KR20230099069A - 포토리소그래피 교육 장치 및 이를 이용하여 포토리소그래피 공정을 학습하는 방법 - Google Patents

포토리소그래피 교육 장치 및 이를 이용하여 포토리소그래피 공정을 학습하는 방법 Download PDF

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Abstract

실시예는 컴퓨팅 장치로부터 수신된 패턴 정보에 기초하여 필름 마스크 기재에 패턴을 인쇄하는 마스크 패턴 인쇄 장치; 베이스 기재와 감광필름을 라미네이팅하고 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 소정의 크기로 전달하여 출력하는 라미네이팅 장치; 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 얼라인하고 이들에 광을 조사하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 노광하는 노광장치; 및 노광된 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 현상하여 상기 패턴에 의해 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재의 노광 영역과 비노광 영역을 선택적으로 제거하는 현상장치;를 포함하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.

Description

포토리소그래피 교육 장치 및 이를 이용하여 포토리소그래피 공정을 학습하는 방법{Photolithography education apparatus and method for learning photolithography process using the same}
본 발명은 포토리소그래피 교육 장치 및 이를 이용하여 포토리소그래피 공정을 학습하는 방법에 관한 것이다.
포토리소그래피(Photolithography)는 반도체, 디스플레이, 회로 설계 제조공정 등에서 사용하는 공정이다. 포토 공정이라고도 불리며, 사진 인쇄 기술과 비슷하게 빛을 이용하여 복잡한 회로 패턴을 제조하는 방법으로 널리 사용되고 있다.
포토리소그래피 공정은 거의 모든 첨단산업에 핵심부품을 제조하는데 적용되고 있어 산업전반에 미치는 영향은 지대하다. 이와 연관하여 기업의 경쟁우위를 결정해 주는 가장 결정적인 요인이 바로 기업이 보유하고 있는 인재의 경쟁력이며, 이러한 인재배출의 산실이 교육 기관이라고 볼 수 있다. 인적자원개발 및 기술혁신 원천으로서의 교육 기관의 역할이 점차 증대되면서, 그리고 선진국뿐 아니라 아시아 국가들도 교육 기관의 경쟁력 강화를 위한 개혁을 본격적으로 추진하면서 세계의 일류기업, 연구소들이 우수한 교육 기관을 중심으로 더욱 집적되고 있다는 것은 널리 알려진 사실이다.
나아가 인터넷 환경의 발달로 인하여 반도체 기업들과 수많은 전문가들은 다양한 반도체, 디스플레이 등의 교육 콘텐츠를 제작하고 다양한 매체를 통해 배포함으로써 반도체, 디스플레이 등의 기술에 관심 있는 사람이라면 누구나 다양한 형태의 콘텐츠를 통해 반도체 기술을 학습할 수 있다. 다만, 기존의 교육 자료들은 모두 시청각 교육 자료에 불과하다. 더욱이, 반도체, 디스플레이 등은 매우 고도한 기술이 직얍된 방대한 기술이라는 점에서 실습할 수 있는 환경을 만들기란 현실적으로 매우 어렵다.
관련하여 한국등록특허공보 제10-2173449호는 반도체 장비의 교육실습 장치를 제공하여 자동 제어부에 의한 프로그램 제어 방식을 선택하여 플라즈마 모듈과 웨이퍼 이송 모듈에 대한 동작 제어를 학습할 수 있다. 그리고, 한국등록특허공보 제10-1480796호는 서브 컨트롤러를 이용한 반도체 유지보수 장비 교육실습 장치를 제공한다. 그러나, 종래기술들은 반도체 공정의 핵심 공정 중 하나인 포토리소그래피 공정을 체험할 수 있는 환경을 제공하지 않는 점, 비교적 기본적인 지식을 갖춘 사람이나 실제 작업 현장에 투입될 사람을 교육하는 기술인 점에서 기초 지식이 없는 비전문가를 위한 교육 관점에서는 한계가 있다.
한국등록특허공보 제10-2173449호 한국등록특허공보 제10-1480796호 한국등록특허공보 제10-1981701호
본 발명은 디스플레이 공정, 반도체 공정, 인쇄회로기판 제조 공정에서 필수적으로 요구되는 포토리소그래피 공정에 대한 이해가 부족한 학생이나 비전문가를 대상으로 포토리소그래피 공정을 효과적으로 학습할 수 있도록 하는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 포토리소그래피의 기본 공정 과정을 실습할 수 있도록 하면서도 교육용으로서 안전하고 취급이 용이한 재료들을 활용하여 포토리소그래피 공정을 효과적으로 학습할 수 있도록 하는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
실시예는 컴퓨팅 장치로부터 수신된 패턴 정보에 기초하여 필름 마스크 기재에 패턴을 인쇄하는 마스크 패턴 인쇄 장치; 베이스 기재와 감광필름을 라미네이팅하고 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 소정의 크기로 전달하여 출력하는 라미네이팅 장치; 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 얼라인하고 이들에 광을 조사하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 노광하는 노광장치; 및 노광된 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 현상하여 상기 패턴에 의해 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재의 노광 영역과 비노광 영역을 선택적으로 제거하는 현상장치;를 포함하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 필름 마스크 기재는 투명한 재질로 구성되고, 상기 패턴은 조사된 광의 통과를 차단하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 노광장치는 본체부, 상기 본체부와의 연결 지점을 중심으로 소정의 각도로 회전하여 상기 노광장치를 개폐하는 커버부, 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 수납하고 상기 본체부 상에 삽입 또는 상기 본체부로부터 인출 가능한 제1 프레임부, 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 수납하는 제2 프레임부, 상기 제2 프레임부의 위치를 변경하기 위한 이송부, 상기 노광장치의 내부를 관찰하여 상기 제1 및 제2 프레임부의 얼라인을 위한 얼라인뷰어부 및 노광을 위해 광을 조사하는 광조사부를 포함하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 제1 프레임부는 손잡이부, 상기 손잡이부와 연결된 플레이트부, 상기 플레이트부의 일 영역의 높이를 조절하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재의 높이를 조절하는 승강부 및 상기 승강부의 높이를 제어하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 사이의 이격 거리를 조절하는 승강구동부를 포함하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 커버부는 관측 및 광조사 홀이 형성되고, 상기 노광장치는 상기 노광장치의 내부의 관찰을 위해 상기 얼라인뷰어부는 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동 또는 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재로 광을 조사하기 위하여 상기 광조사부는 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동하도록 구성된 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 노광장치는 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 사이에 위치하여 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동하여 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 통과한 패턴광이 배율이 조절되어 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 조사되도록 하는 렌즈부를 더 포함하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
다른 측면에서. 상기 컴퓨팅 장치는 상기 승강부의 미리 설정된 위치 정보와 상기 제2 프레임부의 현재 위치 정보에 기초하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 얼라인 정보 및 상기 얼라인뷰어부를 통해 관측된 촬영 영상을 표시하고, 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 이동을 위한 입력 신호의 수신에 기초하여 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 위치를 변경하고 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 위치 정보를 상기 노광장치로 전송하여 상기 노광장치가 상기 제2 프레임의 위치를 변경하도록 하고, 상기 승강부의 높이에 따라 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 조사되는 상기 패턴광의 배율 정보를 표시하고, 입력된 패턴의 선폭의 변화량 정보에 기초하여 상기 패턴광의 배율 정보를 설정하고, 설정된 패턴광의 배율 정보에 따라 상기 승강부의 높이 정보를 생성하여 상기 노광장치로 제공하여 상기 노광장치가 승강부의 높이를 제어하여 패턴광이 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재에 조사되어 노광되도록 하는 포토리소그래피 교육 장치를 제공할 수 있다.
실시예는 디스플레이 공정, 반도체 공정, 인쇄회로기판 제조 공정에서 필수적으로 요구되는 포토리소그래피 공정을 교육할 수 있도록 하는 시스템을 제공할 수 있다.
실시예는 마스크의 패턴의 설계에서부터 현상공정까지를 효과적으로 학습할 수 있도록 하는 시스템을 제공할 수 있다.
또한, 실시예는 가격이 저렴한 소재의 기재를 사용하고 안정성이 보장된 현상액을 이용하고, 노광을 위한 자외선이 외부로 노출되는 것을 방지함으로서 교육용으로서 적합한 포토리소그래피 교육 장치 및 이를 이용하여 포토리소그래피 공정을 교육하는 방법을 제공할 수 있다.
또한, 실시예는 감광필름을 활용하여 포토리소그래피 공정을 교육함으로서 감광물질의 도포를 위한 스핀 공정, 베이킹 공정을 생략할 수 있어 시스템을 단순화하면서도 핵심적인 사항을 교육할 수 있도록 한다.
또한, 실시예는 사용자가 마스크의 패턴을 직접 디자인할 수 있도록 하고, 최종 결과물로 사용자가 디자인한 패턴을 확인할 수 있도록 하여 교육 효과를 높일 수 있도록 한다.
또한, 실시예는 마스크와 베이스 기재의 얼라인 과정을 사용자가 직접 수행할 수 있도록 함으로써 포토리소그래피 공정에서 핵심적인 얼라인 과정에 대한 이해를 높일 수 있도록 한다.
또한, 실시예는 다양한 노광 조건을 적용할 수 있도록 하여 광 조사의 세기, 파장, 조사 시간, 패턴의 배율에 따른 결과물의 품질의 차이를 종합적으로 학습할 수 있도록 하는 장치 및 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2b는 감광필름과 베이스 기재를 서로 라미네이팅하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2c는 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 통해 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 광을 조사하여 노광하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2d는 노광된 베이스 기재를 현상하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2e는 컴퓨팅 장치의 디자인 프로그램의 유저 인터페이스를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3은 마스크 패턴 인쇄 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 라미네이팅 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 5는 라미네이팅 장치의 내부 일부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 6은 노광 장치의 사시도이다.
도 7 및 도 8은 커버부가 열린 상태에서의 노광 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 9 내지 도 11은 제1 및 제2 프레임부을 나타낸 것이다.
도 12는 현상부의 사시도이다.
도 13은 현상부에 제1 프레임부가 삽입되는 것을 나타낸 것이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 구성하는 노광장치의 일부를 나타낸 것이다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 구성하는 노광장치의 일부를 나타낸 것이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. 이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. 또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 시스템을 개략적으로 도시한 것이다. 도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 개략적으로 나타낸 것이고, 도 2b는 감광필름과 베이스 기재를 서로 라미네이팅하는 것을 개략적으로 나타낸 것이고, 도 2c는 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 통해 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 광을 조사하여 노광하는 것을 개략적으로 나타낸 것이며, 도 2d는 노광된 베이스 기재를 현상하는 것을 개략적으로 나타낸 것이다. 그리고, 도 3은 마스크 패턴 인쇄 장치를 개략적으로 도시한 것이고, 도 4는 라미네이팅 장치를 개략적으로 도시한 것이고, 도 5는 라미네이팅 장치의 내부 일부를 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 도 6은 노광 장치의 사시도이고, 도 7 및 도 8은 커버부가 열린 상태에서의 노광 장치를 개략적으로 도시한 것이고, 도 9 내지 도 11은 제1 및 제2 프레임부을 나타낸 것이다. 그리고, 도 12는 현상부의 사시도이고, 도 13은 현상부에 제1 프레임부가 삽입되는 것을 나타낸 것이다.
도 1, 도 2a, 도 2b, 도 2c, 도 2d 및 도 2e를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 시스템(1)은 포토리소그래피 교육 장치(10) 및 컴퓨팅 장치(20)로 구성될 수 있다.
컴퓨팅 장치(20)는 데스크탑 컴퓨팅 장치 또는 스마트폰이나 테블릿 컴퓨팅 장치와 같은 웨어러블 장치가 될 수 있다. 컴퓨팅 장치(20)에는 필름 마스크 기재 상에 인쇄할 패턴을 디자인하기 위한 프로그램(100p)이 설치될 수 있다. 사용자는 컴퓨팅 장치(20)의 디자인 프로그램(100p)의 실행에 따라 제공되는 다양한 유저 인터페이스를 통해서 필름 마스크 기재 상에 인쇄할 패턴을 디자인할 수 있다. 컴퓨팅 장치(20)는 생성된 패턴 정보를 생성하여 마스크 패턴 인쇄 장치(200)로 제공할 수 있다.
포토리소그래피 교육 장치(10)는 하우징(100), 마스크 패턴 인쇄 장치(200), 라미네이팅 장치(300), 노광장치(400) 및 현상장치(500)를 포함할 수 있다.
도 3을 더 참조하면, 마스크 패턴 인쇄 장치(200)는 컴퓨팅 장치(20)로부터 수신한 패턴 정보에 기초하여 입력된 필름 마스크 기재에 패턴을 인쇄할 수 있다. 다양한 실시예에서, 마스크 패턴 인쇄 장치(200)는 필름 마스크 기재의 가장 자리 영역을 제외한 가운데 영역에 수신한 패턴 정보에 기초한 패턴을 인쇄할 수 있다.
마스크 패턴 인쇄 장치(200)의 기재 투입부(210)로 필름 마스크 기재(200a)가 투입되고, 마스크 패턴 인쇄 장치(200)의 필름 마스크 기재(200a) 출력부(220)를 통해 패턴(pt)이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)가 출력될 수 있다.
필름 마스크 기재(200a)는 투명한 재질을 가진다. 따라서, 조사된 자외선 광의 굴절 등의 영향이 최소화되어 그래도 필름 마스크 기재(200a)를 통과할 수 있다. 그리고, 필름 마스크에 인쇄된 패턴(pt)은 자외선의 차광이 가능한 물질로 구성된 차광 패턴이 될 수 있다. 따라서, 조사된 자외선 광은 차광 패턴에 의해서 필름 마스크 기재(200a)의 통과가 차단되고, 차광 패턴이 형성되지 않은 영역으로 통과될 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 라미네이팅 장치(300)는 베이스 기재(300a) 상에 감광필름(300b)을 라미네이팅 할 수 있다. 라미네이팅 장치(300)는 베이스 기재(300a)가 감겨 있는 원형 베이스 기재부(310)와 감광필름부(300b)가 감겨 있는 원형 감광필름부(320)를 포함할 수 있다. 라미네이팅 장치(300)는 원형 베이스 기재부(310)와 원형 감광필름부(320) 각각으로부터 베이스 기재(300a)와 감광필름(300b)을 인출하여 이들을 서로 부착하고 소정의 크기로 절단하여 출력할 수 있다.
베이스 기재(300a) 상에 감광필름(300b)을 라미네이팅하는 방식을 적용하므로, 베이스 기재(300a) 상에 포토리소그래피의 도포를 위한 스핀 공정이나 베이킹 공정을 생략할 수 있다.
또한, 베이스 기재(300a)는 필름이나 PCB 등의 기판이 될 수 있다. 즉, 실시예는 교육용으로서 웨이퍼보다 상대적으로 매우 저렴한 기재를 베이스 기재(300a)로서 사용한다.
도 5 내지 도 11을 참조하면, 노광장치(400)는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)와 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)를 얼라인하고, 이들에 좌외선 광을 조사하여 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)를 노광할 수 있다.
노광장치(400)는 상부가 개방된 본체부(410)와 본체부(410)의 일측에 연결되고 본체부(410)의 일측을 중심으로 소정의 각도로 회전 가능하여 본체부(410)의 상부측을 개폐하는 커버부(420), 이송부(430), 제1 프레임부(440), 제2 프레임부(450), 얼라인뷰어부(460) 및 광조사부(470)를 포함할 수 있다.
이송부(430)는 제1 위치 가이드부(431), 제2 위치 가이드부(432), 제3 위치 가이드부(433), 제1 이송 레일(434), 제2 이송 레일(435), 제1 결합부(436) 및 제2 결합부(437)를 포함할 수 있다.
다양한 실시예에서, 노광장치(400)는 제1 내지 제3 위치 가이드부(431, 432, 433) 중 적어도 하나의 위치를 제어하는 제어부와 위치 변경을 위한 구동력을 제공하는 모터 장치를 포함할 수 있고, 제어부는 컴퓨팅 장치(20)로부터의 명령 신호에 기초하여 모터 장치를 제어하여 제1 내지 제3 위치 가이드부(431, 432, 433) 중 적어도 하나의 위치를 제어할 수 있다.
제1 위치 가이드부(431)는 커버부(420)의 상부면에 위치하고 커버부(420) 가로 방향인 제1 방향(X축 방향)을 따라 소정의 범위 내에서 이동할 수 있다. 일부 실시예에서, 커버부(420)에는 제1 위치 가이드부(431)의 이동 방향을 가이드하기 위한 가리드 라인이 마련될 수 있다. 그리고, 제2 위치 가이드부(432)는 커버부(420)의 상부면에 위치하고 커버부(420)의 세로 방향이고 제1 방향과 수직한 방향인 제2 방향(Y축 방향)을 따라 소정의 범위 내에서 이동할 수 있으며, 제3 위치 가이드부(433)는 커버부(420)의 상부면에 위치하고 커버부(420)의 상부면과 평행을 유지하며 소정의 각도 범위 내에서 회전할 수 있다.
제1 이송 레일(434)은 커버부(420)의 내측에 위치하고 커버부(420)의 제1 방향을 따라 커버부(420)의 내측 양측에 각각 설치된 한 쌍의 레일(제1-1 이송 레일(434a), 제1-2 이송 레일(434b)로 구성될 수 있다.
제2 이송 레일(435)은 커버부(420)의 내측에 위치하고, 제1 이송 레일(434)과 수직하게 위치할 수 있다. 그리고, 제2 이송 레일(435)은 제1 이송 레일(434)에 연결될 수 있다. 제2 이송 레일(435)의 일측은 제1-1 이송 레일(434a)에 연결되고, 제2 이송 레일(435)의 타측은 제1-2 이송 레일(434b)에 연결될 수 있다. 제2 이송 레일(435)은 제1 이송 레일(434)을 따라서 제1 방향을 따라 소정의 범위 내에서 이동할 수 있다.
제1 결합부(436)는 제2 이송 레일(435)의 일측과 제1 위치 가이드부(431)를 서로 연결할 수 있다. 따라서, 제1 위치 가이드부(431)의 이동에 따라 제1 결합부(436)에 의해 연결된 제2 이송 레일(435)은 제1 이송 레일(434)을 따라 제1 위치 가이드부(431)의 이동 방향과 동일한 방향으로 제1 위치 가이드부(431)의 이동량 만큼 이동할 수 있다.
제2 결합부(437)는 제2 이송 레일(435) 상에 설치되고, 제2 이송 레일(435)을 따라 소정의 범위 내에서 이동할 수 있다.
제2 위치 가이드부(432)는 제2 결합부(437)에 연결될 수 있다. 따라서, 제2 위치 가이드부(432)의 이동에 따라 제2 결합부(437)가 제2 이송 레일(435)을 따라 제2 위치 가이드부(432)의 이동 방향과 동일한 방향으로 제2 위치 가이드부(432)의 이동량 만큼 이동할 수 있다.
제3 위치 가이드부(433)는 제2 위치 가이드부(432) 상에 설치되어 제2 위치 가이드부(4320와 함께 이동할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
제1 프레임부(440)는 본체부(410)의 전면의 개구 영역을 통해 삽입될 수 있고, 본체부(410)에 삽입된 제1 프레임부(440)는 본체부(410)로부터 인출될 수 있다.
제1 프레임부(440)는 손잡이부(441)와 손잡이부(441)에 연결된 플레이트부(442)를 포함할 수 있다. 사용자는 손잡이부(441)를 잡고 제1 프레임부(440)를 본체부(410) 상에 삽입하거나 본체부(410)에 삽입된 제1 프레임부(440)를 인출할 수 있다.
플레이트부(442)에는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)가 위치할 수 있다. 플레이트부(442)에는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 위치를 고정할 수 있는 형태로 구성될 수 있다.
제2 프레임부(450)는 제2 결합부(437)에 연결될 수 있다. 따라서, 제2 결합부(437)가 제2 이송 레일(435)을 따라 이동시 제2 프레임부(450)가 이동할 수 있다. 또한, 제2 이송 레일(435)이 제1 이송 레일(434)을 따라 이동함에 따라 제2 프레임부(450)도 함께 이동할 수 있다. 따라서, 제2 프레임부(450)는 X축 방향 및 Y축 방향으로 소정의 범위 내에서 이동할 수 있다.
제2 프레임부(450)는 제2 결합부(437)에 연결된 상태를 유지하며 제2 결합부(437)와의 연결지점을 중심으로 하측으로 소정의 각도로 회전할 수 있다.
먼저 커버부(420)를 열고, 제2 프레임부(450)를 하측 방향으로 회전시켜 제2 프레임부(450) 상에 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)를 부착할 수 있다. 제2 프레임부(450) 상에는 개구 영역(450h)이 형성된다. 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)는 개구 영역(450h)을 커버하며 제2 프레임부(450)에 부착될 수 있다. 제2 프레임부(450)에는 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)의 고정을 위한 추가적인 구성이 마련될 수 있다. 다양한 실시예에 따르면 제2 프레임부(450)의 측면에는 제2 프레임부(450)의 내부를 향하는 홈이 형성되고 홈 상에 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)가 끼워질 수 있다. 필름 마스크 기재(200a)가 홈 상에 끼워지고 필름 마스크 기재(200a)의 패턴(pt)은 개구 영역(450h)을 통해 노출될 수도 있다. 그리고 커버부(420)를 닫으면 제2 프레임부(450)는 제1 프레임부(440)의 상부에 위치하게 된다. 따라서, 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 상부에 위치하게 된다.
제1 프레임부(440)는 플레이트부(442)의 일 영역의 상승을 위한 승강부(443) 및 승강부(443)를 승강시키기 위한 승강구동부(444)를 더 포함할 수 있다.
승강부(443)는 플레이트부(442)의 개구 영역(450h) 상에 위치하고, 승강구동부(444)에 의해 소정의 높이로 승강 또는 하강할 수 있다.
승강구동부(444)의 제어는 커버부(420)에 마련된 제1 입력부(490)를 통해 입력된 명령 신호에 기초하여 이루어질 수 있다.
승강부(443) 상에는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)가 위치할 수 있다. 그리고, 승강부(443)는 상승하여 제2 프레임부(450) 상에는 개구 영역(450h)으로 삽입될 수 있다. 그리고, 승강부(443)는 승강부(443)의 상부면과 제2 프레임부(450)의 상부면이 동일 평면을 이룰때까지 상승할 수 있다. 승강부(443)의 상승에 따라 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)에 접할 수 있다. 따라서, 광의 회절 현상에 의해 광이 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)를 통과하여 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)와 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a) 사이의 영역으로 전달되는 것을 방지한다.
얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470)는 커버부(420) 상의 홀 매칭부(429d)를 따라 함께 이동할 수 있다. 사용자는 얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470)를 홀 매칭부(429d)를 따라 좌우로 이동시킬 수 있다.
커버부(420)에는 관측 및 광조사 홀(428)이 형성된다. 얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470)는 홀 매칭부(429d)를 따라 이동하며 얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470) 중 어느 하나는 관측 및 광조사 홀(429)에 매칭될 수 있다. 얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470)를 홀 매칭부(429d)를 따라 이동시켜 얼라인뷰어부(460)가 관측 및 광조사 홀(429) 상에 매칭되도록 할 수 있다. 그리고, 사용자는 얼라인뷰어부(460)를 통해 노광장치(400)의 내부를 관찰할 수 있다. 다양한 실시예에서, 얼라인뷰어부(460)에는 노광장치(400)의 내부의 관찰을 보다 용이하게 하는 렌즈 시스템을 포함할 수 있고, 제1 입력부(490)를 통해 제어 가능하고 노광장치(400) 내부를 비추는 조명 장치를 포함할 수 있다. 조명 장치는 감광에 영향을 주지 않는 파장을 가진 광을 출력하는 장치가 될 수 있다.
사용자는 얼라인뷰어부(460)를 통해 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h) 상에 승강부(443)가 위치하도록 제2 프레임부(450)의 위치를 변경시킬 수 있다. 사용자는 제2 프레임부(450)의 위치를 변경하기 위하여 제1 및 제2 위치 가이드부(431, 432) 중 적어도 어느 하나를 조작할 수 있다.
제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h) 상에 승강부(443)가 위치하면 승강구동부(444)를 제어하여 승강부(443)를 상승시킬 수 있다. 승강부(443)가 상승함에 따라 승강부(443) 상에 위치한 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 상부면은 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h)을 통해 노출된 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)의 하부면에 부착될 수 있다.
사용자는 광조사부(470)가 관측 및 광조사 홀(429) 상에 위치하도록 홀 매칭부(429d) 상에서 얼라인뷰어부(460)와 광조사부(470)의 위치를 조정할 수 있다.
광조사부(470)가 관측 및 광조사 홀(429) 상에 위치한 후, 제1 입력부(490)를 통해 광조사 명령 신호를 입력하면 광조사부(470)로부터 자외선 광이 조사될 수 있다. 노광장치(400)는 광조사부(470)로부터 출력되는 광이 외부에서 시인되지 않도록 구성될 수 있다.
광조사부(470)로부터의 좌외선 광은 제2 프레임부(450)의 개구영역(450h) 상으로 조사된다. 그리고, 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 상부면의 영역 중 필름 마스크 기재(200a) 상의 패턴에 대응하는 영역에는 자외선이 조사되지 않고, 그 외의 영역에는 자외선이 조사됨에 따라 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)가 노광될 수 있다.
다양한 실시예에서, 제1 입력부(490)를 통해 조사되는 좌외선광의 세기와 조사 시간이 조절될 수 있다. 따라서, 사용자는 학습한 내용에 따라서 자외선 광의 세기나 광 조사 시간 등을 조절하여 노광을 진행할 수 있다.
도 12 및 도 13을 참조하면, 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 노광이 완료되면, 사용자는 제1 프레임부(440)를 노광장치(400)로부터 인출하여 도 13과 같이 현상장치(500)에 삽입할 수 있다. 현상장치(500)는 현상액 토출부(510)와 현상액 토출제어부(520) 및 제2 입력부(530)를 포함할 수 있다.
현상액 토출제어부(520)는 제2 입력부(530)를 통해 입력된 명령 신호에 기초하여 현상액 토출부(510)로부터 현상액의 토출을 제어할 수 있다. 현상액 토출부(510)로부터 토출된 현상액은 노광이 완료된 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)를 현상할 수 있다. 현상액은 교육용으로서 안정성을 고려하여 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH: Tetramethyl ammounium hydroxide)와 물을 혼합한 TMAH 2.38%의 희석 용액이 될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
감광필름(300b)의 포지티브 타입인 경우, 감광필름(300b)의 자외선이 조사된 영역은 제거되고 자외선이 조사되지 않은 영역은 남게 된다. 그리고, 감광필름(300b)이 네거티브 타입인 경우 감광필름(300b)의 자외선이 조사된 영역을 제외한 나머지 영역이 제거된다.
사용자는 현상 과정을 완료한 후 제1 프레임부(440)를 인출하여 도 2d와 같은 포토리소그래피 과정이 완료된 최종 결과물을 얻을 수 있다.
사용자는 최종 결과물 상에서 형성된 패턴, 패턴의 품질 등을 참조하여 다양한 노광 조건들과 품질의 상관 관계에 대해서 학습할 수 있다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 구성하는 노광장치의 일부를 나타낸 것이다.
도 6 및 도 14를 참조하면, 노광장치(400)의 커버부(420)의 내측에 위치한 제2 결합부(437)의 하측에는 렌즈부(270)가 설치될 수 있다. 렌즈부(270)는 일측이 커버부(420)에 연결된 암부(271)와 암부(271)의 타측에 연결된 렌즈(272)로 구성될 수 있다. 암부(271)는 서로 연결된 복수의 암으로 연결되어 렌즈(272)가 개구 영역(450h)을 통해 관측 및 광조사 홀(429)과 동일 선상에 위치하도록 구성될 수 있다.
제3 위치 가이드부(433)의 일 방향 또는 타 방향으로의 소정의 각도로 회전하는 것에 대응하여 암부(271)가 회전할 수 있다. 암부(271)의 회전에 따라 암부(271)에 설치된 렌즈(272)의 위치가 변경될 수 있다. 렌즈(272)는 관측 및 광조사 홀(429)에 매칭되어 이와 동일 선상에 위치하거나 관측 및 광조사 홀(429)과 동일 선상이 되지 않도록 위치가 변경될 수 있다.
렌즈(272)가 관측 및 광조사 홀(429)과 지면으로부터 수직한 방향으로 동일 선상에 위치한 상태에서는 승강부(443)는 렌즈(272)와 소정의 거리로 이격된 상태가 될 수 있다. 승강부(443)의 승강 높이는 제1 입력부(490)를 통해 조절될 수 있다. 그리고, 광조사부(470)로부터의 광이 출력되면 광은 필름 마스크 기재(200a)를 통과하면서 필름 마스크 기재(200a) 상의 패턴에 의해 패턴광으로 변환되고, 패턴광은 렌즈(272)를 통과하면서 광 조사 영역이 변환될 수 있다.
일부 실시예에서 패턴광이 렌즈(272)를 통과하면서 광 조사 영역이 줄어들 수 있다. 그리고, 최종적으로 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)에 조사되는 패턴광에 의해서 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)가 노광될 수 있다. 이 때, 승강부(443)의 승강 높이에 따라 패턴광의 광 조사 영역이 달라질 수 있다. 즉, 승강부(443)가 렌즈(272)에 가까워질수록 광조사 영역은 넓어질 수 있다.
렌즈(272)가 관측 및 광조사 홀(492)과 동일 선상에 위치한 상태에서 노광 공정이 진행되면, 사용자가 디자인한 패턴이 축소되어 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a) 상에 노광될 수 있다. 따라서, 패턴의 배율을 조정하여 노광을 진행함으로써 다양한 미세 패턴을 이용한 노광 교육을 진행할 수 있다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토리소그래피 교육 장치를 구성하는 노광장치의 일부를 나타낸 것이다.
도 14 및 도 15를 참조하면, 제1 프레임부(440)의 플레이트부(442) 상에는 복수의 승강부(443)가 마련될 수 있다. 예시적으로 제1 내지 제4 승강부(443, 443b, 443c, 443d)가 서로 일정 거리로 이격되어 위치할 수 있다. 이들 각각은 서로 독립적으로 승강 또는 하강 구동할 수 있다.
복수의 승강부(443) 각각에는 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)가 부착될 수 있다.
사용자는 제1 및 제2 위치 가이드부(431, 432)를 이용하여 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h) 상에 복수의 승강부(443) 중 어느 하나가 위치하도록 제2 프레임부(450)의 위치를 조정할 수 있다. 그리고, 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h)에 상에 위치한 승강부를 상승시킨 후 노광을 진행할 수 있다. 그리고, 사용자는 또 다른 승강부를 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h) 상에 위치시킨 후, 승강부의 높이를 조절하고 광조사부(470)로부터의 출력 광의 세기, 파장, 출력 시간을 조절하여 노광을 진행할 수 있다. 그리고, 사용자는 또 다른 승강부를 제2 프레임부(450)의 개구 영역(450h) 상에 위치시킨 후, 렌즈(272)를 관측 및 광조사 홀(492)과 동일 선상에 위치시키고, 승강부의 높이를 조절한 다음 노광을 진행할 수 있다. 이와 같이 복수의 승강부(443) 각각에 위치한 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)들 각각에 서로 다른 노광 조건에서 하에서 노광을 독립적으로 진행할 수 있다. 그리고, 최종 현상 공정을 완료할 수 있다. 따라서, 다양한 노광 조건에 따른 최종 결과물을 확인할 수 있다. 즉, 광 조사의 세기, 파장, 조사 시간, 패턴의 배율에 따른 결과물의 품질의 차이를 종합적으로 학습할 수 있다.
도 2e를 참조하면, 다양한 실시예에서, 디자인 프로그램(100p)은 제2 프레임부(450)의 현재 위치 정보를 노광장치(400)로부터 수신하고, 승강부(443)의 미리 설정된 위치 정보와 제2 프레임부(450)의 현재 위치 정보에 기초하여 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)와 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)의 얼라인 정보를 표시할 수 있다. 즉, 디자인 프로그램(100p)은 승강부(443)를 나타내는 승강부 위치 정보 이미지(443i)와 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)를 나타내는 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 위치 정보 이미지(200ai)를 표시할 수 있다. 그리고, 디자인 프로그램(100p)은 승강부(443)와 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)의 현재 위치에 매칭되도록 승강부 위치 정보 이미지(443i)와 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 위치 정보 이미지(200ai)를 표시할 수 있다. 다양한 실시예에서, 디자인 프로그램(100p)은 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 위치 정보 이미지(200ai)의 이동과 관련된 입력 신호(터치 입력 또는 마우스 등의 외부 입력 장치를 통해 입력 신호)를 수신하면 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 위치 정보 이미지(200ai)를 이동시키고, 이동된 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 위치 정보 이미지(200ai)의 위치 정보를 노광장치(400)로 전송할 수 있다. 노광장치(400)는 수신한 위치 정보에 기초하여 제1 및 제2 위치 가이드부(431, 432)의 위치를 제어하여 제2 프레임부(450)의 위치를 변경할 수 있다.
사용자는 컴퓨팅 장치(20)를 통해서 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)와 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 얼라인하는 과정을 학습할 수 있다.
다양한 실시예에서, 노광장치(400)의 얼라인뷰어부(460)는 촬영 장치를 포함할 수 있다. 노광장치(400)는 얼라인뷰어부(460)를 통해 촬영된 영상을 컴퓨팅 장치(20)로 전송할 수 있다. 디자인 프로그램(100p)은 수신한 촬영 영상 정보를 표시함으로써 실제 인쇄된 필름 마스크 기재(200a)와 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a)의 얼라인되는 과정을 관찰할 수 있도록 한다. 따라서, 실시예는 얼라인 과정에 대한 학습 효과를 높인다.
다양한 실시예에서, 노광장치(400)는 렌즈(272)가 관측 및 광조사 홀(429)에 매칭된 상태에서 승강부(443)의 현재 높이 정보를 컴퓨팅 장치(20)로 전송할 수 있다.
컴퓨팅 장치(20)는 승강부(443)의 현재 높이 정보에 기초하여 렌즈(272)를 통해 출력되는 패턴광이 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a) 상에 조사될 때의 패턴광의 배율 정보를 표시할 수 있다. 또한, 디자인된 패턴 정보 및 패턴광의 배율 정보에 기초하여 패턴의 선폭의 변화량에 대한 정보를 표시할 수 있다. 다양한 실시예에서, 컴퓨팅 장치(20)는 입력된 패턴의 선폭의 변화량 정보에 기초하여 패턴광의 배율 정보를 설정하고, 설정된 패턴광의 배율 정보에 따라 승강부(443)의 높이 정보를 생성하여 노광장치(400)로 제공할 수 있다. 노광장치(400)는 수신한 승강부(443)의 높이 정보에 기초하여 승강부(443)의 높이를 제어하고 감광필름(300b)이 라미네이팅된 베이스 기재(300a) 상에 패턴광을 조사하면서 노광을 진행할 수 있다. 따라서, 실시예는 디자인한 패턴의 선폭의 변화에 따라 노광 및 현상의 품질 등을 학습할 수 있도록 한다.
이상 설명된 본 발명에 따른 실시예는 다양한 컴퓨터 구성요소를 통하여 실행될 수 있는 프로그램 명령어의 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체는 프로그램 명령어, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 기록되는 프로그램 명령어는 본 발명을 위하여 특별히 설계되고 구성된 것이거나 컴퓨터 소프트웨어 분야의 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수 있다. 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체의 예에는, 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체, CD-ROM 및 DVD와 같은 광기록 매체, 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical medium), 및 ROM, RAM, 플래시 메모리 등과 같은, 프로그램 명령어를 저장하고 실행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령어의 예에는, 컴파일러에 의하여 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용하여 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드도 포함된다. 하드웨어 장치는 본 발명에 따른 처리를 수행하기 위하여 하나 이상의 소프트웨어 모듈로 변경될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
본 발명에서 설명하는 특정 실행들은 일 실시 예들로서, 어떠한 방법으로도 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다. 명세서의 간결함을 위하여, 종래 전자적인 구성들, 제어 시스템들, 소프트웨어, 상기 시스템들의 다른 기능적인 측면들의 기재는 생략될 수 있다. 또한, 도면에 도시된 구성 요소들 간의 선들의 연결 또는 연결 부재들은 기능적인 연결 및/또는 물리적 또는 회로적 연결들을 예시적으로 나타낸 것으로서, 실제 장치에서는 대체 가능하거나 추가의 다양한 기능적인 연결, 물리적인 연결, 또는 회로 연결들로서 나타내어질 수 있다. 또한, “필수적인”, “중요하게” 등과 같이 구체적인 언급이 없다면 본 발명의 적용을 위하여 반드시 필요한 구성 요소가 아닐 수 있다.
또한 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술할 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (7)

  1. 컴퓨팅 장치로부터 수신된 패턴 정보에 기초하여 필름 마스크 기재에 패턴을 인쇄하는 마스크 패턴 인쇄 장치;
    베이스 기재와 감광필름을 라미네이팅하고 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 소정의 크기로 전달하여 출력하는 라미네이팅 장치;
    상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 얼라인하고 이들에 광을 조사하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 노광하는 노광장치; 및
    노광된 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 현상하여 상기 패턴에 의해 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재의 노광 영역과 비노광 영역을 선택적으로 제거하는 현상장치;를 포함하는
    포토리소그래피 교육 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 필름 마스크 기재는 투명한 재질로 구성되고, 상기 패턴은 조사된 광의 통과를 차단하는
    포토리소그래피 교육 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 노광장치는
    본체부,
    상기 본체부와의 연결 지점을 중심으로 소정의 각도로 회전하여 상기 노광장치를 개폐하는 커버부,
    상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재를 수납하고 상기 본체부 상에 삽입 또는 상기 본체부로부터 인출 가능한 제1 프레임부,
    상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 수납하는 제2 프레임부,
    상기 제2 프레임부의 위치를 변경하기 위한 이송부,
    상기 노광장치의 내부를 관찰하여 상기 제1 및 제2 프레임부의 얼라인을 위한 얼라인뷰어부 및 노광을 위해 광을 조사하는 광조사부를 포함하는
    포토리소그래피 교육 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 프레임부는
    손잡이부,
    상기 손잡이부와 연결된 플레이트부,
    상기 플레이트부의 일 영역의 높이를 조절하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재의 높이를 조절하는 승강부 및
    상기 승강부의 높이를 제어하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 사이의 이격 거리를 조절하는 승강구동부를 포함하는
    포토리소그래피 교육 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 커버부는 관측 및 광조사 홀이 형성되고,
    상기 노광장치는 상기 노광장치의 내부의 관찰을 위해 상기 얼라인뷰어부는 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동 또는 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재로 광을 조사하기 위하여 상기 광조사부는 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동하도록 구성된
    포토리소그래피 교육 장치.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 노광장치는
    상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재 사이에 위치하여 상기 관측 및 광조사 홀에 매칭되도록 이동하여 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재를 통과한 패턴광이 배율이 조절되어 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 조사되도록 하는 렌즈부를 더 포함하는
    포토리소그래피 교육 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 컴퓨팅 장치는
    상기 승강부의 미리 설정된 위치 정보와 상기 제2 프레임부의 현재 위치 정보에 기초하여 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재와 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 얼라인 정보 및 상기 얼라인뷰어부를 통해 관측된 촬영 영상을 표시하고,
    상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 이동을 위한 입력 신호의 수신에 기초하여 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 위치를 변경하고 상기 패턴이 인쇄된 필름 마스크 기재의 위치 정보를 상기 노광장치로 전송하여 상기 노광장치가 상기 제2 프레임의 위치를 변경하도록 하고,
    상기 승강부의 높이에 따라 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재 상에 조사되는 상기 패턴광의 배율 정보를 표시하고,
    입력된 패턴의 선폭의 변화량 정보에 기초하여 상기 패턴광의 배율 정보를 설정하고, 설정된 패턴광의 배율 정보에 따라 상기 승강부의 높이 정보를 생성하여 상기 노광장치로 제공하여 상기 노광장치가 승강부의 높이를 제어하여 패턴광이 상기 감광필름이 라미네이팅된 베이스 기재에 조사되어 노광되도록 하는
    포토리소그래피 교육 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101480796B1 (ko) 2013-10-31 2015-01-09 (주) 이더 서브 컨트롤러를 이용한 반도체 유지보수 장비 교육실습 장치
KR101981701B1 (ko) 2018-06-20 2019-05-23 주식회사 에스피지코리아 가상현실을 이용한 교육실습 장치 및 방법
KR102173449B1 (ko) 2020-04-16 2020-11-04 주식회사 선경 이.엔.아이 반도체 장비의 교육실습 장치

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