KR840001177A - 제초제인 설폰아미드의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (16)
- 일반식(Ⅱ)의 상응하는 에스테르와 일반식(Ⅲ)의 헤테로사이클릭 아민을 동량의 트리메틸 알루미늄 클로라이드 및 메틸렌 클로라이드 존재하에서 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(Ⅰ)의 설폰아미드를 제조하는 방법.
-
- 여기에서, A는 산소원자 0 내지 1, 황원자 0 내지 1 및 또는 질소원자 0내지 4로부터 선택된 헤테로원자 1 내지 4를 함유하는 5- 또는 6- 원 방향족 헤테로사이클, 5- 또는 6- 원 디하이드로 방향족 헤테로사이클 또는 6-원 테트라하이드로 방향족 헤테로사이클이며, 헤테로사이클은 CH3그룹 1내지 4, OCH3그룹 1내지 2, SCH3그룹 0 내지 1, Cl그룹 0 내지 1, N(CH3)2그룹 0 내지 1 또는 CN그룹 0내지 1로 임의 치환될 수 있고, R은 H 또는 CH3이며, R1은 H,F,Cl,Br,CH3,OCH3,CF3또는 NO2이고, R2는 H 또는 CH3이며, R3는 H 또는 CH3이고, R4는
-
- X는 CH3, OCH3또는 Cl이고; Y는 H,CH3,C2H5,OCH3,OC2H5,CH2OCH3,NH2,NHOH3또는 N(CH3)2이며 Y1은 H,Cl,CH3또는 OCH3이고; Z는 CH,CCH3또는 N이며; 단, (1) N-R 및 A 사이의 결합은 A의 질소 또는 탄소원자에 부착되고; (2) A가 티오펜 또는 푸란환일 때는 NR 및 A 사이의 결합이 헤테로사이클의 2- 또는 5-위치가 아니며; (3) X가 Cl이면, Z는 CH이고, Y는 CH3, OCH3, NH2, NHCH3또는 N(CH3)2이다.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 헤테로사이클릭아민과 트리메틸알루미늄을 메틸렌클로라이드 내에서 혼합하고, 이어서 일반식(Ⅱ)의 메틸에스테르를 가하는 방법.
- 제2항에 있어서, 혼합물을 12 내지 24시간동안 환류로 가열하는 방법.
- 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제 중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 1내지 3을 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 6-원 방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 2을 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 6-원 디하이드로방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체 희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 1 내지 4를 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 5-원 방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 1 또는 2 및 산소원자 1 또는 황원자 1을 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 5-원방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 산소원자 1 또는 황원자 1을 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 5-원 방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 1 및 질소, 산소 또는 황으로부터 선택된 임의의 헤테로원자 1을 함유하는 치환되치 않았거나 치환된 5-원 디하이드로 방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ)화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체 희석제 중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
- A가 질소원자 1 및 질소, 산소 또는 황으로부터 선택된 임의의 헤테로원자 1을 함유하는 치환되지 않았거나 치환된 6-원 테트라하이드로 방향족 헤테로사이클인 일반식(Ⅰ) 화합물의 유효량 및 계면활성제, 고체 또는 액체희석제중의 적어도 하나를 함유하는 제초제 조성물.
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