KR20240026860A - 피가공물의 가공 방법 - Google Patents

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미노루 마츠자와
코헤이 츠지모토
유스케 후지이
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

(과제) 기판과 기판의 표면 측에 부착된 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서, 기판의 이면 측의 연삭에 수반하여 기판의 이면 측이 요철 형상이 되는 것을 방지할 수 있는 피가공물의 가공 방법을 제공한다.
(해결 수단) 보호 부재를 압박하는 것에 의해 기판의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스의 경계에 보호 부재를 매설시킴과 함께, 보호 부재를 연삭하여 보호 부재의 표면 측을 평탄화한다. 이 경우, 기판과 보호 부재의 사이의 간극을 없애거나, 또는 이 간극을 작게 함과 함께, 보호 부재를 통해 기판을 유지하는 척 테이블과 보호 부재의 사이의 간극을 없애거나, 또는 이 간극을 작게 하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 기판의 이면 측의 연삭에 앞서 이들을 실시하는 것에 의해, 기판의 이면 측의 연삭에 수반하여 기판의 이면 측이 요철 형상으로 되는 것을 방지할 수 있다.

Description

피가공물의 가공 방법{METHOD FOR PROCESSING WORKPIECE}
본 발명은, 복수의 디바이스가 표면 측에 형성되는 것에 의해 표면 측이 요철 형상으로 되어 있는 기판과, 기판의 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 복수의 디바이스의 각각에 부착되어 있는 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법에 관한 것이다.
IC(Integrated Circuit) 등의 디바이스의 칩은, 휴대전화 및 퍼스널 컴퓨터 등의 각종 전자 기기에 있어서 불가결한 구성 요소이다. 이와 같은 칩은, 예를 들어, 이하의 순서로 제조된다.
우선, 포토리소그래피 등을 실시하여 웨이퍼 등의 기판의 표면 측에 각각이 다수의 소자를 포함하는 복수의 디바이스를 형성한다. 계속해서, 기판의 이면 측을 연삭하여 기판을 박화한다. 계속해서, 복수의 디바이스의 경계를 따라 기판을 절삭하여 기판을 복수의 칩으로 분할한다.
기판을 박화하는 방법으로는, 예를 들어, 연삭 장치에 있어서의 기판의 이면 측의 연삭을 들 수 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 연삭 장치는, 일반적으로, 기판의 표면 측을 유지하는 척 테이블과, 복수의 지석이 환형으로 이산되어 배치되어 있는 연삭 휠이 선단부에 장착되어 있는 스핀들을 구비한다.
그리고, 이 연삭 장치에 있어서 기판의 이면 측을 연삭할 때에는, 척 테이블 및 스핀들의 쌍방을 회전시키고, 또한, 기판과 연삭 휠의 계면에 액체(연삭수)를 공급하면서, 복수의 지석을 기판의 이면에 접촉시키도록 척 테이블과 연삭 휠을 접근시킨다. 이에 의해, 기판이 복수의 지석에 의해 압박된 상태로 기판의 이면 측이 연삭된다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2014-124690호
기판의 이면 측을 연삭하면, 기판의 표면 측에 형성되어 있는 복수의 디바이스가 압박되어 파손될 우려가 있다. 이 점을 근거로 하여, 기판의 이면 측의 연삭은, 일반적으로, 기판의 표면 측에 보호 부재를 부착한 후, 이 보호 부재를 통해 기판이 척 테이블에 의해 유지된 상태에서 행해진다.
다만, 이 기판의 표면 측은 요철 형상으로 되어 있다. 구체적으로는, 기판의 표면 측에 복수의 디바이스를 형성하면, 복수의 디바이스가 형성되는 영역이 볼록부가 되고, 복수의 디바이스가 형성되어 있지 않은 영역, 즉, 복수의 디바이스의 경계가 오목부가 된다. 그 때문에, 기판의 표면 측에 보호 부재를 부착해도, 복수의 디바이스의 경계가 되는 영역에 보호 부재가 부착되지 않아, 기판과 보호 부재의 사이에 간극이 생기는 경우가 있다.
그리고, 이 상태에서 기판의 이면 측의 연삭이 행해지면, 복수의 지석에 의해 압박된 기판이 상기 간극에 가라앉도록 변형되는 경우가 있다. 또한, 이와 같이 기판이 변형된 상태에서 기판의 이면 측을 연삭하면, 기판의 복수의 디바이스의 경계가 되는 영역을 충분히 연삭할 수 없다. 그 결과, 이 경우에는, 연삭 후의 기판의 이면 측이 요철 형상으로 될 우려가 있다.
한편, 가열에 의해 연화된 보호 부재를 기판의 표면 측에 부착하는 것 등에 의해, 복수의 디바이스의 경계가 되는 영역과 보호 부재의 사이의 간극을 없애거나, 또는, 이 간극을 작게 할 수 있다. 다만, 이 경우에는, 보호 부재의 표면 측, 즉, 기판에 부착되지 않는 측이, 기판의 표면 측의 요철 형상을 반영한 것과 같은 요철 형상으로 되는 경우가 있다.
구체적으로는, 이와 같이 보호 부재를 기판의 표면 측에 부착하면, 복수의 디바이스가 형성되는 영역에 부착되는 보호 부재의 표면 측의 영역이 볼록부가 되고, 복수의 디바이스의 경계에 부착되는 보호 부재의 표면 측의 영역이 오목부가 된다. 그 때문에, 이 유지 부재를 통해 기판을 척 테이블에 배치해도, 유지 부재와 척 테이블의 사이에 간극이 발생하는 경우가 있다.
그리고, 이 상태에서 기판의 이면 측의 연삭이 행해지면, 복수의 지석에 의해 압박된 기판 및 보호 부재가 당해 간극에 가라앉도록 변형되는 경우가 있다. 또한, 이와 같이 기판 및 보호 부재가 변형된 상태에서 기판의 이면 측을 연삭하면, 기판의 복수의 디바이스의 경계가 되는 영역을 충분히 연삭할 수 없다. 그 결과, 이 경우에는, 연삭 후의 기판의 이면 측이 요철 형상으로 될 우려가 있다.
이러한 점을 감안하여, 본 발명의 목적은, 기판과 기판의 표면 측에 부착된 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서, 기판의 이면 측의 연삭에 따라 기판의 이면 측이 요철 형상이 되는 것을 방지할 수 있는 피가공물의 가공 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 복수의 디바이스가 표면 측에 형성되는 것에 의해 상기 표면 측이 요철 형상으로 되어 있는 기판과, 그 기판의 상기 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 각각에 부착되어 있는 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서,
상기 기판의 이면 측을 척 테이블에 의해 유지하는 유지 단계와,
상기 유지 단계 후에, 상기 보호 부재가 압박되어 상기 기판의 상기 표면 측 중 오목부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 경계에 상기 보호 부재가 매설되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 제1 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 매설 단계와,
상기 매설 단계 후에, 상기 보호 부재가 연삭되어 상기 보호 부재의 표면 측이 평탄화되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 제2 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 평탄화 단계를 구비하는 피가공물의 가공 방법이 제공된다.
또한, 상기 평탄화 단계 후에, 상기 기판의 상기 이면 측을 연삭하는 연삭 단계를 더 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 유량이 적은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 온도가 높은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1 연삭 휠은, 상기 제2 연삭 휠에 포함되는 지석보다 집중도가 낮은 지석을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1 연삭 휠은, 상기 제2 연삭 휠에 포함되는 지석보다 날 폭이 좁은 지석을 포함하는 것이 바람직하다. 또는, 상기 제1 연삭 휠과 상기 제2 연삭 휠은, 동일한 연삭 휠인 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 측면에 의하면, 복수의 디바이스가 표면 측에 형성되는 것에 의해 그 표면 측이 요철 형상으로 되어 있는 기판과, 그 기판의 상기 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 각각에 부착되어 있는 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서,
상기 기판의 이면 측을 척 테이블에 의해 유지하는 유지 단계와,
상기 유지 단계 후에, 상기 보호 부재가 압박됨과 함께 연삭되어 상기 기판의 상기 표면 측 중 오목부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 경계에 상기 보호 부재가 매설됨과 함께 상기 보호 부재의 표면 측이 평탄화되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 매설 평탄화 단계를 구비하는, 피가공물의 가공 방법이 제공된다.
본 발명에 있어서는, 보호 부재를 압박하는 것에 의해 기판의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스의 경계에 보호 부재를 매설시킴과 함께, 보호 부재를 연삭하여 보호 부재의 표면 측을 평탄화한다.
이 경우, 기판과 보호 부재의 사이의 간극을 없애거나, 또는 이 간극을 작게 함과 함께, 보호 부재를 통해 기판을 유지하는 척 테이블과 보호 부재의 사이의 간극을 없애거나, 또는 이 간극을 작게 하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 기판의 이면 측의 연삭에 앞서 본 발명을 실시하는 것에 의해, 기판의 이면 측의 연삭에 수반하여 기판의 이면 측이 요철 형상으로 되는 것을 방지할 수 있다.
도 1(A)는, 기판의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이고, 도 1(B)는, 도 1(A)에 도시되는 기판을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2(A)는, 기판의 표면 측에 보호 부재를 부착하는 모습을 모식적으로 도시하는 단면도이고, 도 2(B)는, 기판과 기판의 표면 측에 부착된 보호 부재를 구비하는 피가공물의 일례를 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은, 연삭 장치의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 4는, 연삭 장치에 포함되는 척 테이블 및 척 테이블과 연통 가능한 구성 요소를 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 5는, 연삭 장치에 포함되는 연삭 휠 등을 모식적으로 나타낸 일부 단면 측면도이다.
도 6은, 연삭 장치에 있어서 피가공물을 연삭하는 피가공물의 가공 방법의 일례를 모식적으로 도시하는 플로우차트이다.
도 7은, 도 6에 도시되는 유지 단계(S1)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 8은, 도 6에 도시되는 매설 단계(S2)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 9는, 도 6에 도시되는 매설 단계(S2) 후의 피가공물을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 10은, 도 6에 도시되는 평탄화 단계(S3)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 11은, 도 6에 도시되는 평탄화 단계(S3) 후의 피가공물을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 12는, 도 6에 도시되는 반전 단계(S4)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 13은, 도 6에 도시되는 연삭 단계(S5)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 14는, 도 6에 도시되는 연삭 단계(S5) 후의 피가공물을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 도 1(A)는, 기판의 일례를 모식적으로 도시하는 사시도이고, 도 1(B)는, 도 1(A)에 도시되는 기판의 단면을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 1(A) 및 도 1(B)에 도시되는 기판(11)은, 대략 평행한 표면(13a) 및 이면(13b)을 포함하고, 실리콘 등의 반도체 재료로 이루어지는 원반 형상의 웨이퍼(13)를 갖는다. 이 웨이퍼(13)의 측면에는, 웨이퍼(13)를 구성하는 반도체 재료의 특정의 결정 방위를 나타내기 위해 이용되는 노치(13c)가 형성되어 있다.
또한, 웨이퍼(13)의 표면(13a)(기판(11)의 표면 측)에는, 복수의 디바이스(15)가 형성되어 있다. 그리고, 복수의 디바이스(15)는, 매트릭스형으로 배치되어 있다. 즉, 복수의 디바이스(15)의 경계는, 격자형으로 연장되어 있다. 또한, 이 경계에 포함되는 복수의 직선형의 부분의 각각은 분할 예정 라인이라고도 불린다.
또한, 기판(11)의 표면 측은 요철 형상으로 되어 있다. 구체적으로는, 기판(11)의 표면 측 중 복수의 디바이스(15)가 형성되는 영역이 볼록부가 되고, 복수의 디바이스(15)가 형성되어 있지 않은 영역, 즉, 격자형으로 연장되는 복수의 디바이스(15)의 경계가 오목부가 된다.
그리고, 기판(11)의 표면 측에는, 그 이면 측의 연삭에 앞서, 웨이퍼(13)와 대략 동일한 직경을 갖는 원반 형상의 보호 부재가 부착된다. 도 2(A)는, 기판(11)의 표면 측에 보호 부재를 부착하는 모습을 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다.
기판(11)의 표면 측에 부착되는 보호 부재(17)는, 예를 들어, 필름형의 기재와, 기재의 기판(11) 측에 형성된 점착층(풀층)을 갖는다. 또한, 이 기재는, 예를 들어, 폴리올레핀, 폴리염화비닐 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트의 수지로 이루어진다. 또한, 이 점착층은, 예를 들어, 에폭시계 또는 아크릴계의 접착제로 이루어진다.
그리고, 보호 부재(17)는, 예를 들어, 압박 롤러(R) 등을 이용하여, 그 점착층 측이 기판(11)에 접촉한 상태로 압박되는 것에 의해 기판(11)의 표면 측에 부착된다. 그 결과, 기판(11)과 기판(11)의 표면 측에 부착된 보호 부재(17)를 구비하는 피가공물이 형성된다. 도 2(B)는, 이와 같이 형성된 피가공물을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2(B)에 도시되는 피가공물(19)에 있어서는, 보호 부재(17)가 기판(11)의 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 각각에 부착되지만, 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에는 부착되지 않는다. 그 결과, 기판(11)과 보호 부재(17)의 사이에 간극(G)이 생기고 있다.
또한, 피가공물(19)에 있어서는, 보호 부재(17)가 인접하는 한 쌍의 디바이스(15)의 사이에 약간 가라앉도록 변형하고 있다. 이에 의해, 보호 부재(17)의 표면 측, 즉, 기판(11)에 부착되지 않는 측이 기판(11)의 표면 측의 요철 형상을 약간 반영한 것과 같은 요철 형상으로 되어 있다.
도 3은, 피가공물(19)을 연삭하기 위한 연삭 장치의 일례를 모식적으로 도시한 사시도이다. 또한, 도 3에 도시되는 X축 방향(전후 방향) 및 Y축 방향(좌우 방향)은 수평면 상에 있어서 서로 직교하는 방향이며, Z축 방향(상하 방향)은, X축 방향 및 Y축 방향의 각각과 직교하는 방향(연직 방향)이다.
도 3에 도시되는 연삭 장치(2)는, 각종 구성 요소를 지지하는 베이스(4)를 구비한다. 이 베이스(4)의 전단면에는, 카세트 테이블(6a, 6b)이 설치되어 있다. 그리고, 카세트 테이블(6a, 6b)에는, 복수의 피가공물(19)을 수용할 수 있는 카세트(8a, 8b)가 재치되어 있다.
또한, 카세트 테이블(6a, 6b)의 약간 후방에 위치하는 베이스(4)의 상면에는, 오목부(4a)가 형성되어 있다. 이 오목부(4a)의 내측에는, 카세트(8a, 8b)로부터 피가공물(19)을 반출하고, 또한, 카세트(8a, 8b)에 피가공물(19)을 반입하는 것이 가능한 반송 기구(10)가 수용되어 있다.
이 반송 기구(10)는, 예를 들어, 복수의 관절과 로봇 핸드를 갖고, 이 로봇 핸드의 일면에 있어서 피가공물(19)을 유지한다. 또한, 반송 기구(10)는, 피가공물(19)을 유지하는 로봇 핸드를 반전하는 것, 즉, 피가공물(19)의 상하를 반전하는 것도 가능하다.
또한, 오목부(4a)의 경사 후방에는, 피가공물(19)의 위치를 조정하기 위한 위치 조정 기구(12)가 설치되어 있다. 이 위치 조정 기구(12)는, 원반 형상의 위치 조정용 테이블과, 위치 조정용 테이블의 주위에 배치된 복수의 핀을 포함한다. 그리고, 반송 기구(10)에 의해 카세트(8a, 8b)로부터 반출된 피가공물(19)은, 이 위치 조정용 테이블에 반입되어, 그 중심이 소정의 위치에 맞춰진다.
구체적으로는, 피가공물(19)이 위치 조정용 테이블에 반입되면, 위치 조정용 테이블의 직경 방향을 따라 복수의 핀이 위치 조정용 테이블에 접근한다. 이에 의해, 복수의 핀이 피가공물(19)의 측면에 접촉하여 피가공물(19)을 약간 이동시킨다. 그 결과, 피가공물(19)의 중심이 소정의 위치에 맞춰진다.
또한, 위치 조정 기구(12)의 측방에는, 피가공물(19)을 유지하여 후방으로 반송하는 반송 기구(14)가 설치되어 있다. 이 반송 기구(14)는, 예를 들어, Z축 방향으로 연장되는 지지축과, 이 지지축의 상단부에 기단부가 고정되고, 또한, Z축 방향과 직교하는 방향으로 연장되는 아암과, 이 아암의 선단부의 하측에 고정되어 있는 흡인 패드를 갖는다.
또한, 반송 기구(14)의 지지축은, 모터 등의 회전 기구(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 그리고, 이 회전 기구가 동작하면, Z축 방향을 따른 직선을 회전축으로 하여 지지축이 회전한다. 또한, 반송 기구(14)의 지지축은, 에어 실린더 등의 이동 기구(도시하지 않음)에 연결되어 있다. 그리고, 이 이동 기구가 동작하면, Z축 방향을 따라서 지지축이 이동한다. 즉, 지지축이 승강한다.
예를 들어, 반송 기구(14)는, 이하의 순서로 피가공물(19)을 유지하여 후방으로 반송한다. 먼저, 위치 조정 기구(12)에 있어서 중심이 소정의 위치에 맞춰진 피가공물(19)의 바로 위에 흡인 패드가 위치되도록 회전 기구가 지지축을 회전시킨다. 계속해서, 이 흡인 패드가 피가공물(19)에 접촉하도록 이동 기구가 지지축을 하강시킨다.
계속해서, 피가공물(19)이 흡인 패드에 의해 유지되도록 흡인 패드가 피가공물(19)의 상면 측을 흡인한다. 계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 흡인 패드를 상승시키도록 이동 기구가 지지축을 상승시킨다. 계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 흡인 패드를 선회시키도록 회전 기구가 지지축을 회전시킨다. 이에 의해, 피가공물(19)이 후방으로 반송된다.
반송 기구(14)의 후방에는, 턴 테이블(16)이 설치되어 있다. 이 턴 테이블(16)은, 모터(도시하지 않음) 등의 회전 기구에 접속되어 있다. 그리고, 이 회전 기구가 동작하면, 턴 테이블(16)의 상면의 중심을 통과하고, 또한 Z축 방향에 평행한 직선을 회전축으로 하여, 예를 들면, 도 3에 도시되는 화살표의 방향을 따라 턴 테이블(16)이 회전한다.
또한, 턴 테이블(16)에는, 턴 테이블(16)의 둘레 방향을 따라 대략 같은 각도의 간격으로 3개의 원반 형상의 테이블 베이스(18)가 설치되어 있다. 그리고, 각 테이블 베이스(18)의 상단부에는, 피가공물(19)을 유지하기 위한 척 테이블(20)이 장착되어 있다. 도 4는, 척 테이블(20) 및 척 테이블(20)과 연통 가능한 구성 요소를 모식적으로 도시하는 도면이다.
이 척 테이블(20)은, 예를 들어, 세라믹스 등으로 이루어지는 원반 형상의 프레임체(22)를 갖는다. 이 프레임체(22)는, 원반 형상의 바닥벽(22a)과, 이 바닥벽(22a)의 외주부로부터 세워 설치하는 원통 형상의 측벽(22b)을 갖는다. 즉, 프레임체(22)의 상면 측에는, 바닥벽(22a) 및 측벽(22b)에 의해 획정되는 원반 형상의 오목부가 형성되어 있다. 그리고, 이 오목부에는, 다공질 세라믹스 등으로 이루어지는 원반 형상의 포러스판(24)이 고정되어 있다.
또한, 프레임체(22)의 측벽(22b)의 상면 및 포러스판(24)의 상면은, 원추의 측면에 상당하는 형상으로 구성되어 있고, 피가공물(19)을 유지하기 위한 유지면으로서 기능한다. 또한, 바닥벽(22a)에는, 오목부의 바닥면에 있어서 개구되고, 또한 바닥벽(22a)을 관통하는 유로(22c)가 형성되어 있다. 그리고, 이 유로(22c)는, 밸브(26a)를 통해 흡인원(28a)에 접속되고, 또한, 밸브(26b)를 통해 유체 공급원(28b)에 접속되어 있다.
흡인원(28a)은, 예를 들어, 이젝터 등을 포함한다. 또한, 유체 공급원(28b)은, 예를 들면, 고압 기체를 저장하기 위한 탱크와, 탱크로부터 공급되는 기체에 혼입된 이물을 제거하기 위한 필터와, 탱크로부터 공급되는 기체의 압력을 조정하기 위한 레귤레이터를 포함한다.
또한, 척 테이블(20)은, 회전 기구(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 이 회전 기구는, 예를 들면, 모터 및 풀리 등을 포함한다. 그리고, 이 회전 기구가 동작하면, 척 테이블(20)의 유지면의 중심을 통과하는 직선을 회전축으로 하여 척 테이블(20)이 회전한다.
또한, 척 테이블(20)은, 테이블 베이스(18)를 통해 기울기 조정 기구(도시하지 않음)에 지지되어 있다. 이 기울기 조정 기구는, 척 테이블(20)의 둘레 방향을 따라 대체로 동등한 각도의 간격으로 배치되어 있는 2개의 가동축 및 1개의 고정축을 포함한다. 그리고, 2개의 가동축 중 적어도 한쪽이 테이블 베이스(18) 및 척 테이블(20)을 부분적으로 승강시키면, 척 테이블(20)의 회전축의 기울기가 조정된다.
또한, 테이블 베이스(18)에 척 테이블(20)이 장착된 상태에서 턴 테이블(16)을 도 3에 도시되는 화살표의 방향을 따라 회전시키면, 테이블 베이스(18)와 함께 척 테이블(20)이 이동한다. 이에 의해, 테이블 베이스(18) 및 척 테이블(20)을, 예를 들어, 반송 기구(14)에 인접하는 반입 반출 위치와, 반입 반출 위치의 경사 후방의 제1 연삭 위치와, 제1 연삭 위치의 측방의 제2 연삭 위치에 순서대로 위치시킬 수 있다.
그리고, 반입 반출 위치에 위치된 척 테이블(20)에는, 반송 기구(14)에 의해 후방으로 반송된 피가공물(19)이 반입된다. 피가공물(19)의 척 테이블(20)로의 반입은, 예를 들어, 이하의 순서로 행해진다.
우선, 반송 기구(14)의 흡인 패드에 의해 유지된 피가공물(19)을 척 테이블(20)의 유지면에 접근시키도록, 반송 기구(14)의 지지축에 연결되어 있는 이동 기구가 지지축을 하강시킨다. 계속해서, 흡인 패드에 의한 피가공물(19)의 상면 측의 흡인을 정지한다. 이에 의해, 피가공물(19)이 흡인 패드로부터 분리되어 척 테이블(20)에 반입된다.
그리고, 척 테이블(20)에 피가공물(19)이 반입되면, 피가공물(19)의 하면 측이 척 테이블(20)에 흡인되어 유지되도록, 흡인원(28a)을 동작시키고, 또한, 밸브(26a)를 개방 상태로 한다. 계속해서, 이 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)을 제1 연삭 위치 또는 제2 연삭 위치에 위치시키도록 턴 테이블(16)을 회전시킨다.
제1 연삭 위치 및 제2 연삭 위치의 각각의 후방에는, 기둥형의 지지 구조(30)가 설치되어 있다. 그리고, 지지 구조(30)의 전방면 측에는, 이동 기구(32)가 설치되어 있다. 이 이동 기구(32)는, Z축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(34)을 구비한다. 또한, 한 쌍의 가이드 레일(34)에는, 이동 플레이트(36)가 슬라이드 가능한 양태로 장착되어 있다.
또한, 이동 플레이트(36)의 후면 측(이면 측)에는, 볼 나사에 포함되는 너트(도시하지 않음)가 고정되어 있고, 이 너트에는, Z축 방향을 따라 연장되는 나사축(38)이 회전 가능한 양태로 연결되어 있다. 나사축(38)의 일단부(상단부)에는, 모터(40)가 접속되어 있다. 그리고, 모터(40)에 의해 나사축(38)을 회전시키면, 너트와 함께 이동 플레이트(36)가 Z축 방향을 따라 이동한다.
또한, 이동 플레이트(36)의 전방면(표면)에는, 고정구(42)가 설치되어 있다. 그리고, 고정구(42)는, 연삭 유닛(44)을 지지한다. 이 연삭 유닛(44)은, 고정구(42)에 고정되는 스핀들 하우징(46)을 갖는다. 또한, 스핀들 하우징(46)에는, Z축 방향 또는 Z축 방향에 대하여 약간 기울어진 방향을 따라 연장되는 스핀들(48)이 회전 가능한 양태로 수용되어 있다.
또한, 스핀들(48)의 하단부(선단부)는, 스핀들 하우징(46)으로부터 노출되어, 원판 형상의 마운트(50)로 되어 있다. 그리고, 마운트(50)의 외측 가장자리부에는, 마운트(50)의 두께 방향에 있어서 마운트(50)를 관통하는 복수의 구멍(도시하지 않음)이 형성되어 있고, 각 구멍에는 볼트(52)가 삽입되어 있다.
또한, 제1 연삭 위치 측의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에는, 볼트(52)를 이용하여, 예를 들어, 거친 연삭용의 연삭 휠(54)이 장착된다. 마찬가지로, 제2 연삭 위치 측의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에는, 볼트(52)를 이용하여, 예를 들어, 마무리 연삭용의 연삭 휠(54)이 장착된다.
또는, 제1 연삭 위치 측 또는 제2 연삭 위치 측의 한쪽의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에 후술하는 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(제1 연삭 휠)(54)이 장착되고, 또한, 그 다른 쪽에 후술하는 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용되는 연삭 휠(제2 연삭 휠)(54)이 장착되어 있어도 좋다.
또한, 스핀들 하우징(46)에는, 스핀들(48)의 기단부(상단부)에 접속되는 모터 등의 회전 기구가 수용되어 있다. 그리고, 이 회전 기구가 동작하면, 스핀들(48)과 함께 연삭 휠(54)이 Z축 방향 또는 Z축 방향에 대하여 약간 기울어진 방향을 따른 직선을 회전축으로 하여 회전한다.
도 5는, 연삭 휠(54) 등을 모식적으로 도시하는 일부 단면 측면도이다. 이 연삭 휠(54)은, 스테인리스강 또는 알루미늄 등의 금속으로 이루어지는 환형의 휠 베이스(56)를 포함한다. 또한, 휠 베이스(56)의 하면에는, 그 둘레 방향을 따라 대략 동일한 각도의 간격으로 복수의 지석(58)이 고정되어 있다. 그리고, 복수의 지석(58)의 각각은, 비트리파이드 또는 레지노이드 등의 결합제와, 이 결합제에 분산된 다이아몬드 등의 지립을 포함한다.
또한, 연삭 휠(54)의 근방에는, 액체 공급 유닛(60)이 설치되어 있다. 이 액체 공급 유닛(60)은, 예를 들어, 평면에서 보아 연삭 휠(54)의 내측에 위치하는 노즐(62)과, 이 노즐(62)에 순수 등의 액체를 공급하는 펌프(도시하지 않음)를 갖는다.
그리고, 이 펌프가 동작하면, 제1 연삭 위치 또는 제2 연삭 위치에 위치된 척 테이블(20)에 의해 유지된 피가공물(19)에 노즐(62)로부터 액체가 공급된다. 또한, 액체 공급 유닛(60)에 있어서는, 노즐(62)을 대신하여, 또는, 노즐(62)에 부가하여, 연삭 휠(54)에 형성되어 있는 유로를 통해 액체가 공급되어도 좋다.
또한, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)이 제1 연삭 위치 또는 제2 연삭 위치에 위치되면, 피가공물(19)의 상면 측의 연삭이 행해진다. 또한, 피가공물(19)의 상면 측의 연삭의 일례에 대해서는 후술한다. 그리고, 이 연삭이 완료되면, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)을 반입 반출 위치에 위치시키도록 턴 테이블(16)을 도 3에 도시하는 화살표의 방향을 따라 더욱 회전시킨다.
반입 반출 위치의 전방, 또한, 반송 기구(14)의 측방에는, 피가공물(19)을 유지하여 전방으로 반송하는 반송 기구(64)가 설치되어 있다. 이 반송 기구(64)는, 예를 들면, 반송 기구(14)와 동일한 구조를 갖는다.
그리고, 반송 기구(64)는, 예를 들어, 반입 반출 위치에 위치된 척 테이블(20)에 유지되어 있는 연삭 완료된 피가공물(19)을 전방으로 반송한다. 예를 들어, 피가공물(19)의 척 테이블(20)로부터의 반출은, 이하의 순서로 행해진다.
우선, 피가공물(19)이 척 테이블(20)로부터 이격되도록, 흡인원(28a)의 동작을 정지시키고, 또한, 밸브(26a)를 폐쇄 상태로 함과 함께, 유체 공급원(28b)을 동작시키고, 또한, 밸브(26b)를 개방 상태로 한다. 계속해서, 반송 기구(64)의 흡인 패드를 척 테이블(20)에 의해 유지된 피가공물(19)에 접근시키도록, 반송 기구(64)의 지지축에 연결되어 있는 이동 기구가 지지축을 하강시킨다.
계속해서, 피가공물(19)이 흡인 패드에 의해 유지되도록 흡인 패드가 피가공물(19)의 상면 측을 흡인한다. 계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 흡인 패드를 상승시키도록 이동 기구가 지지축을 상승시킨다. 계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 흡인 패드를 선회시키도록 회전 기구가 지지축을 회전시킨다. 이에 의해, 피가공물(19)이 전방으로 반송된다.
그리고, 척 테이블(20)로부터 반출된 연삭이 완료된 피가공물(19)은, 반송 기구(64)의 측방에 설치된 세정 유닛(66)에 반입된다. 이 세정 유닛(66)은, 예를 들어, 피가공물(19)의 하면 측을 유지한 상태로 회전하는 스피너 테이블과, 스피너 테이블에 의해 유지된 피가공물(19)의 상면 측에 세정용의 유체를 분사하는 세정용 노즐을 포함한다.
또한, 세정 유닛(66)에서 사용되는 세정용의 유체는, 예를 들어, 물과 에어가 혼합된 혼합 유체이다. 또는, 이 세정용 유체는 물 등의 액체만을 포함해도 된다. 그리고, 세정 유닛(66)에 있어서의 피가공물(19)의 상면 측의 세정이 완료되면, 반송 기구(10)가 세정 유닛(66)으로부터 카세트(8a, 8b)로 피가공물(19)을 반송한다.
도 6은, 연삭 장치(2)에 있어서 피가공물(19)을 가공하는 피가공물의 가공 방법의 일례를 모식적으로 도시한 플로우차트이다. 단적으로는, 이 방법은, 피가공물(19)에 포함되는 기판(11)의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에 보호 부재(17)를 매설시킴과 함께 보호 부재(17)의 표면 측을 평탄화하고 나서 기판(11)의 이면 측을 연삭하는 방법의 일례이다.
구체적으로는, 이 방법에 있어서는, 우선, 기판(11)의 이면 측, 즉, 복수의 디바이스(15)가 형성되어 있지 않은 측을 척 테이블(20)에 의해 유지한다(유지 단계(S1)). 도 7은, 유지 단계(S1)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
이 유지 단계(S1)에 있어서는, 우선, 반송 기구(10, 14) 등을 이용하여, 보호 부재(17)가 위가 되도록 카세트(8a, 8b)로부터 반출된 피가공물(19)을 척 테이블(20)에 반입한다. 그리고, 흡인원(28a)을 동작시키고, 또한, 밸브(26a)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 기판(11)의 이면 측이 척 테이블(20)에 의해 유지된다.
유지 단계(S1)후에는, 보호 부재(17)를 압박하여 기판(11)의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에 보호 부재(17)를 매설한다(매설 단계(S2)). 도 8은, 매설 단계(S2)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이고, 도 9는, 매설 단계(S2) 후의 피가공물(19)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
이 매설 단계(S2)에 있어서는, 먼저, 제1 연삭 위치 측 또는 제2 연삭 위치 측 중 한쪽의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에, 볼트(52)를 이용하여, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)을 장착한다. 또한, 이 연삭 휠(54)의 장착은, 유지 단계(S1)에 앞서 행해져도 좋다.
또한, 매설 단계(S2)에 있어서는, 보호 부재(17)를 국소적으로 압박할 수 있도록, 날 폭, 즉, 연삭 휠(54)의 직경 방향을 따른 길이가 작은 지석(58)을 포함하는 연삭 휠(54)이 이용되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)의 날 폭은, 3.0mm 미만인 것이 바람직하다.
또한, 매설 단계(S2)에 있어서는, 보호 부재(17)가 과도하게 연삭되지 않도록, 집중도, 즉, 지석(58)에 포함되는 지립의 체적 비율이 작은 지석(58)을 포함하는 연삭 휠(54)이 이용되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)의 집중도는, 100 미만인 것이 바람직하다.
계속해서, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)의 바로 아래에 피가공물(19)이 위치되도록, 턴 테이블(16)을 회전시켜 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)을 제1 연삭 위치 또는 제2 연삭 위치 중 한쪽에 위치시킨다. 계속해서, 척 테이블(20) 및 연삭 휠(54)의 쌍방을 회전시킨다.
계속해서, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)을 접촉시키도록, 척 테이블(20)을 회전시키면서 회전하는 연삭 휠(54)을 척 테이블(20)에 접근시킨다. 즉, 양자를 회전시킨 채로 연삭 휠(54)을 하강시킨다. 또한, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)이 접촉하기 직전에, 노즐(62)로부터 양자의 접촉 계면에 액체(L)를 공급한다.
또한, 매설 단계(S2)에 있어서는, 보호 부재(17)가 연화되기 쉬워지도록, 고온의 액체(L)가 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)과의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 매설 단계(S2)에 있어서 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 액체(L)의 온도는, 25° 이상인 것이 바람직하다.
또한, 매설 단계(S2)에 있어서는, 마찰열에 의해 연화된 보호 부재(17)가 액체(L)에 의해 과도하게 냉각되지 않도록, 적은 유량의 액체(L)가 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 매설 단계(S2)에 있어서 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 액체(L)의 유량은, 2.0L/min 미만인 것이 바람직하다.
그리고, 매설 단계(S2)에 있어서는, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 액체(L)가 공급된 상태로, 복수의 지석(58)에 의해 보호 부재(17)가 압박된다(도 8 참조). 이에 따라, 기판(11)과 보호 부재(17)의 사이의 간극(G)을 없애거나, 또는, 이 간극(G)을 작게 하도록, 기판(11)의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에 보호 부재(17)가 매설된다(도 9 참조).
매설 단계(S2)후에는, 보호 부재(17)를 연삭하여 보호 부재(17)의 표면 측을 평탄화한다(평탄화 단계(S3)). 도 10은, 평탄화 단계(S3)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이고, 도 11은, 평탄화 단계(S3) 후의 피가공물(19)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
이 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 먼저, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20) 및 매설 단계(S2)에 있어서 이용된 연삭 휠(54)의 쌍방의 회전을 정지시킴과 함께, 연삭 휠(54)을 보호 부재(17)로부터 이격시킨다. 즉, 연삭 휠(54)을 상승시킨다.
계속해서, 매설 단계(S2)에 있어서 이용된 연삭 휠(54)을 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용되는 것으로 교환한다. 또한, 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 동일한 연삭 휠(54)이 이용되어도 좋다. 이 경우, 연삭 휠(54)의 교환이 불필요해진다.
또한, 제1 연삭 위치 측 또는 제2 연삭 위치 측의 다른 쪽의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에 미리 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)이 장착되어 있어도 좋다. 이 경우, 연삭 휠(54)의 교환을 실시하지 않고, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)이 제1 연삭 위치 또는 제2 연삭 위치 중 다른 쪽에 위치되도록 턴 테이블(16)을 회전시켜도 좋다.
또한, 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 보호 부재(17)의 표면 측의 전역을 균일하게 연삭할 수 있도록, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)보다 날 폭이 큰 지석(58)을 포함하는 연삭 휠(54)이 이용되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)의 날 폭은, 3.0mm 이상인 것이 바람직하다.
또한, 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 보호 부재(17)의 연삭이 원활하게 행해지도록, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)보다 집중도가 큰 지석(58)을 포함하는 연삭 휠(54)이 이용되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용되는 연삭 휠(54)에 포함되는 지석(58)의 집중도는, 100 이상인 것이 바람직하다.
계속해서, 매설 단계(S2)와 마찬가지로 연삭 장치(2)를 동작시킨다. 즉, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 액체(L)가 공급된 상태에서, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)을 접촉시키도록, 척 테이블(20)을 회전시키면서 회전하는 연삭 휠(54)을 척 테이블(20)에 접근시킨다.
또한, 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 보호 부재(17)가 연화되기 어려워지도록, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 액체(L)보다 저온의 액체(L)가 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 평탄화 단계(S3)에 있어서 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 액체(L)의 온도는, 25° 미만인 것이 바람직하다.
또한, 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 마찰열에 의해 연화된 보호 부재(17)가 액체(L)에 의해 충분히 냉각되도록, 매설 단계(S2)에 있어서 이용되는 액체(L)보다 많은 유량의 액체(L)가 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 평탄화 단계(S3)에 있어서 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 공급되는 액체(L)의 유량은, 2.0L/min 이상인 것이 바람직하다.
그리고, 평탄화 단계(S3)에 있어서는, 보호 부재(17)와 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 액체(L)가 공급된 상태에서, 복수의 지석(58)에 의해 보호 부재(17)가 연삭된다(도 10 참조). 이에 의해, 보호 부재(17)의 표면 측이 평탄화된다(도 11 참조).
평탄화 단계(S3) 후에는, 보호 부재(17)를 통해 기판(11)이 척 테이블(20)에 유지되도록 피가공물(19)을 반전시킨다(반전 단계(S4)). 도 12는, 반전 단계(S4)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이다.
이 반전 단계(S4)에 있어서는, 우선, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20) 및 평탄화 단계(S3)에 있어서 이용된 연삭 휠(54)의 쌍방의 회전을 정지시킴과 함께, 연삭 휠(54)을 보호 부재(17)로부터 이격시킨다. 즉, 연삭 휠(54)을 상승시킨다.
계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)이 반입 반출 위치에 위치되도록 턴 테이블(16)을 회전시킨다. 계속해서, 흡인원(28a)의 동작을 정지시키고, 또한, 밸브(26a)를 폐쇄 상태로 하는 것과 함께, 유체 공급원(28b)을 동작시키고, 또한, 밸브(26b)를 개방 상태로 한다. 이에 의해, 척 테이블(20)로부터의 피가공물(19)의 반출이 가능해진다.
계속해서, 반송 기구(64)를 이용하여, 보호 부재(17)가 위가 되도록 척 테이블(20)로부터 반출된 피가공물(19)을 세정 유닛(66)에 반입한다. 계속해서, 세정 유닛(66)에 있어서 피가공물(19)의 상면 측을 세정한다. 이에 의해, 평탄화 단계(S3)에 있어서 발생한 연삭 부스러기, 즉, 보호 부재(17)의 부스러기가 피가공물(19)의 상면 측으로부터 세정된다.
계속해서, 반송 기구(10, 14) 등을 이용하여, 보호 부재(17)가 아래가 되도록 세정 유닛(66)으로부터 반출된 피가공물(19)을 다시 척 테이블(20)에 반입한다. 그리고, 흡인원(28a)을 동작시키고, 또한, 밸브(26a)를 개방 상태로 한다. 이에 따라, 보호 부재(17)를 통해 기판(11)이 척 테이블(20)에 유지된다. 즉 보호 부재(17)의 표면 측이 척 테이블(20)에 유지된다.
여기서, 보호 부재(17)의 표면 측은, 평탄화 단계(S3)에 있어서 평탄화되어 있다. 그 때문에, 반전 단계(S4)에 있어서는, 척 테이블(20)과 보호 부재(17)의 사이의 간극을 없애거나, 또는, 이 간극을 작게 하는 것이 가능해진다.
반전 단계(S4) 후에는, 기판(11)의 이면 측을 연삭한다(연삭 단계(S5)). 도 13은, 연삭 단계(S5)의 모습을 모식적으로 도시하는 도면이고, 도 14는, 연삭 단계(S5) 후의 피가공물(19)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
이 연삭 단계(S5)에 있어서는, 우선, 제1 연삭 위치 측의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에, 볼트(52)를 이용하여, 거친 연삭용의 연삭 휠(54)을 장착하고, 또한, 제2 연삭 위치 측의 연삭 유닛(44)의 마운트(50)의 하면에, 볼트(52)를 이용하여, 마무리 연삭용의 연삭 휠(54)을 장착한다. 또한, 거친 연삭용 연삭 휠(54) 및 마무리 연삭용 연삭 휠(54)의 장착은, 반전 단계(S4)에 앞서 행해져도 좋다.
또한, 거친 연삭용의 연삭 휠(54)은, 매설 단계(S2) 또는 평탄화 단계(S3)의 한쪽에 있어서 이용된 연삭 휠(54)과 동일한 것이어도 좋다. 또한, 마무리 연삭용 연삭 휠(54)은, 매설 단계(S2) 또는 평탄화 단계(S3)의 다른 쪽에서 이용된 연삭 휠(54)과 동일한 것이어도 좋다. 이들의 경우, 연삭 휠(54)의 교환이 불필요해진다.
계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)이 제1 연삭 위치에 위치되도록 턴 테이블(16)을 회전시킨다. 계속해서, 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3)와 마찬가지로 연삭 장치(2)를 동작시킨다.
즉, 기판(11)과 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 액체(L)가 공급된 상태에서, 기판(11)과 복수의 지석(58)을 접촉시키도록, 척 테이블(20)을 회전시키면서 회전하는 거친 연삭용의 연삭 휠(54)을 척 테이블(20)에 접근시킨다. 이에 의해, 기판(11)의 이면 측이 거친 연삭된다.
계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20) 및 거친 연삭용의 연삭 휠(54)의 쌍방의 회전을 정지시킴과 함께, 연삭 휠(54)을 보호 부재(17)로부터 이격시킨다. 즉, 연삭 휠(54)을 상승시킨다.
계속해서, 피가공물(19)을 유지하는 척 테이블(20)이 제2 연삭 위치에 위치되도록 턴 테이블(16)을 회전시킨다. 계속해서, 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3)와 마찬가지로 연삭 장치(2)를 동작시킨다.
즉, 기판(11)과 복수의 지석(58)의 접촉 계면에 액체(L)가 공급된 상태에서, 기판(11)과 복수의 지석(58)을 접촉시키도록, 척 테이블(20)을 회전시키면서 회전하는 마무리 연삭용의 연삭 휠(54)을 척 테이블(20)에 접근시킨다. 이에 의해, 기판(11)의 이면 측이 마무리 연삭된다.
이상에 의해, 기판(11)의 이면 측의 연삭이 완료된다. 여기서, 척 테이블(20)과 보호 부재(17)의 사이에는, 간극이 없거나, 또는, 이 간극이 작다. 그 때문에, 연삭 단계(S5)에 있어서는, 연삭에 수반하여 기판(11)의 이면 측이 요철 형상으로 되는 것을 방지할 수 있다.
도 6에 도시되는 피가공물의 가공 방법에 있어서는, 매설 단계(S2)에 있어서 보호 부재(17)를 압박하는 것에 의해 기판(11)의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에 보호 부재(17)를 매설시킴과 함께, 평탄화 단계(S3)에 있어서 보호 부재(17)를 연삭하여 보호 부재(17)의 표면 측을 평탄화한다.
이 경우, 기판(11)과 보호 부재(17)의 사이의 간극(G)을 없애거나, 또는, 이 간극(G)을 작게 함과 함께, 보호 부재(17)를 통해 기판(11)을 유지하는 척 테이블(20)과 보호 부재(17)와의 사이의 간극을 없애거나, 또는, 이 간극을 작게 하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 연삭 단계(S5)에 앞서 매설 단계(S2)및 평탄화 단계(S3)를 실시하는 것에 의해, 기판(11)의 이면 측의 연삭에 수반하여 기판(11)의 이면 측이 요철 형상으로 되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상술한 내용은 본 발명의 일 형태이며, 본 발명의 내용은 상술한 내용에 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 발명에 있어서는, 유지 단계(S1), 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3)가 실시되는 연삭 장치와 연삭 단계(S5)가 실시되는 연삭 장치가 상이하여도 좋다. 또한, 본 발명에 있어서는, 유지 단계(S1), 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3)를 실시하는 주체와 연삭 단계(S5)를 실시하는 주체가 상이해도 좋다.
또한, 본 발명에 있어서는, 복수의 디바이스(15)의 경계에 대한 보호 부재(17)의 매설과 보호 부재(17)의 표면 측의 평탄화가 동시에 실시되어도 좋다. 즉, 본 발명은, 매설 단계(S2) 및 평탄화 단계(S3) 대신에, 유지 단계(S1) 후에, 보호 부재(17)가 압박됨과 함께 연삭되어 기판(11)의 표면 측 중 오목부로 되어 있는 복수의 디바이스(15)의 경계에 보호 부재(17)가 매설됨과 함께 보호 부재(17)의 표면 측이 평탄화되도록, 척 테이블(20)을 회전시키면서 회전하는 연삭 휠(54)을 척 테이블(20)에 접근시키는 매설 평탄화 단계를 구비하는 피가공물의 가공 방법이어도 좋다.
그 외, 상기 서술한 실시 형태에 관련된 구조 및 방법 등은, 본 발명의 목적의 범위를 일탈하지 않는 한에 있어서 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
2: 연삭 장치
4: 베이스(4a: 오목부)
6a, 6b: 카세트 테이블
8a, 8b: 카세트
10: 반송 기구
11: 기판
12: 위치 조정 기구
13: 웨이퍼(13a: 표면, 13b: 이면)
14: 반송 기구
15: 디바이스
16: 턴 테이블
17: 보호 부재
18: 테이블 베이스
19: 피가공물
20: 척 테이블
22: 프레임체(22a: 바닥벽, 22b: 측벽, 22c: 유로)
24: 포러스판
26a, 26b: 밸브
28a: 흡인원
28b: 유체 공급원
30: 지지 구조
32: 이동 기구
34: 가이드 레일
36: 이동 플레이트
38: 나사축
40: 모터
42: 고정구
44: 연삭 유닛
46: 스핀들 하우징
48: 스핀들
50: 마운트
52: 볼트
54: 연삭 휠
56: 휠 베이스
58: 지석
60: 액체 공급 유닛
62: 노즐
64: 반송 기구
66: 세정 유닛

Claims (10)

  1. 복수의 디바이스가 표면 측에 형성되는 것에 의해 그 표면 측이 요철 형상으로 되어 있는 기판과, 그 기판의 상기 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 각각에 부착되어 있는 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서,
    상기 기판의 이면 측을 척 테이블에 의해 유지하는 유지 단계와,
    상기 유지 단계 후에, 상기 보호 부재가 압박되어 상기 기판의 상기 표면 측 중 오목부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 경계에 상기 보호 부재가 매설되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 제1 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 매설 단계와,
    상기 매설 단계 후에, 상기 보호 부재가 연삭되어 상기 보호 부재의 표면 측이 평탄화되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 제2 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 평탄화 단계
    를 구비하는, 피가공물의 가공 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 평탄화 단계 후에, 상기 기판의 상기 이면 측을 연삭하는 연삭 단계를 더 구비하는, 피가공물의 가공 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 유량이 적은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것인, 피가공물의 가공 방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 유량이 적은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것인, 피가공물의 가공 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 온도가 높은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것인, 피가공물의 가공 방법.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 매설 단계에 있어서는, 상기 평탄화 단계에 있어서 상기 보호 부재와 상기 제2 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 액체보다 온도가 높은 액체가 상기 보호 부재와 상기 제1 연삭 휠의 접촉 계면에 공급되는 것인, 피가공물의 가공 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 연삭 휠은, 상기 제2 연삭 휠에 포함되는 지석보다 집중도가 낮은 지석을 포함하는, 피가공물의 가공 방법.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 연삭 휠은, 상기 제2 연삭 휠에 포함되는 지석보다 날 폭이 좁은 지석을 포함하는, 피가공물의 가공 방법.
  9. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 연삭 휠과 상기 제2 연삭 휠은, 동일한 연삭 휠인 것인, 피가공물의 가공 방법.
  10. 복수의 디바이스가 표면 측에 형성되는 것에 의해 그 표면 측이 요철 형상으로 되어 있는 기판과, 그 기판의 상기 표면 측 중 볼록부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 각각에 부착되어 있는 보호 부재를 구비하는 피가공물의 가공 방법으로서,
    상기 기판의 이면 측을 척 테이블에 의해 유지하는 유지 단계와,
    상기 유지 단계 후에, 상기 보호 부재가 압박됨과 함께 연삭되어 상기 기판의 상기 표면 측 중 오목부로 되어 있는 상기 복수의 디바이스의 경계에 상기 보호 부재가 매설됨과 함께 상기 보호 부재의 표면 측이 평탄화되도록, 상기 척 테이블을 회전시키면서 회전하는 연삭 휠을 상기 척 테이블에 접근시키는 매설 평탄화 단계
    를 구비하는, 피가공물의 가공 방법.
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