970-01-06 North American Aviation Inc Removal of salts by electrodialysis
US3493488A (en) * 1967-06-20 1970-02-03 Westinghouse Electric Corp Electrodialysis apparatus
NL6916572A (ko) * 1969-11-03 1971-05-05
JPS4916189B1 (ko) * 1970-12-23 1974-04-20
US3697410A (en) * 1971-02-08 1972-10-10 Cci Aerospace Corp Electrodialysis demineralization apparatus
US3761386A (en) * 1971-08-02 1973-09-25 Process Research Inc Novel membrane spacer
US3878086A (en) * 1972-05-01 1975-04-15 Process Research Inc Electrodialysis stack and spacer for use therein
GB1462483A (en) * 1974-01-25 1977-01-26 Asahi Glass Co Ltd Electrodialysis apparatus
CH586059A5 (ko) * 1974-11-29 1977-03-31 Yeda Res & Dev
GB1481663A (en) * 1975-01-09 1977-08-03 Parel S Electrowinning of metals
JPS5316374A (en) * 1976-07-30 1978-02-15 Asahi Chem Ind Co Ltd New multistage method of electrodialysis
US4067794A (en) * 1977-01-14 1978-01-10 Ionics, Inc. Sealing gasket for chamber wall
US4062756A (en) * 1977-03-07 1977-12-13 Ionics, Inc. Liquid flow distribution screen
US4202772A (en) * 1977-08-04 1980-05-13 Ionics, Incorporated Fluid distribution cell module
IL52757A0 (en) * 1977-08-16 1977-10-31 Yeda Res & Dev Dimensionally stable ion exchange membranes for electrodialysis
DE2902247C3 (de) * 1979-01-20 1981-12-24 Gkss - Forschungszentrum Geesthacht Gmbh, 2000 Hamburg Dichtungsrahmen für gestapelt angeordnete Austauschermembranen für die Elektrodialyse
DE3063023D1 (en) * 1979-03-05 1983-06-16 Electrochem Int Inc Process for the regeneration of electroless plating baths
US4289597A (en) * 1979-03-05 1981-09-15 Electrochem International, Inc. Process for electrodialytically regenerating an electroless plating bath by removing at least a portion of the reacted products
US4233146A (en) * 1979-03-09 1980-11-11 Allied Chemical Corporation Cell flow distributors
US4324629A (en) * 1979-06-19 1982-04-13 Hitachi, Ltd. Process for regenerating chemical copper plating solution
DE2946284A1 (de) * 1979-11-16 1981-05-21 Forschungsinstitut Berghof GmbH, 7400 Tübingen Elektrodialyse-zellpaket
US4319978A (en) * 1980-12-30 1982-03-16 Lea Manufacturing Company Spacer for electrodialysis stack
US4425205A (en) * 1982-03-13 1984-01-10 Kanto Kasei Co., Ltd. Process for regenerating electroless plating bath and a regenerating apparatus of electroless plating bath
US4461693A (en) * 1982-07-06 1984-07-24 Ionics Incorporated Polarity reversal electrodes

Also Published As

Publication number Publication date
AU5126385A (en) 1986-07-17
EP0188102A2 (en) 1986-07-23
IL77302A (en) 1988-11-30
DK14086A (da) 1986-07-15
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NO860088L (no) 1986-07-15
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JPH0251984B2 (ko) 1990-11-09
ZA859506B (en) 1986-08-27
BR8600114A (pt) 1986-09-23
JPS61163281A (ja) 1986-07-23
AU577429B2 (en) 1988-09-22
US4600493A (en) 1986-07-15
ES8801390A1 (es) 1987-12-16
ES8800062A1 (es) 1987-10-16
KR910001230B1 (ko) 1991-02-26
ES550816A0 (es) 1987-12-16
EP0347016A3 (en) 1990-01-10
EP0188102A3 (en) 1987-01-14

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