KR860000271A - 치환된 페닐술포닐우레아의 제조방법 - Google Patents
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본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (4)
- 일반식(Ⅱ)의 헤테로환식 아미노 화합물을 경우에 따라 희석제의 존재하 및, 경우에 따라 염기성 촉매의 존재하에서 일반식(Ⅲ)의 페닐술포닐이소(티오)시아네이트와 반응시키거나; 일반식(Ⅳ)의 페닐술포아미드를, 경우에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 산-결합제의 존재하에서 일반식(Ⅴ)의 (티오)카바메이트와 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(Ⅰ)의 치환된 페닐술포닐우레아를 제조하는 방법.상기 식에서, R은 수소, 할로겐, 알킬, 알콕시, 할로게노알킬 또는 니트로이고;R4는 알킬 또는 아릴이고; Y는 산소 또는 황이고;Het는 일반식또는(여기서 E는 질소 또는 CH기이고, R1및 R2는 서로 독립적으로 알킬, 알콕시 또는 알콕시알킬이다)의 헤테로환식 라디칼이고;T는 -X-CH2-Si(CH3)3및-X--CH=N-OR3(여기서, X는 각 경우에 산소, 황, 술포닐기 또는 술포닐기이고 X'는 수소 또는 알킬이며, R3는 수소, 알킬, 알케닐, 할로게노알킬, 할로게노알케닐, 알콕시알킬, 알킬티오알킬 또는 임의 치환된 아르알킬이다) 라디칼중의 하나이며, 또한 Het가 일반식(여기서 R1및 R2는 상기 정의한 바와 같다)의 헤테로환식 구조를 나타내는 경우에는-SO2-;-SO2-;-O-CH2-CN 및 -O-CH2-CO-CH3라디칼중의 하나이다.
- 제1항에 있어서, R이 수소, 불소, 염소, 브롬, 요오드, 니트로, 또는 각각 직쇄 또는 측쇄이고 각각 탄소원자 4개 이하를 함유하며, 해당하는 경우에, 동일하거나 상이한 할로겐원자 9개의 이하를 함유하는 알킬할로게노알킬 또는 알콕시이고; Y가 산소 또는 황이며; Het가 일반식또는(여기서, E는 질소 또는 CH기이고, R1및 R2는 서로 독립적으로, 각 알킬부분에 탄소원자 6개 이하를 함유하는 직쇄 또는 측쇄알킬, 알콕시 또는 알콕시알킬이다)의 헤테로환식 라디칼이고; T가 -X-CH2-Si(CH3)3또는-X--CH=N-OR3[여기서, X는 각 경우에 산소, 황, 술피닐기 또는 술포닐기이고, X'는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 측쇄알킬이며, R3는 수소, 또는 각각 직쇄 또는 측쇄이고 각 알킬 또는 알케닐 또는 알키닐 부분에 탄소원자 6개 이하를 함유하며, 해당하는 경우에, 동일하거나 상이한 할로겐원자 9개 이하를 함유하는 알킬, 알케닐, 알키닐, 알콕시알킬, 알킬티오알킬, 할로게노알킬 또는 할로게노알케닐이거나, 알킬부분에 탄소원자 4개 이하를 함유하고 아릴부분에 탄소원자 6 내지 10개를 함유하며, 할로겐, 시아노, 니트로 및 각각 직쇄 또는 측쇄이고, 탄소원자 4개 이하를 함유하며, 해당하는 경우에, 동일하거나 상이한 할로겐원자 9개 이하를 함유하는 알킬, 알콕시 및 할로게노알킬 중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환채에 의해 임의로 아릴부분에서 일치환되거나 다치환되는 직쇄 또는 측쇄아르알킬이다] 라디칼 중의 하나이며, 또한 Het가 일반식(여기서, R1및 R2는 상기 정의한 바와 같다)의 헤테로환식 구조를 나타내는 경우에는-SO2-;-SO2-;-O-CH2-CN및-O-CH2-CO-CH3라디칼중의 하나인 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, R이 수소, 불소, 염소, 브롬, 요오드, 니트로, 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 트리플루오로메틸, 메톡시 또는 에톡시이고; Y가 산소 또는 황이고; Het가 일반식또는(여기서 E는 질소 또는 CH기이고, R1및 R2는 서로 독립적으로 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 메톡시메틸, 에톡시메틸, 메톡시에틸 또는 에톡시에틸이다)의 헤테로환식 라디칼이고;T가 -O-CH2-Si(CH3)3, -S-CH2-Si(CH3)3, -SO2-CH2-Si(CH3)3, -S-CH2-CH=N-OR3, -O-CH-CH=N-OR3, -S--CH=N-OR3및-O--CH=N-OR3(여기서, R3는 수소, 메틸, 에틸, n-또는 i-프로필, n-, i-, 2급- 또는 3급-부틸, 알릴, 디클로로알릴, 부테닐, 프로파길, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 에톡시에틸, 메틸티오메틸, 메틸티오에틸 또는 에틸티오에틸이거나, 각각 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 및 트리플루오로메틸 중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환체에 의해 페닐부분에서 임의로 일치환 내지 삼치환되는 벤질 또는 페닐에틸이다)라디칼중의 하나이며, 또한 Het가 일반식(여기서, R1및 R2는 상기 정의한 바와 같다)의 헤테로환식 구조를 나타내는 경우에는,; -O-CH2-CN 또는 -O-CH2-CO-CH2리디칼인 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, N-[2-(2-메톡스이미노에톡시)-페닐술포닐]-N'-(4-메톡시-6-메틸-피피리미딘-2-일)-우레아; N-(2-시아노메톡시-페닐술포닐)-N'-(5-메톡시-1-메틸-1,2,4-트리아졸-3-일)-우레아; N-[2-(2-메톡스이미노에톡시)-페닐술포닐]-N'-(4,6-디메틸-피리미딘-2-일)-우레아; 또는 N-(2-아세틸메톡시-페닐술포닐)-N'-(5-메톡시-1-메틸-1,2,4-트리아진-2-일)-우레아를 제조하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|---|
KR100468313B1 (ko) * | 2002-04-29 | 2005-01-27 | 청진제약 주식회사 | 블록타입의 살서제 조성물 |
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- 1985-06-03 KR KR1019850003868A patent/KR860000271A/ko not_active Application Discontinuation
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