KR860003526A - 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템 - Google Patents

광전자식 포커싱 오차 검출 시스템 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

광전자식 포커싱 오차 검출 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 포커싱 오차 검출 시스템에 장착되는 판독장치의 개략도.
제4도는 윗지의 인터페이스와 관련하여 검출기의 구성을 도시한 비임 분산 소자의 평면도.
제5도는 검출기 신호를 포커싱 오차 신호로 처리하기 위한 회로도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 디스크형 기록 캐리어 2 : 정보트랙
3 : 방사 소오스 4 : 시준 렌즈
6 : 반투명 거울 7 : 방사 감지 검출 시스템
8 : 복합 윗지 15 내지 18 : 검출기
30,31 : 감산기회로 32 내지 35 : 가산기회로
36,37 : 분할기회로

Claims (6)

  1. 광학적 화상 시스템에서, 방사-반사표면과 대상 시스템의 포커싱 표면사이의 편차를 검출하고, 특히 광학적 방사-반사 정보구조를 판독하기 위한 장치나 기록 캐리어내에 정보를 광학적으로 기록하기 위하여, 반사 표면에 의해 반사된 방사 비임의 경로내에 배치되는 비임 분산 소자와, 이 비임 분산 소자의 뒤에 배치되고 또한 2개의 그룹으로 구성된 다수의 검출기를 구비하는 방사 감지 검출 시스템을 구비하되, 검출기의 2개의 그룹중 제1의 그룹은 비임 분산 소자에 의해 형성된 2개의 서브 비임중 제1의 서브 비임에 관련되도록 하는, 제2의 그룹은 제2의 서브 비임에 관련되도록 하며, 또한 검출기의 출력은 검출기 신호로부터 포커싱 오차 신호를 추출하는 전자 회로의 입력에 접속되도록 한 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 있어서, 비임 분산 소자가, 공통표면과 또한 이 공통 표면의 서로 반대쪽에 설치된 상부표면을 각각 구비하는 복합 윗지이고, 상기 상부 표면들은 2개의 윗지 부분사이의 인터페이스 평면내에서 서로에 대해 기울어져 있으며, 상기 인터페이스 평면은 공통 표면 및 상부 표면에 대하여 수직으로 연장함과 동시에 화상 시스템의 광학축을 포함하고, 또한 2개의 그룹의 검출기들이, 광학축을 포함하면서 인터페이스에 대하여 수직으로 연재하고 있는 평면의 상호 반대쪽에 설치되는 것을 특징으로 하는 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템.
  2. 비임 분산 소자가 반투명 거울인 제1항의 광 전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 있어서, 복합웻지는 실린더형 렌즈의 표면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템.
  3. 제2항의 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 있어서, 복합 윗지와 실린더형 렌즈는 동일 물질로 제조되고, 또한 단일의 집적 광학 소자로 구성한 것을 특징으로 하는 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템.
  4. 제1항 또는 제2항 또는 제3항의 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 있어서, 제1그룹의 검출기들을 분리하는 스트립은 제1의 작은 각도로서 연재하고, 제2그룹의 검출기들을 분리하는 스트립은 제2의 작은 각도로서 연재하되, 제2의 각도는 복합 윗지를 검출 시스템의 평면상으로 돌출시킴으로써 얻어진 라인에 따라서 제1의 각도에 대하여 반대쪽으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템.
  5. 제1항 또는 제2항 또는 제3항에 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 장착되어, 트랙으로 배열된 기록 캐리어의 광학식 정보구조내에서 정보를 판독 또는 기록하기 위한 장치에 있어서, 윗지의 인터페이스는 트랙방향에 대하여 평행 하게 연재하는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제4항에 광전자식 포커싱 오차 검출 시스템에 장칙되어 트랙으로 배열된 기록 캐리어의 광학식 정보 구조내에서 정보를 판독 또는 기록하기 위한 장치에 있어서, 윗지의 인터페이스는 트랙방향에 대하여 평행하게 연재하는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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