KR840008350A - 벤조푸라논의 제조방법 - Google Patents

벤조푸라논의 제조방법 Download PDF

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KR840008350A
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alkyl
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벤크 폴 (외 2)
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아놀드 자일러.에른스트 알테르
시바-가이기 에이지
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    • C07D307/82—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
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Abstract

내용 없음.

Description

벤조푸라논의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 일반식(II) 화합물 또는 그의 염에서 X를 하이드록시고 전환시키고, 필요하면, 수득하는 염을 유리 화합물 또는 다른 염으로 전환시키고 및/또는, 필요하면, 수득하는 유리화합물을 다른 유리화합물 또는 염으로 전환시키고 및/또는, 필요하면 수득하는 이성체 혼합물을 개별 이성체로 분리시킴을 특징으로하여 일반식(I)의 벤조푸라논 및 그의 염, 호변이성체 및/또는 이성체를 제조하는 방법.
    상기식에서, R1은 수소 또는 지방족 라디칼을 나타내며, R2은 이가 탄화수소 라디칼로 이치환된 아미노 그룹을 나타내고, 방향족환 A는 추가로 치환될 수 있으며, X는 하이드록시로 전환될 수 있는 라디칼을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 출발물질로서, X가 에스테르화 하이드록시 그룹, 에테르화 하이드록시 또는 멀캅토그룹, 또는 임의 치환된 아미노그룹을 나타내는 일반식(II)화합물 또는 그의 염을 사용함을 특징으로하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 출발물질로서 X가 저급 알콕시를 나타내는 일반식(II)화합물 또는 그의 염을 사용함을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1 내지 3항의 어느 하나에 있어서, 일반식(II)화합물을 광산 또는 루이스산으로 처리함을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 반응조작을 유기용매중에서 수행함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 출발물질로서, X가 할로겐을 나타내는 일반식(II) 화합물을 사용함을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1 내지 6항중 어느 하나에 있어, X가 할로겐을 나타내는 일반식(II)화합물을 산 및 중금속염으로 처리함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어, R1이 수소 또는 포화되고 비치환된 지방족 라디칼을 나타내며 R2는 아자, N-저급알칼아자, 옥사 또는 티아에 의해 차단될 수 있는 이가 지방복 라디칼에 의해 이치환된 아미노 그룹을 나타내고, 방향족환 A는 지방족라디칼, 저급알콕시, 저급알킬티오, 저급알칸설피닐, 저급알칸설포닐, 하이도록시, 할로겐, 저급 알카노일옥시, 저급 알카노일 및/또는 니트로에 의해 추가로 단일-또는 디-치환되거나 R2를 제외하고는 더 이상 치환되지 않은 일반식(I)화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서, R1이 수소 또는 저급알킬을 나타내며, R2는 저급알칼렌, 저급알케닐렌, 아자-저급알킬렌, N'-저급알킬이자-저급 알킬렌, 이자-저급 알케닐렌, N'-저급알킬 아자 -저급 알페닐렌 또는 옥사-또는 티아-저급 알페닐렌으로 이치환된 아미노 그룹을 나타내고, 이때 저급알킬렌 또는 저급 알케닐렌은 각각 탄소수 4 내지 10이며 또한 분지될 수 있으며, 하나 또는 두개의 벤조시스템과 오르토-융합될 수 있으며, 방향족환 A는 저급 알킬, 하이드록시-저급 알킬, 할로-저급알킬, 저급 알케닐, 임의 축쇄화 3-또는 4-원 알킬렌, 저급알콕시, 저급 알킬티오, 저급알칸설피닐, 저급알칸설포닐, 하이도록시, 할로겐, 저급알카노일옥시, 저급알카노일 및/또는 니트로에 의해 추가로 단일-또는 디-치환되거나, R2를 제외하고는 더 이상 치환되지 않은 일반식(I) 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  10. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서, 일반식(Ia) 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
    상기식에서, R1은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, R2는 각각 5-내지 8-원인, 저급 알킬렌아미노, 저급알케닐렌아미노, 아자-저급 알킬렌아미노, N'-저급알킬아자-저급알킬렌아미노, 아자-저급 알케닐렌아미노, N'-저급알킬아자-저급알케닐렌아미노, 옥사-또는 티아-저급 알킬렌아미노, 이소인돌-2-일, 이소인돌린-2-일, 인돌린-1-일 또는 인돌-1-일을 나타내고, Ra, Rb및 Rc는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬, 하이드록시-저급알킬, 할로-저급알킬, 저급알케닐, 저급알콕시, 저급알킬티오, 저급알칸설피닐, 저급 알칸설포닐, 하이드록시, 할로겐, 저급 알카노일옥시, 저급알카노일 또는 니트로를 나타내거나, Ra와 Rb는 함께 3-또는 4-원 알킬렌을 나타내고, Rc는 Rc에 관해 상기된 바와 같다.
  11. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서, R1이 수소 또는 탄소수 4 이하의 저급알킬을 나타내며, R2는 1-피롤릴, 3-피롤린-1-일, 피롤리딘-1-일 또는 피페리딘-1-일을 나타내고, Ra및 Rc는 각각 수소를 나타내며 Rb는 탄소수 4 이하의 저급알킬 또는 원자번호 35이하의 할로겐을 나타내는 일반식(Ia)화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서, R1이 탄소수 4 이하의 저급알킬을 나타내며, R2는 5-내지 8-원 저급알케닐렌아미노를 나타내고, Ra, 및 Rc는 수소를 나타내며, Rb는 탄소수 4 이하의 저급알킬을 나타내는 일반식(Ia)화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  13. 제1 내지 7항중 어느 하나에 있어서 3,5-디메틸-6-(피롤-1-일)-벤조푸린-2(3H)-온 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840002122A 1983-04-22 1984-04-21 벤조푸라논의 제조방법 KR840008350A (ko)

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