JPH11262641A - 無電解ニッケルめっき液再生用分離膜及び無電解ニッケルめっき液再生法 - Google Patents

無電解ニッケルめっき液再生用分離膜及び無電解ニッケルめっき液再生法

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JPH11262641A
JPH11262641A JP8242098A JP8242098A JPH11262641A JP H11262641 A JPH11262641 A JP H11262641A JP 8242098 A JP8242098 A JP 8242098A JP 8242098 A JP8242098 A JP 8242098A JP H11262641 A JPH11262641 A JP H11262641A
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nickel plating
electroless nickel
ions
plating liquid
regenerating
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Yasuhiro Okamura
康弘 岡村
Koichi Kuroda
孝一 黒田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 無電解ニッケルめっき液を、消耗薬品の補充
と、僅 かながら流出する次亜燐酸 イオンの補充だけで
長寿命化し、廃液処理を少なく する無電解ニケルめっ
き液再生法を得る。 【解決手段】 アルミニュウム板に、スルホサリチル酸
一硫酸電解浴(カルカラー浴)で陽極酸化皮膜を施した
後、アルミニユム板から剥離して得られたイオン分離膜
2を、耐熱性の接着剤で、穴1bを有する枠1aに接着
固定して分離膜付き枠1を作る。この分離膜付き枠1を
拡散装置の中央に取り付けて、片方に老化した無電解ニ
ッケルめっき液を入れ、もう片方に水を入れる。この状
態で自然放置すると、時間に比例して無電解ニッケルめ
っき液から、有害性分である、亜燐酸イオン、硫酸イオ
ン、ナトリュウムイオンが、優先的に水の方に移行し、
無電解ニッケルめっき液には有効成分であるニッケルイ
オン、有機酸が残る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、アルミニュウム
の陽極酸化皮膜をイオン分離膜とした、無電解ニッケル
めっき液の再生法に関する。
【0002】
【従来の技術】無電解ニッケルめっきは、発明された当
初の1950年頃は、化学工業分野で、反応釜等鉄鋼材
の防食用に主として使われていたが、近年は、精密機構
部品、電子部品で重用されるようになり、年間10万ト
ンを起えるまでに普及しており、更に伸びる状況にあ
る。ひとえに、めっきし易さと、めっき条件、洛組成に
より、皮膜特性を、広範囲に変えることが出来、高耐食
性、高比抵抗性、非磁性、良はんだ付け性等の特徴ある
皮膜が得られるからである。所が、従来からの電気めっ
きに比し、極端に液寿命が短く、従って廃液量が多く、
公害対策費用も嵩み、全体として、めっきコストが高価
格になると言う欠点を有している。
【0003】一般的に、無電解ニッケル液の組成は以下
のように構成される。主成分として 金属塩 硫酸ニッケル、塩化ニッケル 還元剤 次亜リン酸ソーダ、水素化ホウ素化合物
(ジメチルアミンボラン) 補助的成分として 錯化剤 乳酸、リンゴ酸、クエン酸、琥珀酸等の塩 PH調整剤 酸又はアルカリ PH媛衝剤 各種有機酸、無機の弱酸塩 安定剤 非めっき表面への吸着性物質 その他添加剤 表面活性剤等
【0004】そして、代表的なめっき法としての、還元
剤に次亜リン酸イオン(H2PO2 -)を用いる場合のめ
っきの主反応式は以下のように考えられている。(無電
解めっき、神戸,14P,槙書店,1984) ニッケルの析出反応
【0005】
【化1】
【0006】次亜リン酸イオンの分解反応
【0007】
【化2】
【0008】ニッケルの析出反応と、次亜リン酸イオン
の分解反応により、亜リン酸イオン(H2PO3 -)が蓄
積していくことが分かる。問題は、ここに蓄積する亜リ
ン酸イオン(H2PO3 -)が、液の老化を招き、一定濃
度を越えると、液の分解が起こるに至ることである。更
に、消耗するニッケルイオン(Ni2 +)を補充するた
め、ニッケル塩として、硫酸塩(NiSO4)を添加す
るので、硫酸イオン(SO4 -)が蓄積する問題がある。
同様に、次亜リン酸イオンは、塩(通常ナトリュウム
塩)として添加するので、ナトリュウムイオンが蓄積す
る。これらは、亜リン酸イオン程の悪影響は及ぼさない
が、除去しなければならない。
【0009】これら有害成分を除去すべく、従来から長
寿命化の試みが行われており、久保井、「無電解めっき
浴の長寿命化技術」、表面技術、1997,48巻2
号、P165〜170によれば、以下の通りである。 (1)連続引き抜き法 ある程度老化した液を抜き取ると同時に新液を補給し、
これを繰り返して、濃度を一定に保つ方法である。現在
最も普及しており、液の汲み換え頻度が減ることで、操
業度は向上するものの、有効な成分を常に排出するの
で、廃液量が多くなる問題がある。 (2)カルシュウム法問題の亜リン酸イオンをカルシュ
ウムイオンと反応、沈殿物として分離する方 法である。カルシュウムイオンは、亜リン酸イオンとの
み反応する利点は大きいが、沈殿物の除去が難しいと言
う問題、他の硫酸イオン、ナトリュウムイオン等の有害
イオンは別法によらねばならない問題がある。 (3)イオン交換樹脂法 老化液を、次亜リン酸ナトリュウムで処理されたアルカ
リイオン交換樹脂で処理し、イオン交換する方法である
が、交換能力、寿命で実用に耐える交換樹脂が見あたら
ない問題、他の硫酸イオン、ナトリュウムイオン等の有
害イオンは別法によらねばならない問題がある。 (4)電気透析法 既に、実用化されており、中では最も有効な方法である
が、従来の透析膜では、イオン分離膜として、有機膜を
使用しており、孔径が大きいため、除去したくない他の
イオン、例えば、錯化剤も同時に除去してしまう問題、
めっき液の高い温度に耐えられない問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
方法は、何れも一長一短があり、無電解ニッケルめっき
液寿命を電気めっき並以上に長寿命化するにはほど遠い
状況にある。この発明は、従来の方法とは異なり、有効
成分であるニッケルイオン、錯化剤は殆ど除去せず、蓄
積する有害成分、即ち還元剤に次亜燐酸ナトリュウムを
用いた場合の亜リン酸イオン、ナトリュウムイオン、ジ
メチルアミンボランを用いた場合のジメチルアミン、硼
酸イオン、金属成分補給剤として、硫酸ニッケルを用い
た場合の硫酸イオンを優先的にめっき液から除去し、無
電解ニッケルめっき液を、消耗薬品の補充と、僅かなが
ら流出する次亜燐酸イオンの補充だけで半水久的に使用
できるようにし、電気めっき並以上に長寿命化しようと
すことを目的とする。また、長寿命化することにより、
無電解ニッケルめっき液の廃液処理を少なくすることを
目的とするまた、無電解ニッケルめっき液は、老化し廃
液となった場合は、有機化合物を多量に含む故に、複雑
な廃液処理が必要となり、廃液処理費用が嵩み、従っ
て、それだけめっきコストが嵩む欠点を有している。こ
の発明は、この欠点をも解決することを目的とする。
【0011】また、無電解ニッケルめっきは、電気めっ
きに比較して格段に使いやすく、優れた特性を持ってい
るにも拘わらず、現在その寿命の短いことが根本原因
で、高価なため、他では代替できない用途に限られたと
ころでしか使われていない。本発明の適用が広がること
で、液の長寿命化が計れ、従って、一般の鉄鋼材の防食
めっきなど汎用材への用途を拡大することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明に係る無電解ニ
ッケルめっき液再生用分離膜は、イオン分離膜をアルミ
ニュウム又はアルミニュウム合金から分離した陽極酸化
皮膜としたものである。
【0013】また、陽極酸化皮膜は電流回復法と逆電剥
離法によりアルミ基板より分離作成した皮膜である。
【0014】また、アルミ基板より分離作成した皮膜を
加熱処理したものである。
【0015】また、アルミ基板より分離作成した皮膜を
ゾルゲルコーティングしたものである。
【0016】また、無電解ニッケルめっき液再生法は、
イオン分離膜をアルミニュウム又はアルミニュウム合金
から分離した陽極酸化皮膜を用いて自然拡散法又は電気
透析法により再生するものである。
【0017】
【発明の実施の形態】実施の形態1 この発明の実施の形態1を以下説明する。図1(a)は
分離膜をつけた枠の平面図、図1(b)は膜の断面図、
図2は自然透析装置の平面図である。図1、2におい
て、1は分離膜付き枠、1aは枠、1bは穴、2はイオ
ン分離膜、4は止め金、5は老化した無電解ニッケルめ
っき液を入れる無電解ニッケルめっき液室、6は水を入
れる水室である。イオン分離膜2は、アルミニュウム板
に、マスキング剤で所定面積部を残してマスキングした
後に、スルホサリチル酸一硫酸電解浴(カルカラー浴)
で陽極酸化皮膜を施した後、電流回復法と逆電剥離法に
よりアルミ板から剥離して得られたものであり、そのま
ま、または加熱処理、またはゾルゲルコーティング処理
されたものである。尚、酸化膜厚はミクロン以上とする
が、50〜120ミクロンが好ましい。これを耐熱性の
接着剤で、予め所定の穴1bを有する枠1aに接着固定
して分離膜付き枠1を作る。この分離膜付き枠1を図2
のように、拡散装置の中央に取り付けて、無電解ニッケ
ルめっき液室5に老化した無電解ニッケルめっき液を入
れ、水室6に水を入れる。この状態で自然放置すると、
時間に比例して無電解ニッケルめっき液室5から、有害
性分である、亜燐酸イオン、硫酸イオン、ナトリュウム
イオンが、優先的に水室6側に移行し、無電解ニッケル
めっき液室5には有効成分であるニッケルイオン、有機
酸が残る。
【0018】なお、分離膜の耐化学薬品性は、そのまま
ではPH3〜10の範囲では問題なく使用できるが、強
酸、強アルカリでは溶解してしまう。ところが、900
°C以上で加熱処理した分離膜は全く強酸や強アルカリ
に溶解しなくなるので半永久的に使用することができ
る。
【0019】実施の形態2 この発明の実施の形態2を以下説明する。実施形態1は
再生法を自然拡散法によったが、実施の形態2は電気透
析法による場合を説明する。図3は電気透析装置の平面
図であり、1はイオン分離膜をつけた枠、4は止め金、
5は無電解ニッケルめっき液、6、7は水、8、9はイ
オン交換膜、10,11は電極室(陰極、陽極)、12
は陰極、13は陽極である。イオン分離膜は実施の形態
1と同様にスルホサリチル酸一硫酸電解浴(カルカラー
浴)より作成し、電流回復法と逆電剥離法により得た
後、900℃にて1時間加熱処理し、これらを接着した
枠を2枚図3の1のように取り付ける。2枚の枠の間に
老化した無電僻ニッケルめっき液を入れ被透析室とす
る。両側に水または導電性を高めて透析効率を上げる目
的の適当な電解質を入れて陽イオン透析室7、陰イオン
透析室6とする。それぞれ陰イオン交換膜8、陽イオン
交換膜9を介して陰極12、陽極13につながる。電極
室には適当な電解質溶液を入れる。そして、両電極間に
直流電圧を印加し、電気透析を行う。
【0020】イオン分離膜の孔径を無機イオンの大きさ
に近いサイズまで小さくすることで、陽極側では、陰イ
オンとして、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、硫酸
イオンは透過させるが、無電解ニッケルめっき液に多く
含まれる乳酸、リンゴ酸、琥珀酸、クエン酸等サイズの
大きい有機イオンを透過させない。陰極側では、陽イオ
ンとして、錯イオンを作らないナトリュウムイオンは透
過させるが、錯イオンを形成していると考えられるニッ
ケルイオンは殆ど透過させない。また、このイオン分離
膜は90℃以上の高温に耐え得るので、めっき液温を、
下げることなくそのまま、インラインで自然拡散又は電
気透析処理できる。
【0021】実施例1 先ず分離膜を作成する。板厚約0.5mmの純アルミニ
ュウ板(JIS1200)を用意し、マスキング材で、
所定面積部(この場合15×15mm角部分)を残して
マスキングする。標準的な方法で、スルホサリチル酸一
硫酸電解浴(カレカラー浴槽)で膜厚95μmの皮膜を
施す。その後、電流回復法と逆電剥離法により(黒田、
表面技術、40−5,685、1989)、15×I5
mmの分離膜を作成する。この様にして作成した18枚
の分離膜を図1のごとく枠に取り付け、図2の拡散装置
にて室5と室6の間に枠を置き締め付ける。室5に3タ
ーン(建浴初期のニッケル濃度の3倍量迄析出)まで使
い古した上村工業(株)製、商品名、HDX無電解ニッ
ケルめっき液(次亜リン酸イオン;30g/L、亜リン
酸イオン;130g/L、硫酸イオン;50g/L、ニ
ッケルイオン;5.9g/L、ナトリュウムイオン;1
10g/L、合計数10g/Lの数種類の有機酸イオ
ン)100mLを入れ、2室に水100mLを入れて放
置した。24時間後室6に次亜リン酸イオン;230μ
g/mL、亜リン酸イオン;680μg/mL、硫酸イ
オン;960μg/mLが拡散移行した。しかし、多量
含まれている有機酸イオンは殆ど検出されなかった。
尚、アニオン分析には、イオンクロマトグラフ(Dio
nex社,DX−AQ,guardcolumn:AG
12,analytical column:AS12
A,suppressor:ASR−I),イソタコグ
ラフ(島津、IP−3A,IP−3A,capilla
ry:0.5mmφ)、金属イオン分析にはIPC(セ
イコー電子工業、Sps−1100H)を用いた。
【0022】実施例2 実施例1と同様にスルホサリチル酸一硫酸電解浴(カル
カラー浴)より作成した15×15mm(膜厚95μ
m)の分離膜を900℃にて1時間加熱処理し、図1の
ごとく枠に取り付け、図3の電気透析室にて室5と室7
の間及び室5と室6の間に分離膜の枠を置く。室5に実
施例1の場合と同様に無電解ニッケルめっき液100m
Lを入れ、室6、室7に水100mLを入れ、陽極室1
1に陽極電解室(苛性ソーダ2%溶液)と陰極室10に
陰極電解室(硫酸5%溶液)を置き、締め付ける。両電
極間に10Vを加え、1時間電気透析したところ陰イオ
ンは陽極側に泳動し、次亜リン酸イオン;80μg/m
L、亜リン酸イオン;120μg/mL、硫酸イオン;
200μg/mLが、室5から室6へ移行した。但し、
有機酸イオンは、実施例1の場合と同様に殆ど検出され
なかった。陽イオンは陰極側に泳動し、ナトリュウムイ
オンは室5から室7へ440μg/mL移行した。ただ
し、ニッケルイオンは殆ど検出されなかった。3時間透
析した結果、次亜リン酸イオン;140μg/mL、亜
リン酸イオン;430μg/mL、硫酸イオン;680
μg/mLが室5から室6へ移行した。しかし、上記同
様、有機酸イオンは殆ど検出されなかった。ナトリュウ
ムイオンは室5から室7へ1,200μg/mL移行し
た。ただし、ニッケルイオンは上記と同様殆ど検出され
なかった。尚、イオン分析は実施例1と同様に行った。
【0023】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、イオ
ン分離膜をアルミニュウム又はアルミニュウム合金から
分離した陽極酸化皮膜としたので、無電解ニッケルめっ
き液中の有害成分としての陰イオンである亜リン酸イオ
ン、硫酸イオン、陽イオンであるナトリュウムイオンが
優先的に系外に除去でき、無電解ニッケルめっき液を、
消耗薬品の補充と、僅かながら流出する次亜リン酸イオ
ンの神充だけで半永久的に使用できるようになり、電気
めっき並以上の長寿令化を実現することができる。ま
た、長寿令化を実現することにより、無電解ニッケルめ
っき液の廃液処理を少なくすることができ、廃液処理費
用の削減をすることができる。また、一般の鉄鋼材等の
汎用材の防食めっき等にも適用す ることができ、無電
解ニッケルめっきの用途を広くすることができる。
【0024】また、陽極酸化皮膜は電流回復法と逆電剥
離法によりアルミ基板より分離作成した皮膜なので、無
電解ニッケルめっき液中の有害成分としての陰イオンで
ある亜リン酸イオン、硫酸イオン、陽イオンであるナト
リュウムイオンが優先的に系外に除去でき、無電解ニッ
ケルめっき液を、消耗薬品の補充と、僅かながら流出す
る次亜リン酸イオンの神充だけで半永久的に使用できる
ようになり、電気めっき並以上の長寿令化を実現するこ
とができる。
【0025】また、アルミ基板より分離作成した皮膜を
加熱処理したので、強酸や強アルカリに溶解しなくする
ことができ、半永久的に使用することができる。
【0026】さらに、アルミ基板より分離作成した皮膜
をゾルゲルコーティングしたので、分離膜の孔経を小さ
くすることができより小さなイオンを分離することがで
きる。
【0027】また、無電解ニッケルめっき液再生法は、
イオン分離膜をアルミニュウム又はアルミニュウム合金
から分離した陽極酸化皮膜を用いて自然拡散法又は電気
透析法により再生するので、再生するときに、高温でも
よく、温度を下げる必要がないのでインラインで処理が
でき、効率的な再生をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 分離膜を付けた枠の構成図である。
【図2】 拡散装置平面図である。
【図3】 電気透析装置平面図である。
【符号の説明】
1 分離膜付枠、1a 枠、1b 穴 2 分離膜 4 止め金 5 無電 解ニッケルめっき液 6、7 水 8、9 イオン交換膜 10 陰極室 11陽極室 12 陰極 13 陽極

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 イオン分離膜をアルミニュウム又はアル
    ミニュウム合金から分離した陽極酸化皮膜としたことを
    特徴とする無電解ニッケルめっき液再生用分離膜。
  2. 【請求項2】 陽極酸化皮膜は電流回復法と逆電剥離法
    によりアルミ基板より分離作成した皮膜であることを特
    徴とする請求項1記載の無電解ニッケルめっき液再生用
    分離膜。
  3. 【請求項3】 アルミ基板より分離作成した皮膜を加熱
    処理したことを特徴とする請求項2記載の無電解ニッケ
    ルめっき液再生用分離膜。
  4. 【請求項4】 アルミ基板より分離作成した皮膜をゾル
    ゲルコーティングしたことを特徴とする請求項2記載の
    無電解ニッケルめっき液再生用分離膜。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載
    の無電解ニッケルめっき液再生用分離膜を用いて自然拡
    散法又は電気透析法により再生することを特徴とする無
    電解ニッケルめっき液再生法。
JP8242098A 1998-03-16 1998-03-16 無電解ニッケルめっき液再生用分離膜及び無電解ニッケルめっき液再生法 Pending JPH11262641A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102363A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Takuo Kawahara 無電解ニッケルめっき液の再生方法
JP2015001020A (ja) * 2013-06-18 2015-01-05 日本錬水株式会社 無電解メッキ液の再生方法
CN113122846A (zh) * 2021-04-03 2021-07-16 郑小宝 一种铝合金金属镀件

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102363A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Takuo Kawahara 無電解ニッケルめっき液の再生方法
JP2015001020A (ja) * 2013-06-18 2015-01-05 日本錬水株式会社 無電解メッキ液の再生方法
CN113122846A (zh) * 2021-04-03 2021-07-16 郑小宝 一种铝合金金属镀件
CN113122846B (zh) * 2021-04-03 2023-04-28 昆山陆新新材料科技有限公司 一种铝合金金属镀件

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