KR860009044A - Epdm 중합법 및 규산염으로 개질된 epdm용 촉매계와 그 제조방법 - Google Patents

Epdm 중합법 및 규산염으로 개질된 epdm용 촉매계와 그 제조방법 Download PDF

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KR860009044A
KR860009044A KR1019860003353A KR860003353A KR860009044A KR 860009044 A KR860009044 A KR 860009044A KR 1019860003353 A KR1019860003353 A KR 1019860003353A KR 860003353 A KR860003353 A KR 860003353A KR 860009044 A KR860009044 A KR 860009044A
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찰스 코쩨위쓰
수드힌 다타
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프랭크 에이, 씨오크
엑손 케미칼 페이턴츠 아이엔씨
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract

내용 없음

Description

EPDM 중합법 및 규산염으로 개질된 EPDM용 촉매계와 그 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (72)

  1. 알루미늄 화합물을 공촉매로 사용함과 더불어 탄화수소에 가용성인 바나듐 화합물을 촉매로 사용하고 다음 일반식의 규산염화합물을 연쇄의 분지 억제제로 사용하는 EPDM 제조 시의 용액중합법
    Si(OR)xLy
    [위의 식에서 X는 3∼4의 정수, L은 수소, 할로겐 또는 R이고, y는 4-X이며, R은 히드로카르빌기이다].
  2. 제1항에 있어서, 바나듐 화합물의 바나듐 원자가 최소한 3인 방법.
  3. 제 1항에 있어서, R의 알킬, 시클로알킬 또는 방향족기인 방법.
  4. 제3항에 있어서, R이 메틸, 에틸 또는 페닐인 방법.
  5. 제1항에 있어서, X가 4인 방법.
  6. 제1항에 있어서, X가 3이고 L이 염소인 방법.
  7. 제1항에 있어서, 규산염 화합물이 테트라메톡시실란 또는 테트라에 톡시실란인 방법.
  8. 제1항에 있어서, 규산염과 바나듐 화합물의 Si/V몰비가 약 0.1∼약 3.0인 방법.
  9. 제8항에 있어서, Si/v의 비가 약 0.3∼약 2.0인 방법.
  10. 제9항에 있어서 Si/V의 비가 약 0.6∼약1.5인 방법.
  11. 제1항에 있어서, VX4또는 VOXn(OR1)3-n인 바나듐 화합물을 사용하는 방법.
    (위의 식에서 X는 할로겐, R1는 히드로카르빌기, n은 2 또는 3)
  12. 제11항에 있어서, X가 염소 또는 브롬인 방법.
  13. 제11항에 있어서 X가 염소인 방법.
  14. 제11항에 있어서, R'가 C1∼C10알킬 또는 시클로알킬 페닐 또는 벤질인 방법.
  15. 제14항에 있어서, R'가 C1∼C10알킬인 방법.
  16. 제1항에 있어서, 알루미늄 화합물이 알킬 알루미늄 세스퀴 할라이드 또는 AIR" X' b-3인 일반식의 화합물인 방법. (위의 식에서 X'는 할로겐, R"히드로카르빌기, b는(1-2)
  17. 제16항에 있어서, R"가 C1∼C4알킬 또는 페닐인 방법.
  18. 제16항에 있어서, X'가 염소 또는 브롬인 방법.
  19. 제17항에 있어서, X'가 염소인 방법.
  20. 제 16항에 있어서, 세스퀴할라이드가 메틸알루미늄 세스퀴클로라이드, 메틸알루미늄 세스퀴클로라이드 또는 이소부틸알루미늄세스퀴클로라이드인 방법.
  21. 제11항에 있어서, 바나듐 화학물이 VOCl3이고 알루미늄 화학물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로라이드이며, 규산염이 테트라에톡시실란이고, 규소와 바나듐(SI/V)에 대해서 규산염과 바나듐 화합물의 몰비가 약 0.6∼약 1.5인 방법.
  22. 제12항에 있어서, Si/V몰비가 약 0.4∼약 1.0인 방법.
  23. 제 11항에 있어서, 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로라이드(EASC)에틸 알루미늄 디클로라이드 또는 디에틸 알루미늄 클로라이드인 방법.
  24. 제23항에 있어서, 바나듐 화합물이 VCl4이고 알루미늄 화합물이 EASC인 방법.
  25. 제24항에 있어서, 규산염 화합물이 테트라에톡시실란이고 규산염과 바나듐 화합물을 Si/V 몰비 0.1∼약3.0에서 사용하는 방법.
  26. 제25항에 있어서, Si/V몰비가 약 0.3∼약 2.0인 방법.
  27. 제24항에 있어서, 규산염 화합물이 테트라메록시실란이고 규산염과 바나듐을 Si/V 몰비 약 0.1∼약 3.0에서 사용하는 방법.
  28. 제27항에 있어서, Si/V 몰비가 약 0.3~약 2.0인 방법
  29. 제1항에 있어서, ENB또는 1,4-핵사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 메틸렌 노르보트넨등의 삼량체와 프로필렌 및 에틸렌으로 된 EPDM인 방법.
  30. 제1항에 있어서, 수소를 분자량 조결제로 사용하는 방법.
  31. 제4항에 있어서, 규산염 화합물이 페닐트리에톡시실란 또는 클로로트리에 독시실란인 방법.
  32. 중합반응에 사용되는 희석제중에서 EPDM을 제조하는 촉매제를 비나듐화합물 촉매, 알루미늄 화합물촉매, 규산염 화합물연쇄 분지 억제제로 구성하고, 바나듐 화합물은 희석제에 가용성인 것을 사용하며, 바나듐의 원자가가 최소한 3인것을 사용하고, 일반식 Al2R"3X3'또는 AIR"X;3-b인 알루미늄 화합물(위의 식에서 X'는 할로겐, b는 1∼2, R"는 히드로카르빌기)를 사용하여 규산염 화합물은 일반식 Si(CR)xLy(이 식에서 X'는 3∼4의 정수, L은 할로겐, 수소 또는 R,y는 4-X, R은 히드로카르빌기)인 것을 사용해서 된 촉매제.
  33. 제32항에 있어서 알루미늄화합물의 R"가 C1∼C20알킬 시클로알키 또는 방향족기인 촉매계.
  34. 제33항에 있어서, R"가 메틸, 엘틸, n-프로필, 이소부틸, 시클로헥실 또는 페닐인 촉매계.
  35. 제32항에 있어서, 바나듐 화합물의 일반식이 VX4또는 VOX(OR')S-n(이식에서 X는 할로겐, R은 히드로카르빌기)인 촉매계.
  36. 제35항에 있어서, X와 X'를 각각 염소, 브롭 또는 요오드중에서 선택해서 된 촉매계.
  37. 제35항에 있어서, X가 염소 또는 브롬인 촉매계.
  38. 제 35항에 있어서, X가 염소인 촉매계.
  39. 제35항에 있어서, R'가 C1∼C10알킬, 시클로알킬, 페닐 또는 벤질인 촉매계.
  40. 제 39항에 있어서, R'가 C1∼C4알킬인 촉매계.
  41. 제 32항에 있어서, 일반식 Al2R"SX'b인 알루미늄 화합물이 알킬 알루미늄 세스퀴할라이드인 촉매계
  42. 제41항에 있어서, 세스퀴할라이드가 메틸 알루미늄 세스퀴클로라이드 또는에틸 알루미늄 세스퀴크로라이드인 촉매계.
  43. 제32항에 있어서, X'가 염소 또는 브롬인 촉매계.
  44. 제32항에 있어서, 알루미늄 화합물의 일반식이 AlR"X'3-b(이식에서 R"은 C1∼C10알킬이거나 시클로알킬, 페닐 또는 벤질이고 X'는 염소 또는 브롬)인 촉매계.
  45. 제44항에 있어서, R"가 C1∼C10알킬인 촉매계.
  46. 제32항에 있어서, 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로라이드, 디에틸 알루미늄클로라이드 또는 엘티 알루미늄 디클로라이드인 촉매계.
  47. 제46항에 있어서, 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로아이드, 디에틸 알루미늄클로라이드또는 에틸 알루미늄 디클로라이드이고 바나듐 화합물이 VOCl3 또는 VCl4인 촉매계.
  48. 제32항에 있어서, 알루미늄과 바나듐의 몰비가 약 1∼약 40인 촉매계.
  49. 제48항에 있어서, Al/V가 약2∼약 20인 촉매계
  50. 제49항에 있어서, Al/V가 약3∼약 10인 촉매계
  51. 제32항에 있어서, 규산염 화합물의 R'이 알킬, 시클로알킬 또는 방향족기이고 L이 염소, 브롬 또는 요오드인 촉매계.
  52. 제51항에 있어서, L이 염소인 촉매계.
  53. 제51항에 있어서, R이 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, 시클로헥실 또는 페닐인 촉매계.
  54. 제 32항에 있어서, 규산염 화합물이 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 페닐트리에톡시실란 또는 클로로트리에톡시실란에 촉매계.
  55. 제31항에 있어서, 규소와 바나듐의 몰비를 약 0.1∼약3.0으로 하여 규산염을 사용해서된 촉매계.
  56. 제55항에 있어서, Si/V가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계.
  57. 제56항에 있어서, Si/V가 약 0.6∼약 1.5인 촉매계.
  58. 제55항에 있어서, 바나듐화합물이 VIl4또는 VOCl3이고, 알루미늄 화합물이 알킬알루미늄 세스퀴클로라이드, 디알킬알루미늄클로라이드 또는 알킬알루미늄 디클로라이드이며 Si/V가 약 0.6∼약 1.5인 축매계.
  59. 제58항에 있어서, Si/V가 약 0.4∼약 1.0인 촉매계.
  60. 제 55항에 있어서, 바나듐 화합물이 VCl4이고 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로라이드이며 규산염 화합물이 테트라메톡시실란인 촉매계.
  61. 제60항에 있어서, Si/V가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계.
  62. 제55항에 있어서, 바나듐 화합물이 VCl4이고 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴클로라이드이며 규산염 화합물이 페닐 트리에톡시실란 또는 클로로트리에톡시실란인 촉매계.
  63. 제62항에 있어서, Si/V가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계.
  64. 제55항에 있어서, 바나듐 화합물이 VOCl3이고 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄 세스퀴할라이드이며 규산염 화합물이 테트라에 독시실란 또는 테트라메톡시실란이고 Si/V가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계.
  65. 제55항에 있어서, 바나듐 화합이 VCl4인 촉매계
  66. 제55항에 있어서, 바나듐 화합물이 VCl4인 촉매계
  67. 제66항에 있어서, 알루미늄 화합물이 에틸 알루미늄디클로라이드이고 규산염 화합물이 테트라메톡시실이며 Si/V비가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계.
  68. 제67항에 있어서, SI/V비가 약 0.4∼약 1.0인 촉매계.
  69. 제67항에 있어서, 알루미늄 화합물이 에틸알루미늄 디클로라이드이고 규산염 화합물이 테트라메톡시실란이며 Si/V비가 약 0.3∼약 2.0인 촉매계
  70. 제69항에 있어서, Si/V비가 약 0.4∼약 1.0인 촉매계.
  71. 제17항에 있어서, R"가 메틸, 에틸, n-에틸프로필이소부틸, 헥실 또는 시클로헥실인 촉매계.
  72. 제44항에 있어서, R"가 메틸, n-에틸프로필이소부틸, 헥실 또는 시클로 헥실인 촉매계.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860003353A 1985-05-03 1986-04-30 Epdm 중합법 및 규산염으로 개질된 epdm용 촉매계와 그 제조방법 KR860009044A (ko)

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