KR840004345A - 피라졸 유도체 및 그것의 제조방법과 유효성분으로서 그것을 함유하는 선택적인 제초조성물, 그리고 그것을 사용하여 잡초를 제거하고 억제하는 방법. - Google Patents
피라졸 유도체 및 그것의 제조방법과 유효성분으로서 그것을 함유하는 선택적인 제초조성물, 그리고 그것을 사용하여 잡초를 제거하고 억제하는 방법. Download PDFInfo
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- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (11)
- 탈수소화할로겐화제의 존재하에 불활성용매에서 일반식(Ⅱ) :(상기 식에서, Y는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기, 페닐기, 저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m은1내지 3의 정수인데, 상기 Y는 m이 2 또는 3일 때 같거나 다르다)의 화합물을 일반식(Ⅲ) :(상기 식에서, Hal은 할로겐원자를 의미하며: A는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고: X는 할로겐원자, 니트로기, 저급알킬기, 저급할로 알킬기, 저급알콕시기, 저급할로알콕시기,저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기X는 n이 2 내지 5의 정수일 때 같거나 다르다)의 화합물과 반응시키는 것을 포함하는 일반식(Ⅰ):(상기 식에서, A,X,n,Y 및 m은 앞서 정의한 바와 같다)의 화합물의 제조방법
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)과(Ⅱ)의 화합물들 각각의 벤조일 부분이 2,4-디클로로벤조일인 방법
- 일반식(Ⅱ):(상기 식에서,Y는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기, 페닐기, 저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸기를 의미하고, m은 1 내지 3의 정수인데, 상기 Y는 m이 2 또는 3일때 같거나 다르다.)의 화합물을 할로겐화제를 사용하여 할로겐화한 다음, 생성된 화합물을 염기성 물질의 존재하에 불활성용매에서 일반식(Ⅳ):(상기 식에서, A는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고: X는 할로겐원자, 니트로기, 저급알킬기,저급할로알킬기, 저급알콕시기, 저급할로알콕시기, 저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르 보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기X는 n이 2 내지 5의 정수일 때 같거나 다르다.)의 화합물과 반응시키는 것을 포함하는 일반식(Ⅰ):(상기 식에서, A,X,n,Y 및 m은 앞서 정의한 바와 같다)의 화합물의 제조방법
- 제3항에 있어서, 일반식(Ⅰ)과(Ⅱ)의 화합물들 각각의 벤조일 부분이 2,4-디클로로벤조일인 방법
- 일반식(Ⅱ):(상기 식에서,Y는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기, 페닐기, 저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸을 의미하며, m은 1 내지 3의 정수인데, 상기 Y는 m이 2 또는 3일때 같거나 다르다.)의 화합물을 일반식(Ⅴ):(상기 식에서,Q는 저급알킬술포닐옥시기 또는 아릴술포닐옥시기를 의미하며: A는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고: X는 할로겐원자, 니트로기, 저급알킬기, 저급할로알킬기,저급알콕시기, 저급할로알콕시기, 저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기X는 n이 2 내지 5의 정수일 때 같거나 다르다)의 화합물과 반응시키는 것을 포함하는 일반식(Ⅰ):(싱기 식에서, A,X,n,Y 및 m은 앞서 정의한 바와 같다)의 화합물의 제조방법
- 제5항에 있어서, 일반식(Ⅰ)과(Ⅱ)의 화합물들 각각의 벤조일 부분이 2,4-디클로로벤조일인 방법
- 유효성분으로서, 일반식(Ⅰ):(상기 식에서, A는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고: X는 할로겐원자, 니트로기, 저급알킬기, 저급할로알킬기,저급알콕시기, 저급할로알콕시기, 저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기X는 n이 2 내지 5의 정수일 때 같거나 다르다:그리고 Y는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기, 페닐기, 저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸기의미하며, m은 1내지 3의 정수인데, 상기 Y는 m이 2 또는 3일때 같거나 다르다)의 화합물들의 하나 또는 그 이상의 유효량을 그것들의 담체와 함께 함유하는 선택적인 제초조성물
- 제7항에 있어서, 유효 화합물이 일반식(1A):(상기 식에서, A1는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고, X1는 할로겐원자, 니트로기 또는 저급알킬기를 의미하며, n1은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기 X1는 n1이 2내지 5의 정수일때 같거나 다르다)로 표시되는 제초조성물.
- 제7항에 있어서, 유효화합물이 일반식(1B):(상기 식에서, R2는 수소원 또는 저급알킬기를 의미하고:X2는 저급할로알콕시기, 저급할로알콕시기,저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n2은 1 내지 3의 정수인데, 상기 X2는 N2가 2또는 3일 때 같거나 다르다)로 표시되는 제초조성물
- 제7항에 있어서, 유효화합물이 일반식(1C):(상기 식에서,R3는 수소원 또는 저급알킬기를 의미하고:X3는 할로겐 원자, 저급알킬기, 저급할로알킬기, 저급알콕시기, 저급할로알콕시기, 저급알케닐기 또는 니트로기이며, n3는 0 또는 1 내지 3의 정수인데, 상기 X3는 n3가 2 또는 3의 정수일때 같거나 다르다. 그리고 Y3는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기,페닐기,저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이며, m3는 1 내지 3의 정수인데, 상기 Y3는 m3가 2 또는 3일때 같거나 다르다)로 표시되는 제초조성물
- 일반식(Ⅰ):(상기 식에서, A는 직쇄 또는 측쇄의 저급알킬렌 또는 저급알킬리덴기를 의미하고: X는 할로겐원자, 니트로기, 저급알킬기, 저급할로알킬기, 저급알콕시기, 저급할로알콕시기, 저급알케닐기, 페닐기, 시아노기, 페녹시기, 저급알콕시카르보닐기, 지방족 또는 방향족 아실기, 메탄술포닐옥시기 또는 기를 의미하며, n은 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 상기X는 n이 2 내지 5의 정수일 때 같거나 다르다:그리고 Y는 할로겐원자, 저급알킬기, 니트로기, 페닐기, 저급알콕시기 또는 트리플루오로메틸기의미하며, m은 1내지 3의 정수인데, 상기 Y는 m이 2 또는 3일때 같거나 다르다)의 화합물의 유효량을 잡초들 또는 그것들이 있는 장소에 사용하는 것을 포함하는 잡초들의 손상시키거나 억제하는 방법※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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