KR850000600B1 - 전주장치(電鑄裝置) - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

전주장치(電鑄裝置)

제1도는 평행하게 배설된 봉상(棒常)전극에 의한 전주가공(電鑄加工)을 나타낸 단면도.

제2도는 내지 제4도는 본 발명의 1실시예를 나타낸 것으로,

제2도는 전주장치의 사시도.

제3도는 전극호울더의 평면도.

제4도는 제3도의 Ⅳ-Ⅵ선에 의한 단면도.

제5도는 본 발명의 장치에 의한 전주가공을 나타낸 단면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호 설명

1 : 봉상전극 2 : 전주모형(母型)

3 : 전착층(電着層) 6 : 전극호울더

6a : 참버부재 6c : 보지부재(保持部材)

본 발명은 금형(金型) 또는 방전가공(放電加工)용 전극등을 전주법(電鑄法)에 의해 제조하는 전주장치의 개량에 관한 것이다.

일반적으로 전주법에 의한 전착층의 가공은 소요의 형상으로 형성된 전주모형(電鑄母型)(이하 모형이라함)을 음극으로 하고, 동판등의 주전극(主電極)을 양극으로 하여 이것을 전착액(電着液)중에서 대향시켜 통전시킴으로써 모형면에 전착층을 형성시키는 것으로 모형의 요부등에 전착층이 형성되기가 어려운 부분에는 모형의 요철형상에 유사하도록 다수의 봉상부재를 보조전극으로 하여 배설시켜 전착층이 균일한 두께로 되도록 배려하였다. 또, 봉상부재를 다수 배설하여 이것을 주전극으로 하는 전주장치도 사용되고 있어 이 경우에는 동판등을 별도로 설치할 필요가 없다.

이와 같이 하여 모형면상에 형성된 전착층은 전착층 부분만을 모형에서 박리하면 그 박리면(剝離面)이 모형과 동일한 형상으로 되는 것을 이용하여 그 제조방법을 반복함으로써 동일형상의 다수의 금형 또는 방전가공용 전극등을 얻을 수 있다.

제1도는 모형에 대향하여 봉상전극이 배설된 종래 장치의 요부를 나타낸 것으로 도시에서와 같이 다수의 봉상전극(1)의 모형(2)의 요부(2a)에 상하방향으로 평행하게 병열시켜 배치되어 있다.

이때 모형(2)에 형성되는 전착층(3)은 모형(2)의 돌출부(2b)에 다량의 금속이 석출되어 전착층(3)이 두텁게 형성됨과 동시에 구석(2c)에는 금속석출이 어려워 전착층(3)은 약간만이 형성된다. 또 돌출부(2b)에서의 금속석출이 진행되면 그 석출부가 접근위치에 배설된 전극(1)과 접촉하여 단락(短絡)하며 그 다음에 전주가공을 계속할 수 없는 결점이 있었다. 이들의 결점을 피하기 위해서는 봉상전극(1)을 적당히 절단하거나 또는 절곡하여 전극(1)이 모형(2)의 돌출부(2b)에서 멀리 떨어지고 구석(2c)에 접근하도록 배설함으로써 균일한 두께의 전착층(3)을 얻도록 하였다.

그런데 위와 같이 절단된 전극(1)은 절단에 의해 그 효과가 없으며, 또 절곡작업에 있어서는 전극(1)이 갖고 있는 스프링백(spring back)을 고려하여 소정의 위치로 절곡하기가 어려우며 또 절곡에 의한 피로에의해 절단되므로 전극(1)의 배설작업은 극히 복잡하고 어려웠다.

본 발명은 위와 같은 종래의 결점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 봉상전극을 보지하는 전극로울러를 그 보지부에 전극이 진퇴(進退)할 수 있음과 동시에 보지부를 지점으로 하여 임의의 방향으로 경사가 되도록 구성하여 용이하게 봉상전극을 모형형상에 대응한 소요의 위치로 배설할 수 있으며, 균일전착층이 형성될 수 있는 전주장치를 제공함을 목적으로 한다.

다음에 본 발명의 1실시예를 제2도-제5도에 의해 설명한다.

제2도는 전주장치의 실시도, 제3도는 전극호울더의 평면도, 제4도는 제3도의 Ⅳ-Ⅳ선 단면도, 제5도는 전착층의 형성상태를 나타낸 단면도이다. 도면에서, (2)는 소요의 형상으로 형성된 모형으로 그 모형(2)은 전착조(4) 내부에 설치된 모형대(母型台)(5)상에 고정되어 있다. (1)은 티타늄재(材)에 백금도금을 한 여러개의 전극으로 전극호울더(6)에 지지되고, 모형(2)과 대향하여 배설되어 있다. (7)은 직류전원으로 ++전위측(+電位側)이 호울더(6)를 통하여 각각의 전극(1)에, 또 -전위측이 모형(2)에 접속되어 있다.

(8)은 전착액의 공급관으로 그 관(8)에서 전극(1)과 모형(2)의 대향부에 전착액이 분사하여 공급된다.

또 전착액은 황산동(CuSO₄·5H₂O)과 황산(H₂SO₄)이 혼입된 용액으로 전착액 1ℓ중에는 수 10g의 이온(ion)(Cu⁺⁺이온)이 함유되고 있고, 동(Cu)이온이 -전위의 모형(2) 표면에 석출되어 전착층으로 된다.

동(Cu)이온식 석출에 의해 전착액은 농도가 감소하나 황산동 결정을 차례로 용해시킴으로써 소정의 농도로 유지된다.

다음으로, 전극호울더(6)의 구성에 대하여 제3도 및 제4도를 참조하여 상술한다.

(6a)는 원주상의 참버부재로, 그 단부에 각각 봉상전극(1)의 협지부(6b)가 대향하여 설치되어 있다.

(6c)는 참버부재(6a)의 원주상 외주부에 접촉되어 참버부재(6a)를 보지하는 보지부재, (6d)는 보지부재(6c)에 배설되고 그 선단부가 참버부재(6a)에 접촉하는 고정볼트로서, 참버부재(6a)의 방향으로 진퇴(進退)하여 참버부재(6a) 서로를 단단히 부착시켜 고정한다. 그리고 전극호울더(6)는 고정볼트(6d)를 흐슨하게 한 상태에서 대향하고 있는 한쌍의 참버부재(6a)의 협지부(6b)에 적당한 봉산전극(1)을 삽입하여 상하방향의 위치를 조정함과 동시에 참버부재(6a)를 보지부재(6c)와의 접촉면에 따라 접동하면서 회동시킴으로써 봉상전극(1)을 각각 소요의 방향으로 경사시킨다. 그 다음 고정볼트(6d)를 단단히 조르게 함으로써 봉상전극(1)이 소요의 배치위치로 고정된다. 또 전극호울더(6)를 도전재(導電材)에 의해 제작함으로써 전극(1)의 통전은 직류직원(7)의 +전위측 리이드선(lead wire)을 전극호울더(6)에 접속할뿐 각 봉상전극(1)에 각각 접속하는 조작을 생략할 수 있으므로 작업능률을 향상시킬 수 있다.

제5도는 소정의 경사를 가지고 배설된 봉상전극(1)에 의해 전착층(3)이 형성된 상태를 나타낸 것으로 전극(1)은 금속의 석출이 용이한 모형(2)의 돌출부(2b)에서는 멀리 있게, 금속의 석출이 어려운 구석(2c)에서는 가까이 있도록 배설시켜 전작층(3) 두께의 균일성을 향상시킨다.

또, 위 실시예에서는 봉상전극(1)을 협지하는 참버부재(6a)가 원주상의 경우에 대해서 표시하였으나 이것을 각각 반구상(半球狀)으로 형성하여 한쌍의 반구상 참버부재를 대향시켜 전극(1)을 협지함과 동시에 대향함으로 구상으로 된 참버부재의 외주부를 보지부재(6c)가 보지하도록 구성하면 봉상전극(1)은 구상참버부재를 지점으로 하여 임의의 방향으로 경사회동이 가능하게 된다.

또, 위 장치에서 전극(1)은 봉상동재를 사용하여도 위 실시예에 의한 효과를 나타낼 수 있으나 특히 티타늄재를 사용하는데 있어서는 전극자체가 소모되지 않으며 반영구적으로 이것을 사용할 수 있으므로 모형(2)에 대하여 최초로 배설한 전극위치로 반복하여 전주가공을 할 수 있고 그만큼 작업이 용하여진다.

이상과 같이 본 발명은 봉상전극을 보지하는 전극호울더를 전극이 진퇴가능하게 협지되는 한쌍의 참버부재와, 그 참버부재가 회동가능하게 보지되는 보지부재에 의해 구성함으로써 전극은 절단이나 절곡등의 조작을 하지 아니하여도 진퇴되며, 참버부재를 지점으로 하여 경사시킬 수 있으므로 전극을 모형형상으로 대응한 소요위치에서 간단한 조작에 의해 배설될 수 있는 효과가 있다.

Claims (3)

1. 전주모형(電鑄母型)(2)에 대향하여 배설된 여러개의 봉상전극(1)과, 그 전극을 보지하는 전극호울더(holder)(6)를 구비한 전주장치에 있어서, 전극호울더(6)는 전극(1)을 진퇴가능하게 협지하는 한쌍의 참버부재(6a)와 그 참버부재(6a)를 회동가능하게 보지하는 보지부재(6c)에 의해 구성됨을 특징으로 하는 전주장치.
2. 제1항에서 전극호울더(6)는 도전재(導電材)에 의해 구성됨을 특징으로 하는 전주장치.
3. 제1항에서 전극(1)에는 티타늄재가 사용됨을 특징으로 하는 전주장치.

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