KR20240040377A

KR20240040377A - 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템

Info

Publication number: KR20240040377A
Application number: KR1020220119305A
Authority: KR
Inventors: 지현목; 전병혁
Original assignee: 주식회사 조은이티씨
Priority date: 2022-09-21
Filing date: 2022-09-21
Publication date: 2024-03-28

Abstract

본 발명은 맨홀 내의 시료를 채수하여 시료를 격자식으로 선택적 배분하기 위한 컨트롤 시스템에 있어서, 가이드를 구비하여 가이드를 따라 평면상을 선택적으로 이동하는 시프트 유닛; 시프트 유닛을 따라 이동하여 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배하는 노즐 유닛; 및 시프트 유닛의 하부에 이격되어 배치되며, 노즐 유닛으로부터 시료를 분배 받아 저장하는 키핑 유닛을 포함하는 기술적 사상을 개시한다.

Description

선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템{Control system for sampling of water by shifting of two dimensional planar}

본 발명은 시료를 채수하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 보다 자세하게는, 맨홀 내의 시료를 일정하게 채수하고 시료를 선택적으로 배분하기 위하여, 가이드를 따라 x축 또는 y축의 평면을 이동하여 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배하도록 하기 위한 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템에 관한 기술분야이다.

하수도 시스템에 대한 모니터링은 하수도 시스템의 상태를 진단하고, 문제를 파악하여 개선방안을 토출하고 개선대책에 따른 성능개선 및 수질 개선 효과 등을 정량적으로 평가하기 위한 목적으로 수행한다.

조사 목적에 따라 강우, 유량, 수질 등을 모니터링 하고 강우량계, 유량계, 수위계, 채수 장치 등의 장비를 통해 정보를 수집하게 된다.

이때, 수질 분석을 위하여 시료 채수가 이루어지는데, 시료 채수는 대표성, 적합성, 안전성이 확보되어야 하며 처리 구역이나 하수발생 특성을 대표할 수 있는 대표지점에서 채수가 이루어져야 한다.

시료 채수는 신뢰성 있는 데이터를 확보할 수 있는 지점에서의 채수가 이루어져야 하며, 설치 및 유지관리, 장비의 안전성을 확보할 수 있는 지점에서의 채수가 이루어져야 한다. 이외에도 설치 및 운영관리비, 인력 투입 등에 대한 소요 자원을 최소화하는 것도 중요한 요건이라 할 수 있다.

현장에서 인력에 의한 채수는 매번 같은 지점에서의 시료채취의 어려움으로 인한 시료 채취의 대표성을 확보하기 어려우며, 주기적으로 시료를 채취하는 것에 대한 어려움과, 시간 및 기상의 제약으로 인하여 오차 발생 가능성이 존재한다.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 자동으로 채수되도록 하는 채수 장치에 대한 기술적 시도가 이루어지고 있으며, 이와 관련된 선행특허 문헌이 존재한다.

예를 들어 선행 특허문헌"하수 관거용 폐수 채수 시스템의 유지관리 장치 및 방법(등록번호 제10-1403671호, 이하 특허문헌 1이라 한다.)"가 존재한다.

특허문헌1의 경우, 제자리에서 일정 시간마다 일정 각도만큼 일방향으로 회전후 정지하는 패턴을 반복하며, 내부에 오폐수가 수용되는 공간을 형성하는 수용 본체; 하수 관거의 오폐수가 흡입되는 내부 유로를 형성하고 수용 본체와 연결된 흡입관의 단부에 결합되며, 오폐수에 혼재된 슬러지 등의 이물질 유입을 차단하면서 오폐수를 흡입관으로 유입시키도록 다수의 홀이 형성된 필터 캡; 흡입관에 결합되어, 흡입관의 단부로부터 노출된 필터 캡의 외면에 부착된 이물질을 제거하는 제1 관리 유닛; 및 수용 본체와 흡입관을 상호 연결하며, 수용 본체에 수용된 오폐수의 채수가 완료된 후, 잔여 오폐수를 흡입관 측으로 고압 분사하여 흡입관의 내주면 및 필터 캡 내부의 이물질을 제거하는 제2 관리 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하여, 이물질이 제거되어 채수후 배출되는 오폐수를 세척 및 청소의 용도로 활용하여 자원의 효율적인 관리가 가능하도록 하는 폐수 채수용 시스템의 유지관리 장치 및 방법에 관한 것이다.

또한 선행 특허문헌으로서"자동 채수기의 원격 제어 시스템 및 제어 방법(공개번호 제10-2019-0106872호, 이하 특허문헌 2라 한다.)"도 존재한다.

특허문헌2의 경우, 하천이나 호수, 하수 등에서 수질검사를 위해 시료수(물)를 채취하기 위한 자동 채수기의 동작을 원격지에서 제어할 수 있는 자동 채수기의 원격제어 시스템 및 제어 방법에 관한 것이다.

특허문헌 2의 경우, 하천이나 호수 등 현장에 설치되어 수질검사를 위한 시료수를 채취하는 자동 채수기; 자동 채수기와 인터넷을 통해 연결되어 원격지에서 채수기를 감시 및 제어하기 위한 원격 관리 단말기; 및 이동통신망을 이용하여 채수기와 연결되어 원격지에서 무선으로 감시 및 제어하기 위한 관리자 무선 단말기를 포함한다.

아울러, 선행 특허문헌"순차 채수장치(등록번호 제10-1321393호, 이하 특허문헌 3이라 한다.)"도 존재한다.

특허문헌 3의 경우, 하천이나, 하·폐수 처리장의 배출수 등을 채수하여 실내 수질실험을 위한 채수장치에 관한 것으로, 상세히는 장대하천 등 원격지 등에도 손쉽게 설치하여 일정 시간 간격으로 채수가 가능하도록 함으로써 사람이 직접 상주하여 시료를 채수하는 불편함을 줄이고, 일정 시간 간격으로 편리하게 채수가 이루어짐으로써 일정 시간 동안 수질패턴 분석 및 평가가 가능하며, 기타 사람이 직접 접근하기 곤란한 오염물질 등을 안전하게 채수할 수 있는 용도로 사용할 수 있는 순차 채수장치에 관한 것인바, 프레임; 프레임의 중심부에 설치되며 회전축을 갖는 타이머; 타이머의 회전축을 중심으로 방사상으로 배치된 복수의 채수병; 각 채수병의 입구를 개폐할 수 있도록 프레임에 중간부가 핀으로 회동가능하게 결합되고, 일단에는 입구를 개폐하는 리드가 구비되며, 탄성부재에 의해 닫힌 리드가 입구에 밀착된 상태를 유지하는 개폐구; 회전축에 구비되어 회전축의 회전에 따라 방사상으로 배치된 채수병에 결합된 개폐구와 접촉하여 각 채수병의 입구를 막고 있던 리드를 순차적으로 개방하는 편심돌기를 포함하여 이루어진다.

종래의 회전축을 중심으로 채수하고 분배하는 채수 장치의 경우, 채수된 시료가 저장되어야 하는 시료통의 확장성에 대한 한계가 있었으며, 방사상 배치되어야 함을 통하여 시료통의 범용성에도 문제가 있었다.

등록번호 제10-1403671호 공개번호 제10-2019-0106872호 등록번호 제10-1321393호

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 상기한 바와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 다음과 같은 해결하고자 하는 과제를 제시한다.

첫째, 맨홀 내의 시료를 채수하고 격자식으로 시료를 선택적으로 배분할 수 있도록 한다.

둘째, 격자식의 시료 배분이 이루어지기 위하여 가이드를 따라 평면상의 x축 또는 y축을 선택적으로 이동할 수 있도록 한다.

셋째, 시료 배분을 위한 결정된 위치에 노즐로부터 시료가 배분되도록 하며, 시료 배분에 대한 결정된 위치는 채수시간에 따라 개별적으로 선택될 수 있도록 한다.

본 발명의 해결 과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 상기의 해결하고자 하는 과제를 위하여 다음과 같은 과제 해결 수단을 가진다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 맨홀 내의 시료를 채수하여 상기 시료를 격자식으로 선택적 배분하기 위한 컨트롤 시스템에 있어서, 가이드를 구비하여 상기 가이드를 따라 평면상을 선택적으로 이동하는 시프트 유닛(shift unit); 상기 시프트 유닛을 따라 이동하여 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배하는 노즐 유닛(nozzle unit); 및 상기 시프트 유닛의 하부에 이격되어 배치되며, 상기 노즐 유닛으로부터 상기 시료를 분배 받아 저장하는 키핑 유닛(keeping unit)을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 양측에 배치되며, 기어 이를 포함하는 가이딩부; 및 상기 가이딩부에 직교하여 배치되고, 양단에 기어 이를 포함하여, 상기 가이딩부의 기어 이를 따라 평면상의 x축으로 이동하는 버티컬 이동부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 상기 버티컬 이동부를 따라 평면상의 y축으로 이동하는 호리젠탈 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 상기 버티컬 이동부 또는 상기 호리젠탈 이동부의 구동을 통해 평면상의 상기 x축 또는 상기 y축 상을 선택적으로 이동하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 노즐 유닛은, 상기 버티컬 이동부와 상기 호리젠탈 이동부를 통해 이동되어, 평면상의 상기 x축 또는 상기 y축 상을 선택적으로 이동하여, 상기 미리 결정된 위치로 제공되고, 상기 미리 결정된 위치에서 상기 시료를 선택적으로 분배하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 키핑 유닛은, 상기 시프트 유닛의 하부에 이격되어 배치되며, 격자식으로 배치되는 복수 개의 저장부를 구비하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 상기 복수 개의 저장부 각각의 상부의 위치에 선택적으로 이동하여 상기 노즐 유닛이 상기 키핑 유닛으로 상기 시료를 분배하도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 상기 버티컬 이동부와 상기 호리젠탈 이동부의 구동은 각각 불연속적으로 형성되며, 상기 복수 개의 저장부의 상부에서 소정의 시간 동안 홀딩되어 상기 시료가 상기 노즐 유닛을 통해 상기 키핑 유닛으로 배출하는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 미리 결정된 위치는, 상기 복수 개의 저장부의 상부의 각각에 가상의 위치로 설정되며, 상기 노즐 유닛은 상기 가상의 위치 각각에 개별적으로 설정되는 것을 특징으로 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 상기 시프트 유닛은, 상기 미리 결정된 위치를 따라 이동하되, 상기 가상의 위치 각각에 대하여 오버랩되는 것을 방지하는 것을 특징으로 할 수 있다.

이상과 같은 구성의 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 다음과 같은 효과를 제공한다.

첫째, 격자식으로 채수가 이루어질 수 있도록 하기 위하여 평면상을 선택적 이동하는 가이드 유닛을 구비하고 가이드 유닛의 하부에 격자식으로 배치되는 저장부가 배치될 수 있도록 할 수 있다.

둘째, x축 또는 y축을 이동하는 가이드 유닛을 통하여 평면상을 선택적으로 이동하되, 평면상의 시료 분배 위치에 선택적으로 위치될 수 있도록 할 수 있다.

셋째, 평면상을 선택적으로 이동함을 통하여 시료 분배가 격자식으로 개별적으로 이루어지도록 할 수 있으며, 이동되는 위치는 가상으로 설정되며, 노즐의 이동에 대한 리소스 및 가상의 위치에 대한 오버랩이 방지되도록 할 수 있다.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

도1은 종래의 회전축을 중심으로 회전함을 통하여 채수된 시료를 분배하기 위한 채수장치의 단면도이다.
도2는 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 전체적인 구성을 도시한 사시도이다.
도3은 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛을 도시한 사시도이다.
도4는 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛이 키핑 유닛의 각각의 저장부에 선택적으로 위치하여 노즐 유닛이 시료를 선택적으로 분배하는 것을 개념적으로 도시한 것이다.
도5는 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 키핑 유닛을 도시한 평면도이다.
도6은 본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 복수 개의 저장부의 각각의 상부에 가상의 위치가 설정되고, 가상의 위치에 노즐 유닛이 제공된 것을 도시한 개념도이다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

종래의 채수 장치의 경우, 도1에 도시된 바와 같이, 맨홀 내의 시료를 일정하게 채수한 후 선택적으로 배분하기 위하여 노즐(40)이 하나의 축을 통하여 원형으로 공급하는 형태를 가졌으며, 노즐(40)이 하나의 축을 중심으로 원형으로 이동하며 시료를 공급하는 경우, 시료를 저장하기 위한 시료저장통(30)의 범용성 및 확장성이 떨어지는 문제점이 있었다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 맨홀 내의 시료를 채수하여 시료를 격자식으로 선택적 배분하기 위한 컨트롤 시스템으로, 종래의 노즐(40)이 하나의 축을 통해 원형으로 이동하는 장치에서 발생하는 시료저장통(30)의 범용성 문제를 해결하는 것은 물론, 원형 공급 모터(10)에 대한 원형 이동이 원활하지 않을 시 발생하는 시료의 선택적 분배 및 채수에 대한 문제점을 해결하고자 선택적 평면 축이동이 가능하도록 하는 시료 배분 컨트롤 시스템을 개시하고자 한다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템은 시프트 유닛(100), 노즐 유닛(200), 키핑 유닛(300)을 구비할 수 있다.

시프트 유닛(100)의 경우, 가이드를 구비하여 가이드를 따라 평면상을 선택적으로 이동할 수 있다.

시프트 유닛(100)은 도 2에 도시된 바와 같이, 키핑 유닛(300)의 상부에 제공되고, 가이드를 제공하는 것으로 가이드를 따라 이동하는데, 평면상으로 선택적으로 이동하는 것이 바람직하다.

시프트 유닛(100)은, 가이드로 제공됨과 동시에 가이드를 따라 이동하며, 평면상에서의 움직임을 통하여 선택적으로 이동이 가능하도록 하는 것이다.

선택적으로 이동한다 함은, 평면상에서 어느 한 위치로 이동함을 의미하며, 평면상에서 하나의 지점에 대한 위치로 이동함을 의미한다. 예컨대, 시프트 유닛(100)의 선택적 이동은 키핑 유닛(300)이 배치되는 상부에 이동되어 노즐 유닛(200)이 키핑 유닛(300)의 상부에 제공되도록 하는 것이다.

시프트 유닛(100)이 선택적으로 이동하는 위치는 미리 결정된 위치가 될 수 있으며, 미리 결정된 위치는 키핑 유닛(300)이 하부에 제공되는 위치가 미리 결정된 위치가 되어짐이 바람직하다.

노즐 유닛(200)의 경우, 시프트 유닛(100)을 따라 이동하고, 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배할 수 있다.

노즐 유닛(200)은 시프트 유닛(100)이 평면상으로 이동하는 것을 따라 이동하며, 노즐 유닛(200)이 시료를 분배해야 하는 미리 결정된 위치에 제공되면, 시료를 선택적으로 분배하는 것이 바람직하다.

시료의 선택적 분배는, 미리 결정된 위치에서 시료가 분배되는 것을 의미하는 것으로, 시료가 분배되는 위치는 키핑 유닛(300)이 제공되는 위치로 키핑 유닛(300)에 따라 그 위치가 미리 결정되어질 수 있다.

키핑 유닛(300)의 경우, 시프트 유닛(100)의 하부에 이격되어 배치되며, 노즐 유닛(200)으로부터 시료를 분배 받아 저장할 수 있다.

키핑 유닛(300)은 노즐 유닛(200)으로부터 시료를 제공받고, 배분된 시료가 저장되도록 하는 것으로 시프트 유닛(100)을 통하여 이동된 노즐 유닛(200)으로부터 배출되는 시료를 제공받고 시료가 저장되도록 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)의 경우, 가이딩부(110), 버티컬 이동부(120), 호리젠탈 이동부(130)를 포함할 수 있다.

먼저, 가이딩부(110)는, 양측에 배치되며, 기어 이(gear tooth)를 포함할 수 있다.

도2에 도시된 바와 같이, 가이딩부(110)는 양측에 배치되는데, 양측이라 함은, 키핑 유닛(300)의 상부에서의 양측에 해당할 수 있으며, 양측의 거리는 키핑 유닛(300)이 제공된 거리에 해당할 수 있다.

양측에 배치된 가이딩부(110)는 기어 이를 포함할 수 있는데, 기어 이를 통하여 버티컬 이동부(120)가 이동할 수 있도록 할 수 있다.

기어 이(gear tooth)는, 톱니로 제공될 수 있으며, 톱니가 맞물려 돌아가며 회전력을 통하여 이동으로 전달할 수 있다.

버티컬 이동부(120)의 경우, 가이딩부(110)에 직교하여 배치되고, 양단에 기어 이를 포함하며, 가이딩부(110)를 따라 평면상으로 x축 이동할 수 있다.

버티컬 이동부(120)가 평면상 x축으로 이동하도록 하는 가이딩부(110)는 x축으로 이동이 가능하도록 가이드 하는 것으로 버티컬 이동부(120)의 양측에서 버티컬 이동부(120)가 평면상의 x축으로 이동하도록 가이딩 할 수 있다. 또한, 버티컬 이동부(120)의 이동이 평면상으로 형성되도록 버티컬 이동부(120)의 양단에서 지지할 수 있다.

버티컬 이동부(120)는 가이딩부(110)의 기어 이를 통하여 x축 이동을 제공하는데, 가이딩부(110)의 기어 이를 통하여 이동하도록 도 2에 도시된 바와 같이, 양단에 기어 이를 포함하도록 할 수 있다.

또한, 시프트 유닛(100)은, 호리젠탈 이동부(130)를 포함할 수 있는데, 호리젠탈 이동부(130)의 경우, 버티컬 이동부(120)를 따라 평면상의 y축으로 이동할 수 있다.

호리젠탈 이동부(130)는 평면상의 y축을 따라 이동하는 것으로, 버티컬 이동부(120)를 따라 y축으로 이동하는 것이 바람직하다.

즉, 시프트 유닛(100)은 가이딩부(110)에 직교하여 배치되는 버티컬 이동부(120)를 통하여 x축 이동이 이루어지며, 버티컬 이동부(120)에 제공되는 호리젠탈 이동부(130)를 통하여 y축 이동이 이루어져 시프트 유닛(100)의 평면상 x축 또는 y축 이동이 이루어지도록 하는 것이다.

가이딩부(110)는 x축 이동에 대한 가이딩을 제공하는 것으로 버티컬 이동부(120)의 x축 이동을 제공함은 물론, 키핑 유닛(300)의 상부에서 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)가 이동할 수 있도록 키핑 유닛(300)으로부터 소정의 거리를 유지하도록 한다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 구동을 통해 평면상의 x축 또는 y축으로 선택적으로 이동할 수 있다.

버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 경우, 그 구동이 평면상의 x축 또는 y축으로 선택적으로 형성되는데, 예컨대, 버티컬 이동부(120)가 x축 평면상으로 이동하면, 호리젠탈 이동부(130)는 y축으로 이동하여 시프트 유닛(100)이 평면상에서의 선택적 위치로 이동할 수 있도록 할 수 있다.

버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 구동을 통하여 시프트 유닛(100)이 선택적 위치로 이동하는 것이며, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)는 모터(미도시)를 통하여 평면상을 이동할 수 있도록 구동되는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 노즐 유닛(200)은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)를 따라 이동하여, 평면상의 x축 또는 y축 상을 선택적으로 이동하며, 미리 결정된 위치로 제공되고, 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배할 수 있다.

노즐 유닛(200)의 경우, 호리젠탈 이동부(130)에 제공될 수 있는데, 호리젠탈 이동부(130)에 제공됨을 통하여 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)를 따라 이동하는 것이며, 미리 결정된 위치로의 이동이 가능하도록 할 수 있다.

미리 결정된 위치에 제공된 노즐 유닛(200)의 경우, 시료를 선택적으로 분배하도록 하는데, 미리 결정된 위치는 키핑 유닛(300)이 제공되는 위치에 해당하며, 호리젠탈 이동부(130)와 버티컬 이동부(120)를 통하여 평면상의 미리 결정된 위치로 이동된 노즐 유닛(200)은 키핑 유닛(300)의 상부에서 시료를 키핑 유닛(300)으로 개별적으로 분배하도록 할 수 있다.

노즐 유닛(300)은 호리젠탈 이동부(130)에 제공되어지는데, 호리젠탈 이동부(130)를 따라 이동되어지고, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)이 이동에 따라서 평면상의 x축 또는 y축으로 선택적으로 이동될 수 있다.

노즐 유닛(200)이 미리 결정된 위치에 제공됨은, 노즐 유닛(200)이 키핑 유닛(300)의 상부에 배치됨을 의미하는 것이며, 미리 결정된 위치에 제공되는 노즐 유닛(200)은 키핑 유닛(300)을 향하여 개별적으로 시료를 분배할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 키핑 유닛(300)은, 시프트 유닛(200)의 하부에 이격되어 배치되며, 격자식으로 배치되는 복수 개의 저장부(301)를 포함할 수 있다.

키핑 유닛(300)은 격자식으로 배치되는 공간에 복수 개의 저장부(301)를 포함할 수 있는데, 복수 개의 저장부(301)는 시료의 채수 간격 및 채수 정도에 따라 저장부(301)의 개수가 상이하게 제공될 수 있다.

종래의 원형 공급 장치에 제공되는 시료저장통(30)의 경우, 그 확장성에 한계가 있었는데, 원형 공급 장치의 하부에 배치되기 위하여 형태의 제약이 있었으며, 원형 공급 장치를 통하여 시료가 배출되는 경우, 시료 배출에 대한 위치도 제한적이기에 하부에 배치되는 시료저장통(30)은 개수가 한정되는 문제가 있었다.

본 발명의 경우, 키핑 유닛(300)은 격자식으로 배치되기에 확장성은 물론이거니와 범용성도 해결할 수 있으며, 관리자에 의하여 총 채수 시간이 연장되거나, 채수 간격이 늘어나는 경우에도 저장부(301)의 확장성이 자유로운 장점이 있다.

예컨대, 종래의 원형으로 공급되는 채수 장치의 경우, 그 확장이 원형으로 이루어져야 하기에 시료저장통(30)을 확장하기 위하여서는 노즐(40) 까지도 확장이 이루어져야 한다. 반면, 본 발명의 키핑 유닛(300)이 격자식으로 배치되고 평면상을 이동하여 채수가 제공되는 경우, 키핑 유닛(300)의 확장이 자유롭게 형성될 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)은, 복수 개의 저장부(301) 각각의 상부의 위치에 선택적으로 이동하여 노즐 유닛(200)이 키핑 유닛(300)으로 시료를 분배하도록 할 수 있다.

시프트 유닛(100)은 복수 개의 저장부(301)의 각각의 위치의 상부에 선택적으로 이동하는 것이 바람직한데, 시프트 유닛(100)이 복수 개의 저장부(301)의 각각의 위치의 상부에 선택적으로 이동하도록 하기 위하여 호리젠탈 이동부(130)와 버티컬 이동부(120)의 x축 또는y축 이동을 통하여 선택적으로 이동하도록 할 수 있다.

호리젠탈 이동부(130)와 버티컬 이동부(120)가 이동하는 평면상의 선택적 x축 또는y축은 복수 개의 저장부(301)의 위치로의 이동에 해당되며, 복수 개의 저장부(301)의 각각의 상부에 위치되는 노즐 유닛(200)을 통하여 복수 개의 저장부(301) 각각에 선택적으로 시료가 분배되어 저장될 수 있도록 할 수 있는 것이다.

예컨대, 시프트 유닛(100)은, 호리젠탈 이동부(130)의 y축 이동, 버티컬 이동부(120)의 x축 이동에 따라 선택적인 위치로 제공되어짐이 바람직하며, 호리젠탈 이동부(130)와 버티컬 이동부(120)의 복합적 이동을 통하여 선택적인 위치로의 제공이 가능하도록 할 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 이동이 불연속적으로 형성되며, 복수 개의 저장부(301)의 상부에서 소정의 시간 동안 홀딩되어 시료가 노즐 유닛(200)을 통해 키핑 유닛(300)으로 배출되도록 할 수 있다.

버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 불연속적 이동이라 함은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)가 지속적으로 평면상을 이동함을 유지하는 것이 아닌, 복수 개의 저장부(301)의 각각의 위치에서 시료가 배출되도록 하기 위하여 이동과 정지가 연속적으로 이루어짐을 의미할 수 있다.

시프트 유닛(100)의 불연속적 이동을 통하여 노즐 유닛(200)은 시료를 복수 개의 저장부(301) 각각에 분배하도록 하는데, 시료 배출을 위한 정지가 이루어질 경우, 시프트 유닛(100)의 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)는 복수 개의 저장부(301)의 상부에서 소정의 시간동안 홀딩되어지는 것이 바람직하다.

버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)가 홀딩되는 소정의 시간이라 함은, 노즐 유닛(200)을 통하여 시료가 분배되기 위한 시간이며, 시프트 유닛(100)이 복수 개의 저장부(301) 각각에 위치하는 경우, 소정의 시간 동안 홀딩되어 노즐 유닛(200)을 통하여 시료가 분배되고, 시료 분배가 완료되면, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)는 시료가 분배되지 않은 복수 개의 저장부(301) 중 하나의 위치의 상부로 이동하게 되는 것이다.

시프트 유닛(100)은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 x축 또는y축으로의 이동과 홀딩을 반복함으로 통하여 평면상을 이동하며 시료를 선택적으로 분배하도록 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 미리 결정된 위치는, 복수 개의 저장부(301)의 상부의 각각에 가상의 위치(VP, virtual point)로 설정되고, 노즐 유닛(200)은 가상의 위치(VP) 각각에 설정되어질 수 있다.

미리 결정된 위치는, 복수 개의 저장부(301)에 따라 결정되어지는데, 복수 개의 저장부(301)의 상부에 각각에 설정되는 것으로 가상으로 설정되어질 수 있다.

가상의 위치(VP)라 함은, 관리자에 의한 프로그램 상에서 결정된 위치로 육안으로 확인되지 않는 위치에 해당할 수 있으며, 육안으로 확인되지 않을 뿐, 프로그램 상에서 결정되며 프로그램을 통하여 확인이 가능하도록 할 수 있다.

격자식으로 형성되는 복수 개의 저장부(301)의 상부에 미리 결정된 위치가 결정되고, 시프트 유닛(100)을 통해 이동되는 노즐 유닛(200)은 시프트 유닛(100)의 평면상의 이동을 통하여 가상의 위치(VP)에 위치할 수 있다.

노즐 유닛(200)의 가상의 위치(VP)는 노즐 유닛(200)을 통하여 시료가 분배되어지는 위치에 해당하는 것이다.

노즐 유닛(200)의 가상의 위치(VP)는 미리 결정된 위치 중 가상으로 위치되는 것이며, 복수 개의 저장부(301)의 각각에 개별적으로 설정되어지는 것이 바람직하다.

가상의 위치(VP)가 복수 개의 저장부(301)의 각각에 개별적으로 설정되어지는 것은, 복수 개의 저장부(301)에 대한 각각의 상부에 가상의 위치(VP)가 결정되고 각각의 저장부(301) 상부에 시료가 분배되어짐이 선택적으로 형성되어 지도록 하는 것이다.

예컨대, 도6에 도시된 바와 같이, 복수 개의 저장부(301)의 각각에 가상의 위치(VP)가 개별적으로 설정되며, 개별적으로 설정된 가상의 위치(VP)에 노즐 유닛(200)이 위치되어질 수 있다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)은, 미리 결정된 위치를 따라 이동하되, 개별적으로 설정된 상기 가상의 위치(VP) 각각에 대하여 오버랩되는 것을 방지할 수 있다.

시프트 유닛(100)의 경우, 미리 결정된 위치를 따라 이동되는 것이 바람직한데, 미리 결정된 위치에 대하여 이동되고 위치함에 대한 오버랩을 방지하도록 하여, 시프트 유닛(100)의 중복 이동을 통한 리소스를 방지하도록 할 수 있다.

또한, 시프트 유닛(100)을 따라 이동하는 노즐 유닛(200)의 가상의 위치(VP)에 대한 오버랩을 방지하며, 가상의 위치(VP)로 중복 이동이 형성되지 않도록 설정되어짐이 바람직하다.

시프트 유닛(100)은 복수 개의 저장부(301) 상부 각각에 형성된 가상의 위치(VP)에 대하여 오버랩되어 이동함을 방지하도록 하는 것으로, 시프트 유닛(100)은 예컨대, 이전에 제공된 가상의 위치(VP)에 반복적으로 제공되지 않도록 하는 것이 바람직하며, 반복적으로 가상의 위치(VP)에 제공됨으로 인하여 사용되는 시간과 이동에 대한 리소스 낭비를 방지하도록 할 수 있다.

가상의 위치(VP)에 오버랩이 제공되지 않도록 하기 위함은 가상의 위치(VP)에 대한 프로그램 상에서 결정되어질 수 있으며, 프로그램 상에서 확인되는 가상의 위치(VP)를 통하여 중복 이동에 대한 설정도 프로그램을 통해 가능하도록 할 수 있다.

예컨대, 도6에 도시된 바와 같이, 복수 개의 저장부(301)의 각각에 가상의 위치(VP)가 개별적으로 설정되는데, 설정된 가상의 위치(VP)에는 노즐 유닛(200)이 제공되는데, 노즐 유닛(200)이 제공되는 가상의 위치(VP)는 중복되어 제공되지 않도록 함을 통하여 중복 이동 및 가상의 위치(VP)에 대한 오버랩이 제공되지 않도록 하는 것이 바람직하다.

시프트 유닛(100)에 대한 오버랩 방지는, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 이동에 따라 가상의 위치(VP)에 대한 위치 오버랩이 방지되도록 함은 물론, 미리 결정된 위치에 대하여서도 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 이동이 중복되지 않도록 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템의 시프트 유닛(100)은, 버티컬 이동부(120)와 호리젠탈 이동부(130)의 이동에 대하여 가상의 위치(VP)에 오버랩이 방지됨을 통하여 노즐 유닛(200)의 시료 분배의 오버랩 또한 방지할 수 있다.

시료에 분배에 대한 오버랩 방지는 시료의 오염을 방지하기에 매우 중요하며, 가상의 위치(VP)에 오버랩이 방지되어짐은 시료의 이중 분배뿐만 아니라, 노즐 유닛(200)의 이동에서 떨어지는 시료로 인한 시료의 혼합으로부터 자유로울 수 있다.

채수되는 시료의 경우, 채수되는 과정에서의 오염이 발생되는 경우, 채취된 시료에 대한 정확도가 떨어지며, 시료에 대한 검사 결과 또한, 변조되거나 정확하지 않은 결과를 제공하기에 시료의 오염을 방지하는 것은 매우 중요하다 할 수 있다.

본 발명의 권리 범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 결정되며, 특허 청구범위에 사용된 괄호는 선택적 한정을 위해 기재된 것이 아니라, 명확한 구성요소를 위해 사용되었으며, 괄호 내의 기재도 필수적 구성요소로 해석되어야 한다.

10: 원형 공급 모터
20: 채수부
30: 시료저장통
40: 분배노즐
VP: 가상의 위치
100: 시프트 유닛
110: 가이딩부
120: 버티컬 이동부
130: 호리젠탈 이동부
200: 노즐 유닛
300: 키핑 유닛
301: 저장부

Claims

맨홀 내의 시료를 채수하여 상기 시료를 격자식으로 선택적 배분하기 위한 컨트롤 시스템에 있어서,
가이드를 구비하여 상기 가이드를 따라 평면상을 선택적으로 이동하는 시프트 유닛(shift unit);
상기 시프트 유닛을 따라 이동하여 미리 결정된 위치에서 시료를 선택적으로 분배하는 노즐 유닛(nozzle unit); 및
상기 시프트 유닛의 하부에 이격되어 배치되며, 상기 노즐 유닛으로부터 상기 시료를 분배 받아 저장하는 키핑 유닛(keeping unit)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제1항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
양측에 배치되며, 기어이를 포함하는 가이딩부; 및
상기 가이딩부에 직교하여 배치되고, 양단에 기어이를 포함하여, 상기 가이딩부의 기어이를 따라 평면상의 x축으로 이동하는 버티컬 이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제2항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
상기 버티컬 이동부를 따라 평면상의 y축으로 이동하는 호리젠탈 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제3항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
상기 버티컬 이동부 또는 상기 호리젠탈 이동부의 구동을 통해 평면상의 상기 x축 또는 상기 y축 상을 선택적으로 이동하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제1항에 있어서, 상기 노즐 유닛은,
상기 버티컬 이동부와 상기 호리젠탈 이동부를 통해 이동되어, 평면상의 상기 x축 또는 상기 y축 상을 선택적으로 이동하여, 미리 결정된 위치로 제공되고, 상기 미리 결정된 위치에서 상기 시료를 선택적으로 분배하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제5항에 있어서, 상기 키핑 유닛은,
상기 시프트 유닛의 하부에 이격되어 배치되며, 격자식으로 배치되는 복수 개의 저장부를 구비하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제6항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
상기 복수 개의 저장부 각각의 상부의 위치에 선택적으로 이동하여 상기 노즐 유닛이 상기 키핑 유닛으로 상기 시료를 분배하도록 하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제7항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
상기 버티컬 이동부와 상기 호리젠탈 이동부의 구동은 각각 불연속적으로 형성되며, 상기 복수 개의 저장부의 상부에서 소정의 시간 동안 홀딩되어 상기 시료가 상기 노즐 유닛을 통해 상기 키핑 유닛으로 배출하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제5항에 있어서, 상기 미리 결정된 위치는,
상기 복수 개의 저장부의 상부의 각각에 가상의 위치로 설정되며, 상기 노즐 유닛은 상기 가상의 위치 각각에 개별적으로 설정되는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.
제9항에 있어서, 상기 시프트 유닛은,
상기 미리 결정된 위치를 따라 이동하되, 상기 가상의 위치 각각에 대하여 오버랩되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 선택적 평면 축이동을 통한 시료 배분 컨트롤 시스템.