KR870002204A - 아릴아미노니트로페닐 하이드록시에틸 설폰의 제조방법 - Google Patents

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KR870002204A
KR870002204A KR1019860006981A KR860006981A KR870002204A KR 870002204 A KR870002204 A KR 870002204A KR 1019860006981 A KR1019860006981 A KR 1019860006981A KR 860006981 A KR860006981 A KR 860006981A KR 870002204 A KR870002204 A KR 870002204A
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브로트 베르너
파펜후스 데오도로
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베른하르트 벡크, 하인리히 벡커
훽스트 아크티엔 게젤샤프트
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    • C09B62/4403—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with two or more reactive groups at least one of them being directly attached to a heterocyclic system and at least one of them being directly attached to a non-heterocyclic system the heterocyclic system being a triazine ring
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

아릴아미노니트로페닐 하이드록시에틸 설폰의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 일반식(2)의 화합물과 일반식(3a) 또는 (3b)의 아미노화합물을, 무기 또는 유기 산-결합제의 존재하에, 20내지 180℃의 온도에서, 바람직하게는 pH4.0내지 10.0의 물중에서 또는 적합한 유기 용매 또는 이러한 용매의 혼합물중에서 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(1)의 아릴아미노니트로페닐 하이드록시에틸 설폰을 제조하는 방법.
    상기식에서
    Z는 다음 일반식(Za) 또는 일반식(Za)의 라디칼을 나타내며,
    [상기식에서,
    R1은 수소원자 또는 -NH2, -NH-R 또는 -N(R)2그룹(여기에서 R은 C1-C4-알킬그룹을 나타낸다)을 나타내고,
    R2은 수소원자, C1-C4-알킬그룹 또는 C1-C4-알콕시그룹을 나타내고,
    R3는 수소, 염소 또는 브롬원자 또는 설폰산, 설폰아미드, 카복실산, 카복스아미드, 하이드록실, 카보메톡시, 카보에톡시 또는 β-하이드록시에틸설포닐그룹은 나타내며,
    R4는 수소, 염소 또는 브롬원자 또는 설폰산, 카복실산, 하이드루시 또는 C1-C4-알콕시 또는 C1-C4-알킬그룹은 나타내며,
    라디칼 Za상의 1내지 3개의 상이한 R1내지 R3치환체중 두개 이하는 동일할 수 있으며, 라디칼 Zb상의 1개 내지 4개 상이한 R1내지 R4치환체중 두개 이하는 동일할 수 있다],
    R은 C1-C4알킬그룹은 나타내고,
    X는 염소 또는 브롬원자를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 반응을 40내지 100℃의 온도에서 수행하는 방법
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응을 pH5.5내지 8.5의 수성 매질중에서 수행하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 반응을 저급 알칸을, 크실렌, 클로로벤젠, 디메틸포름아미드 또는 N-메틸티롤리돈중에서 수행하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 반응을 산-결합제로써 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 탄산칼륨, 칼륨 아세테이트, 산화 마그네슘, 염기성 탄산 마그네슘, 트리 -C1-C4-알킬아민, 피리딘, 퀴놀린, 피콜린 또는 모르폴린, 또는 과량의 상기 일반식(3a) 또는 (3b)의 아미노 화합물의 존재하에서 수행하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 반응을 비-수성 반응매질로써 과량의 상기 일반식(3a) 또는 (3b)의 아미노 화합물중에서 수행하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 두가지 화합물을 제외하고는 제1항에서 정의한 바와같은 일반식(1)의 아릴아미노니트로페닐 하이드록시에틸 설폰을 제조하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
  13. 제1항에 있어서, 하기 구조식의 화합물을 제조하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860006981A 1985-08-24 1986-08-23 아릴아미노니트로페닐 하이드록시에틸 설폰의 제조방법 KR950007218B1 (ko)

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DE3502991A1 (de) * 1984-07-20 1986-01-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Substituierte phenyloxethylsulfone und verfahren zu ihrer herstellung

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DE3664908D1 (en) 1989-09-14
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