KR20230118214A - Manufacturing method of the radiating device for displaying apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 제조가 가능하도록 하면서도 제조 공정을 단순화시킬 수 있어 대량 생산이 용이하도록 함과 동시에 생산원가를 절감시킬 수 있고, 방열장치의 두께를 최소화시킴으로써 전체적인 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있도록 하는 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display, and more particularly, to a heat dissipation device provided in a flat panel display device, which can be manufactured only by press processing at a relatively low processing cost, while simplifying the manufacturing process, so that mass production is easy It relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display that can reduce production cost and at the same time reduce the thickness of the heat dissipation device so that the thickness of the entire display device can be slimmed down.

Description

디스플레이용 방열장치 제조방법{Manufacturing method of the radiating device for displaying apparatus}Manufacturing method of the radiating device for display apparatus

본 발명은 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 제조가 가능하도록 하면서도 제조 공정을 단순화시킬 수 있어 대량 생산이 용이하도록 함과 동시에 생산원가를 절감시킬 수 있고, 방열장치의 두께를 최소화시킴으로써 전체적인 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있도록 하는 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display, and more particularly, to a heat dissipation device provided in a flat panel display device, which can be manufactured only by press processing at a relatively low processing cost, while simplifying the manufacturing process, so that mass production is easy It relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display that can reduce production cost and at the same time reduce the thickness of the heat dissipation device so that the thickness of the entire display device can be slimmed down.

일반적으로 디스플레이 장치는 TV수상기와 비슷한 브라운관에 문자나 도형을 나타내는 장치를 뜻하는 것으로, 그 중 평판 디스플레이(Flat panel display, FPD)는 음극선관을 사용한 컴퓨터 모니터나 텔레비전보다 얇고 가벼운 디스플레이 장치를 가리키는 말로서, 노트북, 디지털 카메라 등과 같이 휴대성이 중요한 장치에 적용되기 시작했으나, 최근에는 평판 TV와 같이 부피가 큰 장치에도 적용이 되면서 얇고 가벼우며 낮은 구동 전압, 저소비 전력 따위를 장점으로 하는 디스플레이 장치를 뜻하는 말로 사용되고 있다.In general, a display device refers to a device that displays characters or figures on a cathode ray tube similar to a TV set. , It began to be applied to devices where portability is important, such as laptops and digital cameras, but has recently been applied to bulky devices such as flat-panel TVs. It is used as a word for

이러한, 평판디스플레이 장치에서는 사이즈의 대형화와 함께 슬림화가 요구되고 있는데, 평판 TV와 같은 평판디스플레이 장치는 고사양화되고 고기능화됨에 따라 중앙처리장치(CPU)의 처리속도가 증가하면서 발열이 큰 문제로 대두되고 있다.In such a flat panel display device, slimming is required along with an increase in size. As flat panel display devices such as flat TVs are highly specified and highly functional, the processing speed of the central processing unit (CPU) increases, and heat generation is emerging as a major problem. .

따라서, 중앙처리장치로부터 발생하는 열을 신속하게 외부로 방출하기 위한 목적으로 통상 방열장치를 사용하고 있는데, 이러한 방열장치의 일례로 디스플레이 장치의 메인보드 CPU 상부에 히트파이프와 같은 형태로 설치되어 CPU에서 발생한 열이 방열장치를 통하여 냉각 및 열 분산되도록 방식이 주로 사용되고 있다.Therefore, a heat dissipation device is usually used for the purpose of rapidly dissipating heat generated from the central processing unit to the outside. The method is mainly used to cool and dissipate the heat generated from the heat dissipation device.

이와 함께 평판디스플레이 장치에서는 마이크로파나 전파 등의 비전리 방사선을 포함한 전자파가 다량으로 방출된다. 이러한 전자파는 인간의 건강에 해로운 영향을 미치는 것에 대한 우려가 날로 증가되고 또한 전자파에 의한 다른 기기에 대한 장해도 문제가 되고 있으며, 특히 작동 중 발생하는 전자파는 주변의 전자장치에 심각한 장애를 유발한다.In addition, a large amount of electromagnetic waves including non-ionizing radiation such as microwaves and radio waves are emitted from flat panel display devices. Concerns about the harmful effects of these electromagnetic waves on human health are increasing day by day, and interference with other devices due to electromagnetic waves is also a problem. In particular, electromagnetic waves generated during operation cause serious damage to nearby electronic devices. .

따라서, 회로기판에 실장된 전자부품에서 발생한 전자파를 차폐하기 위해서 또는 외부에서 발생한 전자파로부터 회로기판에 실장된 전자부품을 보호하기 위해서 전기전도성을 가지며 탄성을 갖는 EMI 개스킷이 회로기판과 방열장치 사이에 적용될 수 있다.Therefore, in order to shield electromagnetic waves generated from electronic components mounted on a circuit board or to protect electronic components mounted on a circuit board from external electromagnetic waves, an EMI gasket having electrical conductivity and elasticity is provided between the circuit board and the heat dissipation device. can be applied

EMI란 전자파 방해(간섭, Electromagnetic interference)를 의미한다. 금속재질로 제조되는 방열장치은 안테나와 같은 역할을 하므로 메인보드에 장착된 전자부품에서 발생하는 전자파는 히트싱크 및 EMI 개스킷을 통하여 디스플레이장치 외부로 그라운드 접지된다.EMI stands for electromagnetic interference. Since the heat dissipation device made of metal plays the same role as an antenna, electromagnetic waves generated from electronic components mounted on the main board are grounded to the outside of the display device through the heat sink and EMI gasket.

종래의 디스플레이용 방열장치로 주로 사용되는 히트싱크의 경우, 알루미늄 재질 판재의 중앙영역을 프레스장치를 이용하여 가압하여 중앙처리장치의 면적을 함몰시킨 반도체접촉부를 형성한 후 반도체접촉부 하부를 중앙처리장치의 상부면에 접착시킨다. 함몰되지 않은 히트싱크의 평면부 중 일부는 EMI 개스킷의 상부면과 접촉하게 한다. EMI 개스킷 표면에는 금속성 필름이 접착 또는 코팅되어 있으므로 알루미늄재질의 히트싱크와 전기적으로 연결될 수 있다.In the case of a heat sink mainly used as a heat dissipation device for a conventional display, the center area of an aluminum material plate is pressurized using a press device to form a semiconductor contact portion in which the area of the central processing unit is depressed, and then the lower part of the semiconductor contact portion is placed in the central processing unit. attached to the upper surface of Some of the non-recessed flat portions of the heatsink come into contact with the top surface of the EMI gasket. Since a metallic film is adhered or coated on the surface of the EMI gasket, it can be electrically connected to a heat sink made of aluminum.

그러나, 상기와 같은 구조의 종래 히트싱크는 EMI 개스킷의 높이 때문에 방열장치의 전체적인 높이가 증가하게 되고 이에 따라 평판디스플레이 두께를 슬림화할 수 없는 문제점이 존재한다.However, the conventional heat sink having the above structure has a problem in that the overall height of the heat dissipation device increases due to the height of the EMI gasket, and thus the thickness of the flat panel display cannot be slimmed down.

이러한 문제점을 해결하기 위해 EMI 개스킷의 상부면과 접촉되는 히트싱크에 관통공을 형성하여 EMI 개스킷의 상단 측면과, 관통공의 측벽 사이의 접촉에 의해 전기적인 연결이 이루어지도록 함으로써 방열장치의 높이를 줄이는 방법을 생각해볼 수 있는데, 관통공의 측벽이 페인팅 되는 경우 EMI 개스킷과 히트싱크 사이의 전기 전도가 이루어지지 않게 된다.In order to solve this problem, a through hole is formed in the heat sink in contact with the upper surface of the EMI gasket so that an electrical connection is made by contact between the upper side of the EMI gasket and the side wall of the through hole, thereby reducing the height of the heat dissipation device. A way to reduce it can be considered. If the sidewall of the through hole is painted, electrical conduction between the EMI gasket and the heat sink is not made.

즉, 외부로 노출될 수 있는 히트싱크의 상면은 복사열 전달 효과 향상과 외관을 보다 미려하게 하기 위한 목적 등으로 흑색 계열로 페인팅될 수 있는데, 관통공 측벽이 페인팅되면 히트싱크의 관통공 측벽을 통한 전기 전도가 불가능해지는 문제점이 있는 것이다.That is, the upper surface of the heat sink, which can be exposed to the outside, can be painted black for the purpose of improving the radiant heat transfer effect and making the appearance more beautiful. There is a problem that electricity conduction becomes impossible.

상기와 같은 문제점은 관통공 부분에 마스킹 처리를 한 후 페인팅 작업을 진행하거나, 관통공 부분에 고무패킹 등을 끼워 넣은 상태에서 페인팅 작업을 진행하는 방식에 의해 해결될 수도 있지만, 마스킹 처리나 고무패킹 삽입 작업은 모두 수동 작업을 통해 이루어질 수 밖에 없으므로 전체적인 작업 공정이 복잡해지고 시간이 오래 걸린다는 단점이 있다.The above problems may be solved by masking the through hole and then painting, or by inserting a rubber packing into the through hole, and then painting. However, masking or rubber packing Since all insertion operations must be performed manually, the entire operation process becomes complicated and takes a long time.

그로 인해 생산성 및 경제성이 저하될 수 있을 뿐만 아니라, 마스킹 처리나 고무패킹 삽입이 제대로 이루어지지 않는 경우 페인팅 차단이 완벽하게 이루어지지 않으므로 불량이 발생할 가능성이 높다는 단점도 있다.As a result, not only productivity and economic feasibility may be lowered, but also there is a disadvantage in that defects are likely to occur because the painting blocking is not completely performed if the masking treatment or rubber packing is not properly inserted.

1. 대한민국 등록특허공보 제10-1723499호(2017. 03. 30. 등록)1. Republic of Korea Patent Registration No. 10-1723499 (registered on March 30, 2017)

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 제조할 수 있도록 함으로써 생산원가를 절감시킬 수 있도록 하는 디스플레이용 방열장치 제조방법을 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, and an object of the present invention is to reduce production cost by making it possible to manufacture a heat dissipation device provided in a flat panel display device only by press processing at a relatively low processing cost. It is to provide a method for manufacturing a heat dissipation device for a display that enables.

또한, 본 발명은 히트싱크부의 두께를 최소화시킬 수 있어 전체적인 평판 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있도록 하면서도 제조 공정을 단순화시킬 수 있어 대량 생산이 용이한 디스플레이용 방열장치 제조방법을 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a heat dissipation device for a display that can be easily mass-produced by simplifying the manufacturing process while minimizing the thickness of the heat sink portion so that the overall thickness of the flat panel display device can be slimmed down. there is.

상기와 같은 목적들을 달성하기 위한 본 발명은,The present invention for achieving the above objects,

중앙처리장치 접촉부 및 EMI 개스킷 접촉부를 포함하는 평판 형상의 히트싱크부와, 상기 히트싱크부에 연결 설치되는 방열 플레이트를 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법에 있어서, 알루미늄 판재를 이용한 프레스 가공에 의해 히트싱크부를 형성시키는 히트싱크부 제조단계와, 상기 히트싱크부와 방열 플레이트의 사이에 솔더링에 의해 히트파이프를 접합시키는 접합단계 및 접합된 히트싱크부, 히트파이프 및 방열 플레이트의 상면에 페인팅 작업을 수행하는 페인팅 단계를 포함할 수 있다.A method for manufacturing a heat dissipation device for a display including a flat heat sink including a central processing unit contact portion and an EMI gasket contact portion, and a heat dissipation plate connected to the heat sink portion, by press processing using an aluminum plate A heat sink part manufacturing step of forming a heat sink part, a bonding step of bonding a heat pipe between the heat sink part and the heat radiation plate by soldering, and a painting operation on the upper surface of the bonded heat sink part, the heat pipe and the heat radiation plate It may include a painting step to be performed.

이때, 상기 히트싱크부 제조단계는, 전단 가공을 통해 알루미늄 판재를 원하는 형상으로 절단한 후, 굽힘 가공 및 펀칭 가공을 통해 상기 중앙처리장치 접촉부를 형성시키는 중앙처리장치 접촉부 형성단계와, 드로잉 가공을 통해 상기 EMI 개스킷 접촉부를 형성시키는 EMI 개스킷 접촉부 형성단계를 포함할 수 있다.At this time, in the heat sink part manufacturing step, after cutting the aluminum plate into a desired shape through shear processing, the central processing unit contact part forming step of forming the central processing unit contact part through bending and punching processing, and drawing process and forming the EMI gasket contact portion through the EMI gasket contact portion.

또한, 상기 EMI 개스킷 접촉부 형성단계는, 드로잉 가공에 의해 중앙처리장치 접촉부 상의 EMI 개스킷 접촉부를 형성시키고자 하는 위치에 돌출부를 형성시키는 제2드로잉 단계를 포함할 수 있다.Also, the forming of the EMI gasket contact portion may include a second drawing step of forming a protrusion at a location where the EMI gasket contact portion is to be formed on the central processing unit contact portion by drawing.

그리고, 상기 페인팅 단계 이후 제2드로잉 단계에서 형성된 돌출부를 제거하여 EMI 개스킷의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1관통공을 형성시키는 컷오프 가공단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include a cut-off processing step of forming a first through hole into which an upper end of the EMI gasket is inserted by removing the protrusion formed in the second drawing step after the painting step.

또한, 상기 제1관통공은 상기 EMI 개스킷의 크기와 동일한 크기로 형성되어 EMI 개스킷의 상부 측면이 제1관통공의 내주면과 접촉되어 측면 접지를 통한 전자파의 그라운드 접지가 가능할 수 있다.In addition, the first through-hole may be formed to have the same size as the EMI gasket so that an upper side surface of the EMI gasket is in contact with an inner circumferential surface of the first through-hole, so that electromagnetic waves may be grounded through side grounding.

또한, 상기 EMI 개스킷의 상면은 히트싱크부의 상면과 동일한 높이에 위치할 수 있다.Also, an upper surface of the EMI gasket may be positioned at the same level as an upper surface of the heat sink unit.

본 발명에 따르면, 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 제조할 수 있어 생산원가를 절감시킬 수 있는 뛰어난 효과를 갖는다.According to the present invention, a heat dissipation device provided in a flat panel display device can be manufactured only by press processing, which is relatively inexpensive in processing cost, and thus has an excellent effect of reducing production cost.

또한, 본 발명에 따르면 히트싱크부의 두께를 최소화시킬 수 있어 전체적인 평판 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있는 효과를 추가로 갖는다.In addition, according to the present invention, the thickness of the heat sink can be minimized, thereby further reducing the overall thickness of the flat panel display device.

또한, 본 발명에 따르면 제조 공정의 단순화를 통해 대량 생산이 용이하도록 하면서도 불량률을 감소시킬 수 있는 효과를 추가로 갖는다.In addition, according to the present invention, mass production is facilitated through simplification of the manufacturing process, while also having an effect of reducing the defect rate.

도 1은 평판 디스플레이에 사용되는 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명에 의해 제조되는 디스플레이용 방열장치를 나타낸 도면.
도 3의 (a),(b)는 도 2에 나타낸 디스플레이용 방열장치 중 히트싱크부를 나타낸 상부 및 하부 사시도.
도 4의 (a),(b)는 도 3에 나타낸 히트싱크부를 종래의 히트싱크부와 비교하여 나타낸 측단면도.
도 5는 도 2에 나타낸 방열장치 중 푸쉬핀 결합부에 결합되는 푸쉬핀의 일실시예를 나타낸 도면.
도 6은 본 발명에 따른 디스플레이용 방열장치 제조방법을 순차적으로 나타낸 흐름도.
도 7의 (a) ~ (c)는 도 6에 나타낸 본 발명 중 푸쉬핀 결합부 형성단계를 개략적으로 나타낸 도면.
도 8의 (a) ~ (c)는 도 6에 나타낸 본 발명 중 EMI 개스킷 접촉부 형성단계 및 컷오프 가공단계를 개략적으로 나타낸 도면.
1 is a diagram showing a printed circuit board used in a flat panel display.
Figure 2 is a view showing a heat dissipation device for a display manufactured by the present invention.
3 (a) and (b) are upper and lower perspective views illustrating a heat sink part of the heat dissipation device for a display shown in FIG. 2 .
Figure 4 (a), (b) is a cross-sectional side view showing the heat sink portion shown in Figure 3 compared to the conventional heat sink portion.
5 is a view showing an embodiment of a push pin coupled to a push pin coupling part of the heat dissipation device shown in FIG. 2;
6 is a flow chart sequentially showing a method for manufacturing a heat dissipation device for a display according to the present invention.
Figures 7 (a) ~ (c) is a view schematically showing the step of forming the push pin coupling part of the present invention shown in Figure 6.
8(a) to (c) are diagrams schematically showing the EMI gasket contact forming step and the cutoff processing step of the present invention shown in FIG. 6;

이하, 첨부된 도면들을 참고로 하여 본 발명에 따른 디스플레이용 방열장치 제조방법의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of a method for manufacturing a heat dissipation device for a display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 평판 디스플레이에 사용되는 인쇄회로기판을 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명에 의해 제조되는 디스플레이용 방열장치를 나타낸 도면이며, 도 3의 (a),(b)는 도 2에 나타낸 디스플레이용 방열장치 중 히트싱크부를 나타낸 상부 및 하부 사시도이고, 도 4의 (a),(b)는 도 3에 나타낸 히트싱크부를 종래의 히트싱크부와 비교하여 나타낸 측단면도이며, 도 5는 도 2에 나타낸 방열장치 중 푸쉬핀 결합부에 결합되는 푸쉬핀의 일실시예를 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 디스플레이용 방열장치 제조방법을 순차적으로 나타낸 흐름도이며, 도 7의 (a) ~ (c)는 도 6에 나타낸 본 발명 중 푸쉬핀 결합부 형성단계를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 8의 (a) ~ (c)는 도 6에 나타낸 본 발명 중 EMI 개스킷 접촉부 형성단계 및 컷오프 가공단계를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view showing a printed circuit board used in a flat panel display, FIG. 2 is a view showing a heat dissipation device for a display manufactured according to the present invention, and FIG. 3 (a) and (b) are the display shown in FIG. It is an upper and lower perspective view showing a heat sink part of a heat dissipation device for use, and FIG. 4 (a) and (b) are side cross-sectional views showing the heat sink part shown in FIG. 3 in comparison with a conventional heat sink part, and FIG. 5 is FIG. 2 It is a view showing an embodiment of a push pin coupled to a push pin coupling part among heat dissipation devices shown in , and FIG. 6 is a flowchart sequentially showing a method of manufacturing a heat dissipation device for a display according to the present invention, and FIG. 7 (a) to (c) is a diagram schematically showing the step of forming the push pin coupling part of the present invention shown in FIG. 6, and (a) to (c) of FIG. 8 are the step of forming the EMI gasket contact part and cutoff processing of the present invention shown in FIG. It is a schematic diagram showing the steps.

본 발명은 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 제조가 가능하도록 하면서도 제조 공정을 단순화시킬 수 있어 대량 생산이 용이하도록 함과 동시에 생산원가를 절감시킬 수 있고, 방열장치의 두께를 최소화시킴으로써 전체적인 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있도록 하는 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것으로, 이하에서 설명되는 본 발명에 의해 제조되는 디스플레이용 방열장치는 여러 산업분야에서 사용되고 있는 각종 디스플레이 장치에 적용이 가능하지만, 본 발명의 해결하고자 하는 과제와 가장 관련성이 깊은 평판형 디스플레이에 사용되는 방열장치(1)를 대상으로 하여 설명하기로 한다. The present invention makes it possible to manufacture a heat dissipation device provided in a flat panel display device only by press processing at a relatively low processing cost, while simplifying the manufacturing process, thereby facilitating mass production and reducing production cost. It relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display capable of slimming the thickness of the entire display device by minimizing the thickness of the display, and the heat dissipation device for a display manufactured by the present invention described below is various display devices used in various industrial fields. However, the heat dissipation device 1 used in the flat panel display, which is most related to the problem to be solved by the present invention, will be described.

본 발명에 의해 제조되는 디스플레이용 방열장치(1)(이하, '방열장치(1)'라 한다) 및 상기 방열장치(1)가 적용될 수 있는 평판형 디스플레이 장치의 구조를 간략히 설명하면, 먼저 상기 평판형 디스플레이 장치에는 도 1에 나타낸 바와 같이, 중앙처리장치(CPU)(12), 푸쉬핀 결속구(14) 및 EMI 개스킷(16) 등이 구비된 인쇄회로기판(10)이 구비된다.Briefly explaining the structure of a heat dissipation device 1 for a display manufactured according to the present invention (hereinafter referred to as 'the heat dissipation device 1') and a flat panel display device to which the heat dissipation device 1 can be applied, first, the As shown in FIG. 1, the flat panel display device includes a printed circuit board 10 equipped with a central processing unit (CPU) 12, a push pin binding member 14, and an EMI gasket 16.

상기 방열장치(1)는 상기 인쇄회로기판(10)의 상부에 결합되어 인쇄회로기판(10), 즉 주로 중앙처리장치(12)에서 발생되는 열을 외부로 방열시키는 역할을 하는 것으로, 그 주요 구성은 도 2에 나타낸 바와 같이, 히트싱크부(100), 연결부(200) 및 방열 플레이트(300)를 포함할 수 있다.The heat dissipation device 1 is coupled to the upper portion of the printed circuit board 10 to serve to dissipate heat generated in the printed circuit board 10, that is, mainly the central processing unit 12, to the outside. As shown in FIG. 2 , the configuration may include a heat sink unit 100 , a connection unit 200 and a heat dissipation plate 300 .

먼저, 상기 히트싱크부(100)는 전기 전도성 재질로 이루어지는 푸쉬핀(20)에 의해 인쇄회로기판(10)의 상부에 결속되어 인쇄회로기판(10)에 구비된 중앙처리장치(12) 등에서 발생되는 열을 전도에 의해 방열시키는 구성으로, 알루미늄 등의 금속재질로 이루어질 수 있다.First, the heat sink unit 100 is bound to the upper part of the printed circuit board 10 by the push pin 20 made of an electrically conductive material, and is generated in the central processing unit 12 provided in the printed circuit board 10. It is configured to dissipate heat by conduction, and may be made of a metal material such as aluminum.

상기 히트싱크부(100)는 디스플레이 장치의 두께 증가를 최소화하기 위해 주로 평판 형상으로 이루어지는데, 상기 히트싱크부(100)에는 인쇄회로기판(10)의 중앙처리장치(12)와 접촉되는 중앙처리장치 접촉부(110)와, 푸쉬핀(20)이 삽입 결합되는 푸쉬핀 결합부(120) 및 인쇄회로기판(10)의 EMI 개스킷(16)과 접촉되는 EMI 개스킷 접촉부(130)가 구비될 수 있다.The heat sink unit 100 is mainly formed in a flat plate shape in order to minimize the increase in the thickness of the display device. The device contact portion 110, the push pin coupling portion 120 into which the push pin 20 is inserted and coupled, and the EMI gasket contact portion 130 in contact with the EMI gasket 16 of the printed circuit board 10 may be provided. .

보다 상세히 설명하면, 먼저 상기 EMI 개스킷 접촉부(130)는 인쇄회로기판(10)에 구비된 다수의 EMI 개스킷(16)과 각각 접촉되어 전자부품에서 발생하는 전자파를 디스플레이 장치 외부로 그라운드 접지시키는 역할을 하는 것으로, 상기 EMI 개스킷 접촉부(130)에는 EMI 개스킷(16)의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1삽입홈(132)이 형성될 수 있다.More specifically, first, the EMI gasket contact portion 130 contacts a plurality of EMI gaskets 16 provided on the printed circuit board 10, respectively, and serves to ground electromagnetic waves generated from electronic components to the outside of the display device. Thus, a first insertion groove 132 into which an upper end of the EMI gasket 16 is inserted into the EMI gasket contact portion 130 may be formed.

즉, 종래의 경우 도 4의 (a)에 나타낸 바와 같이, 히트싱크부(100)의 하면이 EMI 개스킷(16)의 상단부와 단순 접촉되도록 구성되어 있음에 비해, 본 발명에 의해 제조되는 방열장치(1)는 도 4의 (b)에 나타낸 바와 같이, 상기 EMI 개스킷 접촉부(130)에 EMI 개스킷(16)의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1삽입홈(132)이 형성됨으로써 제1삽입홈(132)의 높이에 해당하는 만큼의 히트싱크부(100) 두께를 줄일 수 있다.That is, in the conventional case, as shown in (a) of FIG. 4, the lower surface of the heat sink part 100 is configured to simply contact the upper part of the EMI gasket 16, whereas the heat dissipation device manufactured by the present invention (1), as shown in (b) of FIG. 4, the first insertion groove 132 into which the upper end of the EMI gasket 16 is inserted is formed in the EMI gasket contact portion 130, so that the first insertion groove ( The thickness of the heat sink unit 100 may be reduced by an amount corresponding to the height of 132).

상기와 같이 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1삽입홈(132)을 형성시키는 경우 EMI 개스킷(16)과 EMI 개스킷 접촉부(130), 즉 제1삽입홈(132) 사이의 접촉 면적이 증가되므로 전자파의 그라운드 접지 효율이 향상될 수 있다.As described above, when the first insertion groove 132 is formed by the EMI gasket contact portion 130, the contact area between the EMI gasket 16 and the EMI gasket contact portion 130, that is, the first insertion groove 132 is increased, so that the electromagnetic wave Ground grounding efficiency of can be improved.

한편, 상기 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1관통공(134)이 형성될 수도 있는데, 상기 제1관통공(134)은 EMI 개스킷(16)의 크기와 동일한 크기로 형성되어 EMI 개스킷(16)의 상부 측면이 제1관통공(134)의 내주면, 즉 측면과 접촉될 수 있도록 구성될 수 있다.Meanwhile, a first through hole 134 may be formed as the EMI gasket contact portion 130. The first through hole 134 is formed to have the same size as that of the EMI gasket 16 so as to The upper side of the first through hole 134 of the inner circumferential surface, that is, may be configured to be in contact with the side.

이때, 상기 EMI 개스킷(16)의 상면은 히트싱크부(100)의 상면과 동일한 높이 또는 그 보다 낮은 높이에 위치될 수 있으며, EMI 개스킷(16)의 측면 접지만으로도 전자파의 그라운드 접지 효과를 보일 수 있으므로, 상기와 같이 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1관통공(134)을 사용하는 경우 종래에 비해 최대 히트싱크부(100)의 두께 만큼의 슬림화 효과를 보일 수 있게 된다.At this time, the upper surface of the EMI gasket 16 may be located at the same height as or lower than the upper surface of the heat sink unit 100, and the ground grounding effect of electromagnetic waves may be shown only by grounding the side of the EMI gasket 16. Therefore, when the first through hole 134 is used as the EMI gasket contact portion 130 as described above, a slimming effect corresponding to the maximum thickness of the heat sink portion 100 can be shown compared to the prior art.

또한, 상기 EMI 개스킷(16)의 설치 위치에 따라 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1삽입홈(132)과 제1관통공(134)을 선택적으로 사용할 수도 있다.In addition, the first insertion groove 132 and the first through hole 134 may be selectively used as the EMI gasket contact portion 130 according to the installation position of the EMI gasket 16 .

다음, 상기 중앙처리장치 접촉부(110)는 인쇄회로기판(10)에 구비되는 중앙처리장치(12)와 접촉되어 중앙처리장치(12)로부터 발생되는 열을 방열시키는 역할을 하는 것으로, 종래의 히트싱크부와 마찬가지로 중앙처리장치(12)의 상면과 접촉되도록 함몰 형성될 수도 있으나, 히트싱크부(100)의 슬림화를 위해 주변의 높이와 동일하거나, 도 3의 (a) 및 도 4의 (b)에서 확인할 수 있는 바와 같이, 절곡부(114)에 의해 상향 절곡되는 구조로 형성시킬 수 있다.Next, the central processing unit contact portion 110 is in contact with the central processing unit 12 provided on the printed circuit board 10 to serve to dissipate heat generated from the central processing unit 12, and conventional heat Like the sink unit, it may be recessed to come into contact with the upper surface of the central processing unit 12, but in order to slim down the heat sink unit 100, the heat sink unit 100 has the same height as the surrounding area, or the height of FIGS. 3(a) and 4(b) As can be seen in ), it can be formed in a structure that is bent upward by the bending portion 114.

보다 상세히 설명하면, 상기 중앙처리장치 접촉부(110)는 절곡부(114)에 의해 주변의 히트싱크부(100)에 비해 상부로 돌출된 형태로 이루어질 수 있는데, 인쇄회로기판(10)에 구비되는 중앙처리장치(12)의 높이는 일정하고, 중앙처리장치 접촉부(110)의 하면은 중앙처리장치(12)의 상면과 접촉되어야 하는 구성이므로, 중앙처리장치 접촉부(110)를 제외한 나머지 부분의 히트싱크부(100)가 중앙처리장치 접촉부(110)에 비해 낮은 높이로 형성되는 것이고, 그에 따라 상기와 같이 중앙처리장치 접촉부(110)가 주변에 비해 돌출된 형상으로 형성된다 하더라도 전체적인 인쇄회로기판(10)과 히트싱크부(100) 결합체의 높이, 즉 두께가 두꺼워지는 것을 의미하는 것은 아니다.In more detail, the central processing unit contact portion 110 may be formed in a form protruding upward compared to the heat sink portion 100 around it by the bent portion 114, which is provided on the printed circuit board 10. Since the height of the central processing unit 12 is constant and the lower surface of the central processing unit contact portion 110 must be in contact with the upper surface of the central processing unit 12, the heat sink of the remaining portion except for the central processing unit contact portion 110 The portion 100 is formed at a lower height than the central processing unit contact portion 110, and accordingly, even if the central processing unit contact portion 110 is formed in a protruding shape compared to the surrounding area as described above, the entire printed circuit board 10 ) and the heat sink unit 100 does not mean that the height, that is, the thickness of the combination body becomes thick.

이때, 상기 중앙처리장치 접촉부(110)에는 제2관통공(112)이 형성될 수 있는데, 상기 제2관통공(112)에는 인쇄회로기판(10)의 중앙처리장치(12) 상면에 접촉되는 구리 재질의 방열판이 결합될 수 있다.At this time, a second through hole 112 may be formed in the central processing unit contact portion 110, and the second through hole 112 is in contact with the upper surface of the central processing unit 12 of the printed circuit board 10. A heat sink made of copper may be coupled.

보다 상세히 설명하면, 통상적인 히트싱크부의 재질로 사용되는 알루미늄에 비해 열전도성이 우수한 구리 재질의 방열판을 결합시킴으로써 방열 효율을 향상시킬 수 있도록 구성된 것이다. 이때, 상기 방열판에는 후술할 연결부(200)가 연결 설치될 수 있으며, 상기 연결부(200) 또한 구리 재질로 이루어질 수 있다.In more detail, it is configured to improve heat dissipation efficiency by combining a heat sink made of copper having excellent thermal conductivity compared to aluminum used as a material for a heat sink part. At this time, a connection part 200 to be described later may be connected and installed to the heat sink, and the connection part 200 may also be made of a copper material.

또한, 상기 제2관통공(112)의 크기를 중앙처리장치(12)의 상단 돌출부의 크기와 동일하게 형성하고, 상기 방열판의 두께를 히트싱크부(100)의 두께에 비해 얇게 형성하여 방열판의 상면이 히트싱크부(100)의 상면과 일체가 되도록 결합시킬 수도 있는데, 이러한 경우 히트싱크부(100)의 하면과 방열판의 하면 사이에는 단차가 형성되어 중앙처리장치(12)의 상단부 일부가 제2관통공(112)의 내측으로 삽입될 수도 있다.In addition, the size of the second through hole 112 is formed to be the same as the size of the top protrusion of the central processing unit 12, and the thickness of the heat sink is made thinner than that of the heat sink unit 100, so that the heat dissipation plate The upper surface may be integrally combined with the upper surface of the heat sink unit 100. In this case, a step is formed between the lower surface of the heat sink unit 100 and the lower surface of the heat dissipation plate, so that a part of the upper end of the central processing unit 12 is removed. It may be inserted into the inside of the two through holes 112.

즉, 도 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 통상적으로 평판 디스플레이 장치에 사용되는 중앙처리장치(12)는 상단부가 2단 구조로 이루어지는데, 상기 제2관통공(112)의 크기를 중앙처리장치(12)의 상단 돌출부의 크기와 동일하게 형성시키고, 그 내측에 결합되는 구리 재질의 방열판을 히트싱크부(100)의 상면과 일체가 되도록 하여 히트싱크부(100)의 두께 보다 얇게 형성시킬 경우, 2단 구조로 이루어진 중앙처리장치(12) 상단부 일부가 제2관통공(112)의 내측으로 삽입되어 전체적인 히트싱크부(100)와 인쇄회로기판(10) 결합체의 두께를 줄일 수 있게 된다.That is, as can be seen in FIG. 1, the central processing unit 12 generally used in flat panel display devices has a two-stage structure at the upper end, and the size of the second through hole 112 is the central processing unit ( When formed to have the same size as the top protrusion of 12) and to make the heat sink made of copper coupled to the inside thereof integral with the upper surface of the heat sink unit 100 to be thinner than the thickness of the heat sink unit 100, A part of the upper end of the two-stage central processing unit 12 is inserted into the second through hole 112 to reduce the overall thickness of the combination of the heat sink 100 and the printed circuit board 10 .

한편, 상기와 같이 중앙처리장치 접촉부(110)가 절곡부(114)에 의해 주변 보다 높게 형성되는 경우, 해당 부분, 즉 주변 보다 높게 형성된 히트싱크부(100)에 위치되는 EMI 개스킷 접촉부(130)는 제1관통공(134)으로 형성시키고, 상대적으로 낮은 위치에 위치되는 EMI 개스킷 접촉부(130)로는 제1삽입홈(132)을 형성시킬 수도 있는데, 이는 히트싱크부(100)의 전체적인 두께 증가를 최소화함과 동시에 본 발명에 따른 방열장치(1)의 결합 작업, 즉 인쇄회로기판(10) 상부에 방열장치(1)를 결합시키는 작업을 보다 용이하게 하기 위함이다.Meanwhile, as described above, when the central processing unit contact portion 110 is formed higher than the surrounding area by the bent portion 114, the EMI gasket contact portion 130 positioned at the corresponding portion, that is, the heat sink portion 100 formed higher than the surrounding area is formed as the first through hole 134, and the first insertion groove 132 may be formed as the EMI gasket contact portion 130 located at a relatively low position, which increases the overall thickness of the heat sink portion 100. This is to minimize and at the same time facilitate the coupling operation of the heat dissipation device 1 according to the present invention, that is, the operation of coupling the heat dissipation device 1 to the top of the printed circuit board 10.

즉, 후술하겠지만 본 발명에 의하면 방열장치(1)의 히트싱크부(100)를 프레스 가공만으로 제조할 수 있는데, 프레스 가공에 의해 제1삽입홈(132)을 형성시키는 경우 가압력에 의해 제1삽입홈(132)의 반대쪽 면, 즉 히트싱크부(100)의 상면이 상대적으로 돌출될 수 밖에 없다.That is, as will be described later, according to the present invention, the heat sink unit 100 of the heat dissipation device 1 can be manufactured only by press working. When the first insertion groove 132 is formed by press working, the first insertion is performed by pressing force. The opposite surface of the groove 132, that is, the upper surface of the heat sink unit 100 is inevitably relatively protruded.

상대적으로 낮은 위치에 위치되는 히트싱크부(100)에는 제1삽입홈(132)을 형성하여 해당 부분의 히트싱크부(100) 상면이 상부로 돌출되더라도 상대적으로 높은 위치에 위치되는 중앙처리장치 접촉부(110)에 의해 전체적인 히트싱크부(100)의 두께 증가가 발생되지 않지만, 주변 보다 높게 형성된 중앙처리장치 접촉부(110)에 인접한 히트싱크부(100)에 위치되는 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1삽입홈(132)을 형성시키는 경우에는 전체적인 히트싱크부(100)의 두께 증가가 발생될 수 밖에 없으므로, 주변 보다 높게 형성된 히트싱크부(100)에 위치되는 EMI 개스킷 접촉부(130)에는 프레스 가공시에도 두께 증가가 발생되지 않는 제1관통공(134)을 형성시키는 것이 바람직하다.The first insertion groove 132 is formed in the heat sink unit 100 located at a relatively low position, so that even if the upper surface of the heat sink unit 100 protrudes upward, the central processing unit contact unit is located at a relatively high position. Although the overall thickness of the heat sink portion 100 is not increased by 110, it is limited by the EMI gasket contact portion 130 located on the heat sink portion 100 adjacent to the central processing unit contact portion 110 formed higher than the surrounding area. 1 When the insertion groove 132 is formed, the overall thickness of the heat sink portion 100 inevitably increases, so the EMI gasket contact portion 130 located on the heat sink portion 100 formed higher than the surrounding area is press-worked. It is preferable to form the first through hole 134 in which the thickness does not increase even when the thickness is increased.

또한, 상기 히트싱크부(100)에 존재하는 모든 EMI 개스킷 접촉부(130)를 제1관통공(134)으로 형성시키는 경우에는 가공 오차 등의 이유로 하여 히트싱크부(100)를 인쇄회로기판(10)에 결합시키는 작업이 어려워질 수 있으므로 제1삽입홈(132)을 형성시키는 경우에도 전체적인 히트싱크부(100)의 두께 증가가 발생되지 않는 위치의 EMI 개스킷 접촉부(130)로는 제1관통공(134) 보다는 제1삽입홈(132)을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.In addition, when all the EMI gasket contact portions 130 existing in the heat sink portion 100 are formed as the first through holes 134, the heat sink portion 100 is formed on the printed circuit board 10 due to processing errors and the like. Since it may be difficult to combine the first through hole 132 into the first through hole ( 134), it may be preferable to use the first insertion groove 132.

이때, 도시하지는 않았지만, 인쇄회로기판(10)에 구비되는 EMI 개스킷(16)의 높이에 따라 상기 중앙처리장치 접촉부(110)가 형성되는 부분이 상대적으로 낮은 높이에 위치되도록 함몰 형성될 수도 있는데, 이러한 경우에는 반대로 상대적으로 낮은 높이에 위치되는 중앙처리장치 접촉부(110)에 인접한 EMI 개스킷 접촉부(130)로 제1삽입홈(132)을 형성시키고, 상대적으로 높은 위치에 위치되는 히트싱크부(100)에 형성되는 EMI 개스킷 접촉부(130)로는 제1관통공(134)을 형성시킬 수도 있다.At this time, although not shown, depending on the height of the EMI gasket 16 provided on the printed circuit board 10, the portion where the central processing unit contact portion 110 is formed may be recessed to be located at a relatively low height, In this case, on the contrary, the first insertion groove 132 is formed with the EMI gasket contact part 130 adjacent to the central processing unit contact part 110 located at a relatively low height, and the heat sink part 100 located at a relatively high position. ), the first through hole 134 may be formed as the EMI gasket contact portion 130 formed therein.

다음, 상기 푸쉬핀 결합부(120)는 히트싱크부(100)를 인쇄회로기판(10)에 결속시키기 위한 푸쉬핀(20)을 고정 설치하기 위한 구성으로, 상기 푸쉬핀 결합부(120)는 도 3의 (a)에 나타낸 바와 같이, 오목하게 함몰된 형태로 형성될 수 있다.Next, the push pin coupling part 120 is configured to fix and install the push pin 20 for binding the heat sink part 100 to the printed circuit board 10, and the push pin coupling part 120 As shown in (a) of Figure 3, it may be formed in a concave recessed form.

먼저, 상기 푸쉬핀(20)은 스프링(26)을 매개로 하여 푸쉬핀 결합부(120)에 설치되는 것으로, 도 5에 나타낸 바와 같이, 가압부(22)와 헤드부(24)를 포함할 수 있다.First, the push pin 20 is installed on the push pin coupling part 120 via the spring 26, and as shown in FIG. 5, it will include a pressing part 22 and a head part 24. can

상기 헤드부(24)는 인쇄회로기판(10)에 구비된 푸쉬핀 결속구(14) 내측으로 삽입되어 히트싱크부(100)가 인쇄회로기판(10)에 고정 설치될 수 있도록 하는 것이고, 상기 가압부(22)는 헤드부(24)가 상기 푸쉬핀 결속구(14) 내측으로 삽입 결합될 수 있도록 가압하기 위한 구성으로. 이와 같은 푸쉬핀(20)의 세부 구성은 이미 공지된 것이고 본 발명에서 청구하고자 하는 바가 아니므로 이에 대한 상세한 작용관계 설명은 생략하기로 한다.The head part 24 is inserted into the push pin binding hole 14 provided on the printed circuit board 10 so that the heat sink part 100 can be fixedly installed on the printed circuit board 10. The pressing portion 22 is configured to press the head portion 24 so that it can be inserted and coupled into the push pin binding member 14. Since the detailed configuration of the push pin 20 is already known and is not intended to be claimed in the present invention, a detailed description of the working relationship thereof will be omitted.

그리고, 상기 푸쉬핀 결합부(120)는 제2삽입홈(122) 및 제3관통공(124)을 포함할 수 있는데, 상기 제2삽입홈(122)은 푸쉬핀(20)의 가압부(22)가 내측으로 삽입되어 지지될 수 있도록 하는 역할을 하는 것이고, 상기 제3관통공(124)은 제2삽입홈(122)의 중심부에 형성되어 푸쉬핀(20)의 헤드부(24)가 통과되어 인쇄회로기판(10)의 푸쉬핀 결속구(14)에 결합될 수 있도록 하는 구성이다.Further, the push pin coupling part 120 may include a second insertion groove 122 and a third through hole 124, and the second insertion groove 122 is a pressing part of the push pin 20 ( 22) serves to be inserted into the inside and supported, and the third through hole 124 is formed in the center of the second insertion groove 122 so that the head portion 24 of the push pin 20 It is configured to pass through and be coupled to the push pin binding sphere 14 of the printed circuit board 10.

상기 제2삽입홈(122) 또한 인쇄회로기판(10)과 히트싱크부(100) 결합체의 슬림화를 위한 구성으로, 전술한 EMI 개스킷 접촉부(130)의 제1삽입홈(132)과 마찬가지로 제2삽입홈(122)이 형성되지 않은 경우에 비해 제2삽입홈(122)의 두께 만큼의 슬림화 효과를 보일 수 있다.The second insertion groove 122 is also a configuration for slimming the combination of the printed circuit board 10 and the heat sink part 100, and like the first insertion groove 132 of the EMI gasket contact part 130 described above, the second insertion groove 122 Compared to the case where the insertion groove 122 is not formed, a slimming effect corresponding to the thickness of the second insertion groove 122 may be exhibited.

다음, 상기 연결부(200)는 히트싱크부(100)와 방열 플레이트(300)의 사이에 연결 설치되어 인쇄회로기판(10)으로부터 히트싱크부(100)로 전도되는 열을 방열 플레이트(300)로 전달하는 역할을 하는 것으로, 구리 재질로 이루어지는 통상의 히트파이프(200)로 구성될 수 있다.Next, the connection part 200 is connected and installed between the heat sink part 100 and the heat dissipation plate 300 to transfer heat conducted from the printed circuit board 10 to the heat sink part 100 to the heat dissipation plate 300. It serves to transmit, and may be composed of a conventional heat pipe 200 made of copper.

다음, 상기 방열 플레이트(300)는 연결부, 즉 히트파이프(200)에 의해 히트싱크부(100)에 연결 설치되어 인쇄회로기판(10)으로부터 히트싱크부(100)로 전도되는 열을 방열시키는 역할을 하는 것으로, 알루미늄을 포함하는 금속재질로 이루어지는 통상의 방열핀이 구비될 수 있다.Next, the heat dissipation plate 300 serves to dissipate heat conducted from the printed circuit board 10 to the heat sink unit 100 by being connected to the heat sink unit 100 by the connection unit, that is, the heat pipe 200. By doing, a conventional heat dissipation fin made of a metal material containing aluminum can be provided.

이하에서는, 첨부된 도면을 참고로 하여 전술한 바와 같은 구성을 포함하는 방열장치(1)의 제조방법에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a method of manufacturing the heat dissipation device 1 including the configuration described above will be described in detail.

본 발명에 따른 방열장치 제조방법은 도 6에 나타낸 바와 같이, 크게 히트싱크부 제조단계(S10), 접합단계(S20) 및 페인팅 단계(S30)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 6 , the manufacturing method of the heat dissipation device according to the present invention may largely include a heat sink part manufacturing step (S10), a bonding step (S20), and a painting step (S30).

먼저 상기 히트싱크부 제조단계(S10)는 전술한 방열장치(1) 중 히트싱크부(100)를 제조하기 위한 과정으로, 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 히트싱크부(100)를 제조할 수 있도록 함으로써 주로 다이캐스팅(Die casting)에 의해 히트싱크부(100)를 제조하던 종래에 비해 제조 비용을 저감시킬 수 있도록 한 것에 특징이 있다.First, the heat sink part manufacturing step (S10) is a process for manufacturing the heat sink part 100 of the heat dissipation device 1 described above, and the heat sink part 100 can be manufactured only by press processing with relatively low processing cost. It is characterized in that the manufacturing cost can be reduced compared to the prior art in which the heat sink unit 100 was mainly manufactured by die casting.

즉, 프레스 가공의 경우 가공 비용은 비교적 저렴하지만 복잡한 형상의 가공이 어렵다는 단점이 있고, 다이캐스팅의 경우 복잡한 형상의 가공이 가능하지만 제조비용이 프레스 가공에 비해 상대적으로 높다는 단점이 있는데, 상기 히트싱크부(100)의 경우, 슬림화를 위해서는 EMI 개스킷 접촉부(130) 등에 홈 또는 홀의 가공이 필수적으로 수반되어야 하고, 특히 제2삽입홈(122)과 제3관통공(124)이 동시에 요구되는 히트싱크부(100)의 푸쉬핀 결합부(120)의 경우 프레스 가공만으로는 제조가 어려워 제조 원가가 높더라도 다이캐스팅 방식을 사용하는 것이 일반적이었으나, 본 발명에서는 프레스 가공 만으로 상기와 같은 구성의 푸쉬핀 결합부(120) 및 EMI 개스킷 접촉부(130)를 포함하는 히트싱크부(100)를 제조할 수 있도록 한 것에 그 특징이 있다.That is, in the case of press working, the processing cost is relatively low, but there is a disadvantage in that processing of complex shapes is difficult, and in the case of die casting, processing of complex shapes is possible, but the manufacturing cost is relatively high compared to press processing. In the case of (100), in order to slim down, processing of grooves or holes in the EMI gasket contact portion 130 must be necessarily accompanied, and in particular, the heat sink portion requiring the second insertion groove 122 and the third through hole 124 at the same time. In the case of the push pin coupling part 120 of (100), it is difficult to manufacture only by press working and it is common to use a die casting method even if the manufacturing cost is high. However, in the present invention, the push pin coupling part 120 ) and the heat sink unit 100 including the EMI gasket contact unit 130 can be manufactured.

보다 상세히 설명하면, 상기 히트싱크부 제조단계(S10)는 중앙처리장치 접촉부 형성단계(S12), 푸쉬핀 결합부 형성단계(S14) 및 EMI 개스킷 접촉부 형성단계(S16)를 포함할 수 있는데, 상기 중앙처리장치 접촉부 형성단계(S12)는 중앙처리장치(12)와 접촉되어 중앙처리장치(12)로부터 발생되는 열을 방열시키는 중앙처리장치 접촉부(110)를 형성시키기 위한 과정으로, 프레스를 이용한 전단 가공, 펀칭 가공 및 굽힘 가공(bending)이 활용될 수 있다.In more detail, the heat sink part manufacturing step (S10) may include a central processing unit contact part forming step (S12), a push pin coupling part forming step (S14), and an EMI gasket contact part forming step (S16). The central processing unit contact unit forming step (S12) is a process for forming the central processing unit contact unit 110 that contacts the central processing unit 12 and dissipates heat generated from the central processing unit 12, and shears using a press. Machining, punching and bending may be utilized.

즉, 상기 전단 가공은 히트싱크부(100)의 외형을 형성시키기 위한 과정으로, 평판 형상의 알루미늄 판재를 블랭킹(blanking) 가공, 노칭(Notching) 가공 등의 방법에 의해 원하는 형상으로 절단하여 히트싱크부(100)의 외형을 형성시킨다.That is, the shear processing is a process for forming the outer shape of the heat sink unit 100, and the heat sink is cut into a desired shape by a method such as blanking processing or notching processing. The outer shape of the part 100 is formed.

다음, 상기 펀칭 가공은 원하는 형상으로 절단된 알루미늄 판재에 제2관통공(112)을 형성시키기 위한 과정으로, 상기 제2관통공(112)은 인쇄회로기판(10)의 중앙처리장치(12)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다.Next, the punching process is a process for forming a second through hole 112 in an aluminum plate cut into a desired shape, and the second through hole 112 is the central processing unit 12 of the printed circuit board 10 It may be formed at a position corresponding to.

이때, 전술한 바와 같이 상기 제2관통공(112)에는 구리 재질의 방열판이 결합될 수 있으며, 상기 제2관통공(112)의 크기는 중앙처리장치(12)의 상단 돌출부의 크기와 동일하게 형성될 수 있다.At this time, as described above, a heat sink made of copper may be coupled to the second through hole 112, and the size of the second through hole 112 is the same as the size of the upper protrusion of the central processing unit 12. can be formed

그리고, 상기 굽힘 가공은 평판 형상의 알루미늄 판재에 절곡부(114)를 형성시키기 위한 과정으로, 상기 절곡부(114)는 제2관통공(112)의 양측 단부에 각각 형성되어 상기 절곡부(114)에 의해 중앙처리장치 접촉부(110)가 주변의 히트싱크부(100)에 비해 상부로 돌출된 형태를 이룰 수 있게 된다.In addition, the bending process is a process for forming a bent portion 114 in a flat aluminum plate material, and the bent portion 114 is formed at both ends of the second through hole 112, respectively, so that the bent portion 114 ), the central processing unit contact portion 110 can form a shape protruding upward compared to the surrounding heat sink portion 100.

다음, 상기 푸쉬핀 결합부 형성단계(S14)는 중앙처리장치 접촉부(110)가 형성된 알루미늄 판재의 네 모서리 부분에 히트싱크부(100)를 인쇄회로기판(10)에 결속시키기 위한 푸쉬핀(20)이 결합되는 푸쉬핀 결합부(120)를 형성시키기 위한 과정으로 제1펀칭단계(S14a), 가압단계(S14b) 및 제2펀칭단계(S14c)를 포함할 수 있다.Next, the push pin coupling part forming step (S14) is a push pin 20 for binding the heat sink part 100 to the printed circuit board 10 at the four corners of the aluminum plate on which the central processing unit contact part 110 is formed. ) may include a first punching step (S14a), a pressing step (S14b) and a second punching step (S14c) as a process for forming the push pin coupling portion 120 to which is coupled.

보다 상세히 설명하면, 상기 제1펀칭단계(S14a)는 도 7의 (a)에 나타낸 바와 같이, 프레스 장치를 이용한 펀칭 가공에 의해 평판 형상의 알루미늄 판재에 푸쉬핀(20)의 직경 보다 큰 직경을 갖는 관통공을 형성시키는 과정이다.More specifically, in the first punching step (S14a), as shown in (a) of FIG. 7, a diameter greater than that of the push pin 20 is formed in a flat aluminum plate by punching using a press device. This is the process of forming a through hole with

다음, 상기 가압단계(S14b)는 상기 관통공의 직경 보다 큰 직경을 갖는 하면이 평평한 형상의 가압구를 이용하여 관통공 주변을 상부로부터 하부 방향으로 가압하는 과정으로, 이와 같은 과정에 의해 전술한 푸쉬핀 결합부(120)의 제2삽입홈(122)이 형성될 수 있다.Next, the pressing step (S14b) is a process of pressurizing the through-hole periphery from the top to the bottom using a pressurizing tool having a flat lower surface having a diameter larger than the diameter of the through-hole. A second insertion groove 122 of the push pin coupling part 120 may be formed.

즉, 도 7의 (b)에 나타낸 바와 같이, 상기 가압구에 의한 가압에 의해 소재가 하부로 밀리면서 상기 제1펀칭단계(S14a)에서 형성된 관통공의 직경이 좁아짐과 동시에 히트싱크부(100)의 하면으로부터 하방으로 돌출되는 돌출부(126)가 형성될 수 있다.That is, as shown in (b) of FIG. 7, as the material is pushed downward by the pressurization by the pressurizing tool, the diameter of the through hole formed in the first punching step (S14a) is narrowed, and at the same time, the heat sink unit 100 ) A protrusion 126 protruding downward from the lower surface may be formed.

이때, 상기 가압구의 가압력 조절에 의해 상기 돌출부(126)의 높이는 히트싱크부(100)를 구성하는 판재 두께의 1/2 이하가 되도록 하는 것이 바람직한데, 이는 상기 돌출부(126)에 의해 전체적인 히트싱크부(100)의 두께가 두꺼워지는 것을 최소화하기 위함이다.At this time, it is preferable that the height of the protruding part 126 be less than 1/2 of the thickness of the plate constituting the heat sink part 100 by adjusting the pressing force of the pressing part. This is to minimize an increase in the thickness of the portion 100.

다음, 상기 제2펀칭단계(S14c)는 가압단계(S14b)에 의해 직경이 좁아진 관통공에 프레스 장치를 이용한 펀칭 가공을 다시 한 번 실시하는 과정으로, 이와 같은 과정에 의해 푸쉬핀 결합부(120)의 제3관통공(124)이 형성될 수 있다.Next, the second punching step (S14c) is a process of once again performing punching processing using a press device on the through hole whose diameter is narrowed by the pressing step (S14b). ) of the third through hole 124 may be formed.

즉, 전술한 바와 같이, 상기 가압단계(S14b)에서의 가압구에 의한 가압에 의해 소재가 하부로 밀리면서 관통공의 직경이 좁아지므로, 상기 제2펀칭단계(S14c)에서는 푸쉬핀(20)의 직경에 대응되는 펀칭기구를 이용하여 직경이 좁아진 상태의 관통공 부분을 펀칭 가공함으로써 푸쉬핀(20)의 헤드부(24)가 통과될 수 있는 제3관통공(124)을 형성시킬 수 있다.That is, as described above, since the diameter of the through hole is narrowed while the material is pushed downward by the pressurization by the pressurizing tool in the pressing step (S14b), in the second punching step (S14c), the push pin 20 A third through hole 124 through which the head portion 24 of the push pin 20 can pass can be formed by punching the through hole portion having a narrowed diameter using a punching mechanism corresponding to the diameter of .

다음, 상기 EMI 개스킷 접촉부 형성단계(S16)는 드로잉(drawing) 가공을 통해 인쇄회로기판(10)에 구비된 다수의 EMI 개스킷(16)과 각각 접촉되어 전자부품에서 발생하는 전자파를 디스플레이 장치 외부로 그라운드 접지시킬 수 있도록 하는 EMI 개스킷 접촉부(130)를 형성시키기 위한 과정으로, 제1드로잉단계(S16a)와 제2드로잉단계(S16b)를 포함할 수 있다.Next, in the EMI gasket contact forming step (S16), the EMI gaskets 16 provided on the printed circuit board 10 are in contact with each other through a drawing process to transmit electromagnetic waves generated from electronic components to the outside of the display device. As a process for forming the EMI gasket contact portion 130 to be grounded, a first drawing step (S16a) and a second drawing step (S16b) may be included.

먼저, 상기 제1드로잉단계(S16a)는 EMI 개스킷(16)의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1삽입홈(132)을 형성시키기 위한 과정으로, 전술한 바와 같이, 상기 제1삽입홈(132)은 중앙처리장치 접촉부(110)를 제외한 부분에만 형성되어 제1삽입홈(132)에 의해 전체적인 히트싱크부(100)의 두께가 증가되지 않도록 할 수 있다.First, the first drawing step (S16a) is a process for forming the first insertion groove 132 into which the upper end of the EMI gasket 16 is inserted, and as described above, the first insertion groove 132 is formed only on the portion except for the contact portion 110 of the central processing unit, so that the overall thickness of the heat sink portion 100 is not increased by the first insertion groove 132 .

다음, 상기 제2드로잉단계(S16b)는 중앙처리장치 접촉부(110)에 위치되는 EMI 개스킷 접촉부(130)를 형성시키기 위한 과정으로, 전술한 바와 같이, 상대적으로 높은 위치에 위치되는 중앙처리 접촉부 상에 형성되는 EMI 개스킷 접촉부(130)로는 전체적인 히트싱크부(100)의 두께 증가를 방지하기 위해 제1관통공(134)을 형성시켜야 하지만, 본 단계에서 제1관통공(134)을 형성시키는 경우, 후술할 페인팅 단계(S30)에서의 페인팅에 의해 제1관통공(134)의 측면에도 흑색 도료가 도포되므로 제1관통공(134)의 측면과 EMI 개스킷(16) 사이의 접지가 이루어지지 않게 된다.Next, the second drawing step (S16b) is a process for forming the EMI gasket contact part 130 located on the central processing unit contact part 110, and as described above, on the central processing contact part located at a relatively high position. Although the first through-hole 134 should be formed in the EMI gasket contact portion 130 to prevent an increase in the overall thickness of the heat sink portion 100, when the first through-hole 134 is formed in this step. , Black paint is also applied to the side of the first through hole 134 by painting in the painting step (S30) to be described later, so that the ground between the side of the first through hole 134 and the EMI gasket 16 is not made. do.

이를 방지하기 위해, 본 단계에서 펀칭 가공에 의해 제1관통공(134)을 형성시킨 후 마스킹 작업을 수행하거나, 고무 패킹 등을 이용하여 제1관통공(134)을 밀폐시킨 상태에서 페인팅 단계(S30)를 수행하는 방법을 사용할 수도 있겠으나, 전술한 바와 같이, 마스킹 처리나 고무패킹 삽입 작업은 모두 수작업을 통해 이루어질 수 밖에 없으므로 전체적인 작업 공정이 복잡해지고 시간이 오래 걸릴 뿐만 아니라, 마스킹 처리나 고무패킹 삽입이 제대로 이루어지지 않는 경우 페인팅 차단이 완벽하게 이루어지지 않으므로 불량이 발생할 가능성이 높다는 단점이 있다.In order to prevent this, a masking operation is performed after forming the first through hole 134 by punching in this step, or a painting step in a state where the first through hole 134 is sealed using rubber packing or the like ( A method of performing S30) may be used, but as described above, the masking process and the rubber packing insertion work must be done manually, so the overall work process is complicated and takes a long time, and the masking process or rubber packing If the packing is not properly inserted, there is a high possibility of defects because the painting is not completely blocked.

따라서, 본 발명에서는 도 8의 (a),(b)에 나타낸 바와 같이, 상기 제2드로잉단계(S16b)에서의 드로잉 가공을 통해 중앙처리장치 접촉부(110) 상의 제1관통공(134)을 형성시킬 위치에 돌출부(116)를 먼저 형성시킨 후, 페인팅 단계(S30) 이후 상기 돌출부(116)를 제거하는 방식에 의해 제1관통공(134)을 형성시킴으로써 제1관통공(134)의 측면에 페인팅이 도포되지 않도록 하면서도 신속한 작업이 가능하도록 할 수 있다.Therefore, in the present invention, as shown in (a) and (b) of FIG. 8, the first through hole 134 on the central processing unit contact portion 110 is formed through the drawing process in the second drawing step (S16b). The side surface of the first through hole 134 is formed by first forming the protrusion 116 at the position to be formed and then removing the protrusion 116 after the painting step (S30) to form the first through hole 134. It can make it possible to work quickly while preventing painting from being applied to the surface.

이때, 상기 돌출부(116)의 측벽은 최대한 얇게 형성하여 후술할 컷오프 가공단계(S40)에서의 돌출부(116) 제거가 보다 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to form the sidewall of the protrusion 116 as thin as possible so that the protrusion 116 can be more easily removed in the cut-off processing step (S40) to be described later.

다음, 상기 접합단계(S20)는 히트싱크부 제조단계(S10)에 의해 제조된 히트싱크부(100)와, 방열 플레이트(300)를 연결부, 즉 히트파이프(200)를 이용하여 서로 연결시키는 과정으로, 니켈도금단계(S22)와 솔더링단계(S24)를 포함할 수 있다.Next, the bonding step (S20) is a process of connecting the heat sink part 100 manufactured in the heat sink part manufacturing step (S10) and the heat dissipation plate 300 to each other using a connection part, that is, the heat pipe 200. As such, it may include a nickel plating step (S22) and a soldering step (S24).

먼저, 상기 니켈도금단계(S22)는 히트싱크부(100) 및 방열 플레이트(300)와 히트파이프(200) 사이의 솔더링 접합을 위한 준비과정으로, 히트파이프(200)와 솔더링 될 부분의 히트싱크부(100)와 방열 플레이트(300)에 니켈도금을 수행하는 단계이다.First, the nickel plating step (S22) is a preparation process for the soldering joint between the heat sink unit 100 and the heat dissipation plate 300 and the heat pipe 200, and the heat pipe 200 and the heat sink of the portion to be soldered This is a step of performing nickel plating on the unit 100 and the heat dissipation plate 300.

즉, 상기 히트싱크부(100)와 방열 플레이트(300)는 알루미늄 재질로 이루어질 수 있는데, 알루미늄은 그 표면에 자연 산화피막의 형성으로 솔더링이 어렵기 때문에, 히트파이프(200)와 접합될 부분의 히트싱크부(100)와 방열 플레이트(300)에 니켈도금을 수행함으로써 솔더링 접합이 가능하도록 할 수 있다.That is, the heat sink unit 100 and the heat dissipation plate 300 may be made of aluminum. Since aluminum is difficult to solder due to the formation of a natural oxide film on its surface, the portion to be bonded to the heat pipe 200 By performing nickel plating on the heat sink unit 100 and the heat dissipation plate 300, soldering bonding may be possible.

다음, 상기 솔더링단계(S24)는 니켈도금단계(S22)에서 형성된 히트싱크부(100)와 방열 플레이트(300)의 니켈도금층에 구리 재질의 히트파이프(200)를 솔더링 접합시키기 위한 과정으로 이와 같은 솔더링 과정은 이미 공지된 것이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Next, the soldering step (S24) is a process for soldering and bonding the heat pipe 200 made of copper to the nickel plating layer of the heat sink portion 100 and the heat dissipation plate 300 formed in the nickel plating step (S22). Since the soldering process is already known, a detailed description thereof will be omitted.

다음, 상기 페인팅 단계(S30)는 접합된 히트싱크부(100), 히트파이프(200) 및 방열 플레이트(300)의 상면에 흑색 도료를 분무 또는 도포하여 페인팅하는 과정으로, 이와 같은 페인팅 단계(S30)는 방열장치(1)의 전체적인 외관을 미려하게 함과 동시에 방열장치(1)의 복사열에 의한 방열효과를 향상시키기 위한 목적으로 수행될 수 있다.Next, the painting step (S30) is a process of painting by spraying or applying black paint on the upper surfaces of the bonded heat sink unit 100, the heat pipe 200, and the heat dissipation plate 300, such a painting step (S30 ) may be performed for the purpose of enhancing the heat dissipation effect by radiant heat of the heat dissipation device 1 while enhancing the overall appearance of the heat dissipation device 1 at the same time.

상기에서는 페인팅 단계(S30)에서 사용되는 도료를 흑색 도료로 한정하였으나, 기존의 공지된 다양한 색상의 방열 도료를 페인팅 단계(S30)에서 사용할 수 있음은 물론이다.In the above, the paint used in the painting step (S30) is limited to the black paint, but it is of course possible to use the known heat dissipation paint of various colors in the painting step (S30).

한편, 본 발명에 따른 방열장치 제조방법은 상기 페인팅 단계(S30) 이후 컷오프 가공단계(S40)를 더 포함할 수 있는데, 상기 컷오프 가공단계(S40)는 히트싱크부 제조단계(S10)의 제2드로잉단계(S16b)에서 형성된 돌출부(116)를 제거하기 위한 과정으로, 상기 돌출부(116)의 제거를 통해 EMI 개스킷(16)의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1관통공(134)을 형성시킬 수 있게 된다.Meanwhile, the method for manufacturing a heat dissipation device according to the present invention may further include a cut-off processing step (S40) after the painting step (S30). As a process for removing the protrusion 116 formed in the drawing step (S16b), the first through hole 134 into which the upper end of the EMI gasket 16 is inserted can be formed through the removal of the protrusion 116. there will be

이때, 상기 제2드로잉단계(S16b)에서 돌출부(116)의 측벽을 최대한 얇게 형성시킨 경우, 펜치 또는 니퍼와 같은 수공구를 이용한 수작업에 의해 돌출부(116)를 간편하게 제거할 수 있다.At this time, when the sidewall of the protrusion 116 is formed as thin as possible in the second drawing step (S16b), the protrusion 116 can be easily removed by hand using a hand tool such as pliers or nippers.

또한, 도 8의 (c),(d)에 나타낸 바와 같이, 제2드로잉단계(S16b)에서 형성된 돌출부(116)가 상부를 향하도록 한 상태에서 프레스기를 이용한 전단 가공에 의해 돌출부(116)를 제거함으로써 중앙처리장치 접촉부(110)에 제1관통공(134)을 형성시킬 수 있다.In addition, as shown in (c) and (d) of FIG. 8, in a state in which the protrusion 116 formed in the second drawing step (S16b) faces upward, the protrusion 116 is formed by shearing using a press machine. By removing it, the first through hole 134 can be formed in the central processing unit contact unit 110 .

따라서, 전술한 바와 같은 본 발명에 따른 디스플레이용 방열장치 제조방법에 의하면, 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치(1)를 제조할 수 있어 생산원가를 절감시킬 수 있고, 히트싱크부(100)의 두께를 최소화시킬 수 있어 전체적인 평판 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 제조 공정의 단순화를 통해 대량 생산이 용이하도록 하면서도 불량률을 감소시킬 수 있는 등의 다양한 장점을 갖는 것이다.Therefore, according to the method for manufacturing a heat dissipation device for a display according to the present invention as described above, the heat dissipation device 1 provided in a flat panel display device can be manufactured only by press processing at a relatively low processing cost, thereby reducing production cost. , The thickness of the heat sink unit 100 can be minimized, thereby reducing the overall thickness of the flat panel display device, as well as reducing the defect rate while facilitating mass production through simplification of the manufacturing process. is to have

전술한 실시예들은 본 발명의 가장 바람직한 예에 대하여 설명한 것이지만, 상기 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다는 것은 당업자에게 있어서 명백한 것이다.Although the foregoing embodiments have been described with respect to the most preferred examples of the present invention, it is not limited to only the above embodiments, and it is clear to those skilled in the art that various modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention.

본 발명은 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이 장치에 구비되는 방열장치를 비교적 가공 비용이 저렴한 프레스 가공만으로 제조가 가능하도록 하면서도 제조 공정을 단순화시킬 수 있어 대량 생산이 용이하도록 함과 동시에 생산원가를 절감시킬 수 있고, 방열장치의 두께를 최소화시킴으로써 전체적인 디스플레이 장치의 두께를 슬림화시킬 수 있도록 하는 디스플레이용 방열장치 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display, and more particularly, to a heat dissipation device provided in a flat panel display device, which can be manufactured only by press processing at a relatively low processing cost, while simplifying the manufacturing process, so that mass production is easy It relates to a method for manufacturing a heat dissipation device for a display that can reduce production cost and at the same time reduce the thickness of the heat dissipation device so that the thickness of the entire display device can be slimmed down.

1 : 방열장치 10 : 인쇄회로기판
12 : 중앙처리장치 14 : 푸쉬핀 결속구
16 : EMI 개스킷 20 : 푸쉬핀
22 : 가압부 24 : 헤드부
26 : 스프링 100 : 히트싱크부
110 : 중앙처리장치 접촉부 112 : 제2관통공
114 : 절곡부 116, 126 : 돌출부
120 : 푸쉬핀 결합부 122 : 제2삽입홈
124 : 제3관통공 130 : EMI 개스킷 접촉부
132 : 제1삽입홈 134 : 제1관통공
200 : 연결부(히트파이프) 300 : 방열 플레이트
S10 : 히트싱크부 제조단계 S12 : 중앙처리장치 접촉부 형성단계
S14 : 푸쉬핀 결합부 형성단계 S14a : 제1펀칭단계
S14b : 가압단계 S14c : 제2펀칭단계
S16 : EMI 개스킷 접촉부 형성단계 S16a : 제1드로잉단계
S16b : 제2드로잉단계 S20 : 접합단계
S22 : 니켈도금단계 S24 : 솔더링단계
S30 : 페인팅 단계 S40 : 컷오프 가공단계
1: heat dissipation device 10: printed circuit board
12: central processing unit 14: push pin binding tool
16: EMI gasket 20: push pin
22: pressing part 24: head part
26: spring 100: heat sink
110: central processing unit contact part 112: second through hole
114: bent portion 116, 126: protruding portion
120: push pin coupling part 122: second insertion groove
124: third through hole 130: EMI gasket contact portion
132: first insertion groove 134: first through hole
200: connection part (heat pipe) 300: heat dissipation plate
S10: heat sink part manufacturing step S12: central processing unit contact part forming step
S14: Forming a push pin coupling part S14a: First punching step
S14b: pressing step S14c: second punching step
S16: EMI gasket contact forming step S16a: first drawing step
S16b: Second drawing step S20: Joining step
S22: Nickel plating step S24: Soldering step
S30: Painting step S40: Cut-off processing step

Claims (6)

중앙처리장치 접촉부 및 EMI 개스킷 접촉부를 포함하는 평판 형상의 히트싱크부와, 상기 히트싱크부에 연결 설치되는 방열 플레이트를 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법에 있어서,
알루미늄 판재를 이용한 프레스 가공에 의해 히트싱크부를 형성시키는 히트싱크부 제조단계와,
상기 히트싱크부와 방열 플레이트의 사이에 솔더링에 의해 히트파이프를 접합시키는 접합단계 및
접합된 히트싱크부, 히트파이프 및 방열 플레이트의 상면에 페인팅 작업을 수행하는 페인팅 단계를 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
In the manufacturing method of a heat dissipation device for a display comprising a flat heat sink portion including a central processing unit contact portion and an EMI gasket contact portion, and a heat dissipation plate connected to the heat sink portion,
A heat sink part manufacturing step of forming a heat sink part by press working using an aluminum plate;
A bonding step of bonding a heat pipe between the heat sink unit and the heat dissipation plate by soldering; and
A method of manufacturing a heat dissipation device for a display comprising a painting step of performing a painting operation on upper surfaces of the bonded heat sink unit, the heat pipe, and the heat dissipation plate.
제 1항에 있어서,
상기 히트싱크부 제조단계는,
전단 가공을 통해 알루미늄 판재를 원하는 형상으로 절단한 후, 굽힘 가공 및 펀칭 가공을 통해 상기 중앙처리장치 접촉부를 형성시키는 중앙처리장치 접촉부 형성단계와,
드로잉 가공을 통해 상기 EMI 개스킷 접촉부를 형성시키는 EMI 개스킷 접촉부 형성단계를 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
According to claim 1,
The heat sink part manufacturing step,
A central processing unit contact part forming step of cutting the aluminum plate into a desired shape through shearing and then forming the central processing unit contact part through bending and punching;
A method of manufacturing a heat dissipation device for a display comprising an EMI gasket contact portion forming step of forming the EMI gasket contact portion through a drawing process.
제 2항에 있어서,
상기 EMI 개스킷 접촉부 형성단계는,
드로잉 가공에 의해 중앙처리장치 접촉부 상의 EMI 개스킷 접촉부를 형성시키고자 하는 위치에 돌출부를 형성시키는 제2드로잉 단계를 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
According to claim 2,
The EMI gasket contact forming step,
A method of manufacturing a heat dissipation device for a display comprising a second drawing step of forming a protrusion at a location where an EMI gasket contact portion is to be formed on a central processing unit contact portion by drawing.
제 3항에 있어서,
상기 페인팅 단계 이후 제2드로잉 단계에서 형성된 돌출부를 제거하여 EMI 개스킷의 상단부가 내측으로 삽입되는 제1관통공을 형성시키는 컷오프 가공단계를 더 포함하는 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
According to claim 3,
The manufacturing method of the heat dissipation device for a display further comprising a cut-off processing step of removing the protrusion formed in the second drawing step after the painting step to form a first through hole into which an upper end of the EMI gasket is inserted.
제 4항에 있어서,
상기 제1관통공은 상기 EMI 개스킷의 크기와 동일한 크기로 형성되어 EMI 개스킷의 상부 측면이 제1관통공의 내주면과 접촉되어 측면 접지를 통한 전자파의 그라운드 접지가 가능한, 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
According to claim 4,
The first through hole is formed to have the same size as the EMI gasket so that the upper side of the EMI gasket is in contact with the inner circumferential surface of the first through hole to ground the electromagnetic waves through the side ground. Manufacturing method of a heat dissipation device for a display .
제 5항에 있어서,
상기 EMI 개스킷의 상면은 히트싱크부의 상면과 동일한 높이에 위치하는, 디스플레이용 방열장치의 제조방법.
According to claim 5,
The upper surface of the EMI gasket is located at the same height as the upper surface of the heat sink unit, manufacturing method of a heat dissipation device for a display.
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