KR840001966A

KR840001966A - 푸란의 제조방법

Info

Publication number: KR840001966A
Application number: KR1019820004866A
Authority: KR
Inventors: 벤크(외 2) 폴
Original assignee: 아놀드 세일러, 에른스트 알테르; 시바-가이기 에이지; 에른스트 알테르
Priority date: 1982-10-28
Filing date: 1982-10-28
Publication date: 1984-06-07

Abstract

내용 없음

Description

푸란의 제조방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims

(a)하기 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 그 염을 폐환시키거나, 또는(b) 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물 또는 그 염 또는 그 이성체에서 Y를 일반식그룹으로 전환시키거나, 또는 (c)하기 일반식(Ⅳ)의 화합물 또는 그 염 또는 그 이성체에서 X₅를 R₂로 전환시키거나, 또는 (d)하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그 염에서 Z를 카보닐 그룹으로 전환시키거나, 또는 (e) 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물 또는 그 염에서 환 A'를 환 A로 전환시키고 및/또는 필요한 경우, 제법에 의해 수득될 수 있는 염을 유리 화합물 또는 다른 염으로 전환시키고, 제법에 의해 수득될 수 있는 유리 화합물을 다른 유리 화합물 또는 그 염으로 전환시키고 및/또는 필요한 경우, 제법에 따라 수득될 수 있는 이성체 혼합물을 그 성분으로 분리시킴을 특징을 하여 하기 일반식 (Ⅰ)의 벤조푸라논 또는 그 염 또는 그 이성체를 제조하는 방법.

상기식에서, R₁은 수소 또는 지방족 라디칼을 나타내고, R₂는 2가의 탄화수소 라디칼에 의해 2-치환된 아미노 그룹을 나타내고, 방향족 환 A는 추가 치환될 수 있으며, X₁은 식 CH(R₂)-x₃(여기서 x₃는 카복시 또는 기능적으로 변형된 카복시를 나타낸다)의 그룹을 나타내며, x₂는 하이드록시 또는 기능적으로 변형된 하이드록시를 나타내거나, 또는 x₁은 수소를 나타내고 X₂는 식-O-CO-CH(R₁)-R₄(여기서 x₄는 하이드록시 또는 기능적으로 변형된 하이드록시를 나타낸다)그룹을 나타내고, Y는 식그룹으로 전환될 수 있는 라디칼을 나타내고, x₅는 R₂로 전환될 수 그룹을 나타내고, Z는 카보닐그룹으로 전환될 수 있는 그룹을 나타내고, 환A'는 환 A로 전환될 수 있는 환이다.
제1항에 있어서, Y가 식그룹을 나타내는 일반식(Ⅲ)의 화합물을 탈카복실화시키거나, 또는 Y가(여기서 R₁은 2가의 지방족 라디칼을 나타낸다) 또는 그 토우토머 형태를 나타내는 일반식(Ⅲ)의 화합물에서 이중 결합을 환원시키거나 또는 Y가 식(여기서 x₁₁은 하이드록시, 알킬티오, 디알킬아미노 또는 각각의 페닐부위는 임의로 치환될 수 있는 디페닐설파모일을 나타낸다)글부을 나타내는 일반식(Ⅲ)의 화합물 또는 Y가 카바모일을 나타내는 일반식(Ⅲ)의 화합물을 환원제를 사용하여 X를 식그룹으로 전환시킴을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서 A₁이 저급 알킬렌, 또는아자, N-저급알킬아자, 옥사 또는 티아에 의해 차단된 저급알킬렌, 또는 아자, N-저급알킬아자, 옥사 또는 티아에 의해 차단된 저급 알킬리덴을 나타내고 X₇이 하이드록시 또는 반응성 에스테르화된 하이드록시를 나타내는 일반식(Ⅳ)의 화합물을 염기로 처리하거나, 또는 X₅가 아미노를 나타내는 일반식(Ⅳ)의 화합물에서 2,5-의 -저급알콕시 테트라하이드로푸란과 반응시키거나 또는 2-부텐1,4-디올 또는 그의 반응성 에스테르화된 유도체와 반응시키고 얻어지는 피롤린-1-일을 탈수소화제 존재하에 탈수화시키거나 또는 1,4-디옥소부탄과 반응시켜 피롤환 R₂를 도입시키거나, 또는 X₅가 R₂에 의해 대치될 수 있는 라디칼을 나타내고 하나의 -Ⅰ 또는 M효과를 갖는 적어도 하나의 치환치를 X₅에 인접한 위치에 지니는 일반식(Ⅳ)의 화합물에서 친핵성 아민 R₂-H를 도입시키거나, 또는 X₅가 수소이고 하나의 -I 또는 -M효과를 지니는 적어도 하나의 치환제가 x₅에 인접한 위치에 존재하는 일반식(Ⅳ)의 화합물을 산화제로 우선 처리한 후 이어서 친핵성아민 R₂-H로 처리함을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 가 메틸렌 그룹을 나타내는 일반식(Ⅴ)의 화합물에서 산화제를 사용하여 산화시켜 Z를 카보닐 그룹으로 전환시키거나, 또는 Z가 티오카보닐 또는 임의로 N-치횐된 이미노- 메틸렌을 나타내는 일반식(Ⅴ)의 화합물에서 가수분해시켜 Z를 카보닐 그룹으로 전환시킴을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱb)의 화합물을 일반식 R₂H(Ⅱc)로 표시되는 아민 또는 그의 산부가염과 반응시킴을 특징으로 하여 하기 일반식(Ia)의 화합물을 제조하는 방법.

상기 식들에 있어서, R₁은 메틸을 나타내고, R_a,R_b및 R_c는 수소 또는 저급 알킬을 나타내거나, 또는 R_a와 R_b는 함께 3원 또는 4원 알킬렌을 나타내고 R_c는 전술한 바와 같으며, R₂는 상기에서 정의한 바와 같다.
제1항 내지 5항중의 어느 하나에 있어서, R₁이 수소 또는 저급 알킬을 나타내고, R₂가 저급알킬렌, 저급알케닐렌, 아자- 저급알킬렌, N'-저급알킬 아자-저급 알킬렌, 아자-저급 알케닐렌, N'-저급 알킬아자-저급알케닐렌, 또는 옥사-또는 티아저급 알케닐렌을 나타내고 저급 알킬렌 및 저급 알케닐렌은 각각 탄소수 4내지 10이며 측쇄일수도 있으며 또한 하나 또는 두 개의 벤조시스템과 융합될 수도 있으며, 방향족 환 A는 저급 알킬, 하이드록시-저급알킬, 할로-저급알킬, 저급 알케닐, 임의로 분지된 3-또는4-원의 알킬렌, 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 저급 알칸설피닐, 저급 알칸설포닐, 하이드록시, 할로겐 저급알카노일옥시, 저급알카노일 및/또는 니트로에 의해 추가적으로 모노 또는 폴리 치환되거나 또는 R₂를 제외하고는 비치환될 수 일반식(I)의 화합물 및 그 염 특히 약제학적으로 허용되는 염 및 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서, R₁이 수소 또는 저급 알킬을 나타내고 R₂는 각 경우에 5내지 8원인 저급 알킬렌아미노, 저급알케닐렌아미노, 모노아자-저급 알킬렌아미노, N'-저급 알킬모노아자-저급 알킬렌아미노, 모노옥사-저급 알킬렌아미노, 모노티아- 저급알키렌아미노, 모노아자-저급알케닐렌아미노, 또는 N`-저급알킬아자- 저급알케닐렌아미노를 나타내고, R_a,R_b및 R_c가 각각 독립적으로 수소, 저급알킬, 저급알콕시, 하이드록시, 할로겐, 저급알카노일옥시 또는 트리플루으로 메틸을 나타내거나 또는 R_a는 R_b와 함께 3- 또는 4-원의 알킬렌을 나타내고 R_c상기에서 정의한 바와 같은 일반식 (Ia)의 화합물 및 그 염 및 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서 제 1항에 따른 하기 일반식(Ia)의 화합물 또는 그 염 특히 약 제학적으로 허용되는 염 및 그 이성체를 제조함이 특징인방법

상기 식에서, R₁은 수소 또는 저급 알킬을 나타내고, R₂는 각 경우에 5내지 8원인 저급알킬렌아미노, 저급알케닐렌아미노, 아자-저급알킬렌아미노, N'-저급알킬 아자-저급 알킬렌아미노, 아자-저급알케닐렌아미노, N'-저급알킬아자-저급알케닐렌아미노, 옥사-또는 티아-저급 알킬렌아미노, 이소인들-2-2일, 이소인돌린-2-일, 인돌린-1-일 또는 인돌 -1-일을 나타내고, R_a,R_b및 R_c는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬, 하이드록시- 저급알킬, 할로-저급알킬, 저급 알케닐, 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 저급알칸설피닐, 저급알칸서포닐, 하이드록시, 할로겐, 저급알카노일옥시, 저그발카노일, 또는 니트로를 나타내거나, 또는 R_c가 R_a와 함께 3-또는 4-원의 알킬렌을 나타내고 R_c는 R_a에 대해 상기 정의된 바와 같다.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서, R_b이 수소 또는 탄소수 4까지의 저급 알킬을 나타내고, R₂가 1-피롤릴, 4-몰포리닐, 3-피롤린-1-일, 또는 비측쇄 4-내지 6원의 알킬렌아미노를 나타내고, R_a및 R_c는 각각 수소를 나타내고, R_b는 수소 또는 탄소수 4까지의 저급알킬 또는 원자번호 35까지의 할로겐을 나타내거나, 또는 R_c는 수소를 나타내고, R_a및 R_b가 함께 3-또는 4-원의 알킬렌을 나타내거나 또는 R_a및 R_b중의 하나는 원자번호 35까지의 할로겐을 나타내고 다른 하나는 탄소수 4까지의 저급 알킬을 나타내는 일반식(Ia)의 화합물 및 그 염, 특히 약제학적으로 허용되는 염 및 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서, R₁이 수소 또는 탄소수 4까지의 저급 알킬을 나타내고 R₂가 5내지8원의 알킬렌아미노, 5내지8원의 저급 알케닐렌아미노, 또는 모노옥사- 저급알킬렌아미노를 나타내고, R_a및 R_c는 수소를 나타내고 R_b는 수소ㅡ 탄소수 4까지의 저급 알킬 또는 원자번호 35까지의 할로겐을 나타내는 일반식(Ia)의 화합물 및 그염 및 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서 5-클로로 -3-메틸-6-몰포리노벤조푸란-2(3H)-은또는 그 염 또는 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항내지 제5항 중의 어느 하나에 있어서, 5-클로로-3-메틸-6-(피페리딘-1-일)-벤조푸란-2(3H)-은 또는 그 염 또는 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서, 3,5-디메틸-6-(피롤-1-일)-벤조푸란-2(3H)=은 또는 그 염 또는 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제 5항중의 어느하나에 있어서, 5-클로로-3-메틸-6-(피롤-1-일)벤조푸란-2(3H)-은 또는 그 염 또는 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제5항중의 어느 하나에 있어서, 3,5-디메틸-6-(피페리딘-1-일)-벤조푸란-2(3H)-은 또는 그 염 또는 그 이성체를 제조함이 특징인 방법.
제1항 내지 제 15중의 어느 하나에 따른 화합물을 통상의 부형제 또는 담체와 혼합함을 특징으로 하여 약제학적 제제를 제조하는 방법.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.