KR850007820A - 수용성계(aqueous systems)의 부식방지방법 및 조성물 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

수용성계(aqueous systems)의 부식방지방법 및 그 조성물

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (58)

1. 수용성계에 음극에서 물에 불용성인 금속염의 부동태화 필름을 형성할수 있는 부식방지 금속염과 양이온폴리머를 첨가시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 부식방지염은 술페이트, 클로리드 또는 니트레이트 또는 그 혼합물임을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
3. 제1 또는 제2항에 있어서, 상기염은 아연, 닉켈, 크롬 또는 알루미늄염을 특징으로 한 수용성계의 부식방지 방법.
4. 제1 내지 2항중 어느 한항에 있어서, 상기 염은 아연 술페이트임을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
5. 제1 내지 4항중 어느 한항에 있어서, 오르토포스페이트 또는 폴리포스페이트를 첨가시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
6. 제5항에 있어서, 오르토포스페이트 또는 폴리포스페이트는 알칼리금속염임을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
7. 제5또는 6항에 있어서, 오르르토포스페이트는 디소듐 또는 트리소듐 오르토포스페이트임을 특징으로한 수용성계의 수식방지 방법.
8. 제1 내지 제7항의 어느 한항에 있어서, 폴리머는 거의 선상임을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
9. 제1 내지 8항의 어느 한항에 있어서, 폴리머는 양성자첨가(protonated)또는 제4급 암모늄 폴리머임을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리알칼렌 폴리아민과 에피클로로 히드린의 반응, 또는 에피클로로 히드린, 디메틸아민 및 에틸렌디아민 또는 폴리알킬렌 폴리아민간의 반응에 의해 얻어진 폴리머 또는 제4급 암모늄기를 포함하는 에틸렌기를 가진 본포화 모노머에서 유도된 폴리머를 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
11. 제9항에 있어서, 양이온폴리머를 비닐 피리닌 또는 비닐 이미다졸 또는 C1-C₁₈알킬 할라이드와 결합된 아크릴유도체, 벤질할라이드, 또는 디메틸 또는 디메틸 술페이트, 제3급 아민과 결합한 비닐벤질 클로라이드 및 알릴화합물에서 유도시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지 방법.
12. 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머가 다음식(1)의 반복단위 10-100mol%과 다음식(2)의 반복단위 0-90mol%를 포함함을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.

    위 식에서 R₁은 수소원자 또는 저급알킬기, R₂는 장쇄 알킬기, R₂,R₄및 R₅는 각각 수소원자 또는 저급알킬기, X는 음이온을 나타냄.
13. 제9항에 있어서, 상기 폴리머는 다음식의 반복단위를 가짐을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
14. 제9항에 있어서, 상기 양이온폴리머는 다음식의 불포화폴리머에서 유도시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.

    위 식에서, Z 및 Z′ 는 같거나 다르며, -CH₂CH=CHCH₂- 또는 -CH₂-CHOCHCH₂- Y 및 Y′는 같거나 다르며 X 또는 -NR′R″, X는 원자량 30이상의 할로겐 원자, n은 2-20의 정수, R′ 및 R″(I)는 1-2 히드록시기에 의해 선택적으로 치환된 탄소수 1-18의 같거나 다른 알킬기, 또는 (II)는 N과 동시에 취할 때 5-7원자의 포화 불포화 링(ring), 또는 (III)은 N과 산소원자를 동시에 취할 때 N-포르폴리노기이다.
15. 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 폴리(디메틸부테닐)암모늄 클로리드 비스-(크리에타놀 암모늄클로리드)임을 특징으로 한 수용성계의 부식방지방법.
16. 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식의 반복단위를 가짐을 특징으로 한 수용성계의 부식방지방법.

    위 식에서 R₂및 R₃는 저급 알킬기임.
17. 제9항에 있어서, 양이온 폴리머는 다음식을 가짐을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.

    N은 0-500임
18. 제9항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 탄닌과 포름 알데히드 및 아민을 반응시켜 얻어진 양이온 탄닌유도체임을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
19. 제8항에 있어서, 상기 양이온폴리머는 분자량 5000까지 갖고 있는 폴리에틸렌이민임을 특징으로 한 수용성계의 부식방지방법
20. 제1 내지 제19항중 어느 한항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 분자량 400-10000을 갖고 있음을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
21. 제1내지 20항중 어느 한항에 있어서, 상기 양이온 폴리머와 염이 1-50ppm의 량으로 존재함을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
22. 제21항에 있어서, 상기 양이온 폴리머와 염은 1-10ppm의 량으로 존재시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
23. 제22항에 있어서, 오르토포스페이트를 첨가시키고, 상기 양이온폴리머와 염을 1-3ppm의 량으로 존재시킴을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
24. 제1항 내지 제23항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머와 염의 상대량은 중량비의 범위를 가짐을 특징으로 한 수용성계의 부식방지방법.
25. 제1 내지 제24항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머의 농도는 최소한 상기염의 농도와 동일하게 커짐을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
26. 제1 내지 제25항의 어느 한항에 있어서, 상기 수용성계는 냉각계임을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
27. 제1항에 있어서, 실시예중 어느한 실시예에서 기술한 것과 거의 동일함을 특징으로한 수용성계의 부식방지방법.
28. 양이온 폴리머와 상기 금속의 불용성염의 부동태화 음극필름을 형성할수 있는 수용성 부식방지금속염을 구성함을 특징으로한 수용성계를 첨가하는데 적합한 조성물.
29. 제28항에 있어서, 수용액의 형태로 있음을 특징으로한 조성물.
30. 제28항 또는 29항에 있어서, 활성성분(고형)을 1-25wt%의 량으로 존재시킴을 특징으로한 조성물.
31. 제28내지 30항중 어느 한항에 있어서, 상기 염은 풀페이트 클로리드 또는 디트레이트임을 특징으로한 조성물.
32. 제28내지 31항중 어느 한항에 있어서, 상기염은 암모늄염이 아님을 특징으로한 조성물.
33. 제28 내지 31항중 어느 한항에 있어서, 상기염은 아연, 닉켈, 크롬 또는 알루미늄염임을 특징으로한 조성물.
34. 제33항에 있어서, 상기염은 아연 슬페이트임을 특징으로한 조성물.
35. 제28 내지 34항중 어느 한항에 있어서, 오르토포스페이트 또는 폴리포스페이트를 구성함을 특징으로한 조성물.
36. 제35항에 있어서, 오르토포스페이트 또는 폴리포스페이트는 알칼리금속염임을 특징으로한 조성물.
37. 제36항에 있어서, 사이 오르토포스페이트는 디소듐 또는 트리소듐 오르토포스페이트임을 특징으로한 조성물.
38. 제27 내지 37항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머는 거의선상(linear)임을 특징으로한 조성물.
39. 제28 내지 38항중 어느 한항에 있어서, 상기 폴리머는 양성자 첨가 또는 제4급 암모늄 폴리머임을 특징으로한 조성물.
40. 제39항에 있어서, 상기 폴리머는 제4급 암모늄기를 포함하는 에틸렌기를 가진 불포화 모노머에서 유도된 폴리머 또는 폴리알킬렌과 이피클로로히드린 사이의 반응 또는 에피크로로히드린, 디메틸아민 및 에틸렌 디아민 또는 폴리아킬렌 폴리아민 사이의 반응에 의해 얻어진 폴리머임을 특징으로한 조성물
41. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 비닐피리딘 또는 비닐이미다졸 또는 C₁-C₁₈알킬할하이드와 결합된 아크릴유도체, 벤질할라이드, 또는 디메틸 또는 디에틸술페이트, 제3급 아민과 결합한 비닐벤질클로라이드, 또는 알릴화합물에서 유도시킴을 특징으로한 조성물.
42. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식(1)의 반복단위 10-100mol%와 다음식(2)의 반복단위 0-90mol%를 포함함을 특징으로한 조성물.

    위 식에서, R₁는 수소 또는 저급알킬기, R₂는 장쇄 알킬기, R₃,R₄및 R₅는 각각 수소 또는 저급알킬기, X는 음이온이다.
43. 제39항에 있어서, 상기 폴리머는 다음식의 반보단위를 가짐을 특징으로한 조성물.
44. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식의 불포화폴리머에서 유도시킴을 특징으로한 조성물,

    위 식에서, Z 및 Z′는 같거나 다르며, -CH₂CH=CHCH₂-또는 CH₂-CHOCH₂-, Y 및 Y′는 같거나 다르며, X 또는 -NR′R″, X는 원자량30 이상의 할로겐, n은 2-20정수, R′ 및 R″(I)은 1-2히드록시기에 의해 선택적으로 치환된 C₁-C₁₈의 같거나 다른 알킬기, 또는 (II)는 N와 동시에 취할 때 5-7원자의 포화 또는 불포화 링(ring), 또는 (III)은 N과 산소원자를 동시에 취할 때 N-모르폴리노기를 나타낸다.
45. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 폴리(디메틸부테닐)암모늄 클로라이드 비스-(트리에타놀 암모늄클로라이드)임을 특징으로한 조성물.
46. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식의 반복단위를 가짐을 특징으로한 조성물.

    위 식에서, R₂및 R₃는 저급알킬기임.
47. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 다음식을 가짐을 특징으로 한 조성물.

    N은 0-500임.
48. 제29항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 탄닌을 포름알데히드와 아민을 반응시켜 얻어진 양이온 탄닌유도체임을 특징으로한 조성물
49. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 5000까지의 분자량을 가진 폴리에틸렌이민임을 특징으로한 조성물.
50. 제39항에 있어서, 상기 양이온 폴리머는 400-10000의 분자량을 가짐을 특징으로한 조성물.
51. 제 28내지 50항중 어느 한항에 있어서, 두 성분의 상대량은 중량비가 1:10 10:1임을 특징으로한 조성물.
52. 제51항에 있어서, 오르토포스페이트를 포함하며 상기 두성분의 상대량은 중량비 2:1-1:2임을 특징으로한 조성물.
53. 제28 내지 52항중 어느 한항에 있어서, 폴리머의 농도는 저어도 상기 염의 농도와 동일하게 큼을 특징으로 한 조성물.
54. 제28 내지 53항중 어느 한항에 있어서, 카르복실산기와 포스폰산기인 3산기를 포함하며, 적어도 그 하나가 포스폰산기이고, 또 카르복실산기 이며, 적어도 상기 3산기가 탄소원자에 결합되는 포스포네이트, 분산제, 아졸, 또는 살균제를 포함하는 조성물.
55. 제54항에 있어서, 상기 포스포네이트는 2-포스포노-부탄-1,2,4-트리카르복실산임을 특징으로한 조성물.
56. 제28 내지 55항중 어느 한항에 있어서, 제50항에서 다른 포스포네이트를 포함함을 특징으로한 조성물.
57. 제54항에 있어서, 상기 포스포네이트는 펜타포스포노메틸렌치환 디에틸렌트리아민이고, 상기 분산제는 말레인산과 술포네이티드 스티렌 또는 메타크릴산과 2-아크릴아미도-2-메틸프로판 술폰산의 공중합체이며, 상기 아졸은 벤조트리아졸이며 상기 살균제는 이소티아졸론 메틸렌비스(티오시아네이트), 제4급 암모늄 화합물 또는 염소방출제임을 특징으로한 조성물.
58. 제28항에 있어서, 실시예의 어느 한 실시예에서와 실제로 동일함을 특징으로한 조성물.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.