KR20230136629A - 보호 처리 방법, 불활화 기능 탑재 방법, 시트재, 구조체 - Google Patents
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Abstract
주성분이 염소계 수지로 이루어지는 시트재가 배치된 또는 배치될 예정의 대상 공간에 대해, 시트재의 변색이나 열화의 진행을 억제하면서도, 자외선을 이용하여 불활화 처리를 행하는 것을 가능하게 하기 위한, 보호 처리 방법을 제공한다. 대상 공간은 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이다. 이 보호 처리 방법은, 대상 공간의 내장면 또는 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재를 부착하는 공정과, 기재의 표면에 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 형성하는 공정을 갖는다.
Description
본 발명은, 자외선을 이용하여 균이나 바이러스의 불활화 처리가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 상기 보호 처리를 포함한, 대상 공간에 대한 불활화 기능 탑재 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 상기 보호 처리 방법의 실현에 적합한 시트재에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 보호 처리 및 상기 불활화 기능이 탑재된, 구조체에 관한 것이다.
공간 중 또는 물체 표면에 존재하는 균(세균이나 진균 등)이나 바이러스는, 사람이나 사람 이외의 동물에 대해 감염증을 야기하는 경우가 있어, 감염증의 확대에 의해 생활이 위협받는 것이 염려된다. 특히, 의료 시설, 학교 또는 관공서 등의 빈번하게 사람이 모이는 시설이나, 자동차, 전철, 버스, 비행기, 또는 배 등의 탈 것에 있어서는, 감염증이 만연하기 쉬운 점에서, 균이나 바이러스(이하, 「균 등」이라고 총칭하는 일이 있다.)를 불활화시키는 유효한 수단이 필요하게 되어 있다.
종래, 균 등의 불활화를 행하는 방법으로서, 자외선을 조사하는 방법이 알려져 있다. DNA는 파장 260nm 부근에 가장 높은 흡수 특성을 나타낸다. 그리고, 저압 수은 램프는, 파장 254nm 부근에 높은 발광 스펙트럼을 나타낸다. 이로 인해, 저압 수은 램프를 이용하여 살균을 행하는 기술이 널리 이용되어 있다.
그러나, 이 파장대의 자외선은, 인간에게 조사되면 인체에 영향을 미치는 리스크가 있는 것이 알려져 있다. 피부는, 표면에 가까운 부분부터 표피, 진피, 그 심부의 피하 조직의 3개의 부분으로 나뉘고, 표피는, 추가로 표면에 가까운 부분부터 순서대로, 각질층, 과립층, 유극층, 기저층의 4층으로 나뉜다. 파장 254nm의 자외선이 인체에 조사되면, 각질층을 투과하여, 과립층이나 유극층, 경우에 따라서는 기저층에 도달하고, 이들 층 내에 존재하는 세포의 DNA에 흡수된다. 이 결과, 피부암의 리스크가 발생한다. 따라서, 이러한 파장대의 자외선은, 사람이 존재할 수 있는 장소에서 적극적으로 이용하는 것은 어렵다.
하기 특허문헌 1에는, 파장 240nm 이상의 자외선(UVC광)은 인체에 대해 유해한 것, 및, 파장 240nm 미만의 자외선은 파장 240nm 이상의 자외선에 비해 인체에 대한 영향도가 억제되는 것이 기재되어 있다. 또, 구체적으로, 파장 207nm 및 222nm의 조사 실험의 결과가 기재되어 있다.
본 발명자는, 건물 내의 방, 탈 것, 통로와 같은 인간이 존재할 가능성이 있는 공간(이하, 「대상 공간」이라고 부른다.)에 대해, 파장 240nm 미만의 자외선, 보다 구체적으로는 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 이용하여, 균이나 바이러스의 불활화 처리를 행함에 있어서, 예의 검토를 행했다. 그 결과, 하기의 과제를 새롭게 발견했다.
건물 내의 방이나 통로의 내벽, 천장, 바닥면에는, 벽지나 바닥재와 같은 건축 시트(시트재)가 배치되어 있는 것이 일반적이다. 또, 자동차나 비행기 등의 탈 것에 있어서도, 내장(內裝) 부분에는 어떠한 보호용의 시트재가 배치되는 것이 일반적이다. 또한, 방, 통로, 탈 것 내에 설치된 물품(예를 들면 책상, 의자, 각종 장치 등)의 표면에도, 보호용의 시트재가 설치되어 있는 경우가 있다.
지금까지, 파장 240nm 미만의 자외선, 보다 구체적으로는 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선이, 상술한 시트재에 조사된 경우에, 시트재에 대해 어떠한 영향을 미칠지에 대해서는, 검토되어 있지 않았다. 이 점에 대해, 본 발명자가 예의 검토한 바, 상기 자외선이 시트재에 조사되면, 그 조도가 1mW/cm2 이하라고 하는 낮은 조도 수준이어도, 시트재가 폴리염화비닐(PVC)로 대표되는 염소계 수지로 구성되는 경우에는, 그 변색이나 열화의 속도가 빠른 것을 발견했다. PVC는, 벽지나 바닥재 등의 건축 시트에 일반적으로 이용되는 재질이기 때문에, 건물의 방 등에서 균이나 바이러스의 불활화를 위해서 상기 자외선을 조사하면, 건축 시트에 대해 경시적으로 변색을 일으키게 할 우려가 있다.
건축 시트는, 통상의 사용에 의해서도, 경년에 따라 변색·열화되는 것이 상정되지만, 상기 자외선이 조사되면, 그 변색·열화의 속도가 상승해버린다. 이 결과, 시설의 관리자나 소유자에 대해, 상기 자외선을 이용한 대상 공간에 대한 불활화 처리의 도입을 주저시킬 우려가 있다.
또, PVC는, 표면 보호용의 필름으로서도 일반적으로 이용되는 재질인 바, 건축 시트 이외의 용도로서도 이용되는 경우가 상정된다. 따라서, 대상 공간 내에 설치된 물품의 표면에 대해서도, 열화나 변색의 속도가 상승할 우려가 염려된다.
본 발명은, 상기의 과제를 감안하여, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 시트재가 배치된 또는 배치될 예정인 대상 공간에 대해, 상기 시트재의 변색이나 열화의 진행을 억제하면서도, 자외선을 이용하여 불활화 처리를 행하는 것을 가능하게 하기 위한, 보호 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 이러한 시트재의 변색이나 열화의 진행을 억제한 보호 처리를 내포한, 대상 공간에 대한 불활화 기능 탑재 방법을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.
본 발명은, 자외선을 이용한 불활화 처리가 행해지는 대상 공간 내에 설치되어도, 변색이나 열화의 진행이 억제되는 시트재를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 자외선을 이용한 불활화 처리가 행해지는 대상 공간 내에 설치되어도, 표면에 대한 변색이나 열화의 진행이 억제되는 구조체를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
본 발명은, 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재를 부착하는 공정과,
상기 기재의 표면에, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 명세서에 있어서, 「불활화」란, 균이나 바이러스를 사멸시키거나 또는 감염력이나 독성을 잃게 하는 것을 포괄하는 개념을 가리키고, 「균」이란, 세균이나 진균(곰팡이) 등의 미생물을 가리킨다.
이하에 있어서도, 「균 또는 바이러스」를 「균 등」이라고 총칭하는 경우가 있다.
본 명세서에 있어서, 「주성분」이란, 질량 기준으로 함유율이 최대가 되는 성분을 의미하는 용어로서 이용된다. 전형적으로는 「주성분」이란 40질량% 이상을 나타내는 성분을 가리키고, 50질량% 이상을 나타내는 성분인 것이 보다 전형적이고, 60질량% 이상을 나타내는 성분인 것이 특히 전형적이다.
상술한 특허문헌 1의 기재에 의하면, 240nm보다 짧은 파장대역의 자외선으로, 인체에 대한 영향도를 억제시키고 있다. 본 발명에 따른 보호 처리 방법이 적용되는 대상 공간은, 190~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선이 조사됨으로써, 인체에 대한 영향을 억제하면서도, 균 또는 바이러스의 불활화 처리가 행해지는 것이 예정된 공간이다.
상기 자외선은, 발광 스펙트럼에 있어서, 190nm~235nm의 광 출력의 적분값에 대한, 240nm~300nm의 광 출력의 적분값의 비율이, 1% 미만인 것이 바람직하다. 이러한 자외선이 이용됨으로써, 인체에 대한 영향을 억제하면서도, 균 또는 바이러스의 불활화 처리를 행할 수 있다. 이러한 자외선을 발하는 광원으로서는, KrCl, KrBr, ArF와 같은 발광 가스가 봉입된 엑시머 램프나, LED, 레이저 다이오드와 같은 고체 광원을 채용할 수 있다. 또한, 이 경우, 상기 자외선의 피크 파장이 190nm~235nm의 범위 내에 위치하는 것으로 해도 상관없다.
상기 자외선은, 보다 바람직하게는, 200~230nm의 파장대역에 광 출력을 나타낸다. 이에 의해, 인체에 대한 안전성을 보다 담보하면서 높은 불활화 효과가 실현된다. 이 파장역의 자외선에 의하면, 비교적 장시간에 걸쳐 조사되어도, 인체에 대한 영향이 거의 없는 것으로 생각되어 있다.
염소계 수지로서는, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌 등을 들 수 있다. 이들은 모두 C-Cl 결합을 갖고 있다.
염소계 수지에 대해, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선이 조사되면, 상기 자외선이 갖는 광 에너지에 의해 C-Cl 결합이 절단될 가능성이 있다. 이 C-Cl 결합이 절단되는 양이나 속도는, 자외선의 조도나 조사 시간(즉 조사선량)에 의존한다. 이로 인해, 예를 들면 염소계 수지로 이루어지는 벽지가 내장면에 배치된 대상 공간에 대해 상기 자외선이 조사되면, 자외선의 조사가 없는 경우에 비해 벽지의 변색이나 열화가 촉진해버린다.
이에 반해, 상기 보호 처리 방법에 의하면, 상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재가 배치되고, 당해 기재의 표면에 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막이 형성된다. 이로 인해, 상기 자외선이 대상 공간의 내장면이나 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 조사된 경우여도, 내장면이나 물체 표면에 부착된 기재의 표면에 형성된 보호막의 존재에 의해, 자외선이 기재측에 인도되는 것이 억제된다. 이에 의해, 기재의 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
상기 내장면으로서는, 예를 들면, 상기 대상 공간의 내벽면, 바닥면, 또는 천장면 등을 들 수 있다.
또, 본 발명은, 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재와, 상기 기재의 표면에 형성된 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함허눈 보호막을 가지고 이루어지는, 특정재를 준비하는 공정과,
상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 상기 특정재를 부착하는 공정을 갖는 것을 다른 특징으로 한다.
상기의 방법에 의하면, 상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재와, 당해 기재의 표면에 형성된 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 포함하는 특정재가 형성된다. 이로 인해, 상술한 발명과 동일하게, 상기 자외선이 대상 공간의 내장면이나 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 조사된 경우여도, 내장면이나 물체 표면에 배치된 기재의 표면에 형성된 보호막의 존재에 의해, 자외선이 기재측에 인도되는 것이 억제된다. 이에 의해, 기재의 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
또, 본 발명은, 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 부착된, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재의 표면에, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 도포하는 공정을 갖는 것을 또 다른 특징으로 한다.
상기의 방법에 의하면, 대상 공간 내에, 벽지나 표면 보호용의 시트재 등의 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재가, 이미 부착되어 있는 경우여도, 그 기재의 상면에 보호막이 도포된다. 이에 의해, 상술한 발명과 동일하게, 상기 자외선이 대상 공간의 내장면이나 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 조사된 경우여도, 내장면이나 물체 표면에 부착된 기재의 표면에 형성된 보호막의 존재에 의해, 자외선이 기재측에 인도되는 것이 억제된다. 이에 의해, 기재의 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
또한, 이 방법은, 예를 들면, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 소정의 용매에 용해시킨 후, 이 용매를 스프레이 등에 의해 기재의 표면에 내뿜음으로써 실시할 수 있다.
상기 보호막은, 불소계 수지를 주성분으로 하는 것이 적합하다. 불소계 수지로서는, 특별히 한정되지 않지만, PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등을 들 수 있다. 본 발명자의 예의 연구에 의하면, 유리 코팅이나 티탄 코팅에 비해, 불소계 수지에 의한 코팅에 의해 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있는 효과가 높은 것이 확인되었다. 또, 불소계 수지에 의하면, 가시광에 대한 투과성이 높기 때문에, 하층에 존재하는 기재(벽지나 바닥재 등)의 색미나 장식에 대해 영향을 미치는 일이 없다.
상기 보호막은, 상기 불소계 수지 내에 자외선 흡수제가 함유되어 구성되는 것이 보다 적합하다.
불소계 수지 중에는, 상기 자외선을 일정 비율로 투과시키는 성질을 나타내는 것이 존재한다. 이 경우, 불소계 수지를 주성분으로 하는 보호막이 기재의 표면에 형성되어 있어도, 자외선의 일부가 보호막을 투과하여 하층의 기재에 조사됨으로써, 통상 사용 시에 비해 변색이나 열화의 속도가 빨라져버릴 가능성이 있다.
이에 반해, 상기의 구성에 의하면, 상기 보호막이 상기 불소계 수지 내에 자외선 흡수제가 함유되어 이루어지기 때문에, 만일, 자외선이 불소계 수지 내를 진행했다고 해도, 당해 수지 내에 함유된 자외선 흡수제에 의해 흡수되는 결과, 기재에 대해 조사되는 자외선량을 큰 폭으로 저감할 수 있다. 이에 의해, 기재의 변색이나 열화의 진행이 큰 폭으로 억제된다.
자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 살리실산 에스테르계, 아크릴로니트릴 유도체계 등의 자외선 흡수성을 나타내는 재료가 적합하게 이용된다. 이들은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 이 자외선 흡수제는, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선에 대한 투과율이, 30% 미만인 것이 바람직하고, 20% 미만인 것이 보다 바람직하고, 10% 미만인 것이 특히 바람직하다.
이 자외선 흡수제는, 불소 수지 재료 100질량부에 대해, 0.1질량부~10질량부 정도 배합하는 것이 바람직하고, 0.5질량부~5질량부 정도 배합하는 것이 특히 바람직하다.
상기 광원은, 상기 기재에 대해 1mW/cm2 이하의 조도로 상기 자외선을 조사함으로써, 상기 대상 공간 내의 균 또는 바이러스의 불활화를 행하는 것으로 해도 상관없다.
상기와 같은 낮은 조도로 상기 자외선을 조사했을 경우여도, 대상 공간 내에 존재하는 균이나 바이러스의 불활화를 행할 수 있다.
그런데, 상술한 바와 같이, 자외선은 인간에 대해 조사되면 인체에 대한 영향이 발생하는 것이 알려져 있다. 본원 출원일의 시점에서는, 인체에 대해 1일(8시간)당 자외선 조사량에 관해, ACGIH(American Conference of Governmental Industrial Hygienists：미국 산업 위생전문가 회의)나 JIS Z 8812(유해 자외 방사의 측정 방법) 등에 의해, 파장마다의 허용 한계치(TLV：Threshold Limit Value)가 정해져 있다. 즉, 인간이 존재하는 환경 하에서 자외선이 이용될 경우에는, 소정의 시간 내에 조사되는 자외선의 적산 조사량이 TLV의 기준치 이내가 되도록, 자외선의 조도나 조사 시간을 결정하는 것이 추천되어 있다.
상기와 같은 낮은 조도로 자외선이 조사되는 구성이라면, 인간이 존재하는 시간대여도, TLV의 기준치 이내로 적산 조사량을 억제하면서 불활화를 행하는 것이 실현되기 쉽다.
그리고, 이러한 낮은 조도로 상기 자외선이 조사되는 경우여도, 조사 시간이 길어져 적산 조사량이 높아지면, 염소계 수지에 대한 변색이나 열화라는 과제가 현재화(顯在化)될 가능성이 있다. 이에 반해, 상기 방법에 의하면, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재의 표면에 보호막이 형성되어 있기 때문에, 저조도의 자외선이 수개월~수년이라고 하는 장기간에 걸쳐 조사됨으로써 적산 조사량이 높아졌다고 해도, 기재의 변색이나 열화의 속도가 억제된다. 또한, 「수개월~수년이라고 하는 장기간에 걸쳐 조사된다」란, 1일을 구성하는 24시간에 걸쳐 상시 조사된 상태가 수개월이나 수년 계속되는 것을 반드시 의미하는 것은 아니다. 24시간 내에 자외선이 조사되는 시간대와 조사되지 않는 시간대가 포함된 양태가, 수개월~수년 계속되는 것으로 해도 상관없다. 또 다른 예로서, 수개월~수년 사이에는, 전혀 자외선이 조사되지 않는 날이 1일은 복수일, 포함되어 있어도 상관없다.
상기 보호막은, 400nm~600nm의 파장대역의 가시광에 대한 투과율이 50% 이상인 것이 바람직하다. 이에 의하면, 가시광에 대한 투과성이 높기 때문에, 하층에 존재하는 기재(벽지나 바닥재 등)의 색미나 장식에 대해 영향을 끼치는 일이 없다. 또한, 상기 보호막은, 상기 가시광에 대한 투과율이, 60% 이상인 것이 보다 바람직하고, 75% 이상인 것이 특히 바람직하다.
또, 본 발명은, 대상 공간에 대해, 균 또는 바이러스의 불활화 기능을 탑재하는 불활화 기능 탑재 방법으로서,
상기 대상 공간 내에, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원을 배치하는 공정과,
상술한 보호 처리 방법을 실행하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 방법에 의하면, 염소계 수지를 주성분으로 하는 기재가 배치된 대상 공간 내에 대해, 당해 기재의 변색이나 열화의 진행을 억제하면서도, 균이나 바이러스의 불활화를 행할 수 있는 기능을 부여할 수 있다.
또, 본 발명은, 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간 내에 부착되는, 보호용의 시트재로서,
주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재와,
상기 기재의 표면에 형성되고, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 갖는 것을 특징으로 한다.
이러한 시트재에 의하면, 균 또는 바이러스의 불활화 처리의 목적으로 상기 자외선을 발하는 광원이 배치되는 대상 공간 내의 내장면이나, 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면의 보호용 시트로서 이용되어도, 상기 자외선이 조사되는 것에 의한 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
또, 본 발명은, 균 또는 바이러스의 불활화 기능이 탑재된 구조체로서,
190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원과,
상기 자외선의 조사 가능 영역 내에 배치된, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막과,
상기 보호막의 하층에 배치된, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재를 갖는 것을 특징으로 한다.
이러한 구조체로서는, 건물 내의 방, 탈 것, 통로와 같은 인간이 존재할 가능성이 있는 공간을 그 예로서 들 수 있다.
본 발명에 의하면, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 시트재(기재)를 대상 공간 내에 이용하면서도, 당해 기재의 변색이나 열화의 진행을 억제하면서, 대상 공간 내에 있어서의 균이나 바이러스의 불활화 처리가 가능해진다.
도 1은, 본 발명에 따른 균 또는 바이러스의 불활화 처리의 실시가 상정되는 장면의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는, 광원의 일례로서의 엑시머 램프의 구조를 나타내는 모식적인 도면이다.
도 3은, 광원으로부터 출사되는 자외선의 스펙트럼의 일례를 나타내는 도면이다.
도 4는, 벽지에 대해 광원으로부터 자외선이 조사되는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5는, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌)의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 6a는, 자외선이 조사되기 전의 각 샘플의 사진이다.
도 6b는, 자외선이 조사된 후의 각 샘플의 사진이다.
도 7a는, 저조도의 자외선에 의해 균을 불활화하는 작용을 나타내는 것을 설명하기 위한 검증 결과이다.
도 7b는, 저조도의 자외선에 의해 바이러스를 불활화하는 작용을 나타내는 것을 설명하기 위한 검증 결과이다.
도 2는, 광원의 일례로서의 엑시머 램프의 구조를 나타내는 모식적인 도면이다.
도 3은, 광원으로부터 출사되는 자외선의 스펙트럼의 일례를 나타내는 도면이다.
도 4는, 벽지에 대해 광원으로부터 자외선이 조사되는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5는, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌)의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도 6a는, 자외선이 조사되기 전의 각 샘플의 사진이다.
도 6b는, 자외선이 조사된 후의 각 샘플의 사진이다.
도 7a는, 저조도의 자외선에 의해 균을 불활화하는 작용을 나타내는 것을 설명하기 위한 검증 결과이다.
도 7b는, 저조도의 자외선에 의해 바이러스를 불활화하는 작용을 나타내는 것을 설명하기 위한 검증 결과이다.
본 발명에 따른 보호 처리 방법, 불활화 기능 탑재 방법, 시트재, 및 구조체의 실시 형태에 대해, 적절히 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하에서는 「균 또는 바이러스의 불활화 처리」를 단순히 「불활화 처리」라고 약기하는 경우가 있다.
도 1은, 본 발명에 따른 불활화 처리의 실시가 상정되는 장면의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 1에 나타내는 예에서는, 회의실 등의 방(50)에, 자외선(L1)을 출사하는 광원(1)이 배치되어 있는 상황이 도시되어 있다. 광원(1)은, 방(50)에 대해 균 등의 불활화 처리를 행할 목적으로 배치되어 있다. 즉, 도 1에 나타내는 예에서는, 방(50)이 「대상 공간」에 대응한다. 보다 상세하게는, 광원(1)은, 방(50) 내에 존재하는 책상(51), 의자(52), 벽지(53), 및 방(50)의 공간 자체에 대한 불활화 처리를 행할 목적으로 배치되어 있다.
그리고, 이 도 1은, 본 발명에 따른 보호 처리 방법 및/또는 불활화 기능 탑재 방법이 실시된 상태의 방(50)을 도시한 도면에 대응하고 있다. 상기 각 방법을 실시하기 위한 공정에 대해서는, 추후에 설명된다.
광원(1)은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선(L1)을 발하는 구성이다. 일례로서, 광원(1)은 엑시머 램프로 구성된다. 보다 상세한 구체예로서의 엑시머 램프(10)는, 도 2에 모식적으로 도시되는 바와 같이, 발광 가스(G13)가 봉입된 발광관(13)과, 발광관의 외표면에 접촉하도록 배치된 한 쌍의 전극(15, 16)을 포함한다.
발광 가스(G13)는, 엑시머 발광 시에 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선(L1)을 출사하는 재료로 이루어진다. 일례로서, 발광 가스(G13)로서는, KrCl, KrBr, ArF가 포함된다.
예를 들면, 발광 가스(G13)에 KrCl이 포함되는 경우에는, 엑시머 램프(10)로부터 피크 파장이 222nm 근방의 자외선(L1)이 출사된다. 발광 가스(G13)에 KrBr이 포함되는 경우에는, 엑시머 램프(10)로부터 피크 파장이 207nm 근방의 자외선(L1)이 출사된다. 발광 가스(G13)에 ArF가 포함되는 경우에는, 엑시머 램프(10)로부터 피크 파장이 193nm 근방의 자외선(L1)이 출사된다. 또한, 발광관(13)의 관벽에 형광체가 도포됨으로써, 엑시머광의 파장에 대해 장파장의 자외선(L1)을 발하는 구성으로 해도 된다.
도 3은, 발광 가스(G13)에 KrCl이 포함되는 엑시머 램프(10)로부터 출사되는 자외선(L1)의 스펙트럼의 일례를 나타내는 도면이다. 도 3에 나타내는 스펙트럼에 의하면, 190nm~235nm의 광 출력의 적분값에 대한, 240nm~300nm의 광 출력의 적분값의 비율은, 1% 미만이다.
단, 광원(1)으로서는, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선(L1)을 발하는 구성이라면, 그 양태는 한정되지 않는다. 즉, 광원(1)은, 엑시머 램프(10) 대신에, LED나 레이저 다이오드 등의 고체 광원으로 구성되어 있어도 상관없다. 또, 광원(1)이 엑시머 램프(10)를 포함하는 경우여도, 그 엑시머 램프(10)는 도 2에 나타낸 형상에 한정되지 않는다.
상술한 바와 같이, 광원(1)은, 자외선(L1)을 방(50) 내에 조사함으로써, 방(50) 내의 물품(책상(51), 의자(52), 벽지(53) 등) 및 방(50)의 공간 내에 대해, 균 등의 불활화 처리를 행한다. 도 1의 예에서는, 벽지(53)의 표면이 「대상 공간의 내장면」에 대응하여, 책상(51)이나 의자(52)의 표면이 「대상 공간 내에 배치된 물체 표면」에 대응한다.
균 등의 불활화 처리가 행해짐에 있어서, 바람직하게는 1mW/cm2 이하의 조도로 광원(1)으로부터 자외선(L1)이 조사된다. 이러한 낮은 조도여도, 균 등의 불활화 기능을 실현할 수 있음은, 후술된다.
특히, 1mW/cm2 이하라는 낮은 조도로 자외선(L1)이 방(50) 내에 조사됨으로써, 만일 방(50) 내에 인간이 존재하는 경우여도, TLV의 기준치 이내로 적산 조사량을 억제하면서 불활화 처리를 행하는 것이 가능해진다.
도 4는, 벽지(53)에 대해 광원(1)으로부터의 자외선(L1)이 조사되는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다. 본 발명에 있어서, 벽지(53)는, 기재(2)와 보호막(3)을 갖는다. 보호막(3)은, 기재(2)의 표면(보다 상세하게는, 방(50)의 내부 공간 측의 표면)에 형성되어 있다. 보호막(3)이 형성됨으로써, 기재(2)의 표면은 내부 공간에 노출되어 있지 않다.
기재(2)는, 주성분이 염소계 수지로 이루어진다. 염소계 수지로서는, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌 등을 들 수 있고, 특히 폴리염화비닐이 전형적으로 이용된다.
본 실시 형태에 있어서, 보호막(3)은, 주성분을 불소계 수지로 하고, 자외선 흡수제가 함유되어 이루어진다. 전형적으로는, 자외선 흡수제가 불소계 수지 내에 분산되어 있다.
불소계 수지로서는, 예를 들면, PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PVDF(폴리불화비닐리덴) 등을 이용할 수 있다. 특히, 400nm~600nm의 파장대역의 가시광에 대한 투과율이 50% 이상인 재료인 것이 바람직하다. 도 5는, 불소계 수지의 일례로서의 PTFE의 투과 스펙트럼을 나타내는 그래프이다. 이 도 5에 나타내는 투과 스펙트럼은, 광원에 대향하여 PTFE로 이루어지는 수지를 배치하고, 이 수지를 통해 투과된 광을 수광기로 수광함과 더불어, 광원으로부터 출사된 광 강도에 대한 수광 강도의 비율을 파장마다 분해함으로써 작성되었다. 도 5에 의하면, PTFE는, 400nm~600nm의 파장대역의 가시광에 대한 투과율이 70%를 초과하고 있는 것이 확인된다.
자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 살리실산 에스테르계, 아크릴로니트릴 유도체계 등의 자외선 흡수성을 나타내는 재료를 이용 가능하다. 자외선 흡수제는, 불소계 수지에 혼재·분산 가능하고, 특히 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선(L1)에 대한 투과율이 낮은 재료인 것이 바람직하다. 이 투과율은, 30% 미만인 것이 바람직하고, 20% 미만인 것이 보다 바람직하고, 10% 미만인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이 자외선 흡수제는, 400nm~600nm의 파장대역의 가시광에 대한 투과율이 50% 이상을 나타내는 재료인 것이 바람직하다.
보호막(3)은, 예를 들면, PTFE 등의 불소계 수지에 대해 벤조페논계 재료 등의 자외선 흡수제를 혼련 가공함으로써 제조 가능하다. 또, 다른 방법으로서, 불소계 수지의 구성 재료와 자외선 흡수제의 구성 재료를 함께, 아세트산부틸, 디메틸에테르 등의 용매에 용해시키는 것으로 해도 상관없다. 이 용매를 기재(2)의 상면에 도포하고, 용매를 휘발시킴으로써, 기재(2)의 상면에 보호막(3)이 형성된다.
기재(2)의 표면에 보호막(3)이 형성되어 있음으로써, 광원(1)으로부터 벽지(53)를 향해 자외선(L1)이 조사되었을 때, 보호막(3)에 있어서 자외선(L1)의 진행이 제한되기 때문에, 그 하층에 위치하는 기재(2)에 대해 조사되는 자외선(L1)의 선량이 큰 폭으로 저하된다. 이 결과, 기재(2)의 구성 재료에 포함되는 C-Cl 결합이, 자외선(L1) 유래의 광 에너지에 의해 절단되기 어려워진다. 따라서, 기재(2)의 변색이나 열화의 진행이 억제된다.
또, 보호막(3)은, 가시광에 대한 투과율이 높기 때문에, 기재(2)의 표면에 보호막(3)이 형성되어 있어도, 하층에 위치하는 기재(2)의 색미나 장식에 대해 영향을 끼치는 일이 없다. 즉, 벽지(53) 본래의 색미나 장식은 살리면서도, 자외선(L1)이 조사되는 것에 의한 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 벽지(53)가 기재(2)와 보호막(3)을 갖고 구성되는 경우를 예로 들어 설명했다. 그러나, 도 1의 예의 경우에서는, 책상(51)이나 의자(52)에 있어서도, 그 표면에 보호용의 부재가 설치되는 경우가 상정된다. 이러한 경우에 있어서는, 이 보호용의 부재가, 기재(2)와 보호막(3)을 포함하는 구성으로 하는 것이 적합하다. 이에 의해, 벽지(53)의 경우와 동일하게, 책상(51)이나 의자(52)의 색미나 장식에 영향을 주는 일 없이, 자외선(L1)이 조사되는 것에 의한 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 보호 처리 방법 및 불활화 기능 탑재 방법(이하, 「본 발명 방법」이라고 약기한다.)의 실시 순서에 대해 설명한다. 본 발명 방법의 실시에 있어서는, 이하의 2개의 양태가 가능하다. 모두, 도 1에 나타내는 방(50)을 예로 들어 설명한다.
(제1의 양태)
제1의 양태는, 주로 방(50)을 신설하는 경우가 상정되며, 이하의 각 공정을 거쳐 실행된다.
[공정 S1]
방(50)의 내벽에, 내장용으로서의 벽지(53)를 부착한다. 이 벽지(53)는, 도 4를 참조하여 상술한 바와 같이, 기재(2)의 표면에 보호막(3)이 형성되어 구성되어 있다. 또한, 벽지(53)를 부착할 때에는, 기재(2)를 설치한 후, 기재(2)의 상면에 보호막(3)을 설치하는 것으로 해도 상관없고, 이미 보호막(3)이 형성된 상태의 기재(2)(「특정재」에 대응한다.)를 부착하는 것으로 해도 상관없다.
또한, 방(50)의 바닥면에 대해서도, 이 벽지(53)와 동일하게, 기재(2)의 표면에 보호막(3)이 형성되어 이루어지는 바닥재를 부착하는 것으로 해도 상관없다. 또, 방(50)의 천장면에 대해서도, 상기와 동일한 벽지(53)를 부착하는 것으로 해도 상관없다.
기재(2)를 부착한 후에 보호막(3)을 부착할 때에는, 시트형상으로 형성된 보호막(3)을 기재(2)의 상면에 접합하는 것으로 해도 상관없고, 불소계 수지와 자외선 흡수제가 용해된 용매를, 기재(2)의 표면에 도포하는 것으로 해도 상관없다. 전자의 경우, 접합 시에 이용되는 접착제는, 자외선(L1)에 대한 내성이 높은 재료가 적합하게 사용된다.
[공정 S2]
자외선(L1)을 발하는 광원(1)을 방(50)의 소정의 개소에 배치한다. 도 1의 예의 경우에는, 광원(1)은 방(50)의 천장면에 배치된다. 또한, 공정 S2와 공정 S1의 순번은 적절히 교체가 가능하다.
상기 공정 S1~S2에 의해, 신설된 방(50)에 대해, 균 등의 불활화 기능이 탑재됨과 더불어, 벽지(53) 등의 기재(2)에 대해 자외선(L1)으로부터의 보호 처리가 실시된다. 또한, 먼저 공정 S2가 실행되어 있음으로써, 광원(1)이 이미 방(50)에 배치되어 있는 경우에는, 상기 공정 S1이 실행됨으로써, 방(50)의 내장면 등에 자외선(L1)에 대한 보호 처리가 실시된다.
(제2 양태)
제2 양태는, 주로 기설된 방(50)에 대해, 불활화 처리용의 광원(1)을 설치하는 경우가 상정된다.
[공정 S1a]
기설된 방(50)의 내장면에는, 통상, 벽지로서의 기재(2)가 이미 배치되어 있다. 거기서, 이 기재(2)의 표면에 보호막(3)을 부착한다. 이 경우에는, 제1 양태에서도 상술한 바와 같이, 시트형상으로 형성된 보호막(3)을 기재(2)의 상면에 접합하는 것으로 해도 상관없고, 불소계 수지와 자외선 흡수제가 용해된 용매를, 기재(2)의 표면에 도포하는 것으로 해도 상관없다. 단, 이 제2 양태의 경우에는, 작업성을 감안하여 후자의 방법이 적합하다. 특히, 불소계 수지와 자외선 흡수제가 용해된 용매를, 압축 가스를 이용하여 에어졸로서 분무하는 것이 적합하다.
또한, 방(50)의 바닥면에 대해서도, 기존의 바닥재의 표면에 보호막(3)을 부착하는 것으로 해도 상관없다. 방(50)의 천장면에 대해서도, 상기와 동일하게 기존의 벽지로서의 기재(2)의 표면에 보호막(3)을 부착하는 것으로 해도 상관없다.
[공정 S2]
제1 양태와 동일하게, 공정 S1의 실행 전후에, 자외선(L1)을 발하는 광원(1)을 방(50)의 소정의 개소에 배치한다. 이에 의해, 기존의 방(50)에 대해, 균 등의 불활화 기능이 탑재됨과 더불어, 벽지 등의 기재(2)에 대한 보호 처리가 실시된다.
이하, 검증 결과에 대해 설명한다.
(검증 1)
도 6a는, 샘플(61~64)의 검증 실험 전의 사진이다. 샘플(61)은, 염소계 수지로서의 일례인 폴리염화비닐(PVC)의 플레이트이다. 샘플(62~64)은, 모두 샘플(61)의 표면에 처리를 실시한 것이다. 상세하게는, 이하와 같다.
샘플(62)은, 샘플(61)의 표면에 유리 코팅 처리를 실시한 것이다.
구체적으로는, 샘플(61)의 표면에, 아크릴 수지와 유리 비즈가 용해된 크실렌, 에틸벤젠 등의 휘발성 용매를 스프레이 분사함으로써 생성되었다.
샘플(63)은, 샘플(61)의 표면에 티탄 코팅 처리를 실시한 것이다.
구체적으로는, 샘플(61)의 표면에, 산화티탄 0.85%의 수용액을 분무하여 건조시킴으로써 생성되었다.
샘플(64)은, 샘플(61)의 표면에 불소 코팅 처리를 실시한 것이다.
구체적으로는, 샘플(61)의 표면에, 불소계 수지로서의 PTFE가 용해된 디메틸에테르 등의 휘발성 용매를 스프레이 분무함으로써 생성되었다. 샘플(62~64)은, 샘플(61)의 표면에 각각 처리가 실시되어 있는데, 모두, 샘플(61)과 동 정도의 가시광 투과성을 나타내고 있고, 외형은 거의 같다.
도 6b는, 샘플(61~64)에 대해, KrCl 엑시머 램프로부터 출사된 피크 파장 222nm의 자외선(L1)을, 0.44mW/cm2의 조도로 644시간에 걸쳐 계속 조사한 후의 사진이다. 이 적산 조사량은, 파장 222nm의 자외선에 대한 TLV의 1일당 기준치인 22mJ/cm2로 환산하면, 127년에 상당한다. 단, 인간의 부재 시에는 자외선을 조사해도 문제없기 때문에, 실제의 운용상은, 127년보다 짧은 기간에 이 적산 조사량에 도달할 가능성도 생각된다.
도 6b에 의하면, 불소계 수지가 코팅된 샘플(64)에 대해서는 변색이 거의 확인되지 않았던 것에 비해, 미처리인 샘플(61), 유리 코팅 처리가 실시된 샘플(62), 및 티탄 코팅이 실시된 샘플(63)은, 모두 변색이 확인되었다. 이 결과, 불소계 수지를 주성분으로 하는 보호막(3)에 의하면, 자외선(L1)에 대한 내성이 높고, 하층에 형성된 기재(2)를 모의한 폴리염화비닐(PVC)의 변색이나 열화를 억제할 수 있음을 알 수 있다.
또한, 도 6b에 나타내는 실험에서는, 유리 코팅 처리가 행해진 샘플(62), 및 티탄 코팅 처리가 행해진 샘플(63)에 대해서는, 기재(2)(여기에서는 폴리염화비닐)에 대한 자외선(L1)으로의 변색이나 열화에 대한 효과가 거의 보이지 않는 것이 확인되었다. 이들 처리의 경우, 모두 기재(2)의 표면에는 자외선(L1)에 대한 내성이 낮은 막이 형성됨으로써, 미처리의 샘플(61)과 동일하게, 자외선(L1)의 조사선량이 높아짐으로써 변색이 진행된 것으로 추정된다. 바꾸어 말하면, 이 검증 1에서는, 불소계 수지에 의한 코팅이 실시된 샘플(64)에 있어서만 변색이 억제되어 있었지만, 자외선(L1)에 대한 내성을 나타내는 다른 재료로 이루어지는 코팅이 기재(2)의 표면에 실시된 경우여도, 샘플(64)과 동일하게 변색이나 열화의 진행을 억제할 수 있는 것으로 추정된다.
단, 불소계 수지는, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선(L1)을 일정량 투과한다. 이로 인해, 보호막(3)이 불소계 수지만으로 구성되어 있는 경우에는, 자외선(L1)의 조사선량이 증가하는 데에 수반하여, 보호막(3)이 없는 경우보다는 그 속도는 느리지만, 기재(2)의 변색이나 열화가 진행될 가능성은 있다. 이러한 관점에서, 보호막(3)에는, 불소계 수지에 더하여 자외선 흡수제가 혼재되어 있는 것이 바람직하다.
예를 들면, 샘플(64) 대신에, 샘플(61)의 표면에 대해, 불소계 수지로서의 PTFE와 자외선 흡수제로서의 히드록시벤조페논계 재료가 용해된 디메틸에테르 등의 휘발성 용매를 스프레이 분무하여 코팅함으로써, 샘플(64)보다 추가로 기재(2)의 변색이나 열화의 진행을 억제하는 것이 가능해진다.
(검증 2)
기재(2)로서, 폴리카보네이트(PC) 수지, ABS 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 및 PVC 수지의 4종류를 준비하고, 각각의 수지에 대해 피크 파장 222nm의 자외선(L1)을, 0.04mW/cm2의 조도로 조사하여, 수지의 변색을 확인했다.
조사를 개시하고 나서, 58.1시간(1일당 TLV 기준치인 22mJ/cm2로 환산하면, 약 1년에 상당한다.)에 도달한 시점에서, PVC 수지는 갈색을 띤 색으로 변색되어, 육안으로도 명백하게 변색을 확인할 수 있었다. 이에 반해, PC 수지, ABS 수지, 및 PET 수지에 대해서는, 자외선(L1)의 조사 전의 상황과 비교하여, 육안으로는 색의 상이함이 그다지 발생해 있지 않았다. 또한, 자외선(L1)의 조사를 계속하면, PVC 수지는 더욱 갈색이 진하게 띠도록 변색이 진행되었다.
PVC 수지는, PC 수지, ABS 수지, 및 PET 수지와 달리, C-Cl 결합을 갖는 물질이다. 이러한 관점에서, PVC 수지는, 자외선(L1)의 조사에 의해 C-Cl 결합이 절단된 결과, 수지의 열화와 변색이 진행된 것으로 추정된다. 한편, PC 수지, ABS 수지, 및 PET 수지는, C-Cl 결합을 갖지 않은 점에서, PVC 수지에 비해 자외선(L1)에 대한 내성이 원래 높은 수지였던 것으로 추정된다.
(검증 3)
1mW/cm2 이하라는 낮은 조도로 자외선(L1)이 방(50) 내에 조사된 경우여도, 방(50) 내의 균이나 바이러스의 불활화 처리에 효과가 있는 점에 대해, 실험 결과를 참조하여 설명한다.
φ35mm의 샬레에, 농도 106/mL 정도의 황색 포도구균을 1mL 넣고, 샬레의 상방으로부터, KrCl 엑시머 램프로부터 출사된 피크 파장 222nm의 자외선(L1)을, 상이한 조도 조건 하에서 조사했다. 그 후, 자외선(L1)의 조사 후의 샬레 내의 용액을, 생리 식염수로 소정의 배율로 희석하고, 희석 후의 용액 0.1mL를 표준 한천 배지에 파종했다. 그리고, 온도 37℃, 습도 70%의 배양 환경 하에서 24시간 배양하고, 콜로니 수를 카운트했다.
도 7a는, 상기 실험 결과를 그래프화한 것이며, 가로축이 자외선(L1)의 조사량, 세로축이 황색 포도구균의 생존율에 대응한다. 또한, 세로축은, 자외선(L1)의 조사 전의 시점에 있어서의 황색 포도구균의 콜로니 수를 기준으로 했을 때의, 조사 후의 황색 포도구균의 콜로니 수의 비율의 Log값에 대응한다.
도 7a에 의하면, 자외선(L1)의 조도가 0.001mW/cm2로 매우 낮은 경우여도, 황색 포도구균의 불활화를 실현할 수 있는 것이 확인된다. 또한, 자외선(L1)에 의해, 세레우스균이나 고초균 등, 다른 균에 대해서도 불활화의 작용이 있는 것이 확인되어 있다.
또한, 다른 검증으로서, 인플루엔자 바이러스에 대해 동일한 검증을 행한 결과를 도 7b에 나타낸다. 이 결과에 의하면, 자외선(L1)에 의해 바이러스의 불활화가 행해지는 것도 확인된다. 또한, 예를 들면, 자외선(L1)의 조사량을 3mJ/cm2로 하려면, 조도 0.001mW/cm2의 경우에는 50분간의 조사에 의해 실현되고, 조도 0.01mW/cm2의 경우에는 5분간의 조사에 의해 실현된다. 도 7b에 의하면, 자외선(L1)에 의해, 바이러스의 불활화도 실현할 수 있는 것이 확인된다. 또한, 자외선(L1)에 의해, 고양이 코로나 바이러스 등의 다른 바이러스에 대해서도 불활화의 작용이 있는 것이 확인되어 있다.
이상에 의해, 광원(1)으로부터 1mW/cm2 이하라는 낮은 조도로 자외선(L1)이 방(50) 내에 조사되는 경우에 있어서도, 방(50) 내의 균이나 바이러스의 불활화 효과가 있음을 알 수 있다. 또한, 균이나 바이러스의 불활화 효과의 크고 작음은, 조사되는 자외선(L1)의 적산 조사량(선량)에 의존한다.
1：광원
2：기재
3：보호막 10：엑시머 램프
13：발광관 50：방
51：책상 52：의자
53：벽지 61：샘플
62：샘플 63：샘플
64：샘플 G13：발광 가스
L1：자외선
3：보호막 10：엑시머 램프
13：발광관 50：방
51：책상 52：의자
53：벽지 61：샘플
62：샘플 63：샘플
64：샘플 G13：발광 가스
L1：자외선
Claims (13)
- 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
상기 대상 공간의 내장면(內裝面) 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재를 부착하는 공정과,
상기 기재의 표면에, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재와, 상기 기재의 표면에 형성된 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 가지고 이루어지는, 특정재를 준비하는 공정과,
상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 상기 특정재를 부착하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간에 대한 보호 처리 방법으로서,
상기 대상 공간은, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원이 이미 배치되어 있거나 또는 배치가 예정된 공간이고,
상기 대상 공간의 내장면 또는 상기 대상 공간 내에 배치된 물체 표면에 부착된, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재의 표면에, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 도포하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원은, 상기 기재에 대해 1mW/cm2 이하의 조도로 상기 자외선을 조사함으로써, 상기 대상 공간 내의 균 또는 바이러스의 불활화를 행하는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 보호막은 불소계 수지를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 청구항 5에 있어서,
상기 보호막은, 상기 불소계 수지 내에 자외선 흡수제가 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 보호막은, 400nm~600nm의 파장대역의 가시광에 대한 투과율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 내장면은, 상기 대상 공간의 내벽면, 바닥면, 또는 천장면인 것을 특징으로 하는 보호 처리 방법. - 대상 공간에 대해, 균 또는 바이러스의 불활화 기능을 탑재하는 불활화 기능 탑재 방법으로서,
상기 대상 공간 내에, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원을 배치하는 공정과,
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 보호 처리 방법을 실행하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 불활화 기능 탑재 방법. - 균 또는 바이러스의 불활화가 행해지는 대상 공간 내에 부착되는, 보호용의 시트재로서,
주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재와,
상기 기재의 표면에 형성되고, 190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막을 갖는 것을 특징으로 하는 시트재. - 청구항 10에 있어서,
상기 보호막은 불소계 수지를 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 시트재. - 청구항 11에 있어서,
상기 보호막은, 상기 불소계 수지 내에 자외선 흡수제가 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 시트재. - 균 또는 바이러스의 불활화 기능이 탑재된 구조체로서,
190nm~235nm의 범위 내에 속하는 특정 파장역에 광 출력을 나타내는 자외선을 발하는 광원과,
상기 자외선의 조사 가능 영역 내에 배치된, 상기 자외선에 대한 내성을 나타내는 재료를 포함하는 보호막과,
상기 보호막의 하층에 배치된, 주성분이 염소계 수지로 이루어지는 기재를 갖는 것을 특징으로 하는 구조체.
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