KR20230095970A - 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름, 이것을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널 및 화상 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 가공 적성이 뛰어나고, 특히, 칼로 커트한 부분의 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 또, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널, 및 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
하기의 (1) 및 (2)를 만족시키는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(1) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 3000∼30000nm의 리타데이션을 갖는다, (2) ATR-FTIR법으로 측정한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터가 0.330 이상이다.
하기의 (1) 및 (2)를 만족시키는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(1) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 3000∼30000nm의 리타데이션을 갖는다, (2) ATR-FTIR법으로 측정한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터가 0.330 이상이다.
Description
본 발명은, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름, 이것을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널, 및 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치(LCD)에 사용되는 편광판은, 통상 폴리비닐 알코올(PVA) 등에 요오드를 염착시킨 편광자를 2장의 편광자 보호 필름 사이에 끼운 구성이며, 편광자 보호 필름으로는 통상 트리아세틸 셀룰로오스(TAC) 필름이 이용되고 있다. 근래, LCD의 박형화에 수반하여, 편광판의 박층화가 요구되게 되고 있다. 그러나, 이 때문에 보호 필름으로서 이용되고 있는 TAC 필름의 두께를 얇게 하면, 충분한 기계 강도를 얻을 수 없고, 또 투습성이 악화된다는 문제가 발생한다. 또, TAC 필름은 매우 고가여서, 저렴한 대체 소재로서 폴리에스테르 필름이 제안되어 있지만(특허문헌 1∼3), 무지개상(狀)의 색 얼룩이 관찰된다는 문제가 있었다.
편광자의 편측에 복굴절성을 갖는 배향 폴리에스테르 필름을 배치한 경우, 백라이트 유닛, 또는 편광자로부터 출사한 직선 편광은 폴리에스테르 필름을 통과할 때에 편광 상태가 변화한다. 투과한 광은 배향 폴리에스테르 필름의 복굴절과 두께의 곱인 리타데이션에 특유의 간섭색을 나타낸다. 그 때문에, 광원으로서 냉음극관이나 열음극관 등 불연속인 발광 스펙트럼을 이용하면, 파장에 따라 다른 투과광 강도를 나타내어, 무지개상의 색 얼룩이 된다.
상기의 문제를 해결하는 수단으로서, 백라이트 광원으로서 백색 발광 다이오드와 같은 연속적이고 폭넓은 발광 스펙트럼을 갖는 백색 광원을 이용하고, 또한 편광자 보호 필름으로서 일정의 리타데이션을 갖는 배향 폴리에스테르 필름을 이용하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 4). 백색 발광 다이오드는, 가시광 영역에 있어서 연속적이고 폭넓은 발광 스펙트럼을 갖는다. 그 때문에, 복굴절체를 투과한 투과광에 의한 간섭색 스펙트럼의 포락선 형상에 주목하면, 배향 폴리에스테르 필름의 리타데이션을 제어함으로써, 광원의 발광 스펙트럼과 서로 유사한 스펙트럼을 얻는 것이 가능하게 되고, 이것에 의해 무지개 얼룩을 억제하는 것을 가능하게 했다.
무지개 얼룩 억제를 목적으로 일정의 리타데이션을 부여한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은 편광자 보호 필름, 터치 패널 등의 투명 도전성 필름의 기재(基材), 표면 커버 필름 등 다양한 용도에 이용되지만, 그 높은 배향 이방성 때문에, 필름 내부에서의 벽개(劈開)가 생기기 쉬워져, 가공 적성을 저하시킬 가능성이 있는 것을 알게 되었다. 특히, 상기의 용도에서는, 하드 코트층, 반사 방지층, 방현층, 광확산층, 렌즈층, 프리즘층 등의 기능층이 필름에 설치되는 경우나 다른 소재 등과 라미네이트되어, 적층 필름으로서 이용되는 경우가 많다. 이들 적층 필름은 필름에 기능층을 도공(塗工)하거나, 다른 소재와 접착제를 개재하여 첩합(貼合)시키거나 한 후, 단부를 슬릿하거나, 필요 폭으로 슬릿하거나, 필요 길이로 절단하거나, 필요한 형상으로 펀칭하는 등 최종적인 제품에 장착되기까지 다양한 단계에서 칼날에 의해 커트되는데, 이 커트된 부분에 있어서 필름의 내부에서 벽개하는 경우가 있었다. 또, 최종적인 제품에 장착된 후라도, 사용 중에 벽개하는 경우가 있었다. 커트된 부분의 벽개는, 커트 시에 발생하는 경우나 그 후의 공정에서의 자극으로 발생하는 경우 등이 있는데, 어느 경우나, 벽개한 부분이 백화하거나, 벗겨진 부분이 미분(微粉)으로서 이물이 되거나 하여 제품의 품질을 해치는 경우가 있었다.
즉, 본 발명에서는, 가공 적성이 뛰어나고, 특히, 칼로 커트한 부분의 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 또, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널, 및 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 특정 범위의 리타데이션을 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름에 대해서, ATR-FTIR법으로 측정한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정(非晶) 배향 파라미터를 일정 이상의 값으로 제어함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
대표적인 본 발명은 이하와 같다.
항 1.
하기의 (1) 및 (2)를 만족시키는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(1) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 3000∼30000nm의 리타데이션을 갖는다,
(2) 다음 식으로 표시되는, ATR-FTIR법으로 측정한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터가 0.330 이상이다,
(비결정 배향 파라미터)＝Rslow/Rfast
단, Rslow＝(지상축(遲相軸) 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(지상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도), Rfast＝(진상축(進相軸) 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(진상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도)이다.
항 2.
또한 하기 (3)을 만족시키는, 항 1에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(3) 지상축 방향의 파단 강도가 450MPa 이하이다.
항 3.
또한 하기 (4)를 만족시키는, 항 1 또는 2에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(4) 면 배향 계수 ΔP가 0.135 이하이다.
항 4.
또한 하기 (5)를 만족시키는, 항 1∼3 중 어느 것에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(5) 다음 식으로 표시되는 강직 비결정 분율이 33 질량％ 이상이다.
(강직 비결정 분율(질량％))＝100－(가동 비결정 분율(질량％))－(질량 분율 결정화도(질량％))
항 5.
편광자 중 적어도 한쪽의 면에 항 1∼4 중 어느 것에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 편광자 보호 필름으로서 적층된 편광판.
항 6.
항 5에 기재한 편광판을 갖는 화상 표시 장치.
항 7.
백라이트 광원, 2개의 편광판, 및 상기 2개의 편광판의 사이에 배치된 액정 셀을 갖는 액정 표시 장치로서,
상기 2개의 편광판 중 적어도 한쪽이 항 5에 기재한 편광판인, 액정 표시 장치.
항 8.
항 5에 기재한 편광판을 갖는 유기 EL 표시 장치.
항 9.
투명 도전성 필름의 기재 필름으로서, 항 1∼4 중 어느 것에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 갖는 투명 도전성 필름.
항 10.
항 9에 기재한 투명 도전성 필름을 갖는 터치 패널.
항 11.
화상 표시 패널의 시인측(視認側)에, 비산 방지 필름 또는 표면 보호 필름으로서 항 1∼4 중 어느 것에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 갖는 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 가공 적성이 뛰어나고, 특히, 칼로 커트한 부분의 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 제공할 수 있다. 또, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널, 및 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
1. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 3000nm 이상 30000nm 이하의 리타데이션을 갖는 것이 바람직하다. 리타데이션이 3000nm 이상이면, 경사 방향에서 관찰했을 때에 간섭색의 발생을 억제하여, 양호한 시인성을 확보할 수 있다. 바람직한 리타데이션의 하한치는 4000nm, 다음으로 바람직한 하한치는 5000nm이다.
한편, 리타데이션의 상한은 30000nm가 바람직하다. 그 이상의 리타데이션을 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용했다고 하더라도 한층 더한 시인성의 개선 효과는 실질적으로 얻어지지 않고, 필름의 두께도 상당히 두꺼워져, 공업 재료로서의 취급성이 저하된다. 바람직한 상한치는 10000nm이고, 보다 바람직한 상한치는 9000nm이며, 더욱더 바람직한 상한치는 8000nm이다.
또한, 필름면내에 있어서의 굴절률차(지상축 방향의 굴절률－진상축 방향의 굴절률)는, 0.08 이상이 바람직하다. 일방향으로 강하게 연신되어, 필름면내에 있어서의 굴절률차가 큰 쪽이, 보다 얇은 필름이라도 충분한 리타데이션을 얻을 수 있어, 박막화의 관점에서 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.09 이상, 더욱 바람직하게는 0.10 이상이다. 한편, 필름면내의 굴절률차가 너무 커지면, 필름의 역학 특성의 이방성이 현저해지기 때문에, 찢어짐, 갈라짐 등이 발생하기 쉬워지는 경향이 있어, 상기 굴절률차의 상한은 0.15 이하가 바람직하고, 보다 바람직한 상한치는 0.145이며, 더욱 바람직한 상한치는 0.14이고, 더욱더 바람직한 상한치는 0.135이며, 특히 바람직한 상한치는 0.13이고, 가장 바람직한 상한치는 0.125 이하이다.
또한, 본 발명의 리타데이션은, 필름면내에 있어서의 2축 방향의 굴절률과 필름 두께를 측정하여 구할 수도 있고, KOBRA-21ADH(오지 게이소쿠 기기 가부시키가이샤)와 같은 시판의 자동 복굴절 측정 장치를 이용하여 구할 수도 있다. 굴절률의 측정 파장은 589nm에서 측정한다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 필름면내에 있어서의 지상축 방향으로의 비결정 배향도의 지표인 비결정 배향 파라미터가 0.330 이상인 것이, 커트 시의 절삭 저항을 저감하여, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 억제하는 관점에서 바람직하다. 본 발명의 비결정 배향 파라미터는 0.330 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.332 이상이며, 보다 바람직하게는 0.334 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.335 이상이다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 배향 이방성이 너무 증대하는 일 없이 커트 시의 절삭 저항을 보다 저감 할 수 있는 점에서, 비결정 배향 파라미터는, 전술의 하한치를 만족시키는 것에 더하여, 상한치가 0.500 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 상한치는 0.450 이하이고, 더욱 바람직한 상한치는 0.400 이하이며, 더욱더 바람직한 상한치는 0.390 미만이다. 더욱더 바람직한 상한치는 0.385 이하이고, 더욱더 바람직한 상한치는 0.380 이하이다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터는, 하기의 (1)식으로 표시된다.
(비결정 배향 파라미터)＝Rslow/Rfast…(1)
상기 (1)식에서, Rslow＝(지상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(지상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도), Rfast＝(진상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(진상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도)이다. 1372cm-1에 있어서의 흡광도 및 795cm-1에 있어서의 흡광도는, FTS 60A/896(베리안사)과 같은 시판의 푸리에 변환 적외 분광 광도계를 이용하여, 전반사 측정법에 의한 푸리에 변환 적외 분광법(ATR-FTIR)에 의해 구할 수 있다. 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 적외 흡수 스펙트럼에 있어서, 1372cm-1에 있어서의 흡광도는, 메틸렌기 부분의 입체 배좌(配座) 중, 주로 비결정 영역에 포함되는 고쉬(gauche) 배좌를 반영한다. 한편, 795cm-1에 있어서의 흡광도는 벤젠환의 면외 진동을 반영하고 있고, 필름 표면의 배향도나 ATR 측정 시의 모루(앤빌)의 압압(押壓) 누름에 의해 흡광도가 변화하지 않기 때문에, 다른 파수에 있어서의 흡광도의 규격화에 이용할 수 있다. 또한, 1372cm-1에 있어서의 흡광도란, 정확히 1372cm-1에 있어서의 흡광도를 반드시 의미하는 것은 아니며, 1372cm-1 부근(1367cm-1∼1377cm-1)에 관찰되는 피크 톱의 흡광도를 나타내고 있고, 명확한 피크 톱이 관찰되지 않는 경우에는, 1372cm-1에 있어서의 흡광도를 읽을 수 있다. 마찬가지로, 795cm-1에 있어서의 흡광도란, 정확히 795cm-1에 있어서의 흡광도를 반드시 의미하는 것은 아니며, 795cm-1 부근(790cm-1∼800cm-1)에 관찰되는 피크 톱의 흡광도를 나타내고 있고, 명확한 피크 톱이 관찰되지 않는 경우에는, 795cm-1에 있어서의 흡광도를 읽을 수 있다. 측정 방법의 상세는 실시예에서 후술한다.
일반적으로, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 가공 적성은, 연신에 수반하여 배향 방향으로 성장하는 결정의 영향을 받는다. 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 무지개 얼룩 억제를 목적으로 필름면내의 배향 이방성이 높여져 있고, 주연신 방향에 상당하는 지상축 방향에 대해 우선적으로 결정이 성장한다. 결정의 성장은, 지상축 방향과 직교하는 진상축 방향에서의 절삭 저항을 높이는 동시에, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 취화(脆化)시킨다. 상술의 이유에 의해, 이미 알려진 방법에 의해 제막된 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 칼로 커트한 부분에 있어서, 필름의 진상축 방향에 평행한 변의 단부에 필름층 내에서의 벽개를 발생시키는 경우가 있었다. 본 발명자들이 여러 가지 검토한 결과, 필름면내에 있어서의 지상축 방향으로의 비결정 배향도의 지표인 비결정 배향 파라미터를 상기 범위로 제어함으로써, 배향 이방성을 높인 경우라도 진상축 방향에 있어서의 절삭 저항의 증대나 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 효과적으로 억제하여, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제 가능하게 되는 것을 찾아냈다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 비결정 배향 파라미터를 상기의 특정 범위로 제어하는 것에 더하여, 필름면내의 지상축 방향에 있어서의 파단 강도가 450MPa 이하인 것이, 진상축 방향에 있어서의 절삭 저항을 보다 저감하여, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 보다 억제하는 관점에서 바람직하다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 지상축 방향에 있어서의 파단 강도는 450MPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 440MPa 이하이며, 보다 바람직하게는 430MPa 이하이고, 더욱 바람직하게는 420MPa 이하이다. 하한은 특별히 한정되지 않지만, 무지개 얼룩 억제에 충분한 배향 이방성을 유지하는 관점에서, 220MPa 이상이 바람직하고, 보다 바람직한 하한치는 230MPa이며, 더욱 바람직한 하한치는 240MPa이고, 더욱더 바람직한 하한치는 250MPa이다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 면 배향 계수 ΔP가 0.135 이하인 것이, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 보다 억제하는 관점에서 바람직하다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 면 배향 계수 ΔP는 0.135 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.125 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.12 이하이다. 면 배향 계수는 0.08 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.10 이상이다. 면 배향 계수가 0.08 미만에서는, 필름 두께가 변동하여, 리타데이션의 값이 필름면내에서 불균일하게 되는 경우가 있다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 강직 비결정 분율이 33 질량％ 이상인 것이, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 보다 억제하여, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 보다 억제하는 관점에서 바람직하다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 강직 비결정 분율은 33 질량％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 34 질량％ 이상이며, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 36 질량％ 이상이다. 상한은 60 질량％가 바람직하지만, 50 질량％ 또는 45 질량％ 정도라도 충분하다. 여기에서, 강직 비결정 분율은 하기의 (2)식으로 표시된다.
(강직 비결정 분율(질량％))＝100－(가동 비결정 분율(질량％))－(질량 분율 결정화도(질량％))
…(2)
종래, 고분자의 고차 구조는 결정과 비결정으로 나뉘어 있다고 생각되어 왔다. 그러나 근래, 비결정 영역은 그 분자 운동의 온도 의존성에 따라 더욱 구별 가능하여, 유리 전이점(Tg)에서 분자 운동이 해방되는 가동 비결정과, Tg 이상의 온도에서도 분자 운동이 동결된 강직 비결정으로 나누어지는 것이 보고되어 있다. 이 강직 비결정은, 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 경우, 200℃ 근방의 온도까지 비결정인 채로 유지되는 것이 알려져 있다. 일반적으로, 이 강직 비결정은, 결정과 가동 비결정의 경계 영역에 존재하고, 결정화도의 증대에 수반하여 강직 비결정 분율도 증대한다고 생각되고 있다. 본 발명자들이 검토한바, 강직 비결정 분율을 상기 범위로 제어함으로써, 필름면내에 있어서의 배향 이방성을 크게 했을 때에도 결정화에 수반하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 보다 효과적으로 억제하여, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 보다 억제하기 쉬워지는 것을 찾아냈다.
상기 (2)식에서, 강직 비결정 분율은, 가동 비결정 분율 및 질량 분율 결정화도의 값을 이용하여 간접적으로 구해진다. 가동 비결정 분율은, 시차 주사 열량계(TA Instrument사 제조, Q100)를 이용한 온도 변조 DSC 측정으로 얻어지는 가역 열용량 곡선의 Tg에 있어서의 가역 열용량차 ΔCp로부터 구해진다. 한편, 질량 분율 결정화도는, JIS K7112에 따라 밀도 구배관을 이용하여 얻어진 밀도의 값에 의해 산출된다. 상세는 실시예에서 후술한다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 일반적인 폴리에스테르 필름의 제조 방법에 의거하여 제조할 수 있다. 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지를 용융하고, 시트상으로 압출(押出)하여 성형된 무배향 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지를 유리 전이 온도 이상의 온도에 있어서, 롤의 속도차를 이용하여 세로 방향으로 연신한 후, 텐터에 의해 가로 방향으로 연신하여, 열처리를 실시하는 방법을 들 수 있다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 제막 조건을 구체적으로 설명한다. 본 발명자들이 주야로 검토한 결과, 충분히 높은 온도에서 예열을 행한 후에 그것보다도 적당히 낮은 온도에서 연신을 행함으로써, 연신 중의 비결정 분자쇄의 배향을 촉진하여 비결정 배향 파라미터를 효과적으로 높이는 것이 가능해지는 것을 찾아냈다. 연신 온도는, 예열 온도에 대해 적어도 5℃ 이상 낮은 온도로 하는 것이 바람직하다. 세로 연신 및 가로 연신의 구체적인 조건을 설명하면, 예열 온도는 100∼150℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 105∼140℃이며, 특히 바람직하게는 110∼130℃이다. 예열 온도가 너무 낮으면, 비결정 분자쇄의 배향이 진행되기 어려워, 비결정 배향 파라미터를 충분히 증대시키는 것이 어려워지는 경향이 있다. 한편, 예열 온도가 너무 높으면, 연신 시에 두께 편차를 발생시키기 쉬워지는 경향이 있다. 또, 연신 온도는 85∼105℃가 바람직하고, 특히 바람직하게는 90∼100℃이다. 연신 온도가 너무 높으면, 연신 응력이 부족하여, 두께 편차가 발생하는 것 외에, 비결정 배향 파라미터를 충분히 증대시키는 것이 어려워지는 경향이 있다. 한편으로, 연신 온도가 너무 낮으면, 결정이 과잉하게 성장하여 비결정 배향 파라미터를 충분히 증대시키는 것이 어려워지는 경향이 있다. 본 발명자들은, 연신 온도를 상기 범위로 제어함으로써, 예열 온도를 높인 경우에 있어서도, 두께 편차를 억제하면서 비결정 배향 파라미터를 효과적으로 증대시키는 것이 가능한 것을 찾아냈다.
필름 폭 방향(TD 방향)으로 지상축을 갖는 필름을 제조하는 경우, 세로 연신 배율은 0.7∼1.5배가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.7배∼1.0배이다. 가로 연신 배율은 4.0∼7.0배가 바람직하다. 또, 연신 중의 비결정 분자쇄의 완화를 억제하여 강직 비결정 분율을 높이는 관점에서는, 가로 연신 배율은 높게 하는 것이 바람직하다. 가로 연신 배율의 하한은, 4.5배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 4.7배이며, 특히 바람직하게는 5.0배이다. 한편, 가로 연신 배율이 7.0배를 넘으면, 필름이 가로 방향으로 찢어지기 쉬워져 생산성이 저하되는 경향이 있다. 따라서, 가로 연신 배율의 상한은, 7.0배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 6.5배이며, 특히 바람직하게는 6.0배, 가장 바람직하게는 5.5배이다. 한편, 필름 세로 방향(MD 방향)으로 지상축을 갖는 필름을 제조하는 경우, 가로 연신 배율은 바람직하게는 1.0∼3.0배이고, 보다 바람직하게는 2.0∼3.0배이다. 세로 연신 배율은 4.0∼7.0배가 바람직하다. 연신 중의 비결정 분자쇄의 완화를 억제하여 강직 비결정 분율을 높이는 관점에서는, 세로 연신 배율은 높게 하는 것이 바람직하다. 세로 연신 배율의 하한은, 4.5배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 4.7배, 특히 바람직하게는 5.0배이다. 세로 연신 배율이 7.0배를 넘으면, 필름이 세로 방향으로 찢어지기 쉬워져 생산성이 저하되는 점에서, 세로 연신 배율의 상한은, 7.0배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 6.5배, 특히 바람직하게는 6.0배이다. 세로 연신 배율 및 가로 연신 배율을 각각 상기 범위로 함으로써 효과적으로 강직 비결정 분율을 높이는 것이 가능하지만, 한편으로 지상축 방향의 연신 배율을 높임에 따라 결정 성장이 우위가 되어 비결정 배향 파라미터를 충분히 증대시키는 것이 어려워지는 경향이 있다. 따라서, 연신 중의 비결정 분자쇄의 배향을 촉진하여 비결정 배향 파라미터를 상기 범위로 제어하기 위해서는, 전술한 바와 같이 충분히 높은 온도에서 예열을 행한 후에 그것보다도 적당히 낮은 온도에서 연신을 행하는 것이 바람직하다.
리타데이션을 상기 범위로 제어하기 위해서는, 세로 연신 배율과 가로 연신 배율의 비율이나, 연신 온도, 필름의 두께를 제어하는 것이 바람직하다. 가로세로의 연신 배율의 차가 너무 작으면 리타데이션을 크게 하는 것이 어려워지는 경향이 있다.
열처리 시의 결정화에 수반하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 효과적으로 억제하기 위해서는, 강직 비결정 분율을 증대시키는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 연신 중의 비결정 분자쇄의 완화를 억제하는 것이 바람직하고, 필름의 지상축 방향으로의 연신에 있어서의 변형 속도를 크게 하는 것이 바람직하다. 변형 속도는 13％/sec 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15％/sec 이상, 특히 바람직하게는 17％/sec 이상이다. 제막성의 관점에서, 상한은 60％/sec가 바람직하다. 여기에서, 변형 속도는(지상축 방향으로의 연신에 있어서의 공칭 변형(％))/(지상축 방향으로의 연신에 있어서의 소요 시간(sec))으로 표시되는 파라미터이며, 공칭 변형(％)은 ((변형량(mm))/(초기 길이(mm))×100에 의해 구해진다.
이어지는 열처리에 있어서는, 배향 결정화를 촉진하여 리타데이션을 높이는 관점에서, 배향 결정화의 촉진에 충분한 고온에서 처리할 필요가 있다. 한편, 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 상기 열처리를 고온 처리에 이은 저온 처리의 두 단계로 나누어 실시함으로써, 결정의 과잉 성장을 억제하여 비결정 배향 파라미터의 저하를 막는 것이 가능해져, 절삭 저항의 증대나 필름의 취화를 효과적으로 억제 할 수 있는 것을 찾아냈다. 고온 처리 시의 열처리 온도는, 저온 처리 시의 열처리 온도보다도 적어도 5℃ 이상 고온인 것이 바람직하다. 고온 처리 시의 열처리 온도의 하한은, 150℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 160℃이며, 특히 바람직하게는 170℃, 가장 바람직하게는 180℃이다. 한편, 결정의 과잉 성장을 억제하여 비결정 배향 파라미터의 저하를 막는 관점에서는, 고온 처리 시의 열처리 온도의 상한은, 220℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 210℃이며, 특히 바람직하게는 200℃이다. 또, 저온 처리 시의 열처리 온도의 하한은, 100℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 110℃이며, 특히 바람직하게는 120℃, 가장 바람직하게는 130℃이다. 한편, 결정의 과잉 성장을 억제하여 비결정 배향 파라미터의 저하를 막는 관점에서는, 저온 처리 시의 열처리 온도의 상한은, 170℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 160℃이며, 특히 바람직하게는 150℃이다.
본 발명자들은, 충분히 높은 온도에서 예열을 행한 후에 그것보다도 낮은 온도에서 연신을 행하는 것과, 열처리를 고온 처리에 이은 저온 처리의 두 단계로 나누어 실시하는 것을 아울러 행함으로써, 비결정 배향 파라미터를 효과적으로 높이는 것이 가능하며, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 억제에 효과적인 것을 찾아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 구성하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지는, 모노머 유닛의 85 몰％ 이상이 에틸렌 테레프탈레이트인 것이 바람직하다. 에틸렌 테레프탈레이트 단위는 90 몰％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 95 몰％ 이상이다. 또한, 공중합 성분으로는, 공지의 산 성분, 글리콜 성분을 포함해도 된다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지로서, 특히 바람직한 것은, 호모폴리머인 폴리에틸렌 테레프탈레이트이다.
이들 수지는 투명성이 뛰어난 동시에, 열적, 기계적 특성도 뛰어나, 연신 가공에 의해 용이하게 리타데이션을 제어할 수 있다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트는, 고유 복굴절이 커서, 필름의 두께가 얇아도 비교적 용이하게 큰 리타데이션을 얻을 수 있어, 가장 적합한 소재이다.
또, 요오드 색소 등의 광학 기능성 색소의 열화를 억제하는 것을 목적으로, 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 파장 380nm의 광선 투과율을 20％ 이하로 해도 된다. 380nm의 광선 투과율은 15％ 이하가 보다 바람직하고, 10％ 이하가 더욱 바람직하며, 5％ 이하가 특히 바람직하다. 상기 광선 투과율이 20％ 이하이면, 광학 기능성 색소의 자외선에 의한 변질을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 투과율은, 필름의 평면에 대해 수직 방향으로 측정한 것이며, 분광 광도계(예를 들면, 히타치 U-3500형)를 이용하여 측정할 수 있다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 파장 380nm의 투과율을 20％ 이하로 하기 위해서는, 자외선 흡수제의 종류, 농도 및 필름의 두께를 적절히 조절하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 자외선 흡수제는 공지의 물질이다. 자외선 흡수제로는, 유기계 자외선 흡수제와 무기계 자외선 흡수제를 들 수 있지만, 투명성의 관점에서 유기계 자외선 흡수제가 바람직하다. 유기계 자외선 흡수제로는, 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 환상 이미노에스테르계 등, 및 그 조합을 들 수 있지만, 상기 흡광도의 범위이면 특별히 한정되지 않는다. 그러나, 내구성의 관점에서는 벤조트리아졸계, 환상 이미노에스테르계가 특히 바람직하다. 2종 이상의 자외선 흡수제를 병용한 경우에는, 개개의 파장의 자외선을 동시에 흡수시킬 수 있으므로, 보다 자외선 흡수 효과를 개선할 수 있다.
벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 아크릴로니트릴계 자외선 흡수제로는, 예를 들면 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시메틸)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2, 4-디-tert-부틸-6-(5-클로로벤조트리아졸-2-일)페놀, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-(tert-부틸)페놀, 2,2'-메틸렌비스(4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀 등을 들 수 있다. 환상 이미노에스테르계 자외선 흡수제로는, 예를 들면 2,2'-(1,4-페닐렌)비스(4H-3,1-벤조옥사진-4-온), 2-메틸-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-부틸-3,1-벤조옥사진-4-온, 2-페닐-3,1-벤조옥사진-4-온 등을 들 수 있다. 그러나 특별히 이들로 한정되는 것은 아니다.
또, 자외선 흡수제 이외에, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 촉매 이외의 각종의 첨가제를 함유시키는 것도 바람직한 양태이다. 첨가제로서, 예를 들면, 무기 입자, 내열성 고분자 입자, 알칼리 금속 화합물, 알칼리 토류 금속 화합물, 인 화합물, 대전 방지제, 내광제, 난연제, 열 안정제, 산화 방지제, 겔화 방지제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 또, 높은 투명성을 나타내기 위해서는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름에 실질적으로 입자를 함유시키지 않는 것도 바람직하다. 「입자를 실질적으로 함유시키지 않는다」란, 예를 들면 무기 입자의 경우, 형광 X선 분석으로 무기 원소를 정량한 경우에 50ppm 이하, 바람직하게는 10ppm 이하, 특히 바람직하게는 검출 한계 이하가 되는 함유량을 의미한다.
또, 본 발명에 있어서의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름에 자외선 흡수제를 배합하는 방법으로는, 공지의 방법을 조합하여 채용할 수 있는데, 예를 들면 미리 혼련 압출기를 이용해, 건조시킨 자외선 흡수제와 폴리머 원료를 블렌드하여 마스터 배치를 제작해 두고, 필름 제막 시에 소정의 해당 마스터 배치와 폴리머 원료를 혼합하는 방법 등에 의해 배합할 수 있다.
이때 마스터 배치의 자외선 흡수제 농도는 자외선 흡수제를 균일하게 분산시키고, 또한 경제적으로 배합하기 위해 5∼30 질량％의 농도로 하는 것이 바람직하다. 마스터 배치를 제작하는 조건으로는 혼련 압출기를 이용하고, 압출 온도는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 원료의 융점 이상, 290℃ 이하의 온도에서 1∼15분간으로 압출하는 것이 바람직하다. 290℃ 이상에서는 자외선 흡수제의 감량이 크고, 또, 마스터 배치의 점도 저하가 커진다. 압출 시간 1분 이하에서는 자외선 흡수제의 균일한 혼합이 곤란해지는 경향이 있다. 이때, 필요에 따라 안정제, 색조 조정제, 대전 방지제를 첨가해도 된다.
또, 본 발명에서는 필름을 적어도 3층 이상의 다층 구조로 하고, 필름의 중간층에 자외선 흡수제를 첨가해도 된다. 중간층에 자외선 흡수제를 포함하는 3층 구조의 필름은, 구체적으로는 다음과 같이 제작할 수 있다. 외층용으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지의 펠릿 단독, 중간층용으로서 자외선 흡수제를 함유한 마스터 배치와 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지의 펠릿을 소정의 비율로 혼합하고, 건조한 후, 공지의 용융 적층용 압출기에 공급하여, 슬릿상의 다이로부터 시트상으로 압출하고, 캐스팅 롤 상에서 냉각 고화시켜 미연신 필름을 만든다. 즉, 2대 이상의 압출기, 3층의 매니폴드 또는 합류 블록(예를 들면 각형(角型) 합류부를 갖는 합류 블록)을 이용하여, 양외층을 구성하는 필름층, 중간층을 구성하는 필름층을 적층하고, 구금(口金)으로부터 3층의 시트를 압출하고, 캐스팅 롤에서 냉각하여 미연신 필름을 만든다. 또한, 광학 결점의 원인이 되는, 원료인 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 중에 포함되어 있는 이물을 제거하기 위해, 용융 압출 시에 고정밀도 여과를 행하는 것이 바람직하다. 용융 수지의 고정밀도 여과에 이용하는 여재(濾材)의 여과 입자 사이즈(초기 여과 효율 95％)는, 15㎛ 이하가 바람직하다. 여재의 여과 입자 사이즈가 15㎛를 넘으면, 20㎛ 이상의 이물의 제거가 불충분해지기 쉽다.
또한, 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름에는, 필름 표면의 접착성을 양호하게 하기 위해 코로나 처리, 코팅 처리나 화염 처리 등을 실시하거나 하는 것도 가능하다.
본 발명에 있어서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름 표면의 접착성을 양호하게 하기 위해, 본 발명의 필름의 적어도 편면에, 이접착층(易接着層)(접착성 개질 도포층)을 갖는 것이 바람직하다. 이접착층은, 종래 공지의 것을 적절히 채용할 수 있지만, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지 또는 폴리아크릴 수지 중 적어도 1종류를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 여기에서, 「주성분」이란 이접착층을 구성하는 고형 성분 중 50 질량％ 이상인 성분을 말한다. 이접착층의 형성에 이용하는 도포액은, 수용성 또는 수분산성의 공중합 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 및 폴리우레탄 수지 중 적어도 1종을 포함하는 수성 도포액이 바람직하다. 이러한 도포액으로는, 예를 들면, 일본국 특허 제3567927호 공보, 일본국 특허 제3589232호 공보, 일본국 특허 제3589233호 공보, 일본국 특허 제3900191호 공보, 일본국 특허 제4150982호 공보 등에 개시된 수용성 또는 수분산성 공중합 폴리에스테르 수지 용액, 아크릴 수지 용액, 폴리우레탄 수지 용액 등을 들 수 있다.
이접착층은, 예를 들면, 상기 도포액을 미연신 필름 또는 세로 방향의 1축 연신 필름의 편면 또는 양면에 도포한 후, 100∼150℃에서 건조하고, 추가로 가로 방향으로 연신하여 얻을 수 있다. 최종적인 이접착층의 도포량은, 0.05∼0.20g/㎡㎡로 관리하는 것이 바람직하다. 도포량이 0.05g/㎡ 미만이면, 접착성이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 도포량이 0.20g/㎡를 넘으면, 내블로킹성이 저하되는 경우가 있다. 또, 연신 후에 얻어지는 최종적인 이접착층의 두께는, 양호한 도공 외관을 얻는 관점에서, 1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.2㎛ 이하이다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 양면에 이접착층을 설치하는 경우는, 양면의 이접착층의 도포량은, 동일해도 달라도 되며, 각각 독립하여 상기 범위 내에서 설정할 수 있다.
이접착층에는 이활성(易滑性)을 부여하기 위해 입자를 첨가하는 것이 바람직하다. 미립자의 평균 입경은 2㎛ 이하의 입자를 이용하는 것이 바람직하다. 입자의 평균 입경이 2㎛를 넘으면, 입자가 피복층으로부터 탈락하기 쉬워진다. 이접착층에 함유시키는 입자로는, 예를 들면, 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 황산칼슘, 실리카, 알루미나, 탈크, 카올린, 클레이, 인산칼슘, 운모, 헥토라이트, 지르코니아, 산화텅스텐, 불화리튬, 불화칼슘 등의 무기 입자나, 스티렌계, 아크릴계, 멜라민계, 벤조구아나민계, 실리콘계 등의 유기 폴리머계 입자 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 이접착층에 첨가되어도 되고, 2종 이상을 조합하여 첨가할 수도 있다.
또, 도포액을 도포하는 방법으로는, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 리버스 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 키스 코팅법, 롤 브러시법, 스프레이 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 와이어 바 코팅법, 파이프 닥터법 등을 들 수 있고, 이들 방법을 단독으로 또는 조합하여 행할 수 있다.
또한, 상기의 입자의 평균 입경의 측정은 하기 방법에 의해 행한다.
입자를 주사형 전자현미경(SEM)으로 사진을 찍고, 가장 작은 입자 1개의 크기가 2∼5mm가 되는 것과 같은 배율로, 300∼500개의 입자의 최대 직경(가장 떨어진 2점간의 거리)을 측정하여, 그 평균치를 평균 입경으로 한다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 적어도 한쪽의 면에, 이접착층을 개재하여, 하드 코트층, 반사 방지층, 저반사층, 방현층, 광확산층, 렌즈층, 프리즘층 등의 기능층을 적층하는 것도 바람직한 양태이다.
상기와 같은 기능층은, 일반적으로 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용하여 형성되는데, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화 시의 수축에 의해 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층과의 사이에 잔류 변형이 발생하고, 칼로 커트하면 단부에서 잔류 변형이 개방되어 급격한 변형을 일으키기 때문에, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개가 발생하기 쉬워지는 경우가 있다.
또, 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은 접착제를 이용하여 다른 소재와 라미네이트되는 경우도 많은데, 라미네이트의 경우의 접착제의 경화에 의한 잔류 변형, 다른 소재와의 열이나 습도에서의 팽창율의 차이에 의한 변형 등에서도 상기와 마찬가지로 벽개가 생기기 쉬워지는 경우가 있다. 특히, 접착제가, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로 이루어지는 접착제인 경우에, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개가 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개는, 예를 들면 크로스 컷법에 의한 하드 코트 밀착 시험과 같이, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층이 반드시 완전히 절단되지 않는 경우라도, 일부 절단된 단면을 기점으로 하여 발생할 수 있다. 본 발명에 의하면, 상기와 같은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용한 기능층을 적층한 경우나 타소재와 라미네이트한 경우에 있어서도, 진상축 방향에 있어서의 절삭 저항의 증대나 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 효과적으로 억제할 수 있어, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 두께는 임의이지만, 30∼300㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 40∼200㎛의 범위이다. 30㎛를 밑도는 두께의 필름이라도, 원리적으로는 3000nm 이상의 리타데이션을 얻는 것은 가능하다. 그러나, 그 경우에는 필름의 역학 특성의 이방성이 현저해져, 찢어짐, 갈라짐 등이 생기기 쉬워지는 경향이 있다. 특히 바람직한 두께의 하한은 45㎛이다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 편광자 보호 필름으로서 이용하는 경우, 편광판의 두께가 너무 두꺼워지지 않도록, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 두께의 상한은 300㎛ 이하가 바람직하다. 편광자 보호 필름으로서의 실용성의 관점에서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 두께의 상한은 120㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 80㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 75㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 70㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 65㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 60㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 55㎛ 이하이다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름 두께의 하한은 30㎛ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 45㎛ 이상이다. 일반적으로, 박막화의 관점에서는, 편광자 보호 필름의 두께는 30∼65㎛의 범위로 하는 것이 바람직하다.
근래는, 편광자 보호 필름의 한층 더한 박막화의 요망이 강해지고 있어, 편광자 보호 필름의 가공 적성은 점점 더 저하되는 경향이 있다. 그와 같은 경우에 있어서도, 본 발명에 의하면, 진상축 방향에 있어서의 절삭 저항의 증대나 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 취화를 효과적으로 억제할 수 있어, 칼로 커트한 부분의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.
리타데이션의 변동을 억제하기 위해서는, 필름의 두께 편차가 작은 것이 바람직하다. 연신 온도, 연신 배율은 필름의 두께 편차에 큰 영향을 주기 때문에, 두께 편차의 관점에서도 제막 조건의 최적화를 행하는 것이 바람직하다. 특히 리타데이션을 높이기 위해 세로 연신 배율을 낮추면, 세로 두께 편차가 나빠지는 경우가 있다. 세로 두께 편차는 연신 배율의 어느 특정의 범위에서 매우 나빠지는 영역이 있으므로, 이 범위를 제외한 곳에서 제막 조건을 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 필름의 두께 편차는 5.0％ 이하인 것이 바람직하고, 4.5％ 이하인 것이 더욱 바람직하며, 4.0％ 이하인 것이 더욱더 바람직하고, 3.0％ 이하인 것이 특히 바람직하다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, |ny-nz|/|ny-nx|로 표시되는 Nz 계수가 1.7 이하인 것이 바람직하다. Nz 계수는 다음과 같이 하여 구할 수 있다. 분자 배향계(오지 게이소쿠 기기 가부시키가이샤 제조, MOA-6004형 분자 배향계)를 이용하여 필름의 배향축 방향을 구하고, 배향축 방향과 이것에 직교하는 방향의 2축의 굴절률(ny, nx, 단 ny＞nx), 및 두께 방향의 굴절률(nz)을 아베 굴절률계(아타고사 제조, NAR-4T, 측정 파장 589nm)에 의해 구한다. 이렇게 구한 nx, ny, nz를, |ny-nz|/|ny-nx|로 표시되는 식에 대입하여, Nz 계수를 구할 수 있다. Nz 계수는 보다 바람직하게는 1.65 이하, 더욱 바람직하게는 1.63 이하이다. Nz 계수의 하한치는 1.2인 것이 바람직하다. 또, 필름의 기계적 강도를 유지하기 위해서는, Nz 계수의 하한치는 1.3 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.4 이상, 더욱 바람직하게는 1.45 이상이다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 그 리타데이션(Re)과 두께 방향 리타데이션(Rth)의 비(Re/Rth)가, 바람직하게는 0.2 이상, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더욱 바람직하게는 0.6 이상이다. 상기 비(Re/Rth)가 클수록 바람직하다. 상한은 2.0 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.8 이하이다. 또한, 두께 방향 리타데이션이란, 필름 두께 방향 단면에서 보았을 때의 2개의 복굴절 △Nxz(＝|nx-nz|), △Nyz(＝|ny-nz|)에 각각 필름 두께 d를 곱하여 얻어지는 리타데이션의 평균을 나타내는 파라미터이다. nx, ny, nz와 필름 두께 d(nm)를 구하고, (△Nxz×d)와 (△Nyz×d)와의 평균치를 산출하여 두께 방향 리타데이션(Rth)을 구할 수 있다. 또한, nx, ny, nz는, 아베 굴절률계(아타고사 제조, NAR-4T, 측정 파장 589nm)에 의해 구한다.
2. 편광판
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 편광자 보호 필름으로서 이용할 수 있다. 본 발명의 편광판은, 편광자 중 적어도 한쪽의 면에 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 이루어지는 편광자 보호 필름이 적층된 구조를 갖는다. 편광자는, 폴리비닐 알코올(PVA) 등에 요오드를 염착시킨 것 등을 이용할 수 있다.
편광자의, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 적층된 측과는 반대측의 면(다른쪽의 면이라고 한다)에는, TAC 필름이나 아크릴 필름, 노르보르넨계 필름으로 대표되는 것과 같은 복굴절이 없는 필름을 이용하는 것이 바람직하다. 또, 다른쪽의 면에는, 편광자 보호 필름이나 광학 보상 필름 등이 적층되지 않는 양태도 바람직하다. 또, 다른쪽의 면에는, 하드 코트층 등의 도포층이 편광자 상에 적층된 것이어도 된다. 본 발명에 이용되는 편광판에는, 비침 방지나 번쩍임 억제, 흠집 억제 등을 목적으로, 여러 가지 하드 코트를 표면에 도포하는 것도 바람직한 양태이다.
3. 화상 표시 장치
본 발명의 편광판은, 후술하는 바와 같이, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 구성 부재로서 사용할 수 있다.
4. 액정 표시 장치
일반적으로, 액정 패널은, 백라이트 광원에 대향하는 측에서 화상을 표시하는 측(시인측)으로 향하는 순으로, 후면 모듈, 액정 셀 및 전면 모듈로 구성되어 있다. 후면 모듈 및 전면 모듈은, 일반적으로, 투명 기판과, 그 액정 셀측 표면에 형성된 투명 도전막과, 그 반대측에 배치된 편광판으로 구성되어 있다. 여기에서, 편광판은, 후면 모듈에서는, 백라이트 광원에 대향하는 측에 배치되고, 전면 모듈에서는, 화상을 표시하는 측(시인측)에 배치되어 있다.
본 발명의 액정 표시 장치는 적어도, 백라이트 광원, 2개의 편광판, 및 상기 2개의 편광판의 사이에 배치된 액정 셀을 구성 부재로 한다. 또, 이들 이외의 다른 구성, 예를 들면 컬러 필터, 렌즈 필름, 확산 시트, 반사 방지 필름 등을 적절히 가져도 관계없다. 상기 2개의 편광판 중, 적어도 한쪽의 편광판이 전술한 본 발명의 편광판인 것이 바람직하다.
백라이트의 구성으로는, 도광판이나 반사판 등을 구성 부재로 하는 에지 라이트 방식이어도, 직하형 방식이어도 관계없다.
본 발명의 액정 표시 장치 내에 탑재되는 백라이트 광원으로는, 특별히 한정되지 않지만, 400nm 이상 495nm 미만, 495nm 이상 600nm 미만, 및 600nm 이상 780nm 이하의 각 파장 영역에 각각 발광 스펙트럼의 피크 톱을 갖는 백색 광원을 바람직하게 이용할 수 있다. 이와 같은 광원으로는, 예를 들면, 양자점 기술을 이용한 백색 광원, 여기광에 의해 R(적), G(녹)의 영역에 각각 발광 피크를 갖는 형광체와 청색 LED를 이용한 형광체 방식의 백색 LED 광원, 3파장 방식의 백색 LED 광원, 적색 레이저를 조합한 백색 LED 광원, 청색 발광 다이오드와 형광체로서 적어도 K2SiF6:Mn4+인 불화물 형광체(「KSF」라고도 한다)를 갖는 백색 발광 다이오드 등을 들 수 있다.
또, 종래부터 이용되어 온, 화합물 반도체를 사용한 청색광 또는 자외광을 발하는 발광 다이오드와, 형광체(예를 들면, 이트륨·알루미늄·가넷계의 황색 형광체나 테르븀·알루미늄·가넷계의 황색 형광체 등)를 조합한 형광체 방식의 백색 LED도, 바람직하게 이용할 수 있다.
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 이루어지는 편광자 보호 필름의 액정 표시 장치 내에 있어서의 배치는 특별히 한정되지 않지만, 입사광측(광원측)에 배치되는 편광판과, 액정 셀과, 출사광측(시인측)에 배치되는 편광판이 배치된 액정 표시 장치의 경우, 입사광측에 배치되는 편광판의 입사광측의 편광자 보호 필름, 및/또는 출사광측에 배치되는 편광판의 출사광측의 편광자 보호 필름이 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 이루어지는 편광자 보호 필름인 것이 바람직하다. 특히 바람직한 양태는, 출사광측에 배치되는 편광판의 출사광측의 편광자 보호 필름을 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 하는 양태이다. 상기 이외의 위치에 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 이루어지는 편광자 보호 필름을 배치하는 경우는, 액정 셀의 편광 특성을 변화시켜 버리는 경우가 있다. 편광 특성이 필요시 되는 개소에는 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름으로 이루어지는 편광자 보호 필름을 이용하는 것은 바람직하지 않기 때문에, 이와 같은 특정의 위치의 편광판의 보호 필름으로서 사용되는 것이 바람직하다.
본 발명의 액정 표시 장치의 화면 사이즈로는, 특별히 한정되지 않지만, 32인치 이상이 바람직하다.
5. 유기 EL 표시 장치
유기 EL 표시 장치의 시인측에는, 원편광판이 배치되는 것이 바람직하다. 외광이 유기 EL 셀의 금속 전극에서 반사하여 시인측으로 출사되어, 외부에서 시인했을 때, 유기 EL 표시 장치의 표시면이 경면(鏡面)과 같이 보이는 경우가 있다. 이와 같은 외광의 경면 반사를 차폐하기 위해, 유기 EL 셀의 시인측에는 원편광판이 배치되는 것이 바람직하다. 상술한 본 발명의 편광판에, 예를 들면, 1/4 파장판(1/4 파장층)을 적층한 것을, 유기 EL 표시 장치용 원편광판으로서 이용할 수 있다.
6. 투명 도전성 필름 및 터치 패널
터치 패널은, 통상, 1장 또는 2장 이상의 투명 도전성 필름을 갖는다. 투명 도전성 필름은, 기재 필름 상에 투명 도전층이 적층된 구조를 갖는다. 상기 기재 필름으로서, 본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용할 수 있다.터치 패널의 종류 및 방식은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 저항막 방식 터치 패널 및 정전 용량 방식 터치 패널을 들 수 있다.
투명 도전층은, 직접 기재 필름에 적층되어도 되지만, 이접착층 및/또는 여러 가지 다른 층을 개재하여 적층할 수 있다. 다른 층으로는, 예를 들면, 하드 코트층, 인덱스 매칭(IM)층 및 저굴절률층 등을 들 수 있다. IM층은, 예를 들면, 그 자체가 고굴절률층/저굴절률층인 적층 구성(투명 도전성 박막측이 저굴절률층)이며, 이것을 이용함으로써, 액정 표시 화면을 보았을 때에 ITO 패턴을 보이기 어렵게 할 수 있다.
기재 필름 상의 투명 도전층은, 도전성 금속 산화물에 의해 형성할 수 있다. 투명 도전층을 구성하는 도전성 금속 산화물은 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 동, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속의 도전성 금속 산화물이 이용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라서, 추가로 상기 군에 제시된 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 바람직한 투명 도전층은, 예를 들면, 주석 도프 산화인듐(ITO)층 및 안티몬 도프 산화주석(ATO)층이며, 바람직하게는 ITO층이다. 또, 투명 도전층은, Ag 나노와이어, Ag 잉크, Ag 잉크의 자기조직화 도전막, 그물눈상 전극, CNT 잉크, 도전성 고분자여도 된다.
투명 도전층의 두께는 특별히 제한되지 않는다. 투명 도전층은, 공지의 순서에 따라 형성할 수 있다. 예를 들면, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다.
본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 도전층의 면내의 일부가 제거되어 패턴화된 것이어도 된다. 투명 도전층이 패턴화된 투명 도전성 필름은, 기재 필름 상에 투명 도전층이 형성되어 있는 패턴 형성부와, 기재 필름 상에 투명 도전층을 갖고 있지 않은 패턴 개구부를 갖는다. 패턴 형성부의 형상은, 예를 들면, 스트라이프상 외에, 스퀘어상 등을 들 수 있다.
7. 비산 방지 필름, 표면 보호 필름
본 발명의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름은, 비산 방지 필름 또는 표면 보호 필름으로서, 화상 표시 패널의 시인측에 적층하여 이용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은, 하기 실시예에 의해 제한을 받는 것은 아니며, 본 발명의 취지에 적합할 수 있는 범위에서 적절히 변경을 더하여 실시하는 것도 가능하고, 그것들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. 또한, 이하의 실시예에서의 물성의 평가 방법은 이하와 같다.
(1) 리타데이션(Re)
리타데이션이란, 필름 상의 직교하는 2축의 굴절률의 이방성(△Nxy＝|nx-ny|)과 필름 두께 d(nm)와의 곱(△Nxy×d)으로 정의되는 파라미터이며, 광학적 등방성, 이방성을 나타내는 척도이다. 2축의 굴절률의 이방성(△Nxy)은, 이하의 방법에 의해 구했다. 분자 배향계(오지 게이소쿠 기기 가부시키가이샤 제조, MOA-6004형 분자 배향계)를 이용하여, 필름의 지상축 방향을 구하고, 지상축 방향이 측정용 샘플 장변과 평행이 되도록, 4cm×2cm의 장방형을 잘라내어, 측정용 샘플로 했다. 이 샘플에 대해서, 직교하는 2축의 굴절률(지상축 방향의 굴절률: ny, 지상축 방향과 직교하는 방향의 굴절률: nx), 및 두께 방향의 굴절률(nz)을 아베 굴절률계(아타고사 제조, NAR-4T, 측정 파장 589nm)에 의해 구하고, 상기 2축의 굴절률차의 절대치(|nx-ny|)를 굴절률의 이방성(△Nxy)으로 했다. 필름의 두께 d(nm)는 전기 마이크로미터(파인류프사 제조, 밀리트론 1245D)를 이용하여 측정하고, 단위를 nm로 환산했다. 굴절률의 이방성(△Nxy)과 필름의 두께 d(nm)와의 곱(△Nxy×d)으로부터, 리타데이션(Re)을 구했다.
(2) 비결정 배향 파라미터
폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터는, 상기 (1)식으로 표시되고, 푸리에 변환 적외 분광 광도계(베리안사 제조, FTS 60A/896)를 이용해, 전반사 측정법에 의한 푸리에 변환 적외 분광법(ATR-FTIR)에 의해 얻어진 지상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도 A1372-slow, 지상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도 A795-slow, 진상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도 A1372-fast, 진상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도 A795-fast의 값으로부터 산출된다. ATR-FTIR 측정은, 광학계에 편광자를 삽입한 상태에서, ATR 프리즘에 다이아몬드 결정을 이용하고, 입사 각도를 45도로 하여 행하였다. 이때, 광학계에 삽입한 편광자의 투과축과 평행이 되도록 필름의 지상축을 배치하여, 지상축 방향에서의 각 파수 ν(cm-1)에 있어서의 적외 흡수 스펙트럼 Aslow(ν)를 취득했다. 또, 광학계에 삽입한 편광자의 투과축과 평행이 되도록 필름의 진상축을 배치하여, 진상축 방향에서의 각 파수 ν(cm-1)에 있어서의 적외 흡수 스펙트럼 Afast(ν)를 취득했다. 적산 횟수는 샘플, 백그라운드 모두 64회로 하고, 파수 분해능을 2cm-1, 측정 파수 범위를 650∼4000cm-1로 하여 측정을 행하였다. ATR-FTIR 측정에 의해 얻어진 적외 흡수 스펙트럼은, 시료에의 침입 깊이가 파수에 따라 달라 베이스 라인이 만곡하기 때문에, 얻어진 적외 흡수 스펙트럼은, 각 파수 ν(cm-1)에 있어서의 흡광도에, 측정 범위 내의 최대 파수 νMAX(cm-1)와 각 파수 ν(cm-1)의 비 νMAX/ν를 곱함으로써 베이스 라인 보정을 행하였다. 베이스 라인 보정 후의 각 적외 흡수 스펙트럼에 있어서, 1371.385cm-1에 있어서의 흡광도를 A1372-slow 내지 A1372-fast, 792.7415cm-1에 있어서의 흡광도를 A795-slow 내지 A795-fast로 하여 채용했다. 여기에서 흡광도란, 베이스 라인 보정 후의 적외 흡수 스펙트럼에 있어서의, 해당 파수에서의 흡수 강도의 절대치를 가리킨다. 또한, 상기 측정 시에, 필름의 지상축 방향은, 분자 배향계(오지 게이소쿠 기기 가부시키가이샤 제조, MOA-6004형 분자 배향계)를 이용하여 구했다. 그리고, 필름면내에 있어서 지상축 방향과 직교하는 방향을 진상축 방향으로 했다.
(3) 지상축 방향의 파단 강도
지상축 방향의 파단 강도는, JIS C2318의 7.2항에 준거한 인장 시험에 의해 평가했다. 시험편은, 리타데이션(Re)의 측정 시에 얻은 지상축 방향을 장변으로 하여, 180mm×10mm의 직사각형상으로 잘라냈다. 시험편의 양단변에서 40mm 내측의 위치에, 단변에 평행한 길이 10mm의 표선을 각각 그려넣고, 표선에 끼인 길이 100mm의 구간에서 시험편의 두께(mm)를 5점분 측정하여 그 평균치를 구하고, 시험편의 폭 10mm와의 곱을 시험편의 단면적(m㎡)으로 했다. 또한, 필름의 두께는 전기 마이크로미터(파인류프사 제조, 밀리트론 1245D)를 이용하여 측정했다. 시험편의 장변 방향이 인장 방향이 되도록, 표선에서부터 단변에 걸친 영역을 척으로 파지(把持)하여, 인장 시험을 행하였다. 인장 시험에는 정밀 만능 시험기(시마즈 세이사쿠쇼 제조, 오토그래프 AGX-V)를 이용하고, 척 사이 거리는 100mm, 인장 속도는 100mm/min으로 했다. 파단 시의 하중(N)을 시험편의 단면적(m㎡)으로 나눔으로써, 지상축 방향의 파단 강도(MPa)를 얻었다.
(4) 면 배향 계수(ΔP)
리타데이션(Re)의 측정 시에 얻은 굴절률의 값을 이용하여, (nx＋ny)/2－nz로 얻어지는 값을 면 배향 계수(ΔP)로 했다.
(5) 강직 비결정 분율
강직 비결정 분율은, 상기 (2)식으로 표시되고, 가동 비결정 분율 및 질량 분율 결정화도의 값으로부터 간접적으로 산출된다.
가동 비결정 분율은, 시차 주사 열량계(TA Instrument사 제조, Q100)를 이용한 온도 변조 DSC 측정에 의해 얻어진 가역 열용량 곡선의 Tg에서의 가역 열용량차 ΔCp(J/(g·K))로부터, ((시료의 ΔCp)/(완전 비결정의 ΔCp))×100(질량％)으로 정의되는 파라미터이다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 경우, 완전 비결정의 ΔCp＝0.4052(J/(g·K))이다. 시료는 알루미늄팬 내에 2.0±0.2mg으로 칭량하고, MDSC(등록상표) 히트 온리 모드에서, 평균 승온 속도 5.0℃/min, 변조 주기 60sec으로 측정했다. 측정 데이터는 5Hz의 샘플링 주파수로 수집했다. 또, 온도 및 열량의 교정에는 인듐을, 비열(比熱)의 교정에는 사파이어를 이용했다.
이하, Tg 및 ΔCp의 산출 방법을 나타낸다. 우선, 가역 열용량 곡선 F(T)의 온도 T의 1차 도함수 F'(T)를 플롯하고, 2401점마다의 이동평균을 취하여 평활화 처리를 행한 후, 피크 톱에서의 온도의 값을 읽음으로써 Tg를 구했다. 다음으로, 점 A(Tg－15, F(Tg－15)) 및 점 B(Tg＋15, F(Tg＋15))의 2점을 통과하는 직선 G(T)를 구했다. 계속해서, Tg－15≤T≤Tg＋15의 범위에서 F(T)－G(T)가 최소가 되는 온도를 T1, 최대가 되는 온도를 T2로 했다. 여기에서, T1은 유리 전이의 개시 온도, T2는 유리 전이의 종료 온도에 상당하므로, ΔCp＝F(T2)－F(T1)에 의해 ΔCp의 값을 얻었다.
질량 분율 결정화도 χ는, JIS K7112에 따라 물/질산(硝酸)칼슘계의 밀도 구배관을 이용하여 얻어진 밀도의 값 d(g/㎤)를 이용해, 다음 식에 의해 산출했다.
χ＝(dc/d)×((d－da)/(d－dc))×100(질량％)
단, dc: 완전 결정의 밀도, da: 완전 비결정의 밀도
폴리에틸렌 테레프탈레이트의 경우, dc＝1.498(g/㎤), da＝1.335(g/㎤)이다.
(6) 크로스 컷 평가
후술하는 방법으로 작성한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 편면에 메이어 바를 이용하여, 하드 코트 도포액(하기의 U-1)을 건조 후의 막 두께가 4㎛가 되도록 도포하고, 80℃에서 1분간 건조시킨 후, 자외선을 조사하여(적산 광량 200mJ/c㎡), 하드 코트층 적층 필름을 얻었다. 하드 코트층은 24시간 실온 환경하에서 에이징한 후에, JIS K5400에서의 격자(바둑판 눈) 시험에 준거하여 100 매스의 크로스 컷 평가를 행하였다. 통상, 크로스 컷 평가는 하드 코트 등과 기재 필름과의 밀착성을 평가하는 목적으로 행해지지만, 여기에서는 테이프 박리 시에 기재 필름의 벽개가 발생한 바둑판 눈의 수를 카운트하여, 하드 코트 밀착 시험에 있어서의 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름층 내에서의 벽개에 대한 내성의 지표로서 이용했다.
구체적으로는, 틈새 간격 2mm의 커터 가이드를 이용해, 하드 코트층을 관통하여 필름에 이르는 100개의 바둑판 눈 형상의 칼자국을 하드 코트층면에 낸다. 이어서, 셀로판 점착 테이프(니치반 제조, 405번; 24mm 폭)를 바둑판 눈 형상의 칼자국면에 첩부(貼付)하고, 지우개로 문질러 완전히 부착시킨다. 그 후, 수직으로 셀로판 점착 테이프를 하드 코트층 적층 필름의 하드 코트층면으로부터 떼어내고, 필름의 벽개가 발생하여 필름 내부로부터 벗겨진 바둑판 눈의 수를 세었다. (모든 바둑판 눈의 수－필름의 벽개가 발생하여 필름 내부로부터 벗겨진 바둑판 눈의 수)를 분자, 모든 바둑판 눈의 수를 분모로 하여, 이하의 기준에 따라 평가했다. 또한, 바둑판 눈 중에서 필름의 일부분만이 벽개하고 있는 것도 필름의 벽개가 발생한 바둑판 눈으로서 세지만, 하드 코트층면으로부터 벗겨진 것은 필름의 벽개가 발생한 바둑판 눈으로는 세지 않는다.
◎: 61/100 이상 100/100 이하
○: 50/100 이상 60/100 이하
×: 50/100 미만
또한, 벗겨진 바둑판 눈의 박리 계면은, 니콘 인스테크사 제조 공업용 현미경 ECLIPSE(LV100ND)에 의한 대물렌즈 배율 5배 또는 10배의 낙사(落射) 미분 간섭 검경(檢鏡) 관찰로 확인할 수 있다.
(하드 코트층 형성용 도포액: U-1)
우레탄 아크릴레이트계 하드 코트제(아라카와 가가쿠 고교사 제조, 빔 세트(등록상표) 577, 고형분 농도 100％) 95 질량부, 광중합 개시제(BASF 재팬사 제조, 이르가큐어(등록상표) 184, 고형분 농도 100％) 5 질량부, 레벨링제(빅케미 재팬사 제조, BYK307, 고형분 농도 100％) 0.1 질량부를 혼합하고, 시클로헥사논/톨루엔/MEK＝1/3/6의 용매로 희석하여, 고형분 농도 40％의 하드 코트층 형성용 도포액(U-1)을 조제했다.
(7) 무지개 얼룩 관찰
PVA와 요오드로 이루어지는 편광자의 편측에 후술하는 방법으로 작성한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 편광자의 흡수축과 필름의 배향 주축이 수직이 되도록 첩부하고, 그 반대의 면에 시판의 TAC 필름을 첩부하여 편광판을 작성했다. 얻어진 편광판을, 시판의 액정 표시 장치(샤프사 제조, LC32DZ3)에 원래 존재한 출사광측의 편광판과 치환했다. 또한, 편광판의 흡수축이, 원래 액정 표시 장치에 첩부되어 있던 편광판의 흡수축 방향과 일치하도록, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 시인측이 되도록 편광판을 치환했다. 상기 액정 표시 장치는, 청색광 발광 다이오드와 이트륨·알루미늄·가넷계 황색 형광체를 조합한 발광 소자로 이루어지는 백색 LED를 백라이트 광원에 갖는다.
이와 같이 하여 제작한 액정 표시 장치에 백화상을 표시시키고, 디스플레이의 정면 및 경사 방향에서 육안 관찰을 행하여, 무지개 얼룩의 발생에 대해 이하와 같이 판정했다. 또한, 관찰 각도는, 디스플레이의 화면의 중심에서 법선 방향(수직)으로 그은 선과, 디스플레이 중심과 관찰 시의 눈의 위치를 잇는 선이 이루는 각으로 했다.
◎: 관찰 각도 0∼60도의 범위에서, 무지개 얼룩은 관찰되지 않았다.
○: 관찰 각도 0∼60도의 범위에서, 일부 옅은 무지개 얼룩이 관찰되었다.
×: 관찰 각도 0∼60도의 범위에서, 명확하게 무지개 얼룩이 관찰되었다.
(제조예 1 - 폴리에스테르 A)
에스테르화 반응관(缶)을 승온하여 200℃에 도달한 시점에서, 테레프탈산을 86.4 질량부 및 에틸렌 글리콜 64.6 질량부를 넣고, 교반하면서 촉매로서 삼산화안티몬을 0.017 질량부, 초산(酢酸)마그네슘 4수화물을 0.064 질량부, 트리에틸아민 0.16 질량부를 넣었다. 이어서, 가압 승온을 행하여 게이지압 0.34MPa, 240℃의 조건에서 가압 에스테르화 반응을 행한 후, 에스테르화 반응관을 상압으로 되돌려, 인산 0.014 질량부를 첨가했다. 또한, 15분에 걸쳐 260℃로 승온하고, 인산트리메틸 0.012 질량부를 첨가했다. 이어서 15분 후에, 고압 분산기로 분산 처리를 행하고, 15분 후, 얻어진 에스테르화 반응 생성물을 중축합 반응관으로 이송하여, 280℃에서 감압하 중축합 반응을 행하였다.
중축합 반응 종료 후, 95％ 커트 직경이 5㎛인 나스론제 필터로 여과 처리를 행하고, 노즐로부터 스트랜드상으로 압출하고, 미리 여과 처리(구멍 직경: 1㎛ 이하)를 행한 냉각수를 이용해 냉각, 고화시켜, 펠릿상으로 커트하였다. 얻어진 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(A)의 고유 점도는 0.62dl/g이고, 불활성 입자 및 내부 석출 입자는 실질상 함유하고 있지 않았다.(이후, PET (A)로 약기한다.)
(제조예 2 - 폴리에스테르 B)
건조시킨 자외선 흡수제(2,2'-(1,4-페닐렌)비스(4H-3,1-벤조옥사진-4-온) 10 질량부, 입자를 함유하지 않는 PET (A)(고유 점도가 0.62dl/g) 90 질량부를 혼합하고, 혼련 압출기를 이용하여, 자외선 흡수제를 함유하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(B)를 얻었다.(이후, PET (B)로 약기한다.)
(제조예 3 - 접착성 개질 도포액의 조제)
상법(常法)에 의해 에스테르 교환 반응 및 중축합 반응을 행하여, 디카르복시산 성분으로서(디카르복시산 성분 전체에 대하여) 테레프탈산 46 몰％, 이소프탈산 46 몰％ 및 5-술포나토이소프탈산나트륨 8 몰％, 글리콜 성분으로서(글리콜 성분 전체에 대하여) 에틸렌 글리콜 50 몰％ 및 네오펜틸 글리콜 50 몰％의 조성의 수분산성 술폰산 금속염기 함유 공중합 폴리에스테르 수지를 조제했다. 이어서, 물 51.4 질량부, 이소프로필 알코올 38 질량부, n-부틸 셀로솔브 5 질량부, 비이온계 계면활성제 0.06 질량부를 혼합한 후, 가열 교반하여, 77℃에 도달하면, 상기 수분산성 술폰산 금속염기 함유 공중합 폴리에스테르 수지 5 질량부를 첨가하고, 수지의 덩어리가 없어질 때까지 계속 교반한 후, 수지 수분산액을 상온까지 냉각하여, 고형분 농도 5.0 질량％의 균일한 수분산성 공중합 폴리에스테르 수지액을 얻었다. 또한, 응집체 실리카 입자(후지 실리시아(주)사 제조, 사일리시아 310) 3 질량부를 물 50 질량부에 분산시킨 후, 상기 수분산성 공중합 폴리에스테르 수지액 99.46 질량부에 사일리시아 310의 수분산액 0.54 질량부를 첨가하고, 교반하면서 물 20 질량부를 첨가하여, 접착성 개질 도포액을 얻었다.
(실시예 1)
기재 필름 중간층용 원료로서 입자를 함유하지 않는 PET (A) 수지 펠릿 90 질량부와 자외선 흡수제를 함유한 PET (B) 수지 펠릿 10 질량부를 135℃에서 6시간 감압 건조(1Torr)한 후, 압출기 2(중간층 Ⅱ층용)에 공급하고, 또, PET (A)를 상법에 의해 건조하여 압출기 1(외층 I층 및 외층 Ⅲ층용)에 각각 공급하고, 285℃에서 용해했다. 이 2종의 폴리머를, 각각 스테인리스 소결체의 여재(공칭 여과 정밀도 10㎛ 입자 95％ 커트)로 여과하고, 2종 3층 합류 블록으로 적층하여, 구금으로부터 시트상으로 하여 압출한 후, 정전 인가 캐스트법을 이용해 표면 온도 30℃의 캐스팅 드럼에 휘감아 냉각 고화하여, 미연신 필름을 만들었다. 이때, I층, Ⅱ층, Ⅲ층의 두께의 비는 10:80:10이 되도록 각 압출기의 토출량을 조정했다.
이어서, 리버스 롤법에 의해 이 미연신 PET 필름의 양면에 건조 후의 도포량이 0.08g/㎡가 되도록, 상기 접착성 개질 도포액을 도포한 후, 80℃에서 20초간 건조했다.
이 도포층을 형성한 미연신 필름을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 138℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.0배가 되도록, 온도 90℃, 변형 속도 17.2％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 210℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 160℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 65㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(실시예 2)
실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 132℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.0배가 되도록, 온도 90℃, 변형 속도 17.2％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 210℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 160℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 65㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(실시예 3)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 130℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.8배가 되도록, 온도 90℃, 변형 속도 20.0％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 200℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 140℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 40㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(실시예 4)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 120℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.6배가 되도록, 온도 102℃, 변형 속도 39.3％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 180℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 160℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 50㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(실시예 5)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 100℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 4.5배가 되도록, 온도 90℃, 변형 속도 25.2％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 200℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 160℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 60㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(비교예 1)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 100℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.0배가 되도록, 온도 100℃, 변형 속도 34.6％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 180℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 180℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 60㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(비교예 2)
연신 시의 온도를 80℃로 한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로, 필름 두께 약 65㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(비교예 3)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 138℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.8배가 되도록, 온도 90℃, 변형 속도 49.2％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 190℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 190℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 50㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
(비교예 4)
필름의 두께를 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제작된 미연신 필름(도포층 형성 완료의 것)을 텐터 연신기로 유도하여, 필름의 단부를 클립으로 파지하면서, 온도 115℃의 열풍 존으로 유도하여 예열한 후, 폭 방향으로 5.6배가 되도록, 온도 102℃, 변형 속도 39.3％/sec로 연신했다. 다음으로, 폭 방향으로 연신된 폭을 유지한 채로, 온도 180℃의 열풍 존에서 열처리한 후, 온도 180℃의 열풍 존으로 유도하고, 추가로 폭 방향으로 3％의 완화 처리를 행하여, 필름 두께 약 25㎛의 1축 배향 PET 필름을 얻었다.
실시예, 비교예에서 얻어진 PET 필름에 대하여 측정한 결과를 표 1에 나타낸다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 가공 적성이 뛰어나고, 특히, 칼로 커트한 부분의 필름층 내에서의 벽개의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 제공할 수 있다. 또, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 이용한 편광판, 투명 도전성 필름, 터치 패널, 및 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
Claims (11)
- 하기의 (1) 및 (2)를 만족시키는 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(1) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 3000∼30000nm의 리타데이션을 갖는다,
(2) 다음 식으로 표시되는, ATR-FTIR법으로 측정한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름의 비결정 배향 파라미터가 0.330 이상이다,
(비결정 배향 파라미터)＝Rslow/Rfast
단, Rslow＝(지상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(지상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도), Rfast＝(진상축 방향에서의 1372cm-1에 있어서의 흡광도)/(진상축 방향에서의 795cm-1에 있어서의 흡광도)이다. - 제 1 항에 있어서,
또한 하기 (3)을 만족시키는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(3) 지상축 방향의 파단 강도가 450MPa 이하이다. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
또한 하기 (4)를 만족시키는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(4) 면 배향 계수 ΔP가 0.135 이하이다. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
또한 하기 (5)를 만족시키는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름:
(5) 다음 식으로 표시되는 강직 비결정 분율이 33 질량％ 이상이다.
(강직 비결정 분율(질량％))＝100－(가동 비결정 분율(질량％))－(질량 분율 결정화도(질량％)) - 편광자 중 적어도 한쪽의 면에 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름이 편광자 보호 필름으로서 적층된 편광판.
- 제 5 항에 기재한 편광판을 갖는 화상 표시 장치.
- 백라이트 광원, 2개의 편광판, 및 상기 2개의 편광판의 사이에 배치된 액정 셀을 갖는 액정 표시 장치로서,
상기 2개의 편광판 중 적어도 한쪽이 제 5 항에 기재한 편광판인, 액정 표시 장치. - 제 5 항에 기재한 편광판을 갖는 유기 EL 표시 장치.
- 투명 도전성 필름의 기재(基材) 필름으로서, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 갖는 투명 도전성 필름.
- 제 9 항에 기재한 투명 도전성 필름을 갖는 터치 패널.
- 화상 표시 패널의 시인측(視認側)에, 비산 방지 필름 또는 표면 보호 필름으로서 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재한 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지 필름을 갖는 화상 표시 장치.
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116320A (ja) | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Konica Corp | 光学フィルム及びそれを用いた偏光板、製造方法、液晶表示装置 |
| JP2004205773A (ja) | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板、その製造方法及びこれを用いた液晶表示装置 |
| JP2004219620A (ja) | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板保護フィルムとそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
| WO2011162198A1 (ja) | 2010-06-22 | 2011-12-29 | 東洋紡績株式会社 | 液晶表示装置、偏光板および偏光子保護フィルム |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53782A (en) | 1977-03-28 | 1978-01-06 | Honshu Paper Co Ltd | Carton transferring apparatus |
| JPS589233B2 (ja) | 1979-01-24 | 1983-02-19 | 三井造船株式会社 | 石油掘削船 |
| JPS589232B2 (ja) | 1979-11-22 | 1983-02-19 | 株式会社 利根ボ−リング | 拡孔装置 |
| JP3316852B2 (ja) * | 1994-08-30 | 2002-08-19 | 東レ株式会社 | 二軸延伸ポリエステルフィルムおよびその製造方法 |
| JP3900191B2 (ja) | 2004-11-29 | 2007-04-04 | 東洋紡績株式会社 | 積層熱可塑性樹脂フィルムおよび積層熱可塑性樹脂フィルムロール |
| JP4150982B2 (ja) | 2006-10-31 | 2008-09-17 | 東洋紡績株式会社 | 積層フィルム及びそれを得るための接着性改質基材フィルム |
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| WO2019054406A1 (ja) * | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 東洋紡株式会社 | 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP7484080B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2024-05-16 | 東洋紡株式会社 | 配向フィルム、これを用いた画像表示装置、及び、枚葉の配向フィルムの切り出し方法 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116320A (ja) | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Konica Corp | 光学フィルム及びそれを用いた偏光板、製造方法、液晶表示装置 |
| JP2004205773A (ja) | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板、その製造方法及びこれを用いた液晶表示装置 |
| JP2004219620A (ja) | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板保護フィルムとそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
| WO2011162198A1 (ja) | 2010-06-22 | 2011-12-29 | 東洋紡績株式会社 | 液晶表示装置、偏光板および偏光子保護フィルム |
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