KR850007103A - 수용성계(aqueous systems)의 부식억제방법 및 그 조성물 - Google Patents
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (52)
- 양극(anode)에서의 부동태화 필름(passivating film)을 형성할 수 있는 부식억제염과 양이온 폴리머(carionic polymer)를 수용성계에 첨가시킴을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1항에 있어서, 상기 부식억제염은 포스페이트, 니트리트, 크로메이트, 포스포네이트 또는 모립데이트 또는 이들의 혼합물임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 또는 2항에 있어서, 상기 부식억제염은 알칼리 금속염임을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 내지 3항중 어느 한항에 있어서, 상기 부식억제염은 디소듐 또는 트리소듐 오르토 포스페이트염을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 내지 제3항중 어느 한항에 있어서, 상기 부식억제염은 소듐 니트리트임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 내지 3항중 어느 한항에 있어서, 상기 부식억제염은 포타슘 크로메이트임을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 내지 3항중 어느 한항에 있어서, 상기 부식억제염은 2-포스포노-부탄-1,2,4-트리카르복실산, 니트릴로 트리스(메틸렌 포스폰산) 또는 히드록시-에틸리덴 디포스폰산의 포스포 네이트임을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 위 전항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머는 거의 선형(linear)임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 위 전항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머는 프로토네이티드(protonated)또는 제4암모늄 폴리머임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제9항에 있어서, 상기 폴리머는 제4급 암모늄기를 포함하고, 에틸렌기로 불포화된 모노머에서 유도된 폴리머 또는 폴리알킬렌 폴리아민과 에티클로로히드린의 반응에 의해 또 에피클로로 히드린, 디메틸아민 및 에틸렌 디아민 또는 폴리 알킬렌 폴리아민의 반응에 의해 얻어진 폴리머임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온폴리머는 비닐 피리딘 또는 비닐이미다졸 또는 아크릴유도체에서 유도시키며 C1-C18알킬 할라이드, 벤질 할라이드 또는 디메틸 또는 디에틸 술페이트, 제3급 아민 또는 알릴화합물과 결합된 비닐벤질 클로리드와 결합시킴을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음 일반식(Ⅰ)의 반복단위 10-100mol%와 다음 일반식(Ⅱ)의 반복단위 0-90mol%를 함유시킴을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.위 식에서, R1은 수소 또는 저급알킬기, R2는 체인이 긴 알킬기, R3,R4및 R5는 각각 수소 또는 저급 알킬리, X는 음이온을 나타낸다.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 플리머는 다음식의 반복 단위를 가짐을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음 일반식의 불포화 폴리머에서 유도시킴을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.위 식에서, Z 및 Z’는 같거나 다른 -CH2CH-CHCH2- 또는 -CH2-CHOHCH2-, Y 및 Y'는 같거나 다른 X 또는 -NR’R”, X는 원자량 30이상의 할로겐원자, n은 2-20의 정수, R’및 R”(I)은 1-2히드록시기에 의해 선택적으로 치환된 C1-C18의 같거나 다른 알킬기, 또는 (Ⅱ)는 N으로 동시에 취할 때 5-7원자의 포화 또는 불포화 링(ring)을 나타내며, 또는 (Ⅲ)은 N 및 산소로 동시에 취할 때 N -모르폴리노기를 나타낸다.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 폴리(디메틸 부테닐) 암모늄클로리드 비스-(트리에타놀 암모늄 클로리드)임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식의 반복단위를 가짐을 특징으로 한 수영성계의 부식억제방법.위 식에서 R은 저급 알킬기임.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식을 가짐을 특징으로 하는 수용성계의 부식억제방법.N은 0-500의 정수임.
- 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 탄닌을 포름 알데히드 및 아민과 반응시켜 얻어진 양이온탄닌유도체임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 제1 내지 8항중 어느 항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 분자량 5000까지 가진 폴리에틸렌이민임을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 전항의 어느 항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 분자량 400-10,000을 가짐을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 전항의 어느항에 있어서, 상기 양이온 폴리머와 염은 1-50ppm의 범위에 있는 량으로 포함시킴을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 제21항에 있어서, 상기 양이온 폴리머와 염은 3-10ppm의 범위에 있는 량으로 포함시킴을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 전항중 어느 항에 있어서, 상기 양이온 폴리머와 염의 상대적량은 1:10-10:1의 중량비로 구성시킴을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 전항중 어느항에 있어서, 상기 양이온 폴리머의 농도를 상기염(salt)과 동일하게 적어도 크게함을 특징으로 한 수용성계의 부식억제방법.
- 전항중 어느 항에 있어서, 상기 수용성계는 냉각계(cooling system)임을 특징으로한 수용성계의 부식억제방법.
- 양이온 폴리머와, 양극에서 부동화필름(passivating film)을 형성할 수 있는 수용성부식억제염을 구성시킴을 특징으로 하여 수용성계에 첨가하는데 적합한 조성물.
- 제26항에 있어서, 상기 조성물이 수용액의 형태로 존재함을 특징으로 한 조성물.
- 제26또는 27항에 있어서, 활성성분(고형)을 1-25wt%의 량으로 존재시킴을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 28항의 어느 항에 있어서, 상기 염은 포스페이트, 니트리드, 크로메이트, 포스포네이트, 또는 모립데이트임을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 29항의 어느 항에 있어서, 상기염은 암모늄염이 아님을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 29항의 어느 항에 있어서, 상기염은 알칼리금속염임을 특징으로 한 조성물.
- 제31항에 있어서, 상기염은 디소듐 또는 트리소듐 오르토포스페이트 임을 특징으로 한 조성물.
- 제31항에 있어서, 상기염은 소듐 니트리트임을 특징으로 한 조성물.
- 제31항에 있어서, 상기염은 포타슘 크로메이트임을 특징으로 한 조성물.
- 제29항에 있어서, 상기염은 2-포스포노-부탄-1,2,4-트리카르복실산, 니트릴로 트리스(메틸렌포스폰산)또는 히드록시-에틸리덴 디포스폰산임을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 35항의 어느 항에 있어서, 상기 폴리머는 거의 선형(linear)임을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 36항의 어느 항에 있어서, 상기 폴리머는 프로톤네이티드(protonated)폴리머 또는 제4급 암모늄 폴리머임을 특징으로 한 조성물.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 제4급 암모늄기를 포함하는 에틸렌기로 불포화된 모노머에서 유도된 폴리머 또는 폴리알킬렌과 에피클로로히드린의 반응에 의해, 또 에피클로로 히드린, 디메틸아민 및 에틸렌 디아민 또는 폴리알킬렌 폴리아민의 반응에 의해 얻어진 폴리머임을 특징으로 한 조성물.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 비닐 피리딘 또는 비닐 이미다졸 또는 아크릴유도체에서 유도시켜 C1-C18알킬 할라이드, 벤질할라이드 또는 디메틸 또는 디에틸 술페이트, 제3급 아민 또는 알릴화합물과 결합된 비닐 벤질클로리드로 결합시킴을 특징으로한 조성물.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 다음 일반식(1)의 반복단위 10-100mol%와 다음일반식(2)의 반복단위 0-90mol%를 함유함을 특징으로한 조성물.위 식에서, R1은 수소 또는 저급 알킬기, R2는 체인이 긴 알킬기, R3,R4및 R5는 각각 수소 또는 저급 알킬리, X는 음이온, 대표적으로는 할라이드이온, 메토술페이트이온, 에토술페이트이온 또는 n가 음이온의을 나타낸다.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 다음식의 반복단위를 가짐을 특징으로 한 조성물.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 다음 식을 가진 불포화폴리머에서 유도시킴을 특징으로 한 조성물.위 식에서, Z 및 Z’는 같거나 다른 -CH2CH=CHCH2- 또는 -CH2-CHOHCH2-, Y 및 Y'는 같거나 다르며, X 또는 -NR’R”, X는 원자량 30이상의 할로겐원소, n은 2-20의 정수, R’및 R”(I)는 같거나 다른 1-2 히드록시기에 의해 선택적으로 치환된 C1-C18의 알킬기, 또는 (Ⅱ)는 N와 동시에 취할때 5-7의 원자의 포화 또는 불포화 링(ring), 또는 (Ⅲ)은 N과산소원자를 동시에 취할 때 N-모스폴리노기이다.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리(디메틸부테닐) 암모늄 클로리드 비스-(트이에타놀암모늄 클로리드)임을 특징으로 한 조성물.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 다음 식의 반복단위를 가짐을 특징으로 한 조성물.위 식에서, R은 저급알킬기.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 다음 식을 가짐을 특징으로 한 조성물.N은 0-500의 정수임.
- 제37항에 있어서, 상기 폴리머는 탄닌을 포름알데히드 및 아민과 반응시켜 얻어진 탄닌유도체임을 특징으로 한 조성물.
- 제26 내지 46항의 어느 항에 있어서, 상기 폴리머가 분자량 5000까지 가진 폴리에틸렌 이민임을 특징으로 한 조성물.
- 제36내지 47항의 어느 항에 있어서, 상기 폴리머는 분자량 400-10,000을 가짐을 특징으로 한 조성물.
- 제26내지 48항의 어느 항에 있어서, 두 성분의 상대적량은 중량비 1:10-10:1 의 범위임을 특징으로 한 조성물.
- 제26내지 제49항의 어느 항에 있어서, 상기 폴리머의 농도는 상기 염과 동일하게 최소한 크게함을 특징으로한 조성물.
- 제26내지 50항의 어느 항에 있어서, 양극에서 작용하지 아니하는 포스포네이트, 분산제, 아졸, 또는 살충제를 포함시킴을 특징으로 한 조성물.
- 제51항에 있어서, 상기 포스포네이트는 펜타포스포노메틸렌 치환 디에틸렌아민이며, 상기 분산제는 말레인산과 술포네이티드 스티렌 또는 메타아크릴산과 2-아크릴아미도-2-메틸 프로판술폰산이며, 상기아줄은 벤조트리아졸이고 상기 살충제는 이소티아졸론, 메틸렌비스(티오시아네티트), 클로린 방출제의 제4급 암모늄 화합물임을 특징으로 한 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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