KR20240005069A

KR20240005069A - 반응성 메소젠

Info

Publication number: KR20240005069A
Application number: KR1020237042229A
Authority: KR
Inventors: 케빈 아들렘; 오웨인 리르 패리; 알렉스 데이비스; 스티븐 멀카히; 필립 우처; 베아테 슈나이더
Original assignee: 메르크 파텐트 게엠베하
Priority date: 2021-05-07
Filing date: 2022-05-04
Publication date: 2024-01-11
Also published as: EP4334408A1; JP2024521031A; WO2022233908A1; CN117280011A; US20240279550A1; TW202302516A

Abstract

본 발명은 반응성 메소젠(RM), 상기 RM을 포함하는 혼합물 및 제형, 상기 RM 및 RM 혼합물로부터 수득된 중합체, 및 광학 또는 전기광학 컴포넌트 또는 장치에서의 상기 RM, RM 혼합물 및 중합체의 용도에 관한 것이다.

Description

반응성 메소젠

본 발명은 반응성 메소젠(RM), 상기 RM을 포함하는 혼합물 및 제형, 상기 RM 및 RM 혼합물로부터 수득된 중합체, 및 광학 또는 전기광학(electrooptical) 컴포넌트 또는 장치에서의 상기 RM, RM 혼합물 및 중합체의 용도에 관한 것이다.

반응성 메소젠(RM), 혼합물 또는 이를 포함하는 제형, 및 이로부터 수득된 중합체는 광학 컴포넌트, 예컨대 보상, 지연 또는 편광 필름, 또는 렌즈를 제조하는 데 사용될 수 있다. 이러한 광학 컴포넌트는 광학 또는 전기광학 장치, 예컨대 액정 디스플레이에 사용될 수 있다. 통상적으로 RM 또는 RM 혼합물은 동일반응계 중합 과정을 통해 중합된다.

높은 복굴절률을 갖는 RM 필름 생성물의 제조는 현대의 디스플레이 장치, 예컨대 LCD 또는 증강 현실 또는 가상 현실(AR/VR) 제품의 광학 컴포넌트를 제조하는 데 매우 중요하다. 예컨대, 명도 강화 필름, 예컨대 3M DBEF™은 후면광 단위에서 명도를 증가시키거나 광원의 개수를 감소시키기 위해 디스플레이에 자주 포함된다. 광대역 콜레스테릭(broadband cholesteric) 필름 또한 상기 목적에 사용될 수 있고, 광학 특성은 가공 동안 성취될 수 있는 확장에 의존한다. 확장하기에 더 용이한 필름은 생산 라인에서 더 빠르게 가공될 수 있고, 추가적으로 향상된 광학 특성을 가질 수 있다.

이와 관련하여, 나선 피치(pitch)에서 구배가 수득되도록 콜레스테릭 반응성 메소젠 필름을 중합하여, 필름의 반사 대역을 확장할 수 있다. 우수한 광학 특성을 갖는 얇은 필름은 적어도 하나의 적합한 높은 복굴절률 RM의 포함에 의존한다.

콜레스테릭 필름의 확장은 반응성 메소젠 혼합물 중의 높은 복굴절률 물질의 구조에 의해 좌우된다. 화합물은, 바람직하게는 융점이 지나치게 높아짐 없이, 매우 복굴절성이고 대역 확장이 일어나게 하는 한편, 우수한 용해또 및 넓은 네마틱 범위를 가져야 한다. 상기 특성을 갖는 현재까지 제조된 높은 복굴절률 반응성 메소젠은 콜레스테릭 필름이, 상기 필름이 탁해지기 전의 특정한 양에 의해 확장되는 것만을 허용한다.

RM의 복굴절률을 증가시키는 한편, 중합성을 유지하게 하고 우수한 물리적 특성을 갖게하는 것이 가능하지만, 특정 화학 기, 예컨대 톨란 기의 화합물로의 혼입을 요한다.

메소젠 톨란 유도체는, 예컨대, US 6,514,578 B1, GB 2 388 599 B1, US 7,597,942 B1, US 2003-072893 A1, US 2006-0119783 A1 또는 JP 2015-205843에 기재되어 있다.

일반적으로 톨란 기는 상대적으로 반응성이고 광 노출에 대해 대부분 부적절하여, 황화 또는 기타 변성 효과에 기인하여 이를 다수의 광학 적용례에 이용하기에 어렵게 한다. 또한, 메소젠 톨란 유도체는 RM 혼합물 또는 유기 용매에서 제한된 용해도를 자주 나타내고 이에 따라 이의 사용이 제한된다.

따라서, 본 발명의 목적은, 선행 기술로부터 공지된 물질의 단점을 갖지 않는 개선된 반응성 메소젠(RM), RM 혼합물 및 RM 제형을 제공하는 것이다. 특히, 본 발명의 목적은 동일 반응계 내 중합에 의해 중합체를 제조하기에 적합하고 동시에 높은 복굴절률을 나타내고, 우수한 용해도를 나타내고, 개선된 확장 가능성을 나타내며, 유리한 전이 온도를 갖고, UV 광에 노출된 후의 황화에 대한 높은 내성을 나타내는 RM, RM 혼합물 및 RM 제형을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 하기 설명으로부터 전문가에게 즉시 명확하다.

놀랍게도, 본 발명의 발명자들은 청구항 1에 따른 중합성 톨란 유도체가 상기 제시된 하나 이상의 목적을 충족할 수 있음을 발견하였다.

따라서, 본 발명은 하기 화학식 I의 화합물에 관한 것이다:

상기 식에서,

P는 중합성 기이고,

Sp는 스페이서 기(spacer group) 또는 단일 결합이고,

R¹¹은 F, Cl, CN, NCS, 또는 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖고 보다 바람직하게는 임의적으로 불화된 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시 또는 P-Sp이고,

A, B, D, 및 E는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, 일환형 또는 다환형이고 하나 이상의 기 L 또는 P-Sp-로 임의적으로 치환된, 4 내지 20개의 고리 원자를 갖는 지환형, 헤테로환형, 방향족 또는 헤테로방향족 기이고, 고리 C 및 D 중 하나는 또한 단일 결합일 수 있고,

L은 F, Cl, -CN, P-Sp-, 또는 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬이고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂-기는, O- 및/또는 S-원자가 서로 적접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, CR⁰=CR⁰⁰-, -C≡C-, , , , , , 또는 로 임의적으로 치환되고, 하나 이상의 H 원자는 각각 임의적으로 P-Sp-, F 또는 Cl로 대체되거나, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 사이클로알킬 또는 사이클로알켄일을 형성할 수 있고,

C는 , , , , 또는 이고,

M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이고,

Z¹¹ 및 Z¹²는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -S-CO-, -CO-S-, -O-COO-, -CO-NR⁰-, -NR⁰-CO-, -NR⁰-CO-NR⁰⁰, -NR⁰-CO-O-, -O-CO-NR⁰-, -OCH₂-, -CH₂O-, -SCH₂-, -CH₂S-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CF₂S-, -SCF₂-_, -CH₂CH₂-, -(CH₂)_n1, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR⁰-, -CY¹=CY²-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합, 바람직하게는 -COO-, -OCO-, -C≡C-, 또는 단일 결합이고,

n1은 1, 2, 3 또는 4이고,

r은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2이고,

s는 0, 1, 2 또는 3, 바람직하게는 0, 1 또는 2이고, 매우 바람직하게는 0 또는 1이고,

t는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 0 또는 1, 매우 바람직하게는 0이고,

R⁰, R⁰⁰은 H, 또는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이고,

Y¹ 및 Y²는 서로 독립적으로 H, F, Cl, NCS, 또는 CN이고,

n은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 가장 바람직하게는 0이고,

m은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 가장 바람직하게는 0이다.

본 발명은 또한, 2개 이상의 RM을 포함하되 이들 중 적어도 하나가 화학식 I의 화합물을 포함하는 혼합물(이후로 "RM 혼합물"로 지칭됨)에 관한 것이다.

본 발명은 또한, 상기 및 하기에 기재되는 하나 이상의 화학식 I의 화합물 또는 RM 혼합물을 포함하고 하나 이상의 용매 및/또는 첨가제를 추가로 포함하는 제형(이후로 "RM 제형"으로 지칭됨)에 관한 것이다.

본 발명은 또한, 바람직하게는 RM이 정렬되고 바람직하게는 RM 또는 RM 혼합물이 액정 상을 보이는 온도에서, 상기 및 하기에 기재되는 하나 이상의 화학식 I의 화합물 또는 RM 혼합물을 중합하여 수득가능한 또는 수득되는 중합체에 관한 것이다.

본 발명은 또한, 상기 및 하기에 기재되는 화학식 I의 화합물, RM 혼합물 또는 중합체의 광학, 전기광학 또는 전자 컴포넌트 또는 장치에서의 용도에 관한 것이다.

본 발명은 또한, 상기 및 하기에 기재되는 RM, RM 혼합물 또는 중합체를 포함하는, 광학, 전기광학 또는 전자 장치 또는 이들의 컴포넌트에 관한 것이다.

상기 컴포넌트는 비제한적으로 광학 지연 필름, 편광기, 보상기, 빔 스플리터(beam splitter), 반사 필름, 정렬 층, 색상 필터, 정전기 방지 보호 시트, 전자기 간섭 보호 시트, 편광 제어된 렌즈(예를 들어, 자동입체 3D 디스플레이용), IR 반사 필름(예를 들어, 윈도우(window) 제품용), 공간 광 조절기, 및 광 유도(light guide), 포커싱(focusing) 및 광학 효과(예컨대, 3D, 홀로그래피, 전기통신)를 위한 렌즈를 포함한다.

상기 장치는 비제한적으로 전기광학 디스플레이, 특히 LC 디스플레이, 자동입체 3D 디스플레이, 유기 발광 다이오드(OLED), 광학 데이터 저장 장치, AR/VR 제품용 고글 및 윈도우를 포함한다.

용어 정의

본원에 사용된 용어 "RM 혼합물"은 2, 3 4, 5, 6, 7, 8, 9개 또는 그 이상의 RM을 포함하는 혼합물을 의미한다.

본원에 사용된 용어 "RM 제형"은 적어도 하나의 RM 또는 RM 혼합물, 및 RM 제형 및/또는 적어도 하나의 RM의 특정한 특성을 제공하거나 개질하기 위해 적어도 하나의 RM 또는 RM 혼합물에 첨가되는 하나 이상의 다른 물질을 의미한다. RM 제형이 또한 RM을 기판에 운반하여 이에서의 층 또는 구조의 형성을 가능하게 하는 것이 이해될 것이다. 예시적인 물질은 비제한적으로 하기 보다 상세 설명되는 용매, 중합 개시제, 계면활성제 및 접착 촉진제 등을 포함한다.

본원에 사용된 용어 "반응성 메소젠" 및 "RM"은 메소젠 또는 액정 골격, 및 이에 부착되는, 중합에 적합하고 "중합성 기" 또는 "P"로도 지칭되는 하나 이상의 작용기를 함유한느 화합물을 의미하는 것으로 이해될 것이다.

달리 언급이 없는 한, 본원에 사용된 용어 "중합성 화합물"은 중합성 단량체 화합물을 의미하는 것으로 이해될 것이다.

본원에 사용된 용어 "액정", "메소젠" 및 "메소젠 화합물"은 온도, 압력 및 농도의 적합한 조건하에 메소상 또는 특히 액정 상으로서 존재할 수 있는 화합물을 의미한다.

본원에 사용된 용어 "메소젠 기"는 당업자에게 공지되어 있고 문헌에 기재되어 있고, 이의 인력적 및 척력적 상호작용에 기인하여 저분자량 또는 중합체 물질에서 액정(LC) 상을 야기하는 데 본질적으로 기여하는 기를 의미한다. 메소젠 기를 함유하는 화합물(메소젠 화합물)은 그 자체로는 액정 상을 필수적으로 가질 필요가 없다. 메소젠 화합물은 다른 화합물과 혼합 및/또는 중합 후에만 액정 상 거동을 나타낼 수도 있다. 전형적인 메소젠 기는, 예컨대, 강성 막대(rod)- 또는 원반(disc)-형태의 단위의다. 메소젠 또는 LC 화합물과 관련하여 사용되는 용어 및 정의의 개관은 문헌[Pure Appl . Chem . 2001, 73(5), 888] 및 [C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew . Chem . 2004, 116, 6340-6368]에 기재되어 있다.

본원에 사용된 용어 "스페이서 기"는 이후로 "Sp"로도 지칭되고 당업자에게 공지되어 있고 문헌에 기재되어 있다(예컨대, 문헌[Pure Appl . Chem . 2001, 73(5), 888] 및 [C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew . Chem . 2004, 116, 6340-6368] 참고). 본원에 사용된 용어 "스페이서 기" 또는 "스페이서"는 중합성 메소젠 화합물에서 메소젠 기 및 중합성 기(들)를 연결하는 가요성 기, 예컨대 알킬렌 기를 의미한다.

상기 및 하기 제시된 화학식에서, 기 R(이의 임의의 변형 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함) 또는 L이 알킬 라디칼 및/또는 알콕시 라디칼인 경우, 이는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 이는 바람직하게는 직쇄이고, 2, 3, 4, 5, 6 또는 7개의 C 원자를 갖고, 이에 따라 바람직하게는 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 에톡시, 프로폭시, 부톡시, 펜톡시, 헥실옥시 또는 헵틸옥시, 또한 메틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트라이데실, 테트라데실, 펜타데실, 메톡시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 트라이데실옥시 또는 테트라데실옥시이다.

상기 및 하기 제시된 화학식에서, 기 R(이의 임의의 변형 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함) 또는 L이 하나 이상의 CH₂ 기가 S로 대체된 알킬 라디칼인 경우, 이는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 이는 바람직하게는 직쇄이고, 1, 2, 3, 4, 5, 6 또는 7개의　C 원자를 갖고, 이에 따라 바람직하게는 티오메틸, 티오에틸, 티오프로필, 티오부틸, 티오펜틸, 티오헥실 또는 티오헵틸이다.

옥사알킬은 바람직하게는 직쇄 2-옥사프로필(= 메톡시-메틸), 2-(=　에톡시메틸) 또는 3-옥사부틸(=　2-메톡시에틸), 2-, 3- 또는 4-옥사펜틸, 2-, 3-, 4- 또는 5-옥사헥실, 2-, 3-, 4-, 5- 또는 6-옥사헵틸, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- 또는 7-옥사옥틸, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-옥사노닐, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- 또는 9-옥사-데실이다.

상기 및 하기 제시된 화학식에서, 기 R(이의 임의의 변형 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함) 또는 L이 알콕시 또는 옥사알킬 기인 경우, 이는 또한 하나 이상의 추가적인 산소 원자를 함유할 수 있되, 상기 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않는다.

또다른 바람직한 양태에서, R(이의 임의의 변형, 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등을 포함함) 중 하나 이상 또는 L은 하기로 이루어진 군으로부터 선택되고:

, , , ,

-S¹-F, -O-S¹-F 및 -O-S₁-O-S₂[상기 식에서, S¹은 C_1-12-알킬렌 또는 C_2-12-알켄일렌이고, S²는 H, C_1-12-알킬 또는 C_2-12-알켄일임], 매우 바람직하게는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

, , , , , ,

, , , ,

-OCH₂OCH₃, -O(CH₂)₂OCH₃, -O(CH₂)₃OCH₃, -O(CH₂)₄OCH₃, -O(CH₂)₂F, -O(CH₂)₃F 및 -O(CH₂)₄F.

상기 및 하기 제시된 화학식에서, 기 R(이의 임의의 변형 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함) 또는 L이 하나의 CH₂ 기가 -CH=CH-로 대체된 알킬 라디칼인 경우, 이는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 이는 바람직하게는 직쇄이고 2 내지 10개의 C 원자를 갖는다. 이에 따라, 이는, 특히 비닐, 프로프-1- 또는 -2-엔일, 부트-1-, -2- 또는 -3-엔일, 펜트-1-, -2-, -3- 또는 -4-엔일, 헥스-1-, -2-, -3-, -4- 또는 -5-엔일, 헵트-1-, -2-, -3-, -4-, -5- 또는 -6-엔일, 옥트-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-엔일, 논-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6-, -7- 또는 -8-엔일, 데크-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6-, -7-, -8- 또는 -9-엔일이다.

상기 및 하기 제시된 화학식에서, 기 R(이의 임의의 변형 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함) 또는 L이 할로겐으로 적어도 일치환된 알킬 또는 알켄일 라디칼인 경우, 라디칼은 바람직하게는 직쇄이고, 상기 할로겐은 바람직하게는 F 또는 Cl이다. 다치환의 경우, 할로겐은 바람직하게는 F이다. 생성되는 라디칼은 또한 과불화된 라디칼을 포함한다. 일치환의 경우, 불소 또는 염소 치환기가 임의의 목적하는 위치에 존재할 수 있되, 바람직하게는 ω-위치에 존재한다.

할로겐은 바람직하게는 F 또는 Cl, 매우 바람직하게는 F이다.

기 -CR⁰=CR⁰⁰-는 바람직하게는 -CH=CH-이다.

-OC-, -CO-, -C(=O)- 및 -C(O)-는 카보닐 기, 즉 이다.

바람직한 치환기 L은, 예컨대, F, Cl, Br, I, -CN, -NO₂, -NCO, -NCS, -OCN, -SCN, -C(=O)N(R^x)₂, -C(=O)Y¹, -C(=O)R^x, -N(R^x)₂, 또는 각각 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시(이때, 하나 이상의 H 원자는 F 또는 Cl로 임의적으로 대체될 수 있음), 1 내지 20개의 Si 원자를 갖는 임의적으로 치환된 실릴, 또는 6 내지 25개, 바람직하게는6 내지 15개의 C 원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴이고,

이때, R(이의 임의의 변형, 예컨대 R¹, R⁰, R¹¹ 등 포함)은 H, F, Cl, CN, 또는 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬이고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂-기는, O- 및/또는 S-원자가 서로 적접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO- 또는 -O-CO-O-로 임의적으로 치환되고, 이때, 하나 이상의 H 원자는 각각 임의적으로 F, Cl, P- 또는 P-Sp-로 대체되고,

Y¹은 할로겐이다.

특히 바람직한 치환기 L은, 예컨대, F, Cl, CN, NO₂, CH₃, C₂H₅, OCH₃, OC₂H₅, COCH₃, COC₂H₅, COOCH₃, COOC₂H₅, CF₃, OCF₃, OCHF₂, OC₂F₅, 또한 페닐이다.

은 바람직하게는 또는

이고, 이때, L은 상기 제시된 의미 중 하나를 갖는다.

중합성 기 P는 중합 반응, 예컨대, 예컨대, 자유-라디칼 또는 이온성 쇄 중합, 중첨가 또는 중축합, 또는 중합체-유사 반응, 예컨대 주 중합체 쇄에 적합한 기에 대한 첨가 또는 축합에 적합한 기이다. 쇄 중합을 위한 기, 특히 C=C 이중 결합 또는 -C≡C- 삼중 결합을 함유하는 기, 및 개환에 의한 중합에 적합한 기, 예컨대, 예컨대, 옥세탄 또는 에폭사이드 기가 특히 바람직하다.

바람직한 기 P는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

CH₂=CW¹-CO-O-, CH₂=CW¹-CO-, , , , , CH₂=CW²-(O)_k3-, CW¹=CH-CO-(O)_k3-, CW¹=CH-CO-NH-, CH₂=CW¹-CO-NH-, CH₃-CH=CH-O-, (CH₂=CH)₂CH-OCO-, (CH₂=CH-CH₂)₂CH-OCO-, (CH₂=CH)₂CH-O-, (CH₂=CH-CH₂)₂N-, (CH₂=CH-CH₂)₂N-CO-, HO-CW²W³-, HS-CW²W³-, HW²N-, HO-CW²W³-NH-, CH₂=CW¹-CO-NH-, CH₂=CH-(COO)_k1-Phe-(O)_k2-, CH₂=CH-(CO)_k1-Phe-(O)_k2-, Phe-CH=CH-, HOOC-, OCN- 및 W⁴W⁵W⁶Si-, 상기 식에서, W¹은 H, F, Cl, CN, CF₃, 페닐 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬, 특히 H, F, Cl 또는 CH₃, W² 및 W³은 각각 서로 독립적으로 H 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬, 특히 H, 메틸, 에틸 또는 n-프로필이고, W⁴, W⁵ 및 W⁶은 각각 서로 독립적으로 Cl, 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 옥사알킬 또는 옥사카보닐알킬이고, W⁷ 및 W⁸은 각각 서로 독립적으로 H, Cl, 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬이고, Phe는 1,4-페닐렌이고, P-Sp- 이외의 상기 정의된 하나 이상의 라디칼 L로 임의적으로 치환되고, k₁, k₂ 및 k₃은 각각 서로 독립적으로 0 또는 1이고, k₃은 바람직하게는 1이고, k₄는 1 내지 10의 정수이다.

매우 바람직한 기 P는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

CH₂=CW¹-CO-O-, CH₂=CW¹-CO-, , , CH₂=CW²-O-, CH₂=CW²-, CW¹=CH-CO-(O)_k3-, CW¹=CH-CO-NH-, CH₂=CW¹-CO-NH-, (CH₂=CH)₂CH-OCO-, (CH₂=CH-CH₂)₂CH-OCO-, (CH₂=CH)₂CH-O-, (CH₂=CH-CH₂)₂N-, (CH₂=CH-CH₂)₂N-CO-, CH₂=CW¹-CO-NH-, CH₂=CH-(COO)_k1-Phe-(O)_k2-, CH₂=CH-(CO)_k1-Phe-(O)_k2-, Phe-CH=CH- 및 W⁴W⁵W⁶Si-, 상기 식에서, W¹은 H, F, Cl, CN, CF₃, 페닐 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬, 특히 H, F, Cl 또는 CH₃, W² 및 W³은 각각 서로 독립적으로 H 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬, 특히 H, 메틸, 에틸 또는 n-프로필이고, W⁴, W⁵ 및 W⁶은 각각 서로 독립적으로 Cl, 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 옥사알킬 또는 옥사카보닐알킬이고, W⁷ 및 W⁸은 각각 서로 독립적으로 H, Cl, 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬이고, Phe는 1,4-페닐렌이고, k₁, k₂ 및 k₃은 각각 서로 독립적으로 0 또는 1이고, k₃은 바람직하게는 1이고, k₄는 1 내지 10의 정수이다.

매우 특히 바람직한 기 P는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

CH₂=CW¹-CO-O-, 특히 CH₂=CH-CO-O-, CH₂=C(CH₃)-CO-O- 및 CH₂=CF-CO-O-, 또한 CH₂=CH-O-, (CH₂=CH)₂CH-O-CO-, , (CH₂=CH)₂CH-O-, 및 .

더욱 바람직한 중합성 기 P는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다: 비닐옥시, 아크릴레이트, 메트아크릴레이트, 플루오로아크릴레이트, 클로로아크릴레이트, 옥세탄 및 에폭사이드, 가장 바람직하게는 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트.

매우 바람직하게는, 중합성 화합물 내의 모든 중합성 기는 동일한 의미를 갖는다.

스페이서 기 Sp가 단일 결합이 아닌 경우, 이는 바람직하게는 화학식 Sp"-X"의 기임으로써, 각각의 라디칼 P-Sp-가 화학식 P-Sp"-X"-과 일치하고, 이때,

Sp"은 1 내지 20개, 바람직하게는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌이고, F, Cl, Br, I 또는 CN으로 임의적으로 일치환 또는 다치환되고, 추가적으로, 하나 이상의 비인접 CH₂ 기 각각은 각각 각각 서로 독립적으로 O 및/또는 S 원자가 서로 직접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -NH-, -N(R⁰)-, -Si(R⁰R⁰⁰)-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -N(R⁰⁰)-CO-O-, -O-CO-N(R⁰)-, -N(R⁰)-CO-N(R⁰⁰)-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 대체될 수 있고,

X"은 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-N(R⁰)-, -N(R⁰)-CO-, -N(R⁰)-CO-N(R⁰⁰)-, -OCH₂-, -CH₂O-, -SCH₂-, -CH₂S-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CF₂S-, -SCF₂-, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR⁰-, -CY²=CY³-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, -O-CO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,

R⁰ 및 R⁰⁰은 각각 서로 독립적으로 H, 또는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 알킬이고,

Y² 및 Y³은 각각 서로 독립적으로 H, F, Cl 또는 CN이다.

X"은 바람직하게는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR⁰-, -NR⁰-CO-, -NR⁰-CO-NR⁰⁰- 또는 단일 결합이다.

전형적인 스페이서 기 Sp 및 -Sp"-X"-는, 예컨대, -(CH₂)_p1-, -(CH₂)_p1-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-, -(CH₂)_p1-CO-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-O-, -(CH₂CH₂O)_q1-CH₂CH₂-, -CH₂CH₂-S-CH₂CH₂-, -CH₂CH₂-NH-CH₂CH₂- 또는 -(SiR⁰R⁰⁰-O)_p1-이고, p1은 1 내지 12의 정수이고, q1은 1 내지 3의 정수이고, R⁰ 및 R⁰⁰은 상기 제시된 의미를 갖는다.

특히 바람직한 기 Sp 및 -Sp"-X"-은 -(CH₂)_p1-, -(CH₂)_p1-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-, -(CH₂)_p1-CO-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-O-이고, p1 및 q1은 상기 제시된 의미를 갖는다.

특히 바람직한 기 Sp"은 각각의 경우 직쇄, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥필렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데필렌, 운데필렌, 도데필렌, 옥타데필렌, 에틸렌옥시에틸렌, 메틸렌옥시부틸렌, 에틸렌티오에틸렌, 에틸렌-N-메틸이미노-에틸렌, 1-메틸알킬렌, 에텐일렌, 프로펜일렌 및 부텐일렌이다.

본 발명의 바람직한 양태에서, 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물은 하나 이상의 중합성 기 P로 치환된 스페이서 기 Sp를 함유함으로써, 기 Sp-P는 Sp(P)_s,에 상응하되 s는 2이상이다(분지쇄 중합성 기).

바람직한 양태에 따른 화학식 I의 바람직한 화합물은 s가 2인 것, 즉 기 Sp(P)₂를 함유하는 것이다. 매우 바람직한 양태에 따른 화학식 I의 바람직한 화합물은 하기 화학식으로부터 선택되는 기를 함유한다:

상기 식에서,

P는 화학식 I에 정의된 바와 같고,

알킬은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 단일 결합 또는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌이고, 비치환되거나 F, Cl 또는 CN으로 일치환 또는 다치환되고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂ 기 각각은 각각 서로 독립적으로 O 및/또는 S 원자가 서로 직접 연결되지 않도록 -C(R⁰)=C(R⁰)-, -C≡C-, -N(R⁰)-, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO- 또는 -O-CO-O-로 대체될 수 있고, R⁰은 상기 제시된 의미를 갖고,

aa 및 bb는 각각 서로 독립적으로 0, 1, 2, 3, 4, 5 또는 6이고,

X는 X"에 대해 제시된 의미 중 하나를 갖고, 바람직하게는 O, CO, SO₂, O-CO-, CO-O 또는 단일 결합이다.

바람직한 스페이서 기 Sp(P)₂는 화학식 S1, S2 및 S3로부터 선택된다.

매우 바람직한 스페이서 기 Sp(P)₂는 하기 하위화학식으로부터 선택된다:

P는 바람직하게는 비닐옥시, 아크릴레이트, 메트아크릴레이트, 플루오로아크릴레이트, 클로로-아크릴레이트, 옥세탄 및 에폭사이드, 매우 바람직하게는 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트, 가장 바람직하게는 메트아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.

더욱 바람직하게는 동일한 화합물에 존재하는 모든 중합성 기 P는 동일한 의미를 갖고, 매우 바람직하게는 아크릴레이트 또는 메트아크릴레이트, 가장 바람직하게는 아크릴레이트이다.

본원에 사용된 용어 "필름"은 기계적 안정성을 갖는 강성 또는 가요성, 자체-지지형(self-supporting) 또는 자립형(free-standing) 필름, 및 지지하는 기판 상의 또는 2개의 기판들 사이의 코팅 또는 층을 포함한다. "얇은 필름"은 나노미터 또는 마이크로미터 범위, 바람직하게는 10 nm 이상, 매우 바람직하게는 100 nm 이상, 및 바람직하게는 100 μm 이하, 매우 바람직하게는 10 μm 이하의 두께를 갖는 필름을 의미한다

본원 전체에서, 용어 "아릴 및 헤테로아릴 기"는 일환형 또는 다환형일 수 있는 고리를 포괄하고, 즉 이는 하나의 고리(예컨대, 페닐)를 가질 수 있거나, 융합될 수 있거나(예컨대 나프틸) 공유 결합될 수 있거나(예컨대, 바이페닐) 융합된 고리와 연결된 고리의 조합을 함유할 수 있는 2개 이상의 고리를 가질 수 있다. 헤테로아릴 기는, 바람직하게는 O, N, S 및 Se로부터 선택되는, 하나 이상의 헤테로원자를 함유한다. 융합된 고리를 임의적으로 함유하고, 임의적으로 치환된, 6 내지 25개의 C 원자를 갖는 일환형, 이환형 또는 삼환형 아릴 기 및 2 내지 25개의 C 원자를 갖는 일환형, 이환형 또는 삼환형 헤테로아릴 기가 특히 바람직하다. 추가적으로, 하나 이상의 CH 기가 O 원자 및/또는 S 원자가 서로 직접 연결되지 않도록 N, S 또는 O로 대체될 수 있는 5, 6 또는 7-원 아릴 및 헤테로아릴 기 또한 바람직하다. 바람직한 아릴 기는, 예컨대, 페닐, 바이페닐, 터페닐, [1,1':3',1'']-터페닐-2'-일, 나프틸, 안트라센, 바이나프틸, 페난트렌, 파이렌, 다이하이드로파이렌, 크리센, 페릴렌, 테트라센, 펜타센, 벤조파이렌, 플루오렌, 인덴, 인데노플루오렌, 스피로바이플루오렌, 보다 바람직하게는 1,4- 페닐렌, 4,4'-바이페닐렌, 1, 4-터페닐렌이다.

바람직한 헤테로아릴 기는, 예컨대, 5-원 고리, 예컨대 피롤, 피라졸, 이미다졸, 1,2,3-트라이아졸, 1,2,4-트라이아졸, 테트라졸, 퓨란, 티오펜, 셀레노펜, 옥사졸, 이속사졸, 1,2-티아졸, 1,3-티아졸, 1,2,3-옥사다이이아졸, 1,2,4 옥사다이이아졸, 1,2,5-옥사다이이아졸, 1,3,4-옥사다이이아졸, 1,2,3-티아다이이아졸, 1,2,4-티아다이이아졸, 1,2,5-티아다이이아졸, 1,3,4-티아다이이아졸, 6-원 고리, 예컨대 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 1,3,5-트라이아진, 1,2,4-트라이아진, 1,2,3-트라이아진, 1,2,4,5-테트라진, 1,2,3,4-테트라진, 1,2,3,5-테트라진, 또는 축합된 기, 예컨대 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 인다졸, 벤즈이미다졸, 벤조트라이아졸, 퓨린, 나프트이미다졸, 페난트르이미다졸, 피리드이미다졸, 피라진이미다졸, 퀴녹살린이미다졸, 벤즈옥사졸, 나프트옥사졸, 안트르옥사졸, 페난트르옥사졸, 이속사졸, 벤조티아졸, 벤조퓨란, 이소벤조퓨란, 다이벤조퓨란, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 프테리딘, 벤조-5,6-퀴놀린, 벤조-6,7-퀴놀린, 벤조-7,8-퀴놀린, 벤조이소퀴놀린, 아크리딘, 페노티아진, 펜옥사진, 벤조피리다진, 벤조피리미딘, 퀴녹살린, 페나진, 나프티리딘, 아자카바졸, 벤조카볼린, 페난트리딘, 페난트롤린, 티에노[2,3b]티오펜, 티에노[3,2b]-티오펜, 다이티에노티오펜, 이소벤조티오펜, 다이벤조티오펜, 벤조티아다이아조티오펜, 또는 이들의 조합이다. 헤테로아릴 기는 또한 알킬, 알콕시, 티오알킬, 불소 또는 플루오로알킬, 또는 추가적으로 아릴 또는 헤테로아릴 기로 치환될 수 있다.

용어 "카이랄"은 일반적으로 이의 거울상에 겹쳐질 수 없는 물체를 지칭하는 데 사용된다.

"아카이랄(비-카이랄)" 물체는 이의 거울상과 동일한 물체이다.

용어 "카이랄 네마틱" 및 "콜레스테릭"은 명확히 달리 언급이 없는 한 본원에서 동의어로 사용된다.

반사 파장 λ은 하기 식에 따라 콜레스테릭 나선의 피치 p 및 콜레스테릭 액정의 평균 복굴절률 n에 의해 제시된다:

λ　=　n ^. p

CLC 매질은, 예컨대 높은 비틀림력(twisting power)을 갖는 카이랄 도펀트로 네마틱 LC 매질을 도핑함으로써 제조될 수 있다. 이어서, 유도되는 콜레스테릭 나선의 피치 p는 하기 식에 따라 카이랄 도펀트의 농도 c 및 나선 비틀림력 HTP에 의해 제시된다.

p = (HTP c)^-1

또한, 예컨대, 개별 도펀트의 HTP의 온도 의존성을 상쇄하고 이에 따라 CLC 매질의 나선 피치 및 반사 파장의 낮은 온도 의존성을 성취하기 위해 2개 이상의 도펀트를 사용하는 것도 가능하다. 이어서, 전체 HTP(HTP_total)는 하기 식에 따른다:

상기 식에서,

c_i는 각각의 개별 도펀트의 농도이고 HTP_i는 각각의 개별 도펀트의 나선 비틀림력이다.

상기 및 하기, 는 트랜스-1,4-사이클로헥필렌 고리이고,

는 1,4-페닐렌 고리이다.

가시광선 또는 VIS 광은 약 400 내지 약 740 nm의 파장을 갖는 전자기 복사이다. 자외선(UV)은 약 200 내지 약 450 nm의 파장을 갖는 전자기 복사이다.

복사 조도(E_e) 또는 복사 전력은 표면에 입사하는 단위 면적(dA)당 전자기 복사의 전력(dθ)으로서 정의된다.

복사 노출량 또는 복사량(H_e)은 시간(t)과 복사 조도 또는 복사 전력(E_e)의 곱이다.

모든 온도, 예컨대 융점 T(C,N) 또는 T(C,S), 스멕틱상(S)으로부터 네마틱상(N)으로의 전이온도 T(S,N) 및 등명점(clearing point) T(N,I)는 섭씨온도로 인용된다. 모든 온도 차이는 도의 차이로 인용된다.

용어 "등명점"은 메소상(최고 온도 범위에 의함)과 등방성 상 간의 전이가 일어나는 온도를 의미한다.

용어 "방향자"는 당업계에 공지되어 있고, 액정 분자 또는 반응성 메소젠 분자의 분자 장축(칼라미틱 화합물의 경우) 또는 분자 단축(디스코틱 화합물의 경우)의 바람직한 배향 방향을 의미한다. 이러한 이방성 분자의 단일축 질서화의 경우, 상기 방향자는 이방성의 축이다.

용어 "배열" 또는 "배향"은 "배열 방향"으로 지칭되는 공통 바향으로 물질, 예컨대 작은 분자 또는 큰 분자의 단편의 이방성의 배열(배향적 정렬)에 관한 것이다. 액정 또는 RM 물질의 배열된 층에서, 액정 방향자는 배열 방향과 일치하여 배열 방향이 물질의 이방성 축의 방향에 상응한다.

예컨대, 물질의 층에서, 액정 또는 RM 물질의 용어 "균일 배향" 또는 "균일 배열"은 액정 또는 RM 분자의 분자 장축(칼라미틱(calamitic) 화합물의 경우 또는 분자 단축(디스코틱(discotic) 화합물의 경우)이 실질적으로 동일한 방향으로 배향되는 것을 의미한다. 즉, 액정 방향자의 선이 평행하다.

용어 "호메오트로픽(homeotropic) 구조" 또는 "호메오트로픽 배향"은 광학 축이 필름 평면에 실질적으로 수직한 필름을 지칭한다.

용어 "평면형 구조" 또는 "평면형 배향"은 광학 축이 필름 평면에 실질적으로 평행한 필름을 지칭한다.

용어 "A 플레이트"는 층의 평면에 평행하게 배향된 이상(extraordinary) 축을 갖는 단일축 복굴절 물질의 층을 이용하는 광학 지연기를 지칭한다.

용어 "C 플레이트"는 층의 평면에 수직하게 배향된 이상 축을 갖는 단일축 복굴절 물질의 층을 이용하는 광학 지연기를 지칭한다. 균일 배향을 갖는 광학 단일축 복굴절 액정 물질을 포함하는 A 플레이트/C 플레이트에서, 필름의 광학 축은 이상 축의 방향에 의해 제시된다. 양 복굴절률을 갖는 광학 단일축 복굴절 물질을 포함하는 A(또는 C) 플레이트는 "양 A(또는 C) 플레이트" 또는 "+A(또는 +C) 플레이트"로도 지칭된다. 음 복굴절률을 갖는 광학 단일축 복굴절 물질, 예컨대 디스코틱 이방성 물질을 포함하는 A(또는 C) 플레이트는 디스코틱 물질의 배향에 따라 "음 A(또는 C) 플레이트" 또는 "-A(또는 -C) 플레이트"로도 지칭된다. 스펙트럼의 자외선 부분에서 반사 대역을 갖는 콜레스테릭 칼라미틱 물질로 제조된 필름도 음 C 플레이트의 광학적 특성을 가진다.

복굴절률 Δn은 하기 식과 같이 정의된다:

상기 식에서,

n_e는 이상 굴절률이고;

n_o은 정상 굴절률이고,

평균 유효 굴절률 n_av.는 하기 식에 의해 제시된다.

n_av. = ((2n_o ² + n_e ²)/3)^½

평균 유효 굴절률 n_av _. 및 정상 굴절률 n_o은 아베(Abbe) 굴절계를 사용하여 측정될 수 있다. Δn은 상기 식들로부터 계산될 수 있다.

명확히 달리 제시되지 않는 한, 본원에 사용된 용어의 복수형은 단수형을 포함하는 것으로 이해되고, 이의 역도 마찬가지이다.

모든 물리적 특성은 달리 명백히 언급되지 않는 한 문헌["Merck Liquid Crystals, Physical Properties of Liquid Crystals", Status Nov. 1997, Merck KGaA, Germany]에 따라 측정되고, 20℃의 온도에 대해 제시된다. 광학 이방성(Δn)은 589.3 nm의 파장에서 측정된다.

기 에서, 2개의 고리 원자 사이에 제시된 단일 결합은 벤젠 고리의 임의의 자유로운 위치에 부착될 수 있다.

-OC-, -CO-, -C(=O)- 및 -C(O)-는 카보닐 기, 즉 이다.

상기 및 하기, %는 달리 언급이 없는 한 중량%이다. 모든 온도는 섭씨 온도이다. m.p.는 융점이고, cl.p.는 등명점이고, T_g는 유리 전이 온도이다. 또한, C = 결정질 상태, N = 네마틱 상, S = 스멕틱 상 및 I = 이방성 상이다. 상기 기호 사이의 데이터는 전이 온도를 나타낸다. Δn은 광학 이방성 또는 복굴절률(Δn = n_e　-　n_o, 상기 식에서, n_o은 분자 장축에 수직한 굴절률이고 n_e는 이에 평행한 굴절률임)이고, 550　nm 및 20℃에서 측정된다. 광학 및 전기광학 데이터는 달리 명시적으로 언급이 없는 한 20℃에서 측정된다. "등명점" 및 "등명 온도"은 액정 상으로부터 이방성 상으로의 전이의 온도를 의미한다.

달리 언급되지 않는 한, 상기 및 하기에 기재되는 RM 혼합물 또는 RM 제형 중의 고체 성분의 %는 혼합물 또는 제형 중의 고체의 총량(즉, 어떠한 용매도 포함 안함)을 지칭한다.

달리 언급되지 않는 한, 모든 광학 및 전기광학 특성 및 물리적 매개변수, 예컨대 복굴절률, 유전율(permittivity), 전기 전도도, 전기 저항률 및 시트 저항은 20℃의 온도에 대해 나타낸다.

본 명세서의 설명 및 청구범위 전반에 걸쳐, "포함하다" 및 "함유하다", 및 상기 단어의 변형, 예를 들어 "포함하는" 등은 "비한정적으로 포함함"을 의미하고, 다른 요소를 배제하지 않도록 의도된다(배제하지 않는다).

본 발명의 양태에 따른 변경이, 여전히 본 발명의 범주 내에 속하면서 수행될 수 있음이 이해될 것이다. 본원에 개시된 각각의 특징은, 달리 언급되지 않는 한, 동일하거나 동등하거나 유사한 목적을 제공하는 대안적 특징으로 대체될 수 있다. 따라서, 달리 언급되지 않는 한, 개시된 각각의 특징은 포괄적인 일련의 동등하거나 유사한 특징들 중 하나의 예일 뿐이다.

본원에 개시된 모든 특징은, 상기 특징 및/또는 단계의 적어도 일부가 상호 배타적인 조합을 제외하고는, 임의의 조합으로 조합될 수 있다. 특히, 본 발명의 바람직한 특징은 본 발명의 모든 양태에 적용가능하고, 임의의 조합으로 사용될 수 있다. 마찬가지로, 비-필수적 조합으로 기재된 특징들은 개별적으로(조합되지 않고) 사용될 수 있다.

"중합체 네트워크"는 모든 중합체 쇄가 상호연결되어 다수의 가교결합에 의해 단일의 거시적 실체를 형성하는 네트워크이다.

중합체 네트워크는 하기 유형으로 나타날 수 있다:

- 그라프트(graft) 중합체 분자는 하나 이상의 측쇄가 구조적으로 또는 구성적으로 주쇄와 다른 분지형 중합체 분자이다.

- 스타(star) 중합체 분자는 단일 분기 점이 여러 개의 선형 사슬 또는 팔을 생성하는 분지쇄 중합체 분자이다. 팔이 동일한 경우, 스타 중합체 분자가 규칙적인 것으로 언급된다. 인접한 팔이 서로 상이한 반복 소단위로 구성된 경우, 스타 중합체 분자는 가변화된(variegated) 것으로 언급된다.

- 콤브(comb) 중합체 분자는 2개 이상의 삼원 분지점과 선형 측쇄가 있는 주쇄로 구성된다. 팔이 동일한 경우, 빗 중합체 분자는 규칙적인 것으로 언급된다.

- 브러시(brush) 중합체 분자는 선형의 분지되지 않은 측쇄를 갖는 주쇄로 구성되며, 하나 이상의 분지점이 4방향 이상의 작용성을 갖는다.

상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물에서, P는 바람직하게는 비닐옥시, 아크릴레이트, 메트아크릴레이트, 플루오로아크릴레이트, 클로로-아크릴레이트, 옥세탄 및 에폭사이드, 매우 바람직하게는 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트, 가장 바람직하게는 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.

화합물에 존재하는 모든 중합성 기 P가 동일한 의미를 갖고 매우 바람직하게는 아크릴레이트 또는 메트아크릴레이트, 가장 바람직하게는 아크릴레이트인 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

1, 2, 3 또는 4개의 기 P-Sp, 매우 바람직하게는 2 또는 3개의 기 P-Sp를 함유하는, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

R¹¹이 P-Sp-인, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

Sp가 단일 결합 또는 -(CH₂)_p1-, -O-(CH₂)_p1-, -O-CO-(CH₂)_p1, 또는 -CO-O-(CH₂)_p1이고, p1가 2, 3, 4, 5 또는 6이고, Sp가 -O-(CH₂)_p1-, -O-CO-(CH₂)_p1 또는 -CO-O-(CH₂)_p1인 경우, O-원자 또는 CO-기가 각각 벤젠 고리에 연결된, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

적어도 하나의 기 Sp가 단일 결합인, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

적어도 하나의 기 Sp가 단일 결합이고, 적어도 하나의 기 Sp가 단일 결합이 아닌, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

적어도 하나의 기 Sp가 단일 결합이 아니고, -(CH₂)_p1-, -O-(CH₂)_p1-, -O-CO-(CH₂)_p1, 또는 -CO-O-(CH₂)_p1로부터 선택되고, p1이 2, 3, 4, 5 또는 6이고, Sp가 -O-(CH₂)_p1-, -O-CO-(CH₂)_p1 또는 -CO-O-(CH₂)_p1인 경우 O-원자 또는 CO-기가 각각 벤젠 고리에 연결된, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 더욱 바람직하다.

적어도 하나의 기 Sp가 단일 결합이 아니고, -(CH₂)₂-, -(CH₂)₃-, -(CH₂)₄-, -O-(CH₂)₂-, -O-(CH₂)₃-, -O-CO-(CH₂)₂ 및 -CO-O-(CH)₂-로부터 선택되고, O 원자 또는 CO 기가 벤젠 고리에 부착된, 상기 및 하기 기재된 화학식 I 및 이의 하위화학식의 화합물이 매우 바람직하다.

바람직하게는 화학식 I에서 고리 A, B, D 및/또는 E 중 하나 이상은 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다: 1,4-페닐렌, 1,3-페닐렌, 나프탈렌-1,4-다이일, 나프탈렌-2,6-다이일, 페난트렌-2,7-다이일, 9,10-다이하이드로-페난트렌-2,7-다이일, 안트라센-2,7-다이일, 안트라센-9,10-다이일, 플루오렌-2,7-다이일, 다이벤조티오펜-2,7-다이일, 다이벤조퓨란-2,7-다이일, 벤조[1,2-b:4,5-b']다이티오펜-2,5-다이일, 인돌-4,7-다이일, 벤조티오펜-4,7-다이일, 쿠마린, 플라본(이때, 추가적으로, 상기 기에서 하나 이상의 CH 기는 N으로 대체될 수 있음), 사이클로헥산-1,4-다이일(이때, 추가적으로, 하나 이상의 비인접 CH₂ 기는 O 및/또는 S로 대체될 수 있음), 1,4-사이클로헥센일렌, 바이사이클-[1.1.1]-펜탄-1,3-다이일, 바이사이클로[2.2.2]옥탄-1,4-다이일, 스피로[3.3]-헵탄-2,6-다이일, 피페리딘-1,4-다이일, 데카하이드로-나프탈렌-2,6-다이일, 1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-2,6-다이일, 인단-2,5-다이일 또는 옥타하이드로-4,7-메타노인단-2,5-다이일(이들 모두는 하나 이상의 기 L 또는 P-Sp-로 임의적으로 치환됨).

매우 바람직하게는 화학식 I에서 고리 A, B, D 및/또는 E 중 하나 이상은 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다: 벤젠-1,4-다이일, 나프탈렌-1,4-다이일, 나프탈렌 2,6-다이일, 페난트렌-2,7-다이일, 안트라센-9,10-다이일, 플루오렌-2,7-다이일, 다이벤조퓨란-2,7-다이일, 다이벤조티오펜-2,7-다이일, 벤조[1,2-b:4,5-b']다이티오펜-2,5-다이일, 인돌-4,7-다이일, 벤조티오펜-4,7-다이일(이들 모두는 하나 이상의 기 L 또는 P-Sp로 임의적으로 치환됨). 이러한 고리 A, B, D 및 E에서 나프탈렌은 바람직하게는 나프탈렌-2,6-다이일 또는 나프탈렌 1,4-다이일이고, 안트라센은 바람직하게는 안트라센-9,10-다이일이다.

화학식 I에서 고리 C는 바람직하게는 하기ㄹㅗ 이루어진 군으로부터 선택된다: 벤젠-1,4-다이일, 나프탈렌-1,4-다이일, 안트라센-9,10-다이일, 플루오렌-2,7-다이일, 다이벤조퓨란-2,7-다이일, 다이벤조티오펜-2,7-다이일, 벤조[1,2-b:4,5-b']다이티오펜-2,5-다이일, 인돌-4,7-다이일, 벤조티오펜-4,7-다이일, 매우 바람직하게는 벤젠-1,4-다이일, 나프탈렌-1,4-다이일 또는 안트라센-9,10-다이일(이들 모두는 하나 이상의 기 L 또는 P-Sp로 임의적으로 치환됨).

고리 C가 벤젠 고리인 경우, 이는 바람직하게는 L로 일치환 또는 이치환된다.

보다 바람직하게는 화학식 I에서 고리 A, B, D 및/또는 E 중 1개, 2개, 3개, 4개 또는 그 이상은 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

상기 식에서,

L은 각각 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬, 또는 P-Sp-, -CN, F, Cl, OCF₃, CF₃, CH₂F, CHF₂이거나, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 환형 기를 형성할 수 있고,

r은 0, 1, 2 또는 3이고,

s는 0, 1 또는 2이고,

t는 0, 1 또는 2이고,

M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이다.

보다 바람직하게는 화학식 I에서 고리 B 및/또는 D 중 하나 또는 둘 다는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된다:

상기 식에서,

r은 0, 1, 2, 또는 3이고,

s는 0, 1 또는 2이고,

t는 0, 1 또는 2이고,

M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이다.

고리 B 및/또는 D 중 하나 또는 둘 다가 2,6-나프탈렌 라디칼 또는 1,4-나프탈렌 라디칼인 화학식 I의 화합물이 특히 바람직하다.바람직하게는 화학식 I에서 고리 C는 하기 군으로 이루어진 군으로부터 선택된다:

상기 식에서,

L은 각각 서로 독립적으로 P-Sp-, F, -CN, 또는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개, 보다 바람직하게는 1 또는 2개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬이고,

r은 0, 1, 2 또는 3이고,

s은 0, 1, 2 또는 3이고,

t는 0, 1 또는 2이고,

M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이고,

M¹S, O 또는 NH이다.

매우 바람직하게는 화학식 I에서 고리 C는 하기 군으로 이루어진 군으로부터 선택된다:

상기 식에서, L은 각각 서로 독립적으로 P-Sp-, F, -CN, 또는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개, 보다 바람직하게는 1 또는 2개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬이다.

특히 n=m=0이고, 고리 B, C 및 D가 하기 기를 형성하는 화학식 I의 화합물이 더욱 바람직하다:

또는

상기 식에서,

r은 0, 1, 2 또는 3 바람직하게는 1 또는 2이다.

,

또는

상기 식에서, L은 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 티오메틸 또는 티오에틸, 바람직하게는 에틸이다.

바람직한 화학식 I의 화합물은 하기 하위화학식으로부터 선택된다:

상기 식에서,

R¹¹, 고리 B 및 D, P 및 Sp는 화학식 I에서의 의미 중 하나 또는 상기 제시된 이의 바람직한 의미 중 하나를 갖고,

L은 각각 서로 독립적으로 P-Sp-, F, CN, 또는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개, 보다 바람직하게는 1 또는 2개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬이고,

L¹ 및 L²는 각각 서로 독립적으로 H 또는 L이고,

M은 S, O, NH, CH₂ 또는, C(CH₃)₂이고,

M¹은 NH 또는 S이다.

매우 바람직한 화학식 I의 화합물은 하기 하위화학식으로부터 선택된다:

상기 식에서,

P는 중합성 기이고,

Sp는 스페이서 기 또는 단일 결합이고,

R은 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖고, 보다 바람직하게는 임의적으로 불화된 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이고,

L은 바람직하게는 아크릴레이트인 P-Sp-, F, Cl, -CN, 또는 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬이고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂-기는, O- 및/또는 S-원자가 서로 적접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, CR⁰=CR⁰⁰-, -C≡C-, , , , , , 또는 로 임의적으로 치환되고, 이때, 하나 이상의 H 원자는 각각 임의적으로 P-Sp-, F 또는 Cl로 대체되고, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 환형 기를 형성할 수 있고, r은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2이다.

2개의 기 중 하나의 기 Sp는 단일 결합이고 다른 기 Sp는 단일 결합이 아닌, 화학식 I-1-2, I-2-2, I-3-2, I-4-2, I-5-2, I-6-2, I-1-5, I-2-5, I-3-5, I-4-5, I-5-5, I-6-5, I-1-7, I-2-7, I-3-7, I-4-7, I-5-7, I-6-7, I-1-9, I-2-9, I-3-9, I-4-9, I-5-9, I-6-9, I-1-11, I-2-11, I-3-11, I-4-11, I-5-11 및 I-6-11의 화합물이 더욱 바람직하다.

바람직한 화학식 I, I-1 내지 I-9 및 I-1-1 내지 I-6-11의 화합물은 하기에 해당하는 화합물로부터 선택된다:

- n = m = 0, 또는

- n = 1이고 m = 1, 또는

- n = m = 1, 및/또는

- n = m = 0이고 고리 B 및 고리 D 중 하나는 단일 결합임, 및/또는

- 고리 C은/는 나프탈렌-1,4-다이일 또는 안트라센-9,10-다이일임, 또는

- 고리 C은/는 에틸로 치환된 벤젠-1,4-다이일임, 및/또는

- P는 아크릴레이트 또는 메트아크릴레이트임, 및/또는

- Sp는 Sp"-X"이고, 바람직하게는, -Sp"-X"-은/는 -(CH₂)_p1-, -(CH₂)_p1-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-, -(CH₂)_p1-CO-O-, -(CH₂)_p1-O-CO-O-, -(CH₂CH₂O)_q1-CH₂CH₂-, -CH₂CH₂-S-CH₂CH₂-, 또는 -CH₂CH₂-NH-CH₂CH₂-이고, p1은 1 내지 12의 정수이고, q1은 1 내지 3의 정수임, 및/또는

- R¹¹ 또는 R이 P-Sp-인 경우, 기 P-Sp- 둘 다는 동일함, 또는

- R¹¹ 또는 R이 P-Sp-인 경우, 기 Sp 중 하나는 단일 결합이고 다른 기 Sp가 단일 결합이 아님, 및/또는

- L은 메틸 또는 에틸, 바람직하게는 에틸이고, r은 1임, 및/또는

- L은 메틸 또는 에틸이고, r은 2임, 및/또는

- r은 2이고, 2개의 치환기 L은 직접 인접한 C 원자에 부착되고, 부착되는 상기 C 원자와 함께 5 또는 6개의 C 원자를 갖는 환형 기, 바람직하게는 사이클로헥센일 기를 형성하고, 및/또는

- 고리 C는 P-Sp-, 바람직하게는 아크릴레이트인 하나의 L로 치환됨,

- R 또는 R¹¹은 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖고, 보다 바람직하게는 임의적으로 불화된 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이고, 매우 바람직하게는 메틸, 메톡시, 에틸, 에톡시, 프로필, 이소프로필, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 또는 직쇄 또는 분지쇄 부틸 또는 부틸옥시임.

더욱 바람직한 화학식 I의 화합물은 하기 실시예 부분에 정리되어 있다.

화학식 I 및 이의 하위 화학식의 화합물의 합성은 하기 도시되거나 실시예에 제시된 예시적인 반응과 유사하게 수행될 수 있다. 본 발명에 따른 다른 화합물의 제조는 또한, 문헌으로부터 그 자체로 당업자에게 공지된 다른 방법에 의해 수행될 수 있다.

예시적으로, 화학식 I의 화합물은 하기 실시예에 예시된 방법에 따라 또는 이와 유사하게 합성될 수 있다.

화학식 I의 화합물은 단독으로 또는 RM 혼합물 중 다른 RM과의 조합으로 사용되어, 특히 바람직하게는 동시에, 높은 복굴절률을 나타내고, 대량 생산에 사용되는 통상적으로 공지된 유기 용매에서 우수한 용해도를 나타내고, 카이랄 RM 혼합물에서 향상된 확장 잠재력을 나타내고, 바람직한 전이 온도를 갖고, UV 광에 노출된 후의 황화에 대해 높은 내성을 나타낸다.

RM 혼합물 중 화학식 I의 화합물의 농도는 바람직하게는 35 내지 99%, 매우 바람직하게는 50 내지 99%이다.

바람직하게는, 상기 RM 혼합물은, 단지 하나의 중합성 작용기를 갖는 하나 이상의 RM(일반응성 RM), 및 2개 이상의 중합성 작용기를 갖는 하나 이상의 RM(이반응성 또는 다반응성 RM)을 포함한다.

이반응성 또는 다반응성 RM은 바람직하게는 하기 화학식 DRM으로부터 선택된다:

P¹-Sp¹-MG-Sp²-P² DRM

상기 식에서,

P¹ 및 P²는 서로 독립적으로 중합성 기이고,

Sp¹ 및 Sp²는 서로 독립적으로 스페이서 기 또는 단일 결합이고,

MG는 바람직하게는 하기 화학식 MG 화합물로부터 선택되는 막대형 메소젠성 기이다:

-(A¹-Z¹)_n-A²- MG

상기 식에서,

A¹ 및 A²는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, N, O 및 S로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 임의적으로 함유하며 임의적으로 L로 일치환 또는 다치환되는 방향족 또는 지환형 기이고,

L은 P-Sp-, F, Cl, Br, I, -CN, -NO₂, -NCO, -NCS, -OCN, -SCN, -C(=O)NR^xR^y, -C(=O)OR^x, -C(=O)R^x, -NR^xR^y, -OH, -SF₅, 임의적으로 치환된 실릴, 1 내지 12개, 바람직하게는 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 아릴 또는 헤테로아릴, 또는 1 내지 12개, 바람직하게는 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이되, 하나 이상의 H 원자는 F 또는 Cl로 임의적으로 대체되고,

R^x 및 R^y는 서로 독립적으로 H 또는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이고,

Z¹은, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -S-CO-, -CO-S-, -O-COO-, -CO-NR⁰⁰-, -NR⁰⁰-CO-, -NR⁰⁰-CO-NR⁰⁰⁰, -NR⁰⁰-CO-O-, -O-CO-NR⁰⁰-, -OCH₂-, -CH₂O-, -SCH₂-, -CH₂S-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CF₂S-, -SCF₂-_, -CH₂CH₂-, -(CH₂)_n1, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR⁰⁰-, -CY¹=CY²-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합, 바람직하게는 -COO-, -OCO- 또는 단일 결합이고,

Y¹ 및 Y²는 서로 독립적으로 H, F, Cl 또는 CN이고,

n는 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 1 또는 2, 가장 바람직하게는 2이고,

n1은 1 내지 10, 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4의 정수이다.

바람직한 A¹ 및 A² 기는 비제한적으로 퓨란, 피롤, 티오펜, 옥사졸, 티아졸, 티아다이아졸, 이미다졸, 페닐렌, 사이클로헥실렌, 바이사이클로옥틸렌, 사이클로헥센일렌, 피리딘, 피리미딘, 피라진, 아줄렌, 인단, 플루오렌, 나프탈렌, 테트라하이드로나프탈렌, 안트라센, 페난트렌 및 다이티에노티오펜을 포함하고, 이들 모두는 비치환되거나, 1, 2, 3 또는 4개의 상기 정의된 L 기로 치환된다.

특히 바람직한 A¹ 및 A² 기는 1,4-페닐렌, 피리딘-2,5-다이일, 피리미딘-2,5-다이일, 티오펜-2,5-다이일, 나프탈렌-2,6-다이일, 1,2,3,4-테트라하이드로-나프탈렌-2,6-다이일, 인단-2,5-다이일, 바이사이클로옥틸렌 및 1,4-사이클로헥실렌으로부터 선택되되, 1 또는 2개의 비인접 CH₂ 기는 임의적으로 O 및/또는 S로 대체되고, 이들 기는 비치환되거나, 1, 2, 3 또는 4개의 상기 정의된 L 기로 치환된다.

바람직한 화학식 DRM의 RM은 하기 화학식 DRMa의 화합물로부터 선택된다:

상기 식에서,

P⁰은, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, 중합성 기, 바람직하게는 아크릴, 메트아크릴, 옥세탄, 에폭시, 비닐, 헵타다이엔, 비닐옥시, 프로펜일 에터 또는 스티렌 기이고,

Z⁰은 -COO-, -OCO-, -CH₂CH₂-, -CF₂O-, -OCF₂-, -C≡C-, -CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-COO- 또는 단일 결합이고,

L은 각각의 경우 동일하거나 상이하게 화학식 I의 L¹에 대해 제시된 의미 중 하나를 갖고, 바람직하게는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, F, Cl, CN, 및 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 임의적으로 할로겐화된 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시로부터 선택되고,

r은 0, 1, 2, 3 또는 4이고,

x 및 y는 서로 독립적으로 0이거나, 1 내지 12의 동일하거나 상이한 정수이고,

z는 0 또는 1이고, 인접한 x 또는 y가 0인 경우에는 z가 0이다.

매우 바람직한 화학식 DRM의 RM은 하기 화학식 DRMa1 내지 DRMa7 및 DRMb 내지 DRMe의 화합물로부터 선택된다:

상기 식에서, P⁰, L, r, x, y 및 z는 화학식 DRMa에 정의된 바와 같다.

화학식 DRMa1, DRMa2 및 DRMa3의 화합물, 특히 화학식 DRMa1의 화합물이 특히 바람직하다.

RM 혼합물 중의 이반응성 또는 다반응성 RM, 바람직하게는 화학식 DRM 및 이의 하위 화학식의 농도는 바람직하게는 1% 내지 60%, 매우 바람직하게는 2 내지 40%이다.

또다른 바람직한 양태에서, RM 혼합물은, 화학식 I의 화합물에 더하여, 하나 이상의 일반응성 RM을 포함한다. 이런 추가적 일반응성 RM은 바람직하게는 하기 화학식 MRM의 화합물로부터 선택된다:

P¹-Sp¹-MG-R MRM

상기 식에서,

P¹, Sp¹ 및 MG는 화학식 DRM에서 제시된 의미를 갖고,

R은 P-Sp-, F, Cl, Br, I, -CN, -NO₂, -NCO, -NCS, -OCN, -SCN, -C(=O)NR^xR^y, -C(=O)X, -C(=O)OR^x, -C(=O)R^y, -NR^xR^y, -OH, -SF₅, 임의적으로 치환된 실릴, 또는 1 내지 12개, 바람직하게는 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이되, 하나 이상의 H 원자는 임의적으로 F 또는 Cl로 치환되고,

X는 할로겐, 바람직하게는 F 또는 Cl이고,

R^x 및 R^y는 서로 독립적으로 H 또는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이다.

바람직하게는, 화학식 MRM의 RM은 하기 화학식 MRM1 내지 MRM27로부터 선택된다:

상기 식에서,

P⁰, L, r, x, y 및 z는 화학식 DRMa에서 정의된 바와 같고,

R⁰, R⁰¹ 및 R⁰²는 각각 독립적으로 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이거나, Y⁰ 또는 P-(CH₂)_y-(O)_z-이고,

X⁰은 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-COO-, -CO-NR⁰¹-, -NR⁰¹-CO-, -NR⁰¹-CO-NR⁰¹-, -OCH₂-, -CH₂O-, -SCH₂-, -CH₂S-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CF₂S-, -SCF₂-, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR⁰¹-, -CF=CF-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,

Y⁰은 F, Cl, CN, NO₂, OCH₃, OCN, SCN, SF₅, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 일불화, 올리고불화 또는 다중불화된 알킬 또는 알콕시이고,

Z⁰은 -COO-, -OCO-, -CH₂CH₂-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-COO- 또는 단일 결합이고,

A⁰은, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, 비치환되거나 1, 2, 3 또는 4개의 L 기로 치환된 1,4-페닐렌, 또는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌이고,

R⁰¹ 및 R⁰²는 서로 독립적으로 H, R⁰ 또는 Y⁰이고,

u 및 v는 서로 독립적으로 0, 1 또는 2이고,

w는 0 또는 1이되,

상기 벤젠 및 나프탈렌 고리는 추가적으로 동일하거나 상이한 하나 이상의 L 기로 치환될 수 있다.

화학식 MRM1, MRM2, MRM3, MRM4, MRM5, MRM6, MRM7, MRM9 및 MRM10의 화합물, 특히 화학식 MRM1, MRM4, MRM6 및 MRM7의 화합물이 특히 바람직하다.

상기 RM 혼합물 중의 일반응성 RM, 바람직하게는 화학식 MRM의 RM의 농도는 바람직하게는 1 내지 80%, 매우 바람직하게는 5 내지 20%이다.

바람직하게는, RM 혼합물은 실온에서 네마틱 액정 상, 또는 스멕틱 액정 상과 네마틱 액정 상, 매우 바람직하게는 네마틱 액정 상을 나타낸다.

화학식 DRM, MRM 및 이들의 하위 화학식에서, L은 바람직하게는 F, Cl, CN, NO₂ 또는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시(이때, 상기 알킬 기는 임의적으로 과불화됨) 또는 P-Sp-로부터 선택된다.

매우 바람직하게는 L은 F, Cl, CN, NO₂, CH₃, C₂H₅, C(CH₃)₃, CH(CH₃)₂, CH₂CH(CH₃)C₂H₅, OCH₃, OC₂H₅, COCH₃, COC₂H₅, COOCH₃, COOC₂H₅, CF₃, OCF₃, OCHF₂, OC₂F₅ 또는 P-Sp-, 특히 F, Cl, CN, CH₃, C₂H₅, C(CH₃)₃, CH(CH₃)₂, OCH₃, COCH₃ 또는 OCF₃, 가장 바람직하게는 F, Cl, CH₃, C(CH₃)₃, OCH₃ 또는 COCH₃, 또는 P-Sp-로부터 선택된다.

바람직하게는 본 발명에 따른RM 혼합물은 하나 이상의 카이랄 화합물을 임의적으로 포함한다. 이러한 카이랄 화합물은 비-메소젠 화합물 또는 메소젠 화합물일 수 있다. 추가적으로, 이러한 카이랄 화합물은 메소젠 또는 비-메소젠이든 비-반응성, 일반응성 또는 다반응성일 수 있다.

바람직하게는 이용되는 카이랄 화합물은 각각 단독으로 또는 서로 조합으로 20　μm^-1 이상, 바람직하게는 40　μm^-1 이상, 보다 바람직하게는, 60　μm^-1 이상, 가장 바람직하게는 80　μm^-1 이상 내지 260　μm^-1의 범위 특히의 나선 비틀림력의 절대값(｜HTP_total｜)을 갖는다(특히 WO 98/00428에 개시된 것).

바람직하게는, 비-중합성 카이랄 화합물은 하기 화학식　C-I 내지 C-III의 화합물의 군으로부터 선택된다:

.

후자의 화학식들은 각각의 (S,S) 거울상 이성질체를 포함하고,

상기 식에서, E 및 F는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌 또는 트랜스-1,4-사이클로-헥필렌이고, v는 0 또는 1이고, Z⁰은 -COO-, -OCO-, -CH₂CH₂- 또는 단일 결합이고, R은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 알카노일이다.

특히 바람직한 액정 매질은 필수적으로 액정 상을 나타낼 필요가 없는 하나 이상의 카이랄 화합물을 포함한다.

화학식 C-II의 화합물 및 이의 합성은 WO　98/00428에 기재되어 있다. 하기 표 D에 제시된 화합물 CD-1이 특히 바람직하다. 화학식 C-III의 화합물 및 이의 합성은 GB 2 328 207에 기재되어 있다.

추가로, 전형적으로 사용되는 카이랄 화합물은 예컨대 시판되는 R/S-5011, CD-1, R/S-811 및 CB-15(Merck KGaA, Darmstadt, Germany로부터 시판됨)이다.

전술한 카이랄 화합물 R/S-5011 및 CD-1 및 (다른) 화학식 C-I, C-II 및 C-III의 화합물은 매우 높은 나선 비틀림력(HTP)을 나타내고, 이에 따라, 본 발명의 목적에 특히 유용하다.

RM 혼합물은 바람직하게는 바람직하게는 상기 화학식 C-II, 특히 CD-1, 및/또는 화학식 C-III 및/또는 R-5011 또는 S-50111로부터 선택되는 1 내지 5개, 특히 1 내지 3개, 매우 바람직하게는 1 또는 2개의 카이랄 화합물을 포함하고, 매우 바람직하게는, 카이랄 화합물은 R-5011, S-5011 또는 CD-1이다.

바람직하게는 RM 혼합물 임의적으로 일반응성 및/또는 다반응성 카이랄 화합물로부터 선택되는 하나 이상의 비-반응성 카이랄 화합물 및/또는 하나 이상의 반응성 카이랄 화합물을 포함한다.

적합한 메소젠 반응성 카이랄 화합물 바람직하게는 직접 결합 또는 연결기를 통해 함께 연결된 하나 이상의 고리 요소를 포함하고, 이러한 고리 요소 중 2개는 직접적으로, 또는 언급된 연결기와 동일하거나 상이할 수 있는 연결기를 통해 임의적으로 연결될 수 있다. 고리 요소는 4-, 5-, 6- 또는 7-원, 바람직하게는 5- 또는 6-원 고리로부터 선택된다.

적합한 중합성 카이랄 화합물 및 이의 합성은 US 7,223,450에 기재되어 있다.

바람직한 일반응성 카이랄 화합물은 하기 화학식 CRM의 화합물로부터 선택된다:

상기 식에서,P⁰ ^*는 중합성 기인 P이고,

A⁰ 및 B⁰은, 다수 존재하는 경우 각각 서로 독립적으로, 비치환되거나 상기 정의된 1, 2, 3 또는 4개의 기 L로 치환된 1,4-페닐렌, 또는 트랜스-1,4-사이클로헥필렌이고,

X¹ 및 X²는 서로 독립적으로 -O-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O- 또는 단일 결합이고,

Z^0*는, 다수 존재하는 경우 각각 서로 독립적으로, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -OCH₂-, -CH₂O-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CH₂CH₂-, -(CH₂)₄-, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -C≡C-, -CH=CH-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합이고,

t은 서로 독립적으로 0, 1, 2 또는 3이고,

a는 0, 1 또는 2이고,

b는 0 또는 1 내지 12의 정수이고,

z는 0 또는 1이고,

상기 나프탈렌 고리는 하나 이상의 동일하거나 상이한 기 L로 추가적으로 치환될 수 있고,

L은 서로 독립적으로 F, Cl, CN, 또는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 할로겐화된 알킬, 알콕시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이다.

화학식 CRM의 화합물은 바람직하게는 화학식 CRM-a의 화합물의 군으로부터 선택된다:

상기 식에서, A⁰, B⁰, Z^0*, P^0*, a 및 b는 화학식 CRM에 제시된 의미 또는 상기 및 하기제시된 바람직한 의미 중 하나를 갖고, (OCO)는 -O-CO- 또는 단일 결합이다.특히 바람직한 화학식 CRM의 화합물은 하기 하위화학식으로 이루어진 군으로부터 선택된다:

상기 식에서, R은 화학식 CRM-a에 정의된 -X²-(CH₂)_x-P^0*이고, 벤젠 및 나프탈렌 고리는 비치환되거나 상기 및 하기 정의된 1, 2, 3 또는 4개의 기 L로 치환된다.

액정 매질 중 카이랄 화합물의 양은 전체 혼합물의 중량을 기준으로 바람직하게는 1 내지 20%, 보다 바람직하게는 1 내지 15%, 보다 더 바람직하게는 1 내지 10%, 가장 바람직하게는 2 내지 6%이다.

본 발명의 또다른 목적은 전술 및 후술한 하나 이상의 화학식 I의 화합물을 포함하거나 RM 혼합물을 포함하고, 하나 이상의 용매 및/또는 첨가제를 추가로 포함하는 RM 제형이다.

바람직한 양태에서, RM 제형은 중합 개시제, 계면활성제, 안정화제, 촉매, 감광제, 억제제, 쇄 전달제, 동반-반응성 단량체, 반응성 시너(thinner), 표면-활성 화합물, 윤활제, 습윤제, 분산제, 소수화제, 접착제, 유동 개선제, 탈가스제 또는 소포제, 탈기제, 희석제, 반응성 희석제, 보조제, 착색제, 염료, 안료 및 나노입자로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 임의적으로 포함한다.

또다른 바람직한 양태에서, RM 제형은 중합성 비메소젠 화합물(반응성 시너)로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 임의적으로 포함한다. RM 제형 중 이러한 첨가제의 양은 바람직하게는 0 내지 30%, 매우 바람직하게는 0 내지 25 중량%이다.

사용되는 반응성 시너는 실제적 기준에서 반응성 시너로 지칭되는 물질일 뿐만 아니라, 하나 이상의 보충적인 반응성 단위, 예를 들어 하이드록시, 티올, 또는 아미노 기를 함유하는 이미 전술한 보조 화합물이고, 이를 통해 액정 화합물의 중합성 단위에 의한 반응이 일어날 수 있다.

광중합이 통상적으로 가능한 물질은, 예를 들어 하나 이상의 올레핀 이중 결합을 함유하는 일작용성, 이작용성 및 다작용성 화합물이다. 이의 예는 카복실산(예를 들어 라우르산, 미리스트산, 팔미트산 및 스테아르산)의 비닐 에스터; 다이카복실산(예를 들어 숙신산 및 아디프산)의 비닐 에스터; 일작용성 알코올(예를 들어 라우릴, 미리스틸, 팔미틸 및 스테아릴 알코올)의 알릴 및 비닐 에터, 및 메트아크릴산 및 아크릴산 에스터; 및 이작용성 알코올(예를 들어 에틸렌 글리콜 및 1,4-부탄다이올)의 다이알릴 및 다이비닐 에터이다.

예를 들어, 다작용성 알코올의 메트아크릴산 및 아크릴산 에스터, 특히 하이드록시 기 이외엔 추가의 작용기를 함유하지 않거나, 최대로 에터 기를 함유하는 것도 적합하다. 이러한 알코올의 예는 이작용성 알코올, 예를 들어 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 및 이의 보다 더 축합된 예들, 예를 들어 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 다이프로필렌 글리콜, 트라이프로필렌 글리콜 등, 부탄다이올, 펜탄다이올, 헥산다이올, 네오펜틸 글리콜; 알콕시화된 페놀 화합물, 예컨대 에톡시화 및 프로폭시화된 비스페놀, 사이클로헥산다이메탄올; 삼작용성 및 다작용성 알코올, 예컨대 글리세롤, 트라이메틸올프로판, 부탄트라이올, 트라이메틸올에탄, 펜타에리트리톨, 다이메틸올프로판, 다이펜타에리트리톨, 소르비톨, 만니톨; 및 상응하는 알콕시화된, 특히 에톡시화 및 프로폭시화된 알코올이다.

다른 적합한 반응성 시너는 폴리에스터롤의 (메트)아크릴산 에스터인 폴리에스터 (메트)아크릴레이트이다.

적합한 폴리에스터롤의 예는 폴리올, 바람직하게는 다이올을 사용하여 폴리카복실산, 바람직하게는 다이카복실산의 에스터화에 의해 제조될 수 있는 것들이다. 이러한 하이드록시 함유 폴리에스터를 위한 출발 물질은 당업자에게 공지되어 있다. 사용될 수 있는 다이카복실산은 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, o-프탈산, 및 이의 이성질체 및 수소화 생성물, 및 전술한 산의 에스터화 및 트랜스에스터화가 가능한 유도체, 예를 들어 무수물 및 다이알킬 에스터이다. 적합한 폴리올은 전술한 알코올, 바람직하게는 에틸렌글리콜, 1,2- 및 1,3-프로필렌 글리콜, 1,4-부탄다이올, 1,6-헥산다이올, 네오펜틸 글리콜, 사이클로헥산다이메탄올, 및 에틸렌 글리콜 및 프로필렌 글리콜 유형의 폴리글리콜이다.

적합한 반응성 시너는 추가로 1,4-다이비닐 벤젠; 트라이알릴 시아누레이트; 다이하이드로다이사이클로펜타다이엔일 아크릴레이트로도 공지되어 있는 하기 화학식의 트라이사이클로데센일 알코올의 아크릴산 에스터; 및 아크릴산, 메트아크릴산 및 시아노아크릴산의 알릴 에스터이다:

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예로 언급된 반응성 시너 중에서, 광중합성 기를 함유하는 것들이 특히, 전술한 바람직한 조성에 따라 사용된다.

이러한 기는, 예를 들어 이가 및 다가 알코올, 예를 들어 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 및 이의 보다 더 축합된 예, 예를 들어 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 다이프로필렌 글리콜, 트라이프로필렌 글리콜 등, 부탄다이올, 펜탄다이올, 헥산다이올, 네오펜틸 글리콜, 사이클로헥산다이메탄올, 글리세롤, 트라이메틸올프로판, 부탄트라이올, 트라이메틸올에탄, 펜타에리트리톨, 다이메틸올프로판, 다이펜타에리트리톨, 소르비톨, 만니톨; 및 상응하는 알콕시화된, 특히 에톡시화 및 프로폭시화된 알코올이다.

또한, 상기 기는, 예를 들어 알콕시화된 페놀 화합물, 예를 들어 에톡시화 및 프로폭시화된 비스페놀도 포함한다.

또한, 이러한 반응성 시너는, 예를 들어 에폭사이드 또는 우레탄 (메트)아크릴레이트일 수 있다.

에폭사이드 (메트)아크릴레이트는, 예를 들어 당업자에게 공지되어 있는 (메트)아크릴산에 의한 에폭사이드화된 올레핀, 또는 폴리글리시딜 에터 또는 다이글리시딜 에터(예컨대 비스페놀 A 다이글리시딜 에터)의 반응에 의해 수득가능한 것들이다.

우레탄 (메트)아크릴레이트는, 특히 당업자에게 공지되어 있는 바와 마찬가지로 폴리이소시아네이트 또는 다이이소시아네이트에 의한 하이드록시알킬 (메트)아크릴레이트의 반응 생성물이다.

이러한 에폭사이드 및 우레탄 (메트)아크릴레이트는 상기 나열된 화합물 중에 "혼합된 형태"로서 포함된다.

반응성 시너가 사용되는 경우, 이의 양 및 특성은 만족스러운 목적 효과, 예를 들어 본 발명에 따른 조성물의 목적 색상이 성취되되 액정 조성물의 상 거동이 과도하게 손상되지 않도록 개별적인 조건들에 부합하여야 한다. 저-가교연결 또는 고-가교연결 액정 조성물은, 예를 들어 상응하는 반응성 시너를 사용하여 제조될 수 있고, 분자당 비교적 적은 또는 많은 반응성 단위의 수를 가진다.

희석제의 군은, 예를 들어 하기를 포함한다:

C₁-C₄-알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 2차-부탄올, 특히 C₅-C₁₂-알코올, n-펜탄올, n-헥산올, n-헵탄올, n-옥탄올, n-노난올, n-데칸올, n-운데칸올 및 n-도데칸올, 및 이의 이성질체; 글리콜, 예를 들어 1,2-에틸렌 글리콜, 1,2- 및 1,3-프로필렌 글리콜, 1,2-, 2,3- 및 1,4-부틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 다이프로필렌 글리콜 및 트라이프로필렌 글리콜; 에터, 예를 들어 메틸 3차-부틸 에터, 1,2-에틸렌 글리콜 모노- 및 다이-메틸에터, 1,2-에틸렌 글리콜 모노- 및 다이-에틸에터, 3-메톡시프로판올, 3-이소프로폭시프로판올, 테트라하이드로퓨란 및 다이옥산; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 에틸 이소부틸 케톤 및 다이아세톤 알코올(4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온), C₁-C₅-알킬 에스터, 예를 들어 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트 및 아밀 아세테이트; 지방족 및 방향족 탄화수소, 예를 들어 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 석유 에터, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 테트랄린, 데칼린, 다이메틸나프탈렌, 화이트 스피릿(white spirit), 쉘졸(Shellsol®) 및 솔브쏘(Solvesso®); 광유, 예를 들어 가솔린, 케로신, 디젤유 및 가열유; 및 천연 오일, 예를 들어 올리브유, 대두유, 평지씨유, 아마씨유 및 해바라기유.

희석제의 혼합물을 본 발명에 따른 조성물에 사용하는 것도 당연히 가능하다.

적어도 부분적으로 혼화성이 있는 한, 상기 희석제는 물과도 혼합될 수 있다. 여기서, 적합한 희석제의 예는 C₁-C₄-알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올 및 2차-부탄올; 글리콜, 예를 들어 1,2-에틸렌 글리콜, 1,2- 및 1,3-프로필렌 글리콜, 1,2-, 2,3- 및 1,4-부틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜 및 트라이에틸렌 글리콜, 및 다이프로필렌 글리콜 및 트라이프로필렌 글리콜; 에터, 예를 들어 테트라하이드로퓨란 및 다이옥산; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤 및 다이아세톤 알코올(4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온); 및 C₁-C₄-알킬 에스터, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필 및 부틸 아세테이트이다.

희석제는 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 10 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 5.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

소포제 및 탈기제(c1), 윤활제 및 유동 보조제(c2), 열경화 보조제 또는 복사-경화 보조제(c3), 기판 습윤 보조제(c4), 습윤 보조제 및 분산 보조제(c5), 소수화제(c6), 접착 촉진제(c7) 및 내긁힘성 촉진 보조제(c8)는 이들의 작용에 있어서 서로를 엄격히 제한할 수는 없다.

예를 들어, 윤활제 및 유동 보조제는 종종 소포제 및/또는 탈기제 및/또는 내긁힘성 촉진 보조제로서도 작용한다. 복사-경화 보조제는 윤활제 및 유동 보조제 및/또는 탈기제 및/또는 기판 습윤 보조제로서도 작용할 수 있다. 개별적인 경우에서, 이러한 보조제의 일부는 접착 촉진제(c7)의 기능도 충족할 수 있다.

전술한 바에 상응하여, 이에 따라 특정 첨가제들은 후술되는 군 c1 내지 c8의 숫자로 분류될 수 있다.

군 c1의 소포제는 규소를 함유하는 중합체 및 규소를 함유하지 않는 중합체를 포함한다. 규소를 함유하는 중합체는, 예를 들어 폴리다이알킬실록산 및 폴리에터 단위를 포함하는 개질되지 않거나 개질된 폴리다이알킬실록산 또는 분지쇄 공중합체, 빗형 또는 블럭 공중합체이고, 후자는 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드로부터 수득가능하다.

군 c1의 탈기제는, 예를 들어 유기 중합체, 예를 들어 폴리에터 및 폴리아크릴레이트, 다이알킬폴리실록산, 특히 다이메틸폴리실록산, 유기 화합물에 의해 개질된 폴리실록산, 예를 들어 아릴알킬에 의해 개질된 폴리실록산, 및 플루오로실리콘을 포함한다.

소포제의 작용은 본질적으로 포말 형성을 방지하거나 이미 형성된 포말을 파괴하는 것에 기초한다. 소포제는 본질적으로 미분된 기체 또는 공기 기포의 유착을 촉진함으로써 탈기될 매질, 예를 들어 본 발명에 따른 조성물에서 보다 큰 기포가 생성되게 하고, 이에 따라 기체(공기)의 배출을 가속화한다. 또한, 소포제는 탈기제로서 사용될 수 있고 이의 역도 가능하기 때문에, 이러한 첨가제는 군 c1에 함께 포함되어 있다.

이러한 보조제는, 예를 들어 Tego로부터 TEGO® Foamex 800, TEGO® Foamex 805, TEGO® Foamex 810, TEGO® Foamex 815, TEGO® Foamex 825, TEGO® Foamex 835, TEGO® Foamex 840, TEGO® Foamex 842, TEGO® Foamex 1435, TEGO® Foamex 1488, TEGO® Foamex 1495, TEGO® Foamex 3062, TEGO® Foamex 7447, TEGO® Foamex 8020, TEGO® Foamex N, TEGO® Foamex K 3, TEGO® Antifoam 2-18, TEGO® Antifoam 2-18, TEGO® Antifoam 2-57, TEGO® Antifoam 2-80, TEGO® Antifoam 2-82, TEGO® Antifoam 2-89, TEGO® Antifoam 2-92, TEGO® Antifoam 14, TEGO® Antifoam 28, TEGO® Antifoam 81, TEGO® Antifoam D 90, TEGO® Antifoam 93, TEGO® Antifoam 200, TEGO® Antifoam 201, TEGO® Antifoam 202, TEGO® Antifoam 793, TEGO® Antifoam 1488, TEGO® Antifoam 3062, TEGOPREN® 5803, TEGOPREN® 5852, TEGOPREN® 5863, TEGOPREN® 7008, TEGO® Antifoam 1-60, TEGO® Antifoam 1-62, TEGO® Antifoam 1-85, TEGO® Antifoam 2-67, TEGO® Antifoam WM 20, TEGO® Antifoam 50, TEGO® Antifoam 105, TEGO® Antifoam 730, TEGO® Antifoam MR 1015, TEGO® Antifoam MR 1016, TEGO® Antifoam 1435, TEGO® Antifoam N, TEGO® Antifoam KS 6, TEGO® Antifoam KS 10, TEGO® Antifoam KS 53, TEGO® Antifoam KS 95, TEGO® Antifoam KS 100, TEGO® Antifoam KE 600, TEGO® Antifoam KS 911, TEGO® Antifoam MR 1000, TEGO® Antifoam KS 1100, TEGO® Airex 900, TEGO® Airex 910, TEGO® Airex 931, TEGO® Airex 935, TEGO® Airex 936, TEGO® Airex 960, TEGO® Airex 970, TEGO® Airex 980 및 TEGO® Airex 985; 및 BYK로부터 BYK® 011, BYK® 019, BYK® 020, BYK® 021, BYK® 022, BYK® 023, BYK® 024, BYK® 025, BYK® 027, BYK® 031, BYK® 032, BYK® 033, BYK® 034, BYK® 035, BYK® 036, BYK® 037, BYK® 045, BYK® 051, BYK® 052, BYK® 053, BYK® 055, BYK® 057, BYK® 065, BYK® 066, BYK® 070, BYK® 080, BYK® 088, BYK® 141 및 BYK® A 530으로서 시판된다.

군 c1의 보조제는 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 3.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 2.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

군 c2의 윤활제 및 유동 보조제는 전형적으로 실리콘을 함유하는 중합체 및 실리콘을 함유하지 않는 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 개질제, 또는 저분자량 폴리다이알킬실록산을 포함한다. 개질제는 다양한 유기 라디칼로 대체된 일부의 알킬 기로 이루어진다. 이러한 유기 라디칼은, 예를 들어 폴리에터, 폴리에스터 또는 장쇄 알킬 라디칼이고, 전자가 가장 빈번하게 사용된다.

상응하게 개질된 폴리실록산에서 폴리에터 라디칼은 통상적으로 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드 단위로 구성된다. 일반적으로, 개질된 폴리실록산에서 이러한 알킬렌 옥사이드 단위의 비율이 보다 높을수록, 생성물이 보다 친수성이게 된다.

이러한 보조제는, 예를 들어 테고로부터 TEGO® Glide 100, TEGO® Glide ZG 400, TEGO® Glide 406, TEGO® Glide 410, TEGO® Glide 411, TEGO® Glide 415, TEGO® Glide 420, TEGO® Glide 435, TEGO® Glide 440, TEGO® Glide 450, TEGO® Glide A 115, TEGO® Glide B 1484(소포제 및 탈기제로서도 사용됨), TEGO® Flow ATF, TEGO® Flow 300, TEGO® Flow 460, TEGO® Flow 425 및 TEGO® Flow ZFS 460으로서 시판된다. 내긁힘성을 향상시키는데도 사용될 수 있는 적합한 복사-경화 윤활제 및 유동 보조제는 제품 TEGO® Rad 2100, TEGO® Rad 2200, TEGO® Rad 2500, TEGO® Rad 2600 및 TEGO® Rad 2700이고, 마찬가지로 테고로부터 시판된다.

이러한 보조제는 BYK로부터 BYK® 300, BYK® 306, BYK® 307, BYK® 310, BYK® 320, BYK® 333, BYK® 341, BYK® 354, BYK® 361, BYK® 361N 및 BYK® 388로서도 시판된다.

군 c2의 보조제는 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 3.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 2.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

군 c3에서, 복사-경화 보조제는, 특히, 예를 들어 아크릴레이트 기의 요소인 말단 이중 결합을 갖는 폴리실록산을 포함한다. 이러한 보조제는, 예를 들어 화학선 또는 전자 복사에 의해 가교연결될 수 있다. 이러한 보조제는 일반적으로 다수의 특성을 함께 조합한다. 가교연결되지 않은 상태에서, 이는 소포제, 탈기제, 윤활제 및 유동 보조제 및/또는 기판 습윤 보조제로서 작용할 수 있는 반면, 가교연결된 상태에서, 이는 내긁힘성, 예를 들어 본 발명에 따른 조성물을 사용하여 제조될 수 있는 코팅 또는 필름의 내긁힘성을 증가시킨다. 광택 특성의 향상, 예를 들어 엄밀히는 이러한 코팅 또는 필름의 광택 특성의 향상은 본질적으로 소포제, 탈기제 및/또는 윤활제 및 유동 보조제로서의 이러한 보조제(가교연결되지 않은 상태)의 작용의 결과로서 여겨진다.

적합한 복사-경화 보조제의 예는 테고로부터 시판되는 제품 TEGO® Rad 2100, TEGO® Rad 2200, TEGO® Rad 2500, TEGO® Rad 2600 및 TEGO® Rad 2700; 및 BYK로부터 시판되는 제품 BYK® 371이다.

군 c3의 열경화 보조제는, 예를 들어 결합제의 이소시아네이트 기와 반응할 수 있는, 예를 들어 1차 OH 기를 함유한다.

사용될 수 있는 열경화 보조제의 예는 BYK로부터 시판되는 BYK® 370, BYK® 373 및 BYK® 375이다.

군 c3의 보조제는 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 3.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

군 c4의 기판 습윤 보조제는, 특히, 예를 들어 인쇄용 잉크 또는 코팅 조성물, 예를 들어 본 발명에 따른 조성물에 의해 인쇄되거나 코팅될 기판의 습윤성을 증가시킨다. 이러한 인쇄용 잉크 또는 코팅 조성물에의 윤활 및 유동 거동에 있어서 일반적으로 나타나는 향상은 마감된(예를 들어 가교연결된) 인쇄 또는 코팅의 외양에 영향을 준다.

다양한 이러한 보조제는, 예를 들어 테고로부터 TEGO® Wet KL 245, TEGO® Wet 250, TEGO® Wet 260 및 TEGO® Wet ZFS 453; 및 BYK로부터의 BYK® 306, BYK® 307, BYK® 310, BYK® 333, BYK® 344, BYK® 345, BYK® 346 및 BYK® 348로서 시판된다.

군 c4의 보조제는 액정 조성물의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 3.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 1.5 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

군 c5의 습윤 및 분산 보조제는 특히 안료의 침수, 부유 및 침전을 방지하기 위해 사용되고, 따라서, 필요에 따라, 본 발명에 따른 안료화된 조성물에 특히 적합하다.

본질적으로, 이러한 보조제는 상기 첨가제를 함유하는 정전기적 척력 및/또는 입체 장해를 통해 안료 분산을 안정화시키고, 후자의 경우, 보조제와 주위 매질(예컨대 결합제)의 상호작용이 주요한 역할을 한다.

이러한 습윤 및 분산 보조제는 예컨대 인쇄용 잉크 및 페인트의 기술분야에서 통상적인 실시에 사용됨에 기인하여, 이러한 유형의 적합한 보조제가 사용되는 경우 이의 선택은 당업자에게 전혀 어려움이 없다.

이러한 습윤 및 분산 보조제는, 예를 들어 테고로부터 TEGO® Dispers 610, TEGO® Dispers 610 S, TEGO® Dispers 630, TEGO® Dispers 700, TEGO® Dispers 705, TEGO® Dispers 710, TEGO® Dispers 720 W, TEGO® Dispers 725 W, TEGO® Dispers 730 W, TEGO® Dispers 735 W 및 TEGO® Dispers 740 W; 및 BYK로부터 Disperbyk®, Disperbyk® 107, Disperbyk® 108, Disperbyk® 110, Disperbyk® 111, Disperbyk® 115, Disperbyk® 130, Disperbyk® 160, Disperbyk® 161, Disperbyk® 162, Disperbyk® 163, Disperbyk® 164, Disperbyk® 165, Disperbyk® 166, Disperbyk® 167, Disperbyk® 170, Disperbyk® 174, Disperbyk® 180, Disperbyk® 181, Disperbyk® 182, Disperbyk® 183, Disperbyk® 184, Disperbyk® 185, Disperbyk® 190, Anti-Terra® U, Anti-Terra® U 80, Anti-Terra® P, Anti-Terra® 203, Anti-Terra® 204, Anti-Terra® 206, BYK® 151, BYK® 154, BYK® 155, BYK® P 104 S, BYK® P 105, Lactimon®, Lactimon® WS 및 Bykumen®로서 시판된다.

군 c5의 보조제의 양은 보조제의 평균 분자량에 의해 사용된다. 임의의 경우에서, 이에 따라 예비 실험이 권장되기는 하지만, 이는 당업자에 의해 간단히 수행될 수 있다.

군 c6의 소수화제는, 예를 들어 본 발명에 따른 조성물을 사용하여 생성된 인쇄 또는 코팅에 배수성 특성을 부여한다. 이는 물 흡수에 기인하는 용출 및 이에 따른 이러한 인쇄 또는 코팅의 광학적 특성의 변화를 방지하거나 적어도 크게 억제한다. 또한, 조성물이, 예를 들어 오프셋-인쇄의 인쇄용 잉크로서 사용될 때, 이에 따라 물 흡수가 방지되거나 적어도 크게 감소될 수 있다.

이러한 소수화제는, 예를 들어 테고로부터 TEGO® Phobe WF, TEGO® Phobe 1000, TEGO® Phobe 1000 S, TEGO® Phobe 1010, TEGO® Phobe 1030, TEGO® Phobe 1010, TEGO® Phobe 1010, TEGO® Phobe 1030, TEGO® Phobe 1040, TEGO® Phobe 1050, TEGO® Phobe 1200, TEGO® Phobe 1300, TEGO® Phobe 1310 및 TEGO® Phobe 1400으로서 시판된다.

군 c6의 보조제는 중합성 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 3.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

군 c7로부터의 접착 촉진제는 접촉하는 2개의 계면의 접착성을 증가시킨다. 이는 둘 중 하나, 또는 둘 다의 계면에 위치하는 단지 소량의 접착 촉진제가 효과적인 것으로부터 직접적으로 자명하다. 예를 들어, 액체 또는 페이스트성 인쇄 잉크, 코팅 조성물 또는 페인트를 고체 기판에 적용하는 것을 목적으로 하는 경우, 이는 일반적으로 접착 촉진제가 직접적으로 기판에 첨가되어야 하거나 기판이 접착 촉진제에 의해 사전 처리(밑칠(priming)로도 공지되어 있음)되어야 함을 의미하고, 이는 즉, 상기 기판에 개질된 화학적 및/또는 물리적 표면 특성이 부여된다.

기판이 사전에 프라이머에 의해 밑칠된 경우, 이는 접촉하는 계면이 한편으로는 프라이머의 계면이고 다른 한편으로는 인쇄 잉크, 코팅 조성물 또는 페인트의 계면임을 의미한다. 이러한 경우, 기판과 프라이머간의 접착 특성뿐만 아니라, 기판과 인쇄 잉크, 코팅 조성물 또는 페인트간의 접착 특성이 기판 상의 전체적인 다층 구조의 접착에 부분적인 역할을 한다.

언급될 수 있는 넓은 의미에서의 접착 촉진제는 군 c4하에 이미 나열된 기판 습윤 보조제이기도 하지만, 이는 일반적으로 동일한 접착 촉진 능력을 갖지 않는다.

기판, 인쇄 잉크, 코팅 조성물 및 페인트의 의도되는 다양한 물리적 및 화학적 성질에 있어서, 예를 들어 이의 인쇄 또는 코팅을 위해, 접착 촉진제 시스템의 다양성은 의외의 것이 아니다.

실란을 기반으로 하는 접착 촉진제는, 예를 들어 3-아미노프로필트라이메톡시실란, 3-아미노프로필트라이에톡시실란, 3-아미노프로필메틸다이에톡시실란, N-아미노에틸-3-아미노프로필트라이메톡시실란, N-아미노에틸-3-아미노프로필메틸다이메톡시실란, N-메틸-3-아미노프로필트라이메톡시실란, 3-우레이도프로필트라이에톡시실란, 3-메트아크릴오일옥시프로필트라이메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트라이메톡시실란, 3-머캅토프로필트라이메톡시실란, 3-클로로프로필트라이메톡시실란 또는 비닐트라이메톡시실란이다. 상기 및 기타 실란은 Huls로부터, 예를 들어 상표명 DYNASILAN®하에 시판된다.

일반적으로, 상기 첨가제의 제조자로부터의 상응하는 기술적 정보가 사용되어야 하거나, 당업자가 상응하는 예비 실험들을 통해 간단한 방식으로 이러한 정보를 수득할 수 있다.

그러나, 이러한 첨가제가 본 발명에 따른 RM 제형에 군 c7로부터의 보조제로서 첨가되는 경우, 이의 비율은 임의적으로 RM 제형의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 5.0 중량%에 상응한다. 첨가제의 양 및 실체(identity)가 각각 개별적인 경우에 기판, 및 인쇄/코팅 조성물의 성질에 의해 결정되기 때문에, 이러한 농도 데이터는 단지 지침으로서 역할한다. 상응하는 기술적 정보는 이러한 경우에 대한 상기 첨가제의 제조자로부터 통상적으로 이용가능하거나, 상응하는 예비 실험들을 통해 당업자에 의해 간단한 방식으로 결정될 수 있다.

군 c8의 내긁힘성 향상 보조제는, 예를 들어 테고로부터 시판되는 전술한 제품 TEGO® Rad 2100, TEGO® Rad 2200, TEGO® Rad 2500, TEGO® Rad 2600 및 TEGO® Rad 2700을 포함한다.

이러한 보조제에 있어서, 군 c3에 대해 제시된 양의 데이터가 마찬가지로 적합한데, 즉, 상기 첨가제는 임의적으로 액정 조성물의 총 중량을 기준으로 약 0 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 약 0 내지 3.0 중량%의 비율로 임의적으로 사용된다.

광, 열 및/또는 산화 안정화제로 언급될 수 있는 예는 하기와 같다:

알킬화된 모노페놀, 예컨대 2,6-다이-3차-부틸-4-메틸페놀, 2-3차-부틸-4,6-다이메틸페놀, 2,6-다이-3차-부틸-4-에틸페놀, 2,6-다이-3차-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-다이-3차-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-다이사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-다이메틸페놀, 2,6-다이옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트라이사이클로헥실페놀, 2,6-다이-3차-부틸-4-메톡시메틸페놀, 직쇄 또는 분지쇄 측쇄를 갖는 노닐페놀, 예를 들어 2,6-다이노닐-4-메틸페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸운데크-1'-일)페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸헵타데크-1'-일)페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸트라이데크-1'-일)페놀 및 상기 화합물의 혼합물, 알킬티오메틸페놀, 예컨대 2,4-다이옥틸티오메틸-6-3차-부틸페놀, 2,4-다이옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-다이옥틸티오메틸-6-에틸페놀 및 2,6-다이도데실티오메틸-4-노닐페놀;

하이드로퀴논 및 알킬화된 하이드로퀴논, 예컨대 2,6-다이-3차-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-다이-3차-부틸하이드로퀴논, 2,5-다이-3차-아밀하이드로크래인온, 2,6-다이페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-다이-3차-부틸하이드로퀴논, 2,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트 및 비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐)아디페이트;

토코페롤, 예컨대 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 상기 화합물의 혼합물, 및 토코페롤 유도체, 예컨대 토코페릴 아세테이트, 숙시네이트, 니코티네이트 및 폴리옥시에틸렌숙시네이트("토코페르솔레이트(tocofersolate)");

하이드록시화된 다이페닐 티오에터, 예컨대 2,2'-티오비스(6-3차-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3차-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3차-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-다이-2차-아밀페놀) 및 4,4'-비스(2,6-다이메틸-4-하이드록시페닐)다이설파이드;

알킬리덴비스페놀, 예컨대 2,2'-메틸렌비스(6-3차-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-3차-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-다이-3차-부틸페놀), 2,2-에틸리덴비스(4,6-다이-3차-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-3차-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-다이메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-다이-3차-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3차-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-3차-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-3차-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3차-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3차-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실-머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-3차-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3차-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)다이사이클로펜타다이엔, 비스[2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3차-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-다이메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-3차-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실-머캅토부탄 및 1,1,5,5-테트라키스(5-3차-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄;

O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예컨대 3,5,3',5'-테트라-3차-부틸-4,4'-다이하이드록시다이벤질 에터, 옥타데실 4-하이드록시-3,5-다이메틸벤질머캅토아세테이트, 트라이데실 4-하이드록시-3,5-다이-3차-부틸벤질머캅토아세테이트, 트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3차-부틸-3-하이드록시-2,6-다이메틸벤질)다이티오테레프탈레이트, 비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드 및 이소옥틸-3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질머캅토아세테이트;

방향족 하이드록시벤질 화합물, 예컨대 1,3,5-트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트라이메틸-벤젠, 1,4-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸-벤젠 및 2,4,6-트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)페놀;

트라이아진 화합물, 예컨대 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트라이아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트라이아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트라이아진, 2,4,6-트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트라이아진, 1,3,5-트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3차-부틸-3-하이드록시-2,6-다이메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트라이아진, 1,3,5-트리스-(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐프로피온일)헥사하이드로-1,3,5-트라이아진, 1,3,5-트리스(3,5-다이사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트 및 1,3,5-트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트;

벤질포스포네이트, 예컨대 다이메틸 2,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 다이에틸 3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 다이옥타데실 3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트 및 다이옥타데실 5-3차-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트;

아실아미노페놀, 예컨대 4-하이드록시라우로일아닐리드, 4-하이드록시스테아로일아닐리드 및 옥틸 N-(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐)카바메이트;

프로피온산 에스터 및 아세트산 에스터, 예를 들어 일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데카놀, 1,6-헥산다이올, 1,9-노난다이올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판다이올, 네오펜틸 글리콜, 티오다이에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데카놀, 트라이메틸헥산다이올, 트라이메틸올프로판 및 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트라이옥사바이사이클로[2.2.2]-옥탄;

아민 유도체를 기반으로 하는 프로피온아미드, 예컨대 N,N'-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐프로피온일)헥사메틸렌다이아민, N,N'-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐프로피온일)트라이메틸렌다이아민 및 N,N'-비스(3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시페닐프로피온일)하이드라진;

아스코르브산(비타민 C) 및 아스코르브산 유도체, 예컨대 아스코르빌 팔미테이트, 라우레이트 및 스테아레이트, 및 아스코르빌 설페이트 및 아스코르빌 포스페이트;

아민 화합물을 기반으로 하는 항산화제, 예컨대 N,N'-다이이소프로필-p-페닐렌다이아민, N,N'-다이-2차-부틸-p-페닐렌다이아민, N,N'-비스(1,4-다이메틸펜틸)-p-페닐렌다이아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌다이아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌다이아민, N,N'-다이사이클로헥실-p-페닐렌다이아민, N,N'-다이페닐-p-페닐렌다이아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌다이아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌다이아민, N-(1,3-다이메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌다이아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌다이아민, N-사이클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌다이아민, 4-(p-톨루엔설파모일)다이페닐아민, N,N'-다이메틸-N,N'-다이-2차-부틸-p-페닐렌다이아민, 다이페닐아민, N-알릴다이페닐아민, 4-이소프로폭시다이페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-3차-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸-치환된 다이페닐아민, 예컨대 p,p'-다이-3차-옥틸다이페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-다이-3차-부틸-4-다이메틸아미노메틸페놀, 2,4-다이아미노다이페닐메탄, 4,4'-다이아미노다이페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-다이아미노다이페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)바이구아니드, 비스[4-(1',3'-다이메틸부틸)페닐]아민, 3차-옥틸-치환된 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 다이알킬화된 3차-부틸/3차-옥틸다이페닐아민의 혼합물, 모노- 및 다이알킬화된 노닐다이페닐아민의 혼합물, 모노- 및 다이알킬화된 도데실다이페닐아민의 혼합물, 모노- 및 다이알킬화된 이소프로필/이소헥실다이페닐아민의 혼합물, 모노- 및 다이알킬화된 3차-부틸다이페닐아민의 혼합물, 2,3-다이하이드로-3,3-다이메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 다이알킬화된 3차-부틸/3차-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노- 및 다이알킬화된 3차-옥틸페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-다이아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌다이아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올;

포스핀, 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대 트라이페닐포스핀 트라이페닐포스파이트, 다이페닐 알킬 포스파이트, 페닐 다이알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트라이라우릴 포스파이트, 트라이옥타데실 포스파이트, 다이스테아릴 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 트리스(2,4-다이-3차-부틸페닐)포스파이트, 다이이소데실 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4-다이-3차-부틸페닐)펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,6-다이-3차-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 다이포스파이트, 다이이소데실옥시 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4-다이-3차-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(3차-부틸페닐))펜타에리트리톨 다이포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트라이포스파이트, 테트라키스(2,4-다이-3차-부틸페닐)-4,4'-바이페닐렌다이포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-3차-부틸-12H-다이벤즈[d,g]-1,3,2-다이옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-3차-부틸-12-메틸-다이벤즈[d,g]-1,3,2-다이옥사포스포신, 비스(2,4-다이-3차-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트 및 비스(2,4-다이-3차-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트;

2-(2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 예컨대 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-3차-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(5'-3차-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-3차-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-2차-부틸-5'-3차-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-3차-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3,5'-비스-(α,α-다이메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-3차-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸 및 2-(3'-3차-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트라이아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트라이아졸-2-일페놀]의 혼합물; 2-[3'-3차-부틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트라이아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 완전 에스터화 혼합물;

황-함유 퍼옥사이드 소거제 및 황-함유 항산화제, 예컨대 3,3'-티오다이프로피온산의 에스터, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 및 트라이데실 에스터, 머캅토벤즈이미다졸 및 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 다이부틸아연 다이티오카바메이트, 다이옥타데실 다이설파이드 및 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트;

2-하이드록시벤조펜온, 예컨대 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트라이하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-다이메톡시 유도체,

비치환 및 치환된 벤조산의 에스터, 예컨대 4-3차-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 다이벤조일레소르시놀, 비스(4-3차-부틸벤조일)레소르시놀, 벤조일레소르시놀, 2,4-다이-3차-부틸페닐 3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실-3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤조에이트 및 2-메틸-4,6-다이-3차-부틸페닐-3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤조에이트;

아크릴레이트, 예컨대 에틸 α-시아노-β,β-다이페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-다이페닐아크릴레이트, 메틸 α-메톡시카보닐신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸-α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트 및 메틸-α-메톡시카보닐-p-메톡시신나메이트, 입체 장애 아민, 예컨대 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-n-부틸-3,5-다이-3차-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘 및 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌다이아민 및 4-3차-옥틸아미노-2,6-다이클로로-1,3,5-트라이아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트라이아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 1,1'-(1,2-에틸렌)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진온), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-다이-3차-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트라이아자스피로[4.5]데칸-2,4-다이온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌다이아민 및 4-모르폴리노-2,6-다이클로로-1,3,5-트라이아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,3,5-트라이아진 및 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-다이(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,3,5-트라이아진 및 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트라이아자스피로[4.5]-데칸-2,4-다이온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-다이온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-다이온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌다이아민 및 4-사이클로헥실아미노-2,6-다이클로로-1,3,5-트라이아진의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄 및 2,4,6-트라이클로로-1,3,5-트라이아진의 축합 생성물, 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-다이아자-4-옥소-스피로[4.5]-데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-사이클로운데실-1-옥사-3,8-다이아자-4-옥소스피로-[4.5]데칸 및 에피클로로하이드린스피로의 축합 생성물, 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘과 테트라메틸올아세틸렌다이우레아 및 폴리(메톡시프로필-3-옥시)-[4-(2,2,6,6-테트라메틸)피페리딘일]-실록산의 축합 생성물;

옥살아미드, 예컨대 4,4'-다이옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-다이에톡시옥사닐리드, 2,2'-다이옥틸옥시-5,5'-다이-3차-부톡사닐리드, 2,2'-다이도데실옥시-5,5'-다이-3차-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-다이메틸아미노프로필)옥살아미드, 2-에톡시-5-3차-부틸-2'-에톡사닐리드 및 이의 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-다이-3차-부톡사닐리드와의 혼합물, 및 오르토-, 파라-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물, 및 오르토- 및 파라-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물; 및

2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트라이아진, 예컨대 2,4,6-트리스-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2,4-다이하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-트라이데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸)-1,3,5-트라이아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸)-1,3,5-트라이아진, 2-[4-(도데실옥시/트라이데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스-(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-다이페닐-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-다이페닐-1,3,5-트라이아진, 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트라이아진 및 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트라이아진.

또다른 바람직한 양태에서 RM 제형은 하나 이상의 특정한 항산화제 첨가제(바람직하게는 스위스의 Ciba로부터의 Irganox® 시리즈, 예컨대, 시판되는 항산화제 Irganox®1076 및 Irganox®1010로부터 선택됨)를 포함한다.

또다른 바람직한 양태에서, RM 제형은 광개시제(예컨대, 시판되는 Irgacure® 또는 Darocure®(Ciba AG) 시리즈, 특히, Irgacure 127, Irgacure 184, Irgacure 369, Irgacure 651, Irgacure 817, Irgacure 907, Irgacure 1300, Irgacure, Irgacure 2022, Irgacure 2100, Irgacure 2959, 또는 Darcure TPO로부터 선택되고, 추가로 시판되는 OXE02(Ciba AG), NCI 930, N1919T(Adeka), SPI-03 또는 SPI-04(Samyang)로부터 선택됨) 중 1개 이상, 보다 바람직하게는 2개 이상의 조합을 포함한다.

RM 제형 중 전체 중합 개시제(들)의 농도는 바람직하게는 0.5 내지 10%, 매우 바람직하게는 0.8 내지 8%, 보다 바람직하게는 1 내지 6%이다.

바람직한 양태에서, RM 제형은 바람직하게는 유기 용매로부터 선택되는 적합한 용매에 용해된다.

상기 용매는 바람직하게는 케톤, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 사이클로헥산온; 아세테이트, 예컨대 메틸, 에틸 또는 부틸 아세테이트, 또는 메틸 아세토아세테이트; 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올 또는 이소프로필 알코올; 방향족 용매, 예컨대 톨루엔 또는 자일렌; 지환형 탄화수소, 예컨대 사이클로펜탄 또는 사이클로헥산; 할로겐화된 탄화수소, 예컨대 다이클로로메탄 또는 트라이클로로메탄; 글리콜 및 이의 에스터, 예컨대 PGMEA(프로필 글리콜 모노메틸 에터 아세테이트), γ-부티로락톤으로부터 선택된다. 또한, 상기 용매의 이원 또는 삼원 이상의 혼합물이 사용될 수 있다. 특히, 다층 적용례의 경우, 메틸 이소부틸 케톤이 바람직한 이용 용매이다.

RM 제형이 하나 이상의 용매를 함유하는 경우, 반응성 메소젠을 비롯한 모든 고체의 용매 중 총 농도는 바람직하게는 10 내지 60%, 보다 바람직하게는 20 내지 50%, 특히 30 내지 45%이다.

바람직하게는, RM 제형은 하나 이상의 화학식 I의 화합물 이외에도 하기를 포함한다:

a) 임의적으로 하나 이상의 다반응성 또는 이반응성 중합성 메소젠 화합물(바람직하게는 화학식 DRM 및 상응하는 하위화학식의 화합물로부터 선택됨), 및/또는

b) 임의적으로 하나 이상의 카이랄 메소젠 화합물(바람직하게는 화학식 CRM 및 이의 하위화학식의 화합물로부터 선택됨), 및/또는

c) 임의적으로 하나 이상의 일반응성 메소젠(바람직하게는 화학식 MRM 및 상응하는 하위화학식의 화합물로부터 선택됨), 및/또는

d) 임의적으로 하나 이상의 광개시제, 및/또는

e) 임의적으로 하나 이상의 항산화성 첨가제, 및/또는

f) 임의적으로 하나 이상의 접척 촉진제, 및/또는

g) 임의적으로 하나 이상의 계면활성제, 및/또는

h) 임의적으로 하나 이상의 일반응성, 이반응성 또는 다반응성 중합성 비-메소젠 화합물, 및/또는

i) 광중합을 개시하는 데 사용되는 파장에서 최대 흡수를 나타내는 임의적으로 하나 이상의 염료, 및/또는

j) 임의적으로 하나 이상의 쇄 전달제, 및/또는

k) 임의적으로 하나 이상의 (UV) 안정화제, 및/또는

l) 임의적으로 하나 이상의 윤활제 및 유동 보조제, 및

m) 임의적으로 하나 이상의 성분, 및/또는

n) 임의적으로 비-중합성 네마틱 성분, 및/또는

o) 임의적으로 하나 이상의 유기 용매.

보다 바람직하게는, RM 제형은 하기를 포함한다:

a) 하나 이상의 화학식 I또는 이의 상응하는 바람직한 하위화학식의 화합물,

b) 임의적으로 하나 이상의, 바람직하게는 2개 이상의 이반응성 중합성 메소젠 화합물(바람직하게는 화학식 DRMa-1의 화합물로부터 선택됨),

c) 임의적으로 하나 이상의, 바람직하게는 2개 이상의 일반응성 중합성 메소젠 화합물(바람직하게는 화학식 MRM-1, 및/또는 MRM-4, 및/또는 MRM-6, 및/또는 MRM-7의 화합물로부터 선택됨),

d) 임의적으로 하나 이상의 화학식 CRM의 카이랄 메소젠 화합물,

e) 임의적으로 하나 이상의 항산화성 첨가제(바람직하게는 비치환된 및 치환된 벤조산의 에스터, 특히 Irganox®1076로부터 선택되고, 존재하는 경우 바람직하게는 0.01 내지 2 중량%, 매우 바람직하게는 0.05 내지 1 중량%의 양),

f) 임의적으로 하나 이상의 광개시제, 바람직하게는 Irgacure®907, 및/또는 SPI-3, 및

g) 임의적으로 하나 이상의 유기 용매, 바람직하게는 메틸 이소부틸 케톤.

본 발명은 추가로 하기에 의한 중합체 필름의 제조 방법에 관한 것이다:

- 상기 및 하기 기재된 RM 제형의 층을 기판 위에 제공하는 단계,

- 상기 RM 제형의 중합성 성분을 광중합에 의해 중합하는 단계, 및

- 임의적으로 상기 기판으로부터 중합된 필름을 제거하고/하거나 임의적으로 이를 또다른 기판 위에 제공하는 단계.

이러한 RM 제형은, 예를 들어 스핀-코팅 또는 인쇄 또는 다른 공지된 기법에 의해 기재 상에 코팅 또는 인쇄되고, 용매는 중합 이전에 증발된다. 대부분의 경우, 용매의 증발을 촉진시키기 위해, 혼합물을 가열하는 것이 적합하다.

상기 RM 제형은 통상의 코팅 기법, 예컨대 스핀-코팅 또는 블레이드 코팅에 의해 기재 상에 적용될 수 있다. 이는 또한, 당업자에게 공지된 통상의 인쇄 기법, 예를 들어 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 릴-투-릴(reel-to-reel) 인쇄, 활판 인쇄, 그라비어 인쇄, 로토그라비어 인쇄, 플렉소그래픽 인쇄, 인태글리오(intaglio) 인쇄, 패드 인쇄, 열접착(heat seal) 인쇄, 잉크젯 인쇄, 또는 스탬프 또는 인쇄판에 의한 인쇄에 의해 기재에 적용될 수 있다.

적합한 기판 물질 및 기판(예컨대 광학 필름 산업에 사용되는 통상적인 기판, 예컨대 유리 또는 플라스틱)은 숙련자에게 공지되어 있고 문헌에 기재되어 있다. 중합에 특히 적합한 및 바람직한 기판은 폴리에스터, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 또는 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리카보네이트(PC) 트라이아세틸셀룰로스(TAC), 또는 사이클로 올레핀 중합체(COP), 또는 통상적으로 공지된 색상 필터 물질, 특히 트라이아세틸셀룰로스(TAC), 사이클로 올레핀 중합체(COP), 또는 통상적으로 공지된 색상 필터 물질이다. 또한, 또다른 또는 동일한 RM 물질로부터 수득가능한 광학 필름이 기판으로서 사용될 수 있다. 이는, 다층 시스템이 광학 컴포넌트 내에 1, 2, 3, 4, 5개 또는 그 이상의 광학 필름을 포함하도록 설계되어야 할 경우 특히 바람직하다.

RM 제형은 바람직하게는 전체 층에 걸쳐 균일 배열을 나타낸다. 바람직하게는 RM 제형은 균일 평면형, 균일 호메오트로픽, 균일 콜레스테릭 또는 패턴화된 배열을 나타낸다.

프리델-크릭-멧츠(Friedel-Creagh-Kmetz) 법칙이 RM 층(γ_RM)및기판(γ_s)의 에너지 표면을 비교함으로써 평면형 또는 호메오트로픽 배열을 채용할 것인 지를 예측하는 데 사용될 수 있다:

γ_RM > γ_s인 경우, 반응성 메소젠 화합물은 호메오트로픽 배열을 나타낼 것이고, γ_RM < γ_s인 경우, 반응성 메소젠 화합물은 호모지니어스(homogeneous) 배열을 나타낼 것이다.

이론에 얽매이려는 것은 아니지만, 기판의 표면 에너지가 상대적으로 낮을 때, 반응성 메소젠 간의 분자간 인력이 RM-기판 계면에 걸친 힘보다 강하고, 결과적으로, 분자간 힘을 최대화하기 위해, 반응성 메소젠은 기판에 수직하게 정렬(호메오트로픽 배열)된다.

호메오트로픽 배열은 양친매성 물질을 사용하여 성취될 수도 있고, 이는 중합성 액정 물질에 직접적으로 첨가되거나, 기판이 호메오트로픽 배열 층의 형태의 상기 물질에 의해 처리될 수 있다. 양친매성 물질의 극성 머리는 기판에 화학적으로 결합하고, 탄화수소 꼬리는 기판에 수직하게 향한다. 양친매성 물질과 RM 사이의 분자간 상호작용은 호메오트로픽 배열을 촉진한다. 통상적으로 사용되는 양친매성 계면활성제는 상기 기재되어 있다.

호메오트로픽 배열을 촉진하는 데 사용되는 또다른 방법은 플라스틱 기판 상에 코로나 방전을 적용하여 기판 표면 상에 알코올 또는 케톤 작용기를 생성하는 것이다. 이러한 극성 기는 RM 또는 계면활성제에 존재하는 극성 기와 상호작용하여 호메오트로픽 배열을 촉진할 수 있다.

기판의 표면 장력이 RM의 표면 장력보다 클 때, 계면에 걸친 힘이 우세하다. 계면 에너지는 반응성 메소젠이 기판과 평행하게 배열되는 경우 최소화되어, RM의 장축이 기판과 상호작용할 수 있다. 일방향 평면형 배열은 폴리이미드 층에 의해 기판을 코팅한 후, 배열 층을 벨벳 옷감(velvet cloth)으로 러빙(rubbing)함으로써 촉진될 수 있다.

기타 적합한 평면형 배열 층은 당업계에 공지되어 있다(예컨대 US 5,602,661, US 5,389,698 또는 US 6,717,644에 기재된 광배열에 의해 제조된 러빙된 폴리이미드 또는 배열 층).

일반적으로, 정렬 기법의 논의는, 예를 들어 문헌[I. Sage in "Thermotropic Liquid Crystals", edited by G. W. Gray, John Wiley & Sons, 1987, pages 75-77]; 및 문헌[T. Uchida and H. Seki in "Liquid Crystals - Applications and Uses Vol. 3", edited by B. Bahadur, World Scientific Publishing, Singapore 1992, pages 1-63]에 제시된다. 정렬 물질 및 기법의 추가적인 논의는 문헌[J. Cognard, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 78, Supplement 1(1981), pages 1-77]에 제시된다.

그러나, RM 분자의 배향이 층 두께에 따라 다른 것도 마찬가지로 바람직하다(예컨대, 숙련자에게 통상적으로 공지된 스플레이드(splayed) 배열, 경사진 또는 비틀린 배열 유형).

본 발명에 따른 중합체 필름의 제조의 경우, RM 제형의 중합성 화합물은 동일반응계 광중합에 의해 중합되거나 가교결합된다(하나의 화합물이 2개 이상의 중합성 기를 함유하는 경우).

광중합은 하나의 단계로 수행될 수 있다. 또한, 제1 단계에 반응하지 않은 화합물을 제2 단계에서 화합물을 광중합 또는 가교결합시키는 것이 가능하다("마무리 경화(end curing)").

바람직한 제조 방법에서, RM 제형이 기판 위에 코팅된 후, 예컨대 WO 01/20394, GB 2,315,072 또는 WO 98/04651에 기재된 화학선 복사에 대한 노출에 의해 광중합된다.

액정 물질의 광중합은 바람직하게는 이를 화학선에 노출함으로써 성취된다. 화학선은 광(예컨대, UV 광, IR 광 또는 가시광)을 사용한 조사, X-선 또는 감마 선을 사용한 조사, 또는 고에너지 입자(예컨대, 이온 또는 전자)를 사용한 조사를 의미한다. 바람직하게는, 중합은 광 조사, 특히 UV 광에 의해 수행된다. 화학선에 대한 공급원으로서, 예를 들면, 단일 UV 램프 또는 UV 램프 세트가 사용될 수 있다. 높은 램프 출력을 사용하는 경우, 경화 시간이 감소될 수 있다. 광 조사에 대한 또다른 가능한 공급원은 레이저, 예를 들면, UV, 레이저, IR 레이저 또는 가시광 레이저이다. 광 조사에 대한 또다른 가능한 공급원은 LED 램프이다.

경화 시간은, 특히, RM의 반응성, 코팅된 층의 두께, 중합 개시제의 유형 및 UV 램프의 출력에 좌우된다. 경화 시간은 바람직하게는 5분 이하, 매우 바람직하게는 3분 이하, 가장 바람직하게는 1분 이하이다. 대량 생산의 경우, 30초 이하의 짧은 경화 시간이 바람직하다.

적합한 UV 복사력은 바람직하게는 5 내지 200 mWcm^-2의 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 175 mWcm^-2의 범위, 가장 바람직하게는 100 내지 150 mWcm^-2의 범위이다.

적용되는 UV 복사와 관련하여, 시간의 함수로서, 적합한 UV 선량은 바람직하게는 바람직하게는 25 내지 7200 mJcm^-2의 범위, 보다 바람직하게는 100 내지 7200 mJcm^-2의 범위, 가장 바람직하게는 200 내지 7200 mJcm^-2의 범위이다.

광중합은 바람직하게는 불활성 기체 대기하에, 바람직하게는 가열된 질소 대기에서 수행되지만, 공기 중 중합도 가능하다.

광중합은 1 내지 70℃, 보다 바람직하게는 5 내지 50℃, 보다 더 바람직하게는 15 내지 30℃의 온도에서 수행된다.

중합된 본 발명에 따른 액정 필름은 플라스틱 기판, TAC, COP, 및 색상 필터에 대해 우수한 접착력을 갖는다. 이에 따라, 이는, 달리는 기판에 잘 접착되지 않았을 후속의 액정 층을 위한 접착제 또는 베이스 코팅으로서 사용될 수 있다.

중합체 필름의 광학 적용례의 경우, 이는 바람직하게는 0.5 내지 10 μm, 매우 바람직하게는 0.5 내지 5 μm, 특히 0.5 내지 3 μm의 두께를 갖는다.

입사광선(Δ)의 파장의 함수로서 중합체 필름의 광학 지연(δ(λ))은 하기 공식에 의해 제공된다:

δ(λ) = (2πΔn·d)/λ

상기 식에서, Δn은 필름의 복굴절률이고, d는 필름의 두께이고, λ는 입사 광선의 파장이다.

스넬리우스 법칙에 따라, 입사 광선의 방향의 함수로서 복굴절률은 하기와 같이 정의된다:

Δn = sinΘ/sinΨ

상기 식에서, sinΘ는 입사각 또는 필름의 광학 축의 경사각이고, sinΨ는 상응하는 반사각이다.

상기 법칙에 근거하면, 복굴절률 및 이에 따라 광학 지연은 필름의 두께 및 필름의 광학 축의 경사각에 의존한다(참조: 베렉 보상기(Berek's compensator)). 따라서, 숙련자는 상이한 광학 지연 또는 상이한 복굴절률이 중합체 필름의 액정 분자의 배향을 조정함으로써 유도될 수 있음을 인지한다.

본 발명에 따른 중합체 필름의 복굴절률(Δn)은 바람직하게는 0.1 내지 0.8의 범위, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.7의 범위, 보다 더 바람직하게는 0.2 내지 0.6의 범위이다.

본 발명에 따른 중합체 필름의 두께의 함수로서 광학 지연은 200 nm 미만, 바람직하게는 180 nm 미만, 보다 더 바람직하게는 150 nm 미만이다.

본 발명의 중합체 필름은 또한 다른 액정 또는 RM 물질을 위한 배열 필름 또는 기판으로서 사용될 수도 있다. 본 발명자들은 상기 및 하기 기재된 RM 제형으로부터 수득가능한 중합체 필름이 이의 향상된 탈습윤(dewetting) 특성에 기인하여 다층 적용례에 특히 유용함을 발견하였다. 이러한 방식으로, 광학 필름 또는 바람직하게는 중합된 액정 필름의 적층(stack)이 제조될 수 있다.

요약하면, 본 발명에 따른 중합된 액정 필름 및 중합성 액정 물질은 광학 소자, 예컨대 액정 디스플레이 또는 영사 시스템의 편광기, 보상기, 배열 층, 원형 편광기 또는 색상 필터, 장식성 이미지에, 액정 또는 효과 안료의 제조에, 및 광간적으로 반사 색상을 변화시키는 반사 필름, 예컨대 장식용, 정보 저장용 또는 보안용 다색 이미지, 예컨대 위조불가 문서, 예컨대 신분증 또는 신용 카드, 수표 등에유용하다.

본 발명에 따른 중합된 액정 필름은 투과성 또는 반사성 유형의 디스플레이에 사용될 수 있다. 이는 통상적인 OLED 디스플레이 또는 LCD, 특히 LCD에 사용될 수 있다.

본 발명은 바람직한 양태를 특히 참조하여 상기 및 하기 기재된다. 다양한 변화 및 변형이 본 발명의 사상 및 범주를 벗어남 없이 이에서 수행될 수 있음이 이해되어야 한다.

상기 및 하기 언급된 화합물 또는 이의 혼합물 중 다수는 시판된다. 이러한 화합물 모두는 공지되어 있거나, 문헌(예컨대, 표준서, 예컨대 문헌[Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart])에 기재되어 그 자체로 공지된 방법에 의해, 상기 반응에 대해 공지되고 적합한 반응 조건하에 정밀하게 제조될 수 있다. 또한, 그 자체로 공지된 변경이 여기서 수행될 수 있지만, 여기서 언급되지는 않는다.

본 발명의 전술한 양태에 대한 변경이 본 발명의 범주 내에 속하면서 성취될 수 있음이 이해될 것이다. 달리 언급이 없는 한, 동일한, 등가의 또는 유사한 목적을 위한 대체 특징이 본 명세서에 개시된 각각의 특징을 대체할 수 있다. 따라서, 달리 언급이 없는 한, 각각의 개시된 특징은 등가의 또는 유사한 특징의 특유한 시리즈의 단지 하나의 예시일 뿐이다.

본 명세서에 개시된 특징 모두는 임의의 조합으로 조합될 수 있되, 이러한 특징 및/또는 단계 중 적어도 일부가 서로 배타적인 경우의 조합은 제외된다. 특히, 본 발명의 바람직한 특징은 본 발명의 모든 양상에 적용가능하고, 임의의 조합으로 사용될 수 있다. 마찬가지로, 비-필수적 조합에서 기재된 특징은 (조합되지 않고) 개별적으로 사용될 수 있다.

전술한 특징, 특히 바람직한 양태 중 다수가 이들 자체적으로 발명적이고, 단지 본 발명의 양태의 부분이 아님이 이해될 것이다. 독립적인 보호는 현재 청구되는 임의의 발명에 대해 추가적으로 또는 대안으로 이러한 양태를 추구할 수 있다.

본 발명은 이후로 단지 예시적이고 본 발명의 범주를 제한하는 것이 아닌 하기 실시예를 참조로 더 상세하게 기재될 것이다.

달리 명확한 제시가 없는 한, 예컨대, 융점 T(K,N), 스멕틱(S) 상으로부터 네마틱(N) 상으로의 전이 온도 T(S,N) 및 등명점 T(N,I)는 본원에 지시되는 모든 온도 값은 섭씨 온도(℃)로 언급된다. 또한, K는 결정질 상태를 나타내고, N은 네마틱 상을 나타내고, SmX는 스멕틱 상을 나타내고, X는 미확인된 메소상을 나타내고, I는 이방성 상을 나타낸다. 상기 기호들 간의 데이터는 ℃ 단위의 전이 온도를 나타낸다.

실시예

화합물(RM-1)을 하기 반응식에 따라 제조하였다:

스테이지 (stage) 1의 제조

2-브로모-6-하이드록시나프탈렌(44.6g, 200mmol), 칼륨 카보네이트(33.2g, 240mmol), 나트륨 요오다이드(6g, 40mmol) 및 부탄온(125ml)을 80℃로 가열하였다. 6-브로모헥산올(40g, 220mmol)을 1.25시간에 걸쳐 적가하였다. 24시간 후, 혼합물을 냉각하고, 여과하고, 아세톤에 의해 세척하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하여 생성물 G(70g)를 수득하였다. 생성물 G(70g)를 DCM(100ml)에 용해시키고 실리카하기로 용리하는 실리카(220g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 198:2, 196:4, 194:6, 192:8, 190:10, 188:12, 186:14, 184:16, 182:18, 180:20, 178:22, 176:24, 174:26ml. 분획 4 내지 14개를 합치고 용매를 진공에서 제거하여 생성물 H(44g)를 수득하였다. 생성물 H(44g) 및 생성물 E(10.9g)를 합치고 톨루엔(100ml) 및 헵탄(100ml)에 의해 재결정화하였다. 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 톨루엔/석유 1:1에 이어서 석유에 의해 세척하여 생성물 I(36g)를 수득하였다. 여과물로부터의 용매를 진공에서 제거하여 생성물 J(18g)를 수득하였다. 생성물 C(22.4g) 및 생성물 I(36g)를 합치고 하기로 용리하는 실리카(220g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 200:0, 200,0, 200:0, 200:0, 198:2, 196:4, 194:6, 192:8, 190:10, 188:12, 186:14, 184:16, 182:18, 180:20ml. 분획 5 내지 14개를 합치고 용매를 진공에서 제거하여 순수한 생성물 K(55.1g)를 수득하였다. 전체 수득: 생성물 F(14.5g) 및 생성물 K(55.1g), 총 69.6g(54% 수율).

스테이지 2의 제조

반응을 2개의 동일한 뱃취(batch)에서 수행하였다. 스테이지 1의 생성물(22g, 68mmol), 트라이메틸실릴아세틸렌(11.5ml, 83mmol) 및 다이이소프로필아민(150ml, 1.05mol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(570mg, 2.5mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(644mg, 2.2mmol) 및 구리 I 요오다이드(284mg, 1.5mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 40℃로 서서히 가열하였다. 반응은 발열반응이었고, 진한 침전물이 생성되었고 65℃에 도달한 후 40℃로 냉각하였다. 혼합물을 40℃에서 다시 1시간 동안 유지한 후 실온으로 냉각하였다. DCM(300ml)에 이어서 염산(550ml, 2M, 1.1mol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 50ml)에 의해 추출하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 뱃취 둘다를 합쳤다. 잔사를 DCM에 용해시키고 실리카(150g)를 첨가하였다. 혼합물을 하기로 용리하는 실리카(300g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 198:2, 196:4, 194:6, 192:8, 190:10, 188:12, 186:14, 184:16, 182:18, 180:20, 178:22, 176:24, 174:26, 172:28, 170:30, 168:32, 166:34, 164:36, 162:38, 160:40, 158:42, 156:44, 154:46, 152:48 150:50, 148:52, 146:54ml. 분획 13 내지 23개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 고체(약 41g)를 아세토니트릴(80ml)로부터 재결정화하고, 냉동고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉동 상태의 차가운 아세토니트릴에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(35.5g, 77%).

스테이지 3의 제조

스테이지 2의 생성물(17g, 50mmol)을 메탄올(100ml)에 용해시켰다. 칼륨 카보네이트(0.74g, 5.4mmol)를 첨가하고 혼합물을 밤새 교반하였다. 용매를 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고 하기로 용리하는 실리카(120g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 100:0, 95:5, 90:10, 90:10, 90:10ml. 분획 2 내지 5개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 고체를 DCM(10ml) 및 석유(90ml)로부터 재결정화하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(13.04g, 97% 수율).

스테이지 4의 제조

나트륨 하이드라이드(4.8g, 120mmol)를 DMF(90ml)에 현탁시켰다. 6-브로모-2-나프톨(24g, 108mmol)을 10℃ 내지 15℃에서 20분에 걸쳐 분할로 첨가하였다. 혼합물을 추가로 30분 동안 교반하였다. 이소프로필 요오다이드(11.4ml, 114mmol)를 첨가하고 혼합물 주말에 걸쳐 교반하였다. 물(300ml)을 조심스럽게 첨가하였다. 에틸 아세테이트(150ml) 및 석유(150ml)를 첨가하고 2개의 층이 분리되었다. 유기 층을 물(2 x 50ml)에 의해 세척하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 톨루엔(100ml)에 용해시키고 하기로 용리하는 실리카(120g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: 톨루엔(100ml 분획). 분획 2 내지 4개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 잔류물을 냉동 상태의 차가운 석유(100ml)에 의해 분쇄하고 여과하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(22g, 77% 수율).

스테이지 5의 제조

스테이지 4의 생성물(22g, 83mmol), 트라이메틸실릴아세틸렌(14.8ml, 105mmol) 및 다이이소프로필아민(225ml, 1.6mol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(210mg, 0.94mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(240mg, 0.82mmol) 및 구리 I 요오다이드(100mg, 0.52mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 45℃로 서서히 가열하였다. 반응은 발열반응이었고, 진한 침전물이 생성되었고 55℃에 도달한 후 50℃ 로 냉각하였다. 혼합물을 50℃에서 다시 1시간 동안 유지한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(300ml)에 이어서 염산(850ml, 2M, 1.7mol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 100ml)에 의해 추출하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 석유(100ml)에 용해시키고 실리카(60g)를 첨가하였다. 혼합물을 하기로 용리하는 실리카(60g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: 석유:에틸 아세테이트 100:0, 99:1, 98:2, 97:3, 96:4, 95:5, 94:6, 93:7, 92:8, 91:9, 90:10ml. 분획 1 내지 9개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 고체를 메탄올(200ml)에 용해시켰다. 칼륨 카보네이트(1.16g, 8.4mmol)를 첨가하고 혼합물을 밤새 교반하였다. 용매를 진공에서 제거하고 잔사를 석유(100ml)에 용해시켰다. 실리카(60g)를 첨가하고 혼합물 하기로 용리하는 실리카(60g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: 석유:에틸 아세테이트 200:0, 196:4, 192:8, 188:12, 184:16, 180:20, 176:24, 172:28ml. 분획 6 또는 7개를 합치고 용매를 진공에서 제거하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(16g, 92% 수율).

스테이지 6의 제조

스테이지 3의 생성물(17.7g, 66mmol), 4-브로모-2-에틸요오도벤젠(20.54g, 66mmol), 톨루엔(130ml) 및 트라이에틸아민(22ml, 158mmol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 비스(트라이페닐포스핀) 팔라듐 II 클로라이드(480mg, 0.67mmol) 및 구리 I 요오다이드(200mg, 1.05mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 40℃로 서서히 가열하고 40℃에서 2시간 동안 유지한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(500ml)에 이어서 염산(200ml, 1M, 200mmol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 50ml)에 의해 추출하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(200ml)에 용해시키고 하기에 의해 용리하는 실리카(200g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 198:2, 196:4, 194:6, 192:8, 190:10, 188:12, 186:14, 184:16, 182:18, 180:20, 178:22, 176:24, 174:26, 172:28, 170:30, 168:32, 166:34, 164:36, 162:38, 160:40ml. 분획 7 내지 19개를 합치고 용매를 진공에서 약 150ml로 감소시켰다. 석유(150ml)를 첨가하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(20g, 67% 수율).

스테이지 7의 제조

스테이지 6의 생성물(20.1g, 44.6mmol) 및 스테이지 5의 생성물(9.77g, 46.5mmol) 및 다이이소프로필아민(140ml, 1.0mol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(320mg, 1.4mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(360mg, 1.2mmol) 및 구리 I 요오다이드(160mg, 0.8mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 45℃로 서서히 가열하였다. 반응은 발열반응이었고, 진한 침전물이 생성되었고 55℃에 도달한 후 45℃ 로 냉각하였다. 혼합물을 45℃에서 1.5시간 동안 유지한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(500ml)에 이어서 염산(500ml, 2M, 1mol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 50ml)에 의해 추출하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(200ml)에 용해시키고 실리카(100g)를 첨가하였다. 혼합물을 하기로 용리하는 실리카(100g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 198:2, 196:4, 194:6, 192:8, 190:10, 188:12, 186:14, 184:16, 182:18, 180:20, 178:22, 176:24, 174:26, 172:28, 170:30, 168:32, 166:34, 164:36, 162:38, 160:40ml. 분획 3 내지 21개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 고체를 DCM(40ml) 및 석유(160ml)로부터 재결정화하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(24.73g, 96% 수율).

스테이지 8의 제조

알코올(APN 2187, 24.1g, 41.6mmol), 트라이에틸아민(25ml, 178mmol) 및 DCM(250ml)을 빙욕에서 교반하였다. DCM(10ml) 중 3-클로로프로피온일 클로라이드(4.7ml, 49.2mmol)를 20분에 걸쳐 적가하였다. 혼합물을 추가로 30분 동안 교반하였다. 추가적인 트라이에틸아민(75ml, 539mmol)을 첨가하고, 35℃로 18시간 동안 가열한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(1000ml)을 첨가한 후, 염산(360ml, 2M, 720mmol)을 반응 혼합물에 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 250ml)에 의해 추출하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고 DCM(200ml 분획)으로 용리하는 실리카(220g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 분획 2 내지 6개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 고체를 DCM(60ml) 및 석유(240ml)로부터 3회 재결정화하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(23.07g, 88% 수율).

화합물은 하기 상 전이를 나타냈다: K79N163 I.

화합물(RM-46)을 하기 반응식에 따라 제조하였다:

스테이지 1의 제조

4-요오도페놀(66g, 300mmol), 칼륨 카보네이트(52.2g, 378mmol), 3-브로모프로판올(45g, 323mmol), 나트륨 요오다이드(0.3g, 2mmol) 및 부탄온(100ml)을 80℃로 밤새 가열하였다. 혼합물을 냉각하고, 여과하고, 아세톤에 의해 세척하고 여과물로부터의 용매를 진공에서 제거하였다. 오일을 석유(250ml)로부터 결정화하였다, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 생성물을 고체로서 수득하였다(77.9g, 93% 수율).

스테이지 2의 제조

스테이지 1의 생성물(75g, 270mmol), 트라이메틸실릴아세틸렌(45ml, 326mmol), 트라이에틸아민(60ml, 431mmol) 및 톨루엔(360ml)을 15분 동안 초음파처리하였다. 구리(I)요오다이드(0.54g, 2.8mmol), 비스(트라이페닐포스핀)팔라듐(II)클로라이드(1.08g, 1.5mmol)를 첨가하고 혼합물을 실온에서 교반하였다. 반응은 발열반응이었고 35℃에 도달하였다. 온도가 안정화된 후, 혼합물을 40℃로 가열하고, 2시간 동안 유지한 후 실온으로 냉각하였다. 염산(250ml, 2M, 0.5mol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 톨루엔(50ml)에 의해 추출하였다. 실리카(200g)를 합친 여액에 첨가하였다. 혼합물을 하기에 의해 용리하는 실리카(200g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 500:0, 1000:0, 980:20, 960:40, 940:60, 920:80ml. 분획 3 내지 6개를 합치고 용매를 진공에서 제거하여 생성물을 주황색 오일로서 수득하였다(55g, 82%).

스테이지 3의 제조

스테이지 2의 생성물(54.6g, 220mmol)을 메탄올(300ml)에 용해시켰다. 칼륨 카보네이트(3.03g, 22mmol)를 첨가하고 혼합물을 40℃에서 1시간 동안 교반하였다. 용매를 진공에서 제거하였다. DCM(200ml) 및 실리카(150g)를 잔류물에 첨가하였다. 혼합물을 하기에 의해 용리하는 실리카(200g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 1000:0, 980:20, 960:40, 940:60, 920:80, 900:100, 880:120ml. 분획 2 내지 7개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다. 오일을 석유(100ml)에 의해 분쇄하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 생성물을 고체로서 수득하였다(36.7g, 95% 수율).

스테이지 4의 제조

2-tert-부틸안트라센(2.3g, 9.8mmol) 및 DCM(50ml)을 빙욕에서 냉각하였다. DCM(50ml)에 용해된 브롬(3.2g, 20mmol)을 5℃에서 1.5시간에 걸쳐 적가하였다. 혼합물을 실온으로 16시간 동안 가온하였다. 물(50ml)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 유기 층을 포화 나트륨 바이카보네이트에 의해 세척하였다. 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 고체를 DCM(50ml)에 용해시켰다. IMS(75ml)를 첨가하고 혼합물을 끓여 DCM을 제거하였다. 혼합물을 냉장고에 1시간 동안 두었다. 고체를 여과해내고 냉장 상태의 차가운 IMS에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 수득하였다(3.4g, 88% 수율).

스테이지 5의 제조

스테이지 4의 생성물(1.7g, 4.3mmol) 및 스테이지 3의 생성물(1.7g, 9.7mmol), THF(5ml) 및 다이이소프로필아민(25ml, 178mmol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(90mg, 0.40mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(102mg, 0.35mmol) 및 구리 I 요오다이드(45mg, 0.24mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 매우 서서히 60℃로 가열한 후, 추가로 1.5시간 동안 유지시켰고, 진한 침전물이 생성되었다. 혼합물을 냉각하고, 물(35ml)에 의해 여과하고 농축 염산(15ml, 11.6M, 174mmol)에 의해 산성화하였다. 혼합물을 DCM(500ml 및 2 x 50ml)에 의해 추출하였다. 합친 유기 추출물로부터의 용매를 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시켰다. 실리카(40g)를 첨가하고 혼합물을 하기로 용리하는 실리카(40g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트:IPA 200:0:0, 198:2:0, 196:4:0, 194:6:0, 192:8:0, 190:10:0, 188:10:2, 186:10:4, 184:10:6, 182:10:8, 180:10:10, 178:10:12ml. 분획 11 또는 12개를 합치고 용매를 감소시켜 생성물을 수득하였다(1.71g, 68% 수율).

스테이지 6의 제조

스테이지 5의 생성물(1.71g, 2.9mmol), DCM(30ml) 및 3-클로로프로피온일 클로라이드(0.8ml, 8.4mmol)를 빙욕에서 교반하였다. DCM(10ml) 중 트라이에틸아민(3ml, 22mmol)을 20분에 걸쳐 적가하였다. 추가적인 트라이에틸아민(17ml, 122mmol)을 10분에 걸쳐 첨가하였다. 혼합물을 실온으로 가온하고 실온에서 30분 동안 유지시켰다. 혼합물을 35℃로 18시간 동안 가열한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(150ml) 및 염산(80ml, 2M, 160mmol)을 첨가하였다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 50ml)에 의해 추출하였다. 합친 추출물로부터의 용매를 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고 실리카(40g)를 첨가하였다. 혼합물을 하기에 의해 용리하는 실리카(80g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM(150ml 분획). 분획 5 내지 8개를 합치고 용매를 20ml로 감소시켰다. 석유(100ml)를 첨가하고 냉장고에서 1시간 동안 냉각하였다. 고체를 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 생성물(1.16g, 57% 수율, HPLC 분석 99.7%).

화합물은 하기 상 전이를 나타냈다: K155I.

화합물(RM-59)을 하기 반응식에 따라 제조하였다:

모든 반응은 달리 언급이 없는 한 질소하에 수행하였다.

석유 에터 = 40 내지 60℃ 분획

스테이지 1의 제조

6-브로모-1-(tert-부틸다이메틸실릴옥시)헥산(7.2g; 0.024몰), 4-브로모-3-에틸페놀(4.9g; 0.024몰) 및 칼륨 카보네이트(7.4g; 0.054몰)의 혼합물을 무수 DMF(80ml)에서 80℃에서 16시간 동안 교반하였다. 에틸 아세테이트/석유 에터와 물 사이에 구획화된 혼합물을 냉각한 후. 분리된 유기 층을 물 및 염수0에 의해 세척하고, 나트륨 설페이트로 건조하고 진공에서 증발시켰다. 잔사를 석유 에터에 용해시키고 석유 에터 중 5% 에틸 아세테이트로 용리하는 실리카(125g) 위헤 적층하여 생성물을 무색 오일로서 수득하였다(7.7g; 76%).

스테이지 2의 제조

THF(150ml) 중 스테이지 1의 생성물(7.7g; 0.019몰)의 용액에 2M HCl(50ml)을 첨가하였다. 생성된 용액을 75분 동안 교반한 후 과량의 유기 용매를 진공에서 제거하고 혼합물을 에틸 아세테이트과 염수 사이에 구획화하고, 나트륨 설페이트로 건조하고 진공에서 증발시켜 생성물을 tert-부틸다이메틸실란올과의 혼합물로서 수득하고(8g 전체 수득량; 정량적 수율은 5.3g인 것으로 추측됨) 이를 후속 단계에 바로 사용하였다.

스테이지 3의 제조

다이이소프로필아민(50ml) 중 스테이지 2의 생성물(8.0g 미정제; 5.3g이 순수한 것으로 추정됨; 0.0186몰) 및 TMS 아세틸렌(2.36g; 0.024몰)의 탈기된 용액에 구리 I 요오다이드(44mg), 트라이-(tert-부틸포스포늄)테트라플루오로보레이트(109mg)에 이어서 팔라듐 II 아세테이트(89mg)를 첨가하였다. 혼합물을 45℃로 2시간 동안 가열하고, 냉각하고, 진공에서 증발시키고, 에틸 아세테이트 중 슬러리화한 후, 여과하고 여액을 진공에서 증발시킨 후 석유에터에 의해 공비시켰다. 잔류물을 DCM 중 33% 석유 에터에 이어서 DCM 중 5% 에틸 아세테이트에 의해 용리하는 실리카(125g)에서 크로마토그래피에 의해 정제하여 생성물을 갈색 오일로서 수득하였다(5.4g).

상기 생성물을 NMR에 의해 분석하지 않되, 후속 반응에 투입하였고, 여기서, NMR 비교에 의해 40%의 불순물이 있는 것으로 밝혀졌는데, 상기 전구체 생성물에도 존재할 확률이 높다

스테이지 4의 제조

메탄올(150ml) 중 스테이지 3의 생성물(5.4g; 0.018몰)의 용액에 칼륨 카보네이트(0.25g; 0.0018몰)를 첨가하였다. 혼합물을 주위 온도에서 밤새 교반한 후, 진공에서 증발시키고, DCM 및 석유 에터에 의해 공비시킨 후, DCM에 이어서 에틸 아세테이트에 의해 용리하는 실리카(90g) 위의 DCM에 적층한 후 생성물을 주황색 오일로서 수득하였다(4.2g).

NMR 분석은 불가피한 약 40%의 불순물이 있는 것을 나타냈고, 이를 후속 반응에서 제거하였다. 상기 물질은 50% 순수하여 후속 단계에서의 안전한 과량(safe excess)을 허용하는 것으로 추정된다.

스테이지 5의 제조

다이이소프로필아민(25ml) 중 스테이지 4의 생성물(4.2g 미정제; 2.1g 순수한 것으로 추정; 0.008몰) 및 3,7-다이브로모다이벤조티오펜(1.37g; 0.004몰)의 탈기된 용액에 구리 I 요오다이드(47mg), 트라이-(tert-부틸포스포늄)테트라플루오로보레이트(121mg)에 이어서 팔라듐 II 아세테이트(96mg)를 첨가하였다. 혼합물을 45℃로 2시간 동안 가열하고, 냉각하고, 진공에서 증발시킨 후, 에틸 아세테이트 및 2M 염산의 혼합물에서 교반하고, 여과한 후, 에틸 아세테이트 및 물에 의해 세척하고 50℃에서 진공 건조한 후 생성물을 회백색(off-white) 고체로서 수득하였다(1.9g; 71%).

스테이지 6의 제조

무수 DCM(600ml) 중 스테이지 5의 생성물(1.9g; 0.0028몰) 및 트라이에틸아민(1.25ml; 0.009몰)의 빙욕/수욕-냉각된 슬러리에 3-클로로프로피온일 클로라이드(0.94g; 0.0074몰)를 15분에 걸쳐 적가하였다. 30분 후, 추가로 트라이에틸아민(2.5ml)을 10분에 걸쳐 적가하였다. 15분 후, 트라이메틸아민(3ml)을 5분에 걸쳐 더 첨가한 후, 3-클로로프로피온일 클로라이드(0.35ml; 0.0037몰)를 5분에 걸쳐 첨가하였다. 반응 혼합물을 20분 동안 실온으로 가온하였다. 불투명 혼합물의 TLC 분석은 여전히 미량의 출발 물질이 있음을 나타냈고, 이에 따라, 추가로 트라이메틸아민(3ml)에 이어서 3-클로로프로피온일 클로라이드(0.35ml)를 후속으로 실온에서 첨가하였고, 이는 용액에 빠르게 용해되었다. 20분 후, 트라이메틸아민(30ml) 및 일부의 Irganox를 첨가하고 용액을 38℃로 밤새 가열하고, 냉각하고 진공에서 증발시켰다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고, 석유 에터(50ml)를 첨가하고 혼합물 여과하고 2:1 DCM:석유 에터에 의해 세척하였다. 여액을 진공에서 증발시킨 후 DCM에 재용해시키고, 2M 염산에 의해 세척하고, 나트륨 설페이트로 건조하고 진공에서 증발시켰다.

잔사를 DCM(30ml)에 용해시키고, 석유 에터(10ml)를 첨가한 후, 석유 에터 중 50 내지 100% DCM에 의해 용리하는 실리카(60g) 위에 적층하여 미정제 생성물을 크림색/백색 고체로서 수득하였다. 이를 DCM(25ml)에 용해시키고, 석유 에터(100ml)를 첨가하고, 냉동고에 30분 동안 둔 후, 여과하고 4:1 석유 에터:DCM에 이에서 석유 에터에 의해 세척하고 30℃에서 진공 건조하여 생성물을 백색 고체로서 수득하였다(1.3g; 59%).

화합물은 하기 상 전이를 나타냈다: K130N160I.

화합물(RM-57)을 하기 반응식에 따라 제조하였다:

스테이지 1의 제조

4-브로모-3-메틸페놀(18.7g, 100mmol), 3-브로모프로판올(15.3g,110mmol), 칼륨 카보네이트(16.5g, 120mmol) 및 부탄온(50ml)을 2.5시간 동안 80℃로 가열하였다. 추가적인 3-브로모프로판올(1.8g, 12.9mmol), 칼륨 카보네이트(1.8g, 13mmol)를 첨가하고 80℃에서 추가로 3.5시간 동안 가열하였다. 혼합물을 냉각하고, 여과하고, 아세톤에 의해 세척하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다(24.5g, 100% 수율).

스테이지 2의 제조

스테이지 1의 생성물(24.5g, 100mmol), 트라이메틸실릴아세틸렌(18ml, 128mmol) 및 다이이소프로필아민(270ml, 1.94mol)을 30분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(240mg, 1.07mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(280mg, 0.97mmol) 및 구리 I 요오다이드(120mg, 0.63mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 55℃로 서서히 가열하였다(발열반응 없음, 느린 반응). 혼합물을 30℃로 냉각하였다. 추가적인 팔라듐 II 아세테이트(240mg, 1.07mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(280mg, 0.97mmol) 및 구리 I 요오다이드(120mg, 0.63mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 45℃로 서서히 가열하고 45℃에서 6시간 동안 유지하였다. 추가적인 트라이메틸실릴아세틸렌(18ml, 128mmol), 팔라듐 II 아세테이트(480mg, 2.14mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(560mg, 1.93mmol) 및 구리 I 요오다이드(240mg, 1.26mmol)를 첨가한 후 추가로 6시간 동안 55℃로 가열하였다. 혼합물을 실온으로 냉각하였다. 염산(1000ml, 2M, 2mol)을 첨가하였다. DCM(250ml)을 첨가하고, 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 100ml)에 의해 추출하였다. 합친 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고 실리카(60g)를 첨가하였다. 혼합물을 하기로 용리하는 실리카(140g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM:에틸 아세테이트 200:0, 196:4, 192:8, 188:12, 184:16, 180:20, 176:24, 172:28, 168:32, 164:36, 160:40ml. 분획 3 내지 9개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다(24g). 오일(24g)을 석유(80ml)에 용해시키고 하기에 의해 용리하는 실리카(80g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: 석유:에틸 아세테이트 100:0, 95:5, 90:10, 85:15, 80:20, 75:25, 70:30, 65:35, 60:40, 55:45, 50:50ml. 분획 6 내지 10개를 합치고 용매를 진공에서 제거하였다(16.5g). 오일(16.5g)을 메탄올(120ml)에 용해시켰다. 칼륨 카보네이트(0.87g, 6.3mmol)를 첨가하고 혼합물을 밤새 교반하였다 실온에서. 용매를 진공에서 제거하였다. 잔사를 에틸 아세테이트(20ml) 및 석유(80ml)의 혼합물에 현탁시켰다. 혼합물을 하기에 의해 용리하는 실리카(80g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: 석유:에틸 아세테이트 100:0, 95:5, 90:10, 85:15, 80:20, 75:25, 70:30, 65:35, 60:40, 55:45, 50:50ml. 분획 5 내지 9개를 합치고 용매를 진공에서 제거하여 목적하는 생성물을 수득하였다(6g, 32% 수율).

스테이지 3의 제조

스테이지 2의 생성물(6g, 31.6mmol), 트라이에틸아민(15ml, 108mmol) 및 DCM(100ml)을 빙욕에서 교반하였다. DCM(10ml) 중 3-클로로프로피온일 클로라이드(3.4ml, 35.4mmol)를 15분에 걸쳐 적가하였다. 혼합물을 추가로 30분 동안 교반하였다. 추가적인 트라이에틸아민(30ml, 216mmol)을 첨가하고, 35℃로 18시간 동안 가열한 후, 실온으로 냉각하였다. 혼합물을 염산(150ml, 2M, 300mmol)에 의해 산성화시켰다. 2개의 층을 분리하고 수성 층을 DCM(2 x 25ml)에 의해 추출하였다. 합친 유기 층을 무수 나트륨 설페이트로 건조하고, 여과하고 용매로부터 여과물을 진공에서 제거하였다. 잔사를 DCM(100ml)에 용해시키고 하기로 용리하는 실리카(120g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM(100ml) 분획. 분획 2 내지 5개를 합쳐 목적하는 생성물을 수득하였다(7g, 91% 수율).

스테이지 4의 제조

스테이지 3의 생성물(5.3g, 21.7mmol), 2,6-다이브로모[1,2-b:4,5-b]다이티오펜(3.48g, 10mmol), THF(80ml) 및 다이이소프로필아민(40ml, 0.35mol)을 15분 동안 초음파처리하였다. 팔라듐 II 아세테이트(240mg, 0.89mmol), 트라이-tert-부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트(270mg, 0.78mmol) 및 구리 I 요오다이드(120mg, 0.52mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 55℃로 서서히 가열하고 55℃에서 1시간 동안 유지한 후, 실온으로 냉각하였다. DCM(300ml)을 첨가하고 혼합물 하기로 용리하는 실리카(100g) 상의 진공 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM(500ml). 용매 부피를 40ml 로 감소시켰다. 석유(40ml)을 첨가하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 수득하였다(5.94g, 85% 수율). 생성물(4g)을, 비등하는 DCM(200ml)에 용해시킴으로써 추가로 정제하였다. 실리카(40g)를 첨가하고 혼합물을 하기에 의해 용리하는 실리카(80g) 상의 플래시 크로마토그래피에 의해 정제하였다: DCM(200ml) 분획. 분획 3 내지 6개를 합쳤다. 용매 부피를 50ml로 감소시켰다. 석유(50ml)를 첨가하고, 냉장고에서 1시간 동안 냉각하고, 여과해내고 냉장 상태의 차가운 석유에 의해 세척하여 목적하는 생성물을 레몬색 고체로서 수득하였다(3.2g, 80% 회수율).

화합물은 하기 상 전이를 나타냈다: K174N229I

화합물 실시예

하기 화합물은 전술한 합성 방법에 의해 또는 이와 유사하게 제조된다.

혼합물 및 중합체 필름 실시예

혼합물 M1은 하기 조성물에 의해 제조된다.

혼합물 M1

· 첨가제 BYK361, Irgacure® 651, 및 Irganox® 1076은 독일의 Byk Gulden 및 스위스의 CIBA로부터 시판된다.

중합체 필름의 제조

혼합물을 1:2:1 MEK:사이클로펜탄온:MIBK에 용해시켜 20% 고체 용액을 수득하고 하기 공정을 적용하였다:

· 기판 위에 30초 동안 3000 rpm으로 스핀 코팅

· 66℃에서 60초 동안 어닐링(annealing)

· UV 노출, 높은 압력 수은 램프 250 내지 450nm(Dr. Hoenle), 질소 대기하에 60초 동안 80 mW/cm²

생성되는 중합체 필름의 지연을 편광 해석법(ellipsometry)에 의해 측정한 후, 두께는 표면 프로파일 분석법(profilometry)에 의해 측정하였다. 이어서, 생성된 데이터를 사용하여 복굴절률을 계산하였다. 550 nm 및 20℃에서의 평균 복굴절률은 이에 따라 0.547인 것으로 측정되었다.

실시예 혼합물 M1에서의 화합물 RM-1을 상기 제시된 및 하기 표 1에 나타낸 화합물 실시예로부터 선택되는 동일한 양의 화합물로 대체함으로써, 추가로 혼합물 M2 내지 M25를 제조하였다.

전술한 바와 같이, 중합체 필름이 제조되고 복굴절률이 측정된다.

결과는 하기 표 1에 제시된다.

혼합물 /중합체 필름	화합물	550 nm에서의 복굴절률
M1	RM-1	0.547
M2	RM-2	0.489
M3	RM-4	0.450
M4	RM-6	0.354
M5	RM-7	0.376
M6	RM-8	0.432
M7	RM-10	0.353
M8	RM-12	0.336
M9	RM-13	0.547
M10	RM-20	0.378
M11	RM-23	0.336
M12	RM-24	0.444
M13	RM-26	0.351
M14	RM-27	0.432
M15	RM-29	0.339
M16	RM-30	0.406
M27	RM-32	0.426
M18	RM-33	0.364
M19	RM-34	0.370
M20	RM-35	0.336
M21	RM-40	0.346
M22	RM-56	0.393
M23	RM-64	0.335
M24	RM-67	0.435
M25	RM-69	0.392

실시예 혼합물 M26

· POLYFOX™ PF-656은 시판되는 Synthomer plc로부터 시판되고, TR-PBG-304는 Changzou Tronly로부터 시판되고, NCI-803은 시판되는 Adeka로부터 시판된다.

혼합물을 1:2:1:2 MIBK:사이클로펜탄온:MEK:3-운데칸-온에 용해시켜 20% 고체 용액을 수득하고, 중합체 필름을 하기와 같이 제조하였다:

· 기판 위에 30초 동안 3000 rpm으로 스핀 코팅

· 90℃에서 60초 동안 어닐링

중합체 필름의 복굴절률은 550 nm 및 20℃에서 0.375인 것으로 전술한 바와 같이 측정되었다.

실시예 혼합물 M27

실시예 혼합물 M28

중합체 필름 1의 제조

혼합물 M27 및 M28을 1:2:1 MIBK:사이클로펜탄온:MEK에 각각 용해시켜 20% 고체 혼합물을 수득하였다. 각각의 혼합물의 필름을 KBr 디스크 상에서의 스핀 코팅을 통해 제조한 후, 필름을 80℃에서 30초 동안 어닐링하였다. 이어서, 미경화된 필름을 N₂로 퍼징된(purged) FTIR 분석 챔버에 넣었다. 필름의 IR 스펙트럼을 2분의 기간에 걸쳐 2초 간격으로 기록하였다. 측정 30초 후, 필름을 1분 동안 광대역 UV 광(250 내지 450nm, 60 mWcm^-2 @ 365nm)으로 조사하여 경화된 중합체 필름을 형성하였다.

생성된 스펙트럼을 카보닐 피크(1800 - 1735 cm^-1 λ_max = 1735 cm^-1) 및 아크릴 C=C 결합(1646-1613 cm^-1 λ_max = 1629 cm^- ¹)의 면적을 측정함으로써 분석하였다. 시간에 따른 상대적 피크 강도를 비교하기 위해, 강도 값을, 스펙트럼에서 2개의 피크 면적의 곱(ρ)으로서 계산하였다. 이어서, 상기 값을 하기 공식 1을 통한 경화도로 전환하였다. 결과 데이터는 표 1에 제시된다.

공식 1: 경화도(%)를 계산하는 화학식, ρ_t - 시간 t에서의 강도 곱(intensity product), ρ_i- 생성물의 초기 강도 곱

아크릴 C=C를 갖는 방향족 C=C 스트레치(stretch)의 중첩의 중첩에 기인하여, 이러한 경우, 상기 피크는 완전히 제거될 수 없고, 측정되는 값은 경화된 경질 필름이 양호하게 수득됨에도 100%에 도달하지 못한다. 이어서, 비교를 위해, 계산된 값을 정규화하여 100%로서 수득된 경화의 최고 수준을 배정한다.

UV 시간/초	20	40	60	80	100	120
정규화 경화/%	20	40	60	80	100	120
혼합물 15	0	64	76	84	86	83
혼합물 16	0	73	91	95	97	97

단 하나의 스페이서 기를 갖는 화합물 RM-47을 갖는 혼합물 28이, 동일한 조성을 갖되 화합물 RM-47이 상응하는 양의 동종 구조를 갖되 메소젠 코어의 각각의 측면에 스페이서 기를 갖는 화합물 RM-12로 대체된 혼합물 27과 비교하여 10 내지 15% 더 높은 정규화된 경화도를에 도달하는 것을 표 1에서 볼 수 있다. 이는 단 하나의 스페이서 기를 갖는 RM-47이 더 높은 경화도를 성취하는 데 긍적적으로 기여함을 시사한다.

중합체 필름 2의 제조

혼합물 M27 및 M28을 1:2:1 MIBK:사이클로펜탄온:MEK에 각각 용해시켜 20% 고체 혼합물을 수득하였다. 이어서, 각각의 혼합물의 필름을 러빙된 폴리이미드 코팅된 유리에 스핀 코팅하고, 생성된 필름을 UV 광에 대한 노출에 의해 중합하였다(400 nm, 80 mWcm^-2, 60초, N₂하). 생성되는 중합체 필름의 지연을 편광 해석법에 의해 측정한 후, 두께를 표면 프로파일 분석법에 의해 측정하였다. 이어서 결과 데이터를 사용하여 하기 표 2에 나타낸 복굴절률 데이터를 계산하였다.

파장 / nm	혼합물 M27	혼합물 M28
450	0.602	0.602
550	0.457	0.457
650	0.407	0.408

혼합물 M27 및 M28로부터 제조된 중합체 필름이 거의 동일한 광학 성능을 내는 것을 표 2에서 볼 수 있고, 이는 RM-12 및 RM-47의 공통적인 호스트 혼합물 및 동종 구조에 기인한다.

상기 결과는 단 하나의 스페이서 기를 갖는 화학식 I의 화합물이 높은 복굴절률 및 높은 경화도 둘 다를 갖는 중합체 필름을 제조하기에 특히 적합함을 입증한다.

Claims

하기 화학식 I의 화합물:

상기 식에서,
P는 중합성 기이고,
Sp는 스페이서 기(spacer group) 또는 단일 결합이고,
R¹¹은 F, Cl, CN, NCS, 또는 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖고 보다 바람직하게는 임의적으로 불화된 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시 또는 P-Sp이고,
A, B, D, 및 E는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, 일환형 또는 다환형이고 하나 이상의 기 L 또는 P-Sp-로 임의적으로 치환된, 4 내지 20개의 고리 원자를 갖는 지환형, 헤테로환형, 방향족 또는 헤테로방향족 기이고, 고리 C 및 D 중 하나는 또한 단일 결합일 수 있고,
L은 F, Cl, -CN, P-Sp-, 또는 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬이고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂-기는, O- 및/또는 S-원자가 서로 적접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, CR⁰=CR⁰⁰-, -C≡C-, , , , , , 또는 로 임의적으로 치환되고, 이때, 하나 이상의 H 원자는 각각 임의적으로 P-Sp-, F 또는 Cl로 대체되거나, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 사이클로알킬 또는 사이클로알켄일을 형성할 수 있고,
C는 , , , , 또는 이고,
M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이고,
Z¹¹ 및 Z¹²는, 다수 존재하는 경우 서로 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -S-CO-, -CO-S-, -O-COO-, -CO-NR⁰-, -NR⁰-CO-, -NR⁰-CO-NR⁰⁰, -NR⁰-CO-O-, -O-CO-NR⁰-, -OCH₂-, -CH₂O-, -SCH₂-, -CH₂S-, -CF₂O-, -OCF₂-, -CF₂S-, -SCF₂-_, -CH₂CH₂-, -(CH₂)_n1, -CF₂CH₂-, -CH₂CF₂-, -CF₂CF₂-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -CH=CR⁰-, -CY¹=CY²-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 단일 결합, 바람직하게는 -COO-, -OCO-, -C≡C-, 또는 단일 결합이고,
n1은 1, 2, 3 또는 4이고,
r은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2이고,
s는 0, 1, 2 또는 3, 바람직하게는 0, 1 또는 2이고,
t는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 0 또는 1이고,
R⁰ 및 R⁰⁰은 H, 또는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이고,
Y¹ 및 Y²는 서로 독립적으로 H, F, Cl, NCS, 또는 CN이고,
n은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 가장 바람직하게는 0이고,
m은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 가장 바람직하게는 0이다.
제1항에 있어서,
화학식 I에서 고리 A, B, D 및/또는 E 중 1개, 2개, 3개, 4개 또는 그 이상이 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는, 화합물:

상기 식에서,
L은 각각 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬, P-Sp-, -CN, F, Cl, OCF₃, CF₃, CH₂F, CHF₂이거나, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 환형 기를 형성할 수 있고,
r은 0, 1, 2 또는 3이고,
s는 0, 1 또는 2이고,
T는 0, 1 또는 2이고,
M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이다.
제1항 또는 제2항에 있어서,
화학식 I에서의 고리 B 및 D 중 하나 또는 둘 다가 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는, 화합물:

상기 식에서,
L은 각각 서로 독립적으로 1 내지 6개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬, 또는 P-Sp-, -CN, F, Cl, OCF₃, CF₃, CH₂F, CHF₂이거나, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 환형 기를 형성할 수 있고,
r은 0, 1, 2, 또는 3이고,
s는 0, 1 또는 2이고,
t는 0, 1 또는 2이고,
M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이다.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
화학식 I에서 고리 C가 하기 군으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 화합물:

상기 식에서,
L은 각각 서로 독립적으로 P-Sp-, F, -CN, 또는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개, 보다 바람직하게는 1 또는 2개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬이고,
r은 0, 1, 2 또는 3이고,
s은 0, 1, 2 또는 3이고,
t는 0, 1 또는 2이고,
M은 CH₂, C(CH₃)₂, CHF, CF₂, NH, S 또는 O이고,
M¹은 S, O 또는 NH이다.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
하기 하위화학식으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물:

상기 식에서,
R¹¹, 고리 B 및 C, P 및 Sp는 제1항, 제2항 또는 제3항에 제시된 의미 중 하나를 갖고,
L은 각각 서로 독립적으로 P-Sp-, F, CN, 또는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개, 보다 바람직하게는 1 또는 2개의 C 원자를 갖는 알킬, 알콕시 또는 티오알킬이고,
L¹ 및 L²는 각각 서로 독립적으로 H 또는 L이고,
M는 S, O, NH, CH₂ 또는, C(CH₃)₂이고,
M¹은 NH 또는 S이다.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
하기 하위화학식으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물:

상기 식에서,
P는 중합성 기이고,
Sp는 스페이서 기 또는 단일 결합이고,
R은 바람직하게는 1 내지 15개의 C 원자를 갖고, 보다 바람직하게는 임의적으로 불화된 알킬, 알콕시, 티오알킬, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 알킬카보닐옥시 또는 알콕시카보닐옥시이고,
L은 바람직하게는 아크릴레이트인 P-Sp-, F, Cl, -CN, 또는 1 내지 25개의 C 원자를 갖는 직쇄, 분지쇄 또는 환형 알킬이고, 이때, 하나 이상의 비인접 CH₂-기는, O- 및/또는 S-원자가 서로 적접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, CR⁰=CR⁰⁰-, -C≡C-, , , , , , 또는 로 임의적으로 치환되고, 이때, 하나 이상의 H 원자는 각각 임의적으로 P-Sp-, F 또는 Cl로 대체되고, 직접 인접한 C 원자에 연결된 2개의 치환기 L은 또한 5, 6, 7 또는 8개의 C 원자를 갖는 환형 기를 형성할 수 있고,
r은 0, 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 0, 1 또는 2이다.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
P가 아크릴레이트 또는 메트아크릴레이트 기인, 화합물.
적어도 하나가 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물인 2개 이상의 반응성 메소젠(RM)을 포함하는 혼합물.
제8항에 있어서,
단 하나의 중합성 작용기를 갖는 하나 이상의 RM, 및 2개 이상의 중합성 작용기를 갖는 하나 이상의 RM을 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 I의 화합물을 포함하거나, 또는 제8항 또는 제9항에 따른 RM 혼합물을 포함하고, 하나 이상의 용매 및/또는 첨가제를 추가로 포함하는 제형.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 I의 화합물, 제8항 또는 제9항에 따른 RM 혼합물, 또는 제10항에 따른 제형을 중합함으로써 수득가능한 중합체.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 I의 화합물, 제8항 또는 제9항에 따른 RM 혼합물, 제10항에 따른 제형, 또는 제11항에 따른 중합체의 광학, 전기광학(electrooptical) 또는 전자 컴포넌트 또는 장치에서의 용도.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 I의 화합물, 제8항 또는 제9항에 따른 RM 혼합물, 제10항에 따른 제형, 또는 제11항에 따른 중합체를 포함하는 광학, 전기광학 또는 전자 장치 또는 이의 컴포넌트.
제13항에 있어서,
광학 지연 필름, 편광기, 보상기, 빔 스플리터(beam splitter), 반사성 필름, 정렬 층, 색상 필터, 정전기 방지 보호 시트, 전자기 간섭 보호 시트, 편광 제어 렌즈, 적외선(IR) 반사 필름, 광 유도(light guide), 포커싱(focusing) 및 광학 효과용 렌즈로 이루어진 군으로부터 선택되는 컴포넌트.
제13항에 있어서,
액정 디스플레이, 자동입체 3D 디스플레이, 유기 발광 다이오드(OLED), 광학 데이터 저장 장치, 증강 현실/가상 현실(AR/VR) 제품용 고글 및 윈도우(window)로부터 선택되는 장치.