KR20230076816A - Photosensitive coloring composition, cured product, organic electroluminescent device and image display device - Google Patents

Photosensitive coloring composition, cured product, organic electroluminescent device and image display device Download PDF

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Abstract

가열 처리 후에 전극의 표면 거칠음을 일으키는 경우가 적은 감광성 착색 조성물을 제공한다.
본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하고, 상기 (a) 착색제가, 특정한 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 또는 상기 화합물의 기하 이성체의 염을 함유하고, 상기 (f) 분산제가, 특정한 일반식 (1), (2) 및 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하고, 4 급 암모늄기를 포함하는 반복 단위를 갖지 않는 아크릴 공중합체 (f1) 을 함유하고, 또한, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하인 것을 특징으로 한다.
A photosensitive coloring composition less likely to cause surface roughness of an electrode after heat treatment is provided.
The photosensitive coloring composition of the present invention contains (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant, a) The colorant contains a compound represented by a specific general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, or a salt of the geometric isomer of the compound, and the dispersant (f) contains a specific formula (1) ), containing the repeating units represented by (2) and (3) and containing an acrylic copolymer (f1) having no repeating units containing a quaternary ammonium group, and the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition, It is characterized in that it is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.

Description

감광성 착색 조성물, 경화물, 유기 전계 발광 소자 및 화상 표시 장치Photosensitive coloring composition, cured product, organic electroluminescent device and image display device

본 발명은, 감광성 착색 조성물, 경화물, 유기 전계 발광 소자 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive coloring composition, a cured product, an organic electroluminescent device, and an image display device.

본원은, 2020년 9월 28일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2020-162460호, 및 2021년 2월 18일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2021-024490호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2020-162460, filed in Japan on September 28, 2020, and Japanese Patent Application No. 2021-024490, filed in Japan on February 18, 2021, content is incorporated here.

액정 디스플레이 (LCD) 는 액정에 대한 전압의 온·오프에 의해 액정 분자의 정렬 방법이 전환되는 성질을 이용하고 있다. LCD 의 셀을 구성하는 각 부재는, 포토리소그래피법으로 대표되는, 감광성 조성물을 이용한 방법에 의해 형성되는 것이 많다. 이 감광성 조성물은, 미세한 구조를 형성하기 쉽고, 대화면용의 기판에 대한 처리도 하기 쉽다는 이유에서, 더욱 그 적용 범위가 넓어지고 있다.A liquid crystal display (LCD) utilizes the property that the alignment method of liquid crystal molecules is switched by turning on/off the voltage to the liquid crystal. Each member which comprises the cell of LCD is formed by the method using the photosensitive composition represented by the photolithography method in many cases. The application range of this photosensitive composition is further widening because it is easy to form a fine structure and it is easy to process a substrate for a large screen.

유기 전계 발광 소자 (유기 일렉트로루미네선스, 유기 EL 이라고도 한다) 를 포함하는 화상 표시 장치는, 콘트라스트나 시야각 등의 시인성이나 응답성이 우수하고, 저소비 전력화, 박형 경량화 및 디스플레이 본체의 플렉시블화가 가능한 점에서, 차세대의 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 로서 주목을 받고 있다.An image display device including an organic electroluminescent element (also referred to as organic electroluminescence or organic EL) has excellent visibility and responsiveness such as contrast and viewing angle, and enables low power consumption, thin and light weight, and flexible display main body. , it is attracting attention as a next-generation flat panel display (FPD).

유기 전계 발광 소자는, 적어도 일방이 투광성을 갖는 한 쌍의 전극 사이에, 발광층 또는 여러 가지의 기능층을 포함하는 유기층이 끼여 지지된 구조를 갖는 것이다. 화상 표시 장치는 화소마다 유기 전계 발광 소자가 배치된 패널을 구동시킴으로써, 화상 표시를 실시하는 것이다.An organic electroluminescent element has a structure in which a light emitting layer or an organic layer including various functional layers is sandwiched and supported between a pair of electrodes at least one of which is light-transmitting. An image display apparatus performs image display by driving a panel on which an organic electroluminescent element is disposed for each pixel.

종래부터 이와 같은 유기 전계 발광 소자는, 기판 상에, 격벽 (뱅크) 을 형성한 후에, 격벽에 둘러싸인 영역 내에, 발광층 혹은 여러 가지의 기능층을 적층하여 제조되고 있다.Conventionally, such an organic electroluminescent device is manufactured by forming barrier ribs (banks) on a substrate and then laminating a light emitting layer or various functional layers in a region surrounded by the barrier ribs.

격벽에 둘러싸인 영역 내에 발광층 등을 성막하기 위해서는, 재료를 진공 상태에서 승화시켜, 기판 상에 부착시켜 성막하는 증착법이 주로 적용되고 있다.In order to form a film such as a light emitting layer in a region surrounded by barrier ribs, a deposition method in which a material is sublimated in a vacuum state and deposited on a substrate to form a film is mainly applied.

또한 최근에는, 캐스트법, 스핀 코트법, 잉크젯 인쇄법과 같은 웨트 프로세스로 성막하는 방법이 주목받고 있다. 특히, 잉크젯 인쇄법은, 대면적으로 한 경우의 막두께 불균일을 저감할 수 있음과 함께, 도포시의 구별 도포에 의한 디스플레이의 고정세화, 재료 사용량의 삭감, 수율의 향상을 도모하는 것이 가능해지기 때문에, 대형 패널에 있어서의 유기층의 성막 방법으로서 바람직하다.In recent years, a method of forming a film by a wet process such as a cast method, a spin coat method, or an inkjet printing method has attracted attention. In particular, the inkjet printing method can reduce unevenness in film thickness in the case of a large area, and it is possible to achieve high resolution of the display, reduction of material usage, and improvement in yield by differential coating at the time of application. For this reason, it is suitable as a film formation method of the organic layer in a large-size panel.

격벽을 용이하게 형성하는 방법으로는, 감광성 조성물을 사용한 포토리소그래피법에 의해 형성하는 방법이 알려져 있다. 또한, 격벽에 차광성을 부여하여 화소 사이의 광 누출을 억제하는 방법으로서, 감광성 조성물 중에 착색제를 함유시키는 방법이 알려져 있다.As a method for easily forming the barrier rib, a method of forming by a photolithography method using a photosensitive composition is known. In addition, as a method of suppressing light leakage between pixels by imparting light-shielding properties to barrier ribs, a method of containing a coloring agent in the photosensitive composition is known.

특허문헌 1 에는, 특정한 유기 흑색 안료와 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써, 아웃 가스의 발생을 억제하는 착색 감광성 수지 조성물에 대해서 기재되어 있다.Patent Literature 1 describes a colored photosensitive resin composition that suppresses generation of outgas by using a specific organic black pigment and alkali-soluble resin.

국제 공개 제2018/101314호International Publication No. 2018/101314

유기 전계 발광 소자에 있어서는 톱 이미션형과 보텀 이미션형의 패널 형태가 있다. 톱 이미션의 경우, 전극으로서 은 등의 반사 전극을 사용하여 그 위에 격벽 등의 경화물을 제작하는데, 가열 처리시에 감광성 조성물 중의 성분이 작용하여, 금속 전극의 부식 혹은 마이그레이션 등을 일으키는 경우가 있다. 전극 표면에 요철이 발생한 (이후, 표면 거칠음, 이라고도 표기한다) 경우에는, 그 부분에 균일하게 발광층을 형성할 수 없어, 유기 전계 발광 소자를 제작했을 때에, 단락 등에 의한 표시 불량을 일으킬 가능성이 있다.In the organic electroluminescent device, there are panel types of top emission type and bottom emission type. In the case of top emission, a reflective electrode such as silver is used as an electrode and a cured product such as a barrier rib is produced thereon. However, during heat treatment, components in the photosensitive composition act to cause corrosion or migration of the metal electrode. there is. When unevenness occurs on the electrode surface (hereinafter also referred to as surface roughness), a light emitting layer cannot be uniformly formed on that portion, and when an organic electroluminescent device is manufactured, there is a possibility that display defects due to short circuits or the like may occur. .

본 발명자들이 검토한 바, 특허문헌 1 에 기재된 착색 감광성 수지 조성물에서는, 전극의 표면 거칠음이 발생하여, 실용상 문제가 있음이 발견되었다.When the present inventors examined, it was discovered that in the colored photosensitive resin composition described in patent document 1, the surface roughness of an electrode generate|occur|produced, and there exists a practical problem.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 가열 처리 후에 전극의 표면 거칠음을 일으키는 경우가 적은 감광성 착색 조성물을 제공하여, 표시 불량이 없고, 신뢰성이 높은 유기 발광 소자, 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to provide a highly reliable organic light emitting element and image display device with no display defects by providing a photosensitive coloring composition that rarely causes surface roughness of electrodes after heat treatment. to be

본 발명자가 예의 검토한 결과, 특정한 분산제와 착색제를 사용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있음을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of earnest examination by the present inventors, it was found that the above-mentioned problems could be solved by using a specific dispersing agent and a coloring agent, and came to complete the present invention.

즉, 본 발명의 요지는 이하와 같다.That is, the gist of the present invention is as follows.

[1] (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,[1] A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,

상기 (a) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하고,The (a) colorant contains at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometric isomer of the compound,

상기 (f) 분산제가, 적어도 하기 일반식 (1), (2) 및 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하고, 4 급 암모늄기를 함유하는 반복 단위를 갖지 않는 아크릴 공중합체 (f1) 을 함유하고,The (f) dispersant contains at least repeating units represented by the following general formulas (1), (2) and (3) and contains an acrylic copolymer (f1) having no repeating units containing a quaternary ammonium group, ,

또한, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.Further, the photosensitive coloring composition characterized in that the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (I) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;(In formula (I), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ;R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are, independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, R 11 , COOH, COOR 11 , COO - , CONH 2 , CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N=CH 2 , N=CHR 11 , N=CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ;

R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 is directly related to each other. or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 11 bridge;

R11 및 R12 는 서로 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.)R 11 and R 12 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms. .)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.

R32 는 수소 원자 또는 메틸기이다.R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.

n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.n is an integer from 1 to 20;

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.

R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.

Z 는 2 가의 연결기이다.Z is a divalent linking group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[2] 상기 (a) 착색제가, 유기 착색 안료를 함유하는, [1] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[2] The photosensitive coloring composition according to [1], wherein the coloring agent (a) contains an organic color pigment.

[3] (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,[3] A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,

경화시킨 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도가 0.5 이상이고,The optical density per 1 μm of film thickness of the cured coating film is 0.5 or more,

상기 (f) 분산제가, 적어도 하기 일반식 (1), (2) 및 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하고, 4 급 암모늄기를 함유하는 반복 단위를 갖지 않는 아크릴 공중합체 (f1) 을 함유하고,The (f) dispersant contains at least repeating units represented by the following general formulas (1), (2) and (3) and contains an acrylic copolymer (f1) having no repeating units containing a quaternary ammonium group, ,

또한, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대해 0.05 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.Further, the photosensitive coloring composition characterized in that the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.

R32 는 수소 원자 또는 메틸기이다.R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.

n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.n is an integer from 1 to 20;

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.

R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.

Z 는 2 가의 연결기이다.Z is a divalent linking group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[4] 상기 (a) 착색제가, 적색 안료 및 주황색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, [3] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[4] The photosensitivity described in [3], wherein the colorant (a) contains at least one selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment, and at least one selected from the group consisting of a blue pigment and a violet pigment. coloring composition.

[5] 상기 아크릴 공중합체 (f1) 이 블록 공중합체인, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[5] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [4], wherein the acrylic copolymer (f1) is a block copolymer.

[6] 상기 아크릴 공중합체 (f1) 의 아민가가 90 mgKOH/g 이상인, [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[6] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [5], wherein the acrylic copolymer (f1) has an amine value of 90 mgKOH/g or more.

[7] 상기 (a) 착색제가, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 10 질량% 이상 함유되는, [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[7] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [6], wherein the coloring agent (a) is contained in an amount of 10% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive coloring composition.

[8] 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위해서 사용되는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[8] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [7], which is used for forming a barrier rib of an organic electroluminescent element.

[9] [1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 수지 조성물을 경화시킨 경화물.[9] A cured product obtained by curing the photosensitive colored resin composition according to any one of [1] to [8].

[10] [9] 에 기재된 경화물을 포함하는 유기 전계 발광 소자.[10] An organic electroluminescent device comprising the cured product according to [9].

[11] [10] 에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.[11] An image display device including the organic electroluminescent device according to [10].

본 발명에 의하면, 가열 처리 후에 전극에 표면 거칠음을 일으키는 경우가 적은 감광성 착색 조성물을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photosensitive coloring composition which rarely causes surface roughness to an electrode after heat treatment can be provided.

이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 그 요지의 범위 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described concretely, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement with various changes within the scope of the summary.

본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」에 대해서도 동일하다.In the present invention, "(meth)acryl" means "acryl and/or methacryl", and the same applies to "(meth)acrylate" and "(meth)acryloyl".

「(공)중합체」란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하고, 「산 (무수물)」, 「(무수)…산」이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다."(Co)polymer" means that includes both a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and "acid (anhydride)", "(anhydride)... "Acid" means containing both an acid and its anhydride.

본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」란, (메트)아크릴산을 포함하는 (공)중합체, 카르복시기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 (공)중합체를 의미한다.In the present invention, "acrylic resin" means a (co)polymer containing (meth)acrylic acid and a (co)polymer containing (meth)acrylic acid ester having a carboxy group.

본 발명에 있어서 「모노머」란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 상대하는 용어로, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 이량체, 삼량체, 올리고머도 포함하는 의미이다.In the present invention, "monomer" is a term relative to so-called high molecular substances (polymers), and is meant to include dimers, trimers, and oligomers in addition to monomers in a narrow sense.

본 발명에 있어서 「전체 고형분량」이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 안료 분산액 중에 포함되는, 용제 이외의 전체 성분량을 의미한다. 용제 이외의 성분이 상온에서 액체라도, 그 성분은 용제에는 포함시키지 않고, 전체 고형분에 포함시킨다.In the present invention, "total solid content" means the total amount of components other than the solvent contained in the photosensitive coloring composition or the pigment dispersion. Even if components other than the solvent are liquid at room temperature, the components are not included in the solvent but included in the total solid content.

본 발명에 있어서,「중량 평균 분자량」이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 의미한다.In this invention, "weight average molecular weight" means the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion by GPC (gel permeation chromatography).

본 발명에 있어서,「아민가」란, 특별히 언급이 없는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 「산가」란, 특별히 언급이 없는 한, 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.In the present invention, "amine value" represents the amine value in terms of effective solid content, unless otherwise specified, and is a value expressed by the amount of base per 1 g of solid content of the dispersant and the mass of equivalent KOH. In addition, the measuring method is mentioned later. An "acid value" represents an acid value in terms of effective solid content, and is calculated by neutralization titration, unless otherwise specified.

안료에 관하여, 「C.I.」란 컬러 인덱스를 의미한다.Regarding a pigment, "C.I." means a color index.

본 명세서에 있어서, 「질량」으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.In this specification, the percentage or part expressed by "mass" has the same meaning as the percentage or part expressed by "weight".

[감광성 착색 조성물][Photosensitive Coloring Composition]

본 발명의 감광성 착색 조성물은,The photosensitive coloring composition of the present invention,

(a) 착색제(a) colorant

(b) 알칼리 가용성 수지(b) Alkali-soluble resin

(c) 광중합 개시제(c) photopolymerization initiator

(d) 에틸렌성 불포화 화합물(d) ethylenically unsaturated compounds

(e) 용제(e) solvent

(f) 분산제(f) dispersant

를 필수 성분으로서 함유한다.contains as an essential component.

제 1 양태로서, (a) 착색제로서, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 염, 또는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유한다.As a first aspect, (a) as a colorant, a compound represented by general formula (I), a geometric isomer of a compound represented by general formula (I), a salt of a compound represented by general formula (I), or a compound represented by general formula (I) It contains at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of salts of the geometrical isomers of the compound shown.

제 2 양태로서, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킨 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도가 0.5 이상이다.As a second aspect, the optical density per 1 μm of film thickness of a coating film obtained by curing the photosensitive coloring composition of the present invention is 0.5 or more.

또 필요에 따라서, 추가로 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 계면 활성제, 안료 유도체, 광산 발생제, 가교제, 메르캅토 화합물, 중합 금지제 등의 그 밖의 배합 성분을 함유하는 것이며, 통상적으로, 각 배합 성분이 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.In addition, if necessary, it contains other compounding components such as adhesion improvers such as silane coupling agents, surfactants, pigment derivatives, photoacid generators, crosslinking agents, mercapto compounds, and polymerization inhibitors. Components are used in a dissolved or dispersed state in a solvent.

<(a)착색제><(a) colorant>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제를 함유한다. (a) 착색제를 함유함으로써, 적당한 광 흡수성, 특히 격벽 등의 차광 부재를 형성하는 용도로 사용하는 경우에는 적당한 차광성을 얻을 수 있다.The photosensitive coloring composition of this invention contains (a) a coloring agent. (a) By containing a coloring agent, suitable light absorption property, especially when used for the purpose of forming light-shielding members, such as a partition, can obtain suitable light-shielding property.

제 1 양태에 있어서, (a) 착색제로서, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 염, 및 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유한다.In the first aspect, (a) as a colorant, a compound represented by general formula (I), a geometric isomer of a compound represented by general formula (I), a salt of a compound represented by general formula (I), and a compound represented by general formula (I) It contains at least 1 sort(s) selected from the group which consists of salts of geometric isomers of the compound represented by.

일반식 (I) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (I)」이라고도 한다) 은, 유기 흑색 안료이다. 방향 고리를 갖는 강직한 골격을 가짐으로써, 가열 처리시에 발생한 염소를 함유하는 가스가 도막 안을 침투하기 어려운 것으로 추정된다. 또 자외선의 투과율이 높기 때문에 도포된 감광성 조성물이 광경화되기 쉬워져, 이들 점에서 유용하다.The compound represented by the general formula (I) (hereinafter also referred to as "compound (I)") is an organic black pigment. It is presumed that by having a rigid skeleton with aromatic rings, gas containing chlorine generated during heat treatment hardly penetrates the inside of the coating film. Moreover, since the transmittance|permeability of an ultraviolet-ray is high, the applied photosensitive composition becomes easy to photocur, and it is useful in these respects.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식 (I) 중, R11 및 R16 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고 ;In formula (I), R 11 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

R12, R13, R14, R15, R17, R18, R19 및 R20 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, COCR21, OOCNH2, OOCNHR21, OOCNR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR22, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22 를 나타내고 ;R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21 , CONR 21 R 22 , CN, OH, OR 21 , COCR 21 , OOCNH 2 , OOCNHR 21 , OOCNR 21 R 22 , NO 2 , NH 2 , NHR 21 , NR 21 R 22 , NHCOR 22 , NR 21 COR 22 , N =CH 2 , N=CHR 21 , N=CR 21 R 22 , SH, SR 21 , SOR 21 , SO 2 R 21 , SO 3 R 21 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ;

R12 와 R13, R13 과 R14, R14 와 R15, R17 과 R18, R18 과 R19, 및 R19 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR21 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고 ;At least one combination selected from the group consisting of R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , and R 19 and R 20 is directly related to each other. may be bonded together, or may be bonded to each other through an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 21 bridge;

R21 및 R22 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.R 21 and R 22 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms. indicate

화합물 (I) 및 화합물 (I) 의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략되어 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 아마도 가장 안정적이다.Compound (I) and geometric isomers of Compound (I) have the following core structure (provided that substituents in the structural formula are omitted), and the trans-trans isomer is probably the most stable.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

화합물 (I) 이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또한, 화합물 (I) 의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When compound (I) is anionic, its charge can be transferred to any known suitable cation, for example a metal, organic, inorganic or metal-organic cation, specifically an alkali metal, alkaline earth metal, transition metal, primary ammonium , Secondary ammonium, tertiary ammonium such as trialkyl ammonium, quaternary ammonium such as tetraalkyl ammonium, or salts compensated with organometallic complexes are preferred. In addition, when the geometric isomer of Compound (I) is anionic, it is preferable that it is the same salt.

일반식 (1) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있는 점에서, 이하의 것이 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없어, 안료의 색상에 영향을 미치지 않는 것으로 생각되기 때문이다.In the substituents of the general formula (1) and their definitions, the following are preferable from the point in which the shielding ratio tends to increase. This is because the following substituents do not absorb and are considered to have no effect on the hue of the pigment.

R12, R14, R15, R17, R19 및 R20 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 12 , R 14 , R 15 , R 17 , R 19 and R 20 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom.

R13 및 R18 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸,β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이고, 특히 바람직하게는 수소 원자이다.R 13 and R 18 are each independently preferably a hydrogen atom, NO 2 , OCH 3 , OC 2 H 5 , a bromine atom, a chlorine atom, CH 3 , C 2 H 5 , N(CH 3 ) 2 , N( CH 3 )(C 2 H 5 ), N(C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl, β-naphthyl, SO 3 H or SO 3 , more preferably atomic hydrogen or SO 3 H; Especially preferably, it is a hydrogen atom.

R11 및 R16 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 11 and R 16 are each independently preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , more preferably a hydrogen atom.

바람직하게는 R11 과 R16, R12 와 R17, R13 과 R18, R14 와 R19, 및 R15 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는 R11 은 R16 과 동일하고, R12 는 R17 과 동일하고, R13 은 R18 과 동일하고, R14 는 R19 와 동일하며, 또한, R15 는 R20 과 동일하다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 11 and R 16 , R 12 and R 17 , R 13 and R 18 , R 14 and R 19 , and R 15 and R 20 is the same, more preferably R 11 is the same as R 16 , R 12 is the same as R 17 , R 13 is the same as R 18 , R 14 is the same as R 19 , and R 15 is the same as R 20 .

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.Examples of the C1-C12 alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, 2-methylbutyl, n -Pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group or dodecyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 투질기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 아다만탄-1-일기 또는 아다만탄-2-일기이다.The cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, for example, a cyclopropyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a trimethylcyclohexyl group, a watery group, a norbornyl group, A bornyl group, norcaryl group, caryl group, menthyl group, norphinyl group, phynyl group, adamantan-1-yl group or adamantan-2-yl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, a vinyl group, an allyl group, a 2-propen-2-yl group, a 2-buten-1-yl group, a 3-buten-1-yl group, a 1,3-butadiene- 2-yl group, 2-penten-1-yl group, 3-penten-2-yl group, 2-menthyl-1-buten-3-yl group, 2-methyl-3-buten-2-yl group, 3-methyl-2- buten-1-yl group, 1,4-pentadien-3-yl group, hexenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group or dodecenyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투옌-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.Examples of the cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms include 2-cyclobuten-1-yl group, 2-cyclopenten-1-yl group, 2-cyclohexen-1-yl group, 3-cyclohexen-1-yl group, 2,4-cyclohexadien-1-yl group, 1-p-menthen-8-yl group, 4(10)-thuyen-10-yl group, 2-norbornen-1-yl group, 2,5-norbornadiene an en-1-yl group, a 7,7-dimethyl-2,4-norcaradien-3-yl group or a camphenyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.An alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, 1-propyn-3-yl group, 1-butyn-4-yl group, 1-pentyn-5-yl group, 2-methyl-3-butyn-2-yl group, 1,4-pentadiin-3-yl group, 1,3-pentadiin-5-yl group, 1-hexyn-6-yl group, cis-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, Trans-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, 1,3-hexadin-5-yl group, 1-octyn-8-yl group, 1-nonin-9-yl group, 1-decyne- 10-yl group or 1-dodecyn-12-yl group.

할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.A halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

상기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물은, 바람직하게는 하기 일반식 (II) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (II)」라고도 한다), 및 화합물 (II) 의 기하 이성체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 화합물이다.The compound represented by the general formula (I) is preferably selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (II) (hereinafter also referred to as "compound (II)") and a geometric isomer of the compound (II) It is a compound containing at least 1 type.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

이와 같은 화합물로는, 예를 들어, 상품명으로, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.As such a compound, Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (manufactured by BASF) is exemplified as a trade name.

이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 방법에 의해 분산하여 사용된다. 또한, 분산시에 화합물 (I) 의 술폰산 유도체, 또는 화합물 (I) 의 기하 이성체의 술폰산 유도체, 특히 화합물 (II) 의 술폰산 유도체, 또는 화합물 (II) 의 기하 이성체의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.This organic black pigment is preferably used after being dispersed by the method described later. In addition, if a sulfonic acid derivative of Compound (I) or a sulfonic acid derivative of a geometric isomer of Compound (I), particularly a sulfonic acid derivative of Compound (II) or a sulfonic acid derivative of a geometric isomer of Compound (II) is present during dispersion, Acidity and preservation may be improved.

본 발명의 제 1 양태에 있어서, (A) 착색제는, 일반식 (I) 의 화합물 이외에 그 밖의 착색제를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 착색제로는, 안료가 바람직하고, 안료는 유기 안료여도 무기 안료여도 된다. 고저항, 저유전율의 관점에서는, 유기 안료가 보다 바람직하고, 특히 후술하는 유기 착색 안료가 더욱 바람직하다.1st aspect of this invention WHEREIN: (A) The coloring agent may contain other coloring agents other than the compound of general formula (I). As another coloring agent, a pigment is preferable, and an organic pigment or an inorganic pigment may be sufficient as the pigment. From the viewpoint of high resistance and low permittivity, organic pigments are more preferred, and organic color pigments described later are particularly preferred.

유기 착색 안료 중에서도, 가시광 영역의 고파장역의 투과율을 균일하게 하는 관점에서, 화합물 (I) 과 청색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. 피그먼트 블루 B60, 15 : 6, 16 이 바람직하고, 피그먼트 블루 B60 이 보다 바람직하다.Among organic color pigments, it is preferable to use compound (I) and a blue pigment from the viewpoint of making the transmittance in the high wavelength region of the visible light region uniform. Pigment Blue B60, 15:6, 16 are preferable, and Pigment Blue B60 is more preferable.

한편, 가시광 영역 전체의 투과율을 균일하게 하는 관점에서, 화합물 (I) 이외에, 적색 안료 및 주황색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 사용하는 것이 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of making the transmittance of the entire visible light region uniform, in addition to compound (I), at least one selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment, and at least one selected from the group consisting of a blue pigment and a violet pigment It is preferable to use

제 2 양태에 있어서, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 경화시킨 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (이하, 「단위 막두께당 OD」라고 부르는 경우가 있다) 가 0.5 이상이다. (a) 착색제를 함유하고, 또한, 단위 막두께당 OD 를 상기 하한값 이상으로 함으로써, 얻어지는 경화물, 특히 격벽의 차광성이 높아진다.In the second aspect, the photosensitive coloring composition of the present invention has an optical density per 1 μm of film thickness of a cured coating film (hereinafter sometimes referred to as “OD per unit film thickness”) of 0.5 or more. (a) By containing a coloring agent and making OD per unit film thickness more than the said lower limit, the light-shielding property of the hardened|cured material obtained, especially a partition wall becomes high.

단위 막두께당 OD 는, 감광성 착색 조성물을 경화시킨 도막의 광학 농도와 막두께를 측정하고, 광학 농도를 막두께로 나눗셈함으로써 산출할 수 있다. 도막의 제작 조건은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 후술하는 실시예에 기재된 조건을 채용할 수 있다.OD per unit film thickness can be calculated by measuring the optical density and film thickness of a coating film obtained by curing the photosensitive coloring composition, and dividing the optical density by the film thickness. The conditions for producing the coating film are not particularly limited, but, for example, the conditions described in Examples described later can be employed.

단위 막두께당 OD 를 상기 하한값 이상으로 하기 위해서는, 예를 들어 (a) 착색제의 종류나, 전체 고형분량 중의 함유 비율을 적절히 조정하면 된다.In order to make OD per unit film thickness more than the said lower limit, what is necessary is just to adjust suitably the kind of (a) colorant, and the content rate in total solid amount, for example.

본 발명의 제 2 양태에 있어서, 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 (a) 착색제의 종류는 특별히 한정되지 않고, 안료를 사용해도 되고, 염료를 사용해도 된다. 이들 중에서도, 내구성의 관점에서, 안료를 사용하는 것이 바람직하다.2nd aspect of this invention WHEREIN: The kind of (a) colorant which can be used for the photosensitive coloring composition is not specifically limited, A pigment may be used and dye may be used. Among these, it is preferable to use a pigment from a durable viewpoint.

(a) 착색제에 함유되는 안료는, 1 종 단독이어도 되고, 2 종 이상이어도 된다. 특히, 가시 영역에 있어서 균일하게 차광하는 것과, 단위 막두께당 OD 를 양립시킨다는 관점에서는, 2 종 이상인 것이 바람직하다.(a) The pigment contained in the coloring agent may be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable that it is 2 or more types from a viewpoint of uniformly shielding light in a visible region and making OD per unit film thickness compatible.

(a) 착색제로서 사용할 수 있는 안료의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 유기 착색 안료나 흑색 안료를 들 수 있다. 여기서, 유기 착색 안료란, 흑색 이외의 색을 나타내는 유기 안료를 의미하고, 예를 들면, 적색 안료, 주황색 안료, 청색 안료, 보라색 안료, 녹색 안료, 황색 안료를 들 수 있다.(a) Although the kind of pigment which can be used as a coloring agent is not specifically limited, For example, an organic color pigment and a black pigment are mentioned. Here, an organic color pigment means an organic pigment which shows a color other than black, and examples thereof include a red pigment, an orange pigment, a blue pigment, a purple pigment, a green pigment and a yellow pigment.

안료 중에서도, 고저항, 저유전율의 관점에서, 유기 착색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 차광성의 관점에서는, 화합물 (I) 또는 다른 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.Among the pigments, it is preferable to use organic color pigments from the viewpoint of high resistance and low permittivity. Moreover, from a viewpoint of light-shielding property, it is preferable to use compound (I) or another black pigment.

유기 착색 안료는, 1 종을 단독으로 사용해도 되지만, 2 종 이상을 병용해도 된다. 특히, 단위 막두께당 OD 를 0.5 이상으로 한다는 관점에서는, 색이 상이한 유기 착색 안료를 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하고, 검정에 가까운 색을 나타내는 유기 착색 안료의 조합을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.An organic color pigment may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. In particular, from the viewpoint of setting the OD per unit film thickness to 0.5 or more, it is more preferable to use a combination of organic color pigments of different colors, and it is more preferable to use a combination of organic color pigments exhibiting a color close to black.

이들 유기 착색 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계를 들 수 있다. 이하, 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 이하에 예시하는 「C.I. 피그먼트 레드 2」등에 있어서의 「C.I.」는, 컬러 인덱스를 의미한다.The chemical structure of these organic color pigments is not particularly limited, but examples thereof include azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazolone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, indanthrene-based, and perylene-based pigments. there is. Hereinafter, specific examples of pigments that can be used are indicated by pigment numbers. The “C.I. "C.I." in "Pigment Red 2" or the like means a color index.

적색 안료로는, C.I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다. 차광성, 분산성의 관점에서 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다. 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 가 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것이 바람직하여, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 레드 254, 272 가 보다 바람직하다.As a red pigment, C.I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48 , 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53, 53:1, 53:2, 53 : 3, 57, 57:1, 57:2, 58:4, 60, 63, 63:1, 63:2, 64, 64:1, 68, 69, 81, 81:1, 81:2, 81 : 3, 81:4, 83, 88, 90:1, 101, 101:1, 104, 108, 108:1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151 ,166,168,169,170,172,173,174,175,176,177,178,179,181,184,185,187,188,190,193,194,200,202,206,207, 208 ,209,210,214,216,220,221,224,230,231,232,233,235,236,237,238,239,242,243,245,247,249,250,251,253, 254 , 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276. From the viewpoints of light-shielding properties and dispersibility, C.I. Pigment Red 48: 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. Pigment Red 177, 209, 224, 254 can be mentioned. In terms of dispersibility and light-shielding properties, C.I. Pigment Red 177, 254, and 272 are preferable, and when the photosensitive coloring composition is cured with ultraviolet rays, as the red pigment, those having low ultraviolet absorption are preferable. From this point of view, C.I. Pigment red 254 and 272 are more preferable.

주황색 (오렌지) 안료로는, C.I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다. 분산성이나 차광성의 관점에서, C.I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 가 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것이 바람직하여, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 오렌지 64, 72 가 보다 바람직하다.As an orange (orange) pigment, C.I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65 , 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. From the viewpoint of dispersibility or light-shielding properties, C.I. Pigment Orange 13, 43, 64, and 72 are preferable, and when the photosensitive coloring composition is cured with ultraviolet rays, as the orange pigment, those having low ultraviolet absorption are preferable. From this point of view, C.I. Pigment Orange 64 and 72 are more preferable.

청색 안료로는, C.I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다. 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 60, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다. 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 이 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것이 바람직하여, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 블루 60 이 보다 바람직하다.As a blue pigment, C.I. Pigment Blue 1, 1:2, 9, 14, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33 , 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79. From the viewpoint of light-shielding properties, preferably C.I. Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 60, more preferably C.I. Pigment Blue 15:6. In terms of dispersibility and light-shielding properties, C.I. Pigment Blue 15:6, 16, 60 are preferable, and when the photosensitive coloring composition is cured with ultraviolet rays, as the blue pigment, those with low ultraviolet absorption are preferable. From this point of view, C.I. Pigment Blue 60 is more preferable.

보라색 안료로는, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 29, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다. 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 가 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 보라색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것이 바람직하여, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 29 가 보다 바람직하다.As a purple pigment, C.I. Pigment Violet 1, 1:1, 2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32 , 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. From the viewpoint of light-shielding properties, preferably C.I. Pigment Violet 19, 23, 29, more preferably C.I. Pigment Violet 23 is exemplified. In terms of dispersibility and light-shielding properties, C.I. Pigment Violet 23 and 29 are preferable, and when the photosensitive coloring composition is cured with ultraviolet rays, as a purple pigment, those having low ultraviolet absorbance are preferable. From this point of view, C.I. Pigment Violet 29 is more preferable.

녹색 안료로는, C.I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58, 59 를 들 수 있다. 바람직하게는 C.I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.As a green pigment, C.I. Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58, 59. . Preferably C.I. Pigment Green 7 and 36 are mentioned.

황색 안료로는, C.I. 피그먼트 옐로 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다. 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.As a yellow pigment, C.I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139 ; 174 ; 03 , 204, 205, 206, 207, 208. Preferably C.I. Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. Pigment Yellow 83, 138, 139, 150, and 180 are exemplified.

경화물의 차광성이나, 형상 및 단차의 컨트롤의 관점에서, 적색 안료, 주황색 안료, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다.At least one selected from the group consisting of red pigments, orange pigments, blue pigments, and purple pigments is preferred from the viewpoints of light-shielding properties of the cured product and control of shape and level difference.

경화물의 차광성이나, 형상 및 단차의 컨트롤의 관점에서는, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable to contain at least 1 or more types of the following pigments from a viewpoint of the light-shielding property of hardened|cured material, and control of a shape and level difference.

적색 안료 : C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272Red pigment: C.I. Pigment Red 177, 254, 272

주황색 안료 : C.I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72Orange pigment: C.I. Pigment Orange 43, 64, 72

청색 안료 : C.I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60Blue Pigment: C.I. Pigment Blue 15: 6, 60

보라색 안료 : C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29Violet Pigment: C.I. Pigment Violet 23, 29

유기 착색 안료를 2 종 이상 병용하는 경우의, 유기 착색 안료의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서, 적색 안료 및 주황색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 병용하는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit about the combination of organic color pigments in the case of using 2 or more types of organic color pigments together, From a light-shielding viewpoint, at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a red pigment and an orange pigment, a blue pigment, and a violet color It is preferable to use together at least 1 sort(s) selected from the group which consists of pigments.

색의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는, 예를 들어, 적색 안료와 청색 안료의 조합, 청색 안료와 주황색 안료의 조합, 청색 안료와 주황색 안료와 보라색 안료의 조합을 들 수 있다.The combination of colors is not particularly limited, but from the viewpoint of light-shielding properties, for example, a combination of a red pigment and a blue pigment, a combination of a blue pigment and an orange pigment, and a combination of a blue pigment, an orange pigment, and a purple pigment are exemplified. .

안료로는, 유기 착색 안료, 일반식 (I) 로 나타내는 유기 흑색 안료 이외의 유기 흑색 안료나, 무기 흑색 안료를 사용할 수 있다.As the pigment, organic black pigments other than organic color pigments and organic black pigments represented by general formula (I) and inorganic black pigments can be used.

일반식 (I) 로 나타내는 유기 흑색 안료 이외의 유기 흑색 안료로는, 예를 들면, 아닐린 블랙이나 페릴렌 블랙을 들 수 있다.As organic black pigments other than the organic black pigment represented by General formula (I), aniline black and perylene black are mentioned, for example.

무기 흑색 안료로는, 예를 들면 국제 공개 제2018/101314호에 기재되어 있는 무기 흑색 안료를 들 수 있다.As an inorganic black pigment, the inorganic black pigment described in international publication 2018/101314 is mentioned, for example.

이들 착색제를 사용함에 있어서, 착색제 중에 염소 원자를 함유하는 경우에는, 염소량이 지나치게 증가하지 않도록 첨가량을 조정함으로써, 사용이 가능하다.In using these coloring agents, when chlorine atoms are contained in the coloring agent, use is possible by adjusting the addition amount so that the amount of chlorine does not increase too much.

이들 안료는, 평균 입자경이 통상 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산하여 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입자경의 기준은 안료 입자의 수이다.These pigments are preferably dispersed and used so that the average particle size is usually 1 μm or less, preferably 0.5 μm or less, and more preferably 0.25 μm or less. Here, the standard for the average particle diameter is the number of pigment particles.

또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, 안료의 평균 입자경은, 동적 광산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입자경으로부터 구한 값이다. 입자경 측정은, 충분히 희석된 감광성 착색 조성물 (통상은 희석하여, 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제한다. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다) 에 대하여 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.In addition, in the photosensitive coloring composition of this invention, the average particle diameter of a pigment is the value calculated|required from the pigment particle diameter measured by dynamic light scattering (DLS). Particle size measurement is carried out on a sufficiently diluted photosensitive coloring composition (usually diluted and prepared at a pigment concentration of about 0.005 to 0.2% by mass. However, if there is a concentration recommended by a measuring instrument, it is followed by that concentration), and is carried out at 25 ° C. measured in

본 발명의 제 2 양태의 감광성 착색 조성물에 있어서, 유기 착색 안료, 흑색 안료 등의 착색제를 1 종류 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.In the photosensitive coloring composition of the second aspect of the present invention, one type of coloring agent such as an organic color pigment or a black pigment may be used alone or two or more types may be used in combination.

상기 서술한 유기 착색 안료, 흑색 안료 외에, 염료를 사용해도 된다. 착색제로서 사용할 수 있는 염료로는, 예를 들면, 국제 공개 제2018/101314호에 기재되어 있는 염료를 들 수 있다.You may use dye other than the organic color pigment and black pigment mentioned above. As a dye which can be used as a coloring agent, the dye described in international publication 2018/101314 is mentioned, for example.

<(b) 알칼리 가용성 수지><(b) alkali-soluble resin>

본 발명에서 사용하는 (b) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복시기 또는 수산기를 함유하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복시기 함유 에폭시 수지, 카르복시기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지를 들 수 있다. 그 중에서도,The (b) alkali-soluble resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, and examples thereof include epoxy (meth)acrylate-based resins, acrylic resins, carboxyl-containing epoxy resins, and carboxyl-containing resins. A urethane resin, a novolak-type resin, and a polyvinyl phenol-type resin are mentioned. inter alia,

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지(b1) Epoxy (meth) acrylate resin

(b2) 아크릴 공중합 수지(b2) acrylic copolymer resin

가 우수한 제판성의 관점에서 바람직하게 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 병용할 수 있다.is preferably used from the viewpoint of excellent platemaking properties. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

<(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1) Epoxy (meth)acrylate-based resin>

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 과 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 에스테르 부분에 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응에 의해 생성된 수산기를, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물 등의 수산기와 반응할 수 있는 치환기를 2 개 이상 갖는 화합물과 반응시켜 얻어지는 수지이다.(b1) Epoxy (meth)acrylate-based resin is a reaction between an epoxy compound (epoxy resin) and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxy group in the ester portion. It is a resin obtained by reacting the hydroxyl group produced by with a compound having two or more substituents capable of reacting with hydroxyl groups such as polybasic acids and/or their anhydrides.

다염기산 및/또는 그 무수물을 수산기와 반응시키기 전에, 수산기와 반응할 수 있는 치환기를 2 개 이상 갖는 화합물을 반응시킨 후, 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.A resin obtained by reacting a compound having two or more substituents capable of reacting with a hydroxyl group before reacting a polybasic acid and/or its anhydride with a hydroxyl group, and then reacting a polybasic acid and/or its anhydride with the above (b1) epoxy ( Included in meth)acrylate-based resins.

상기 반응에 의해 얻어진 수지의 카르복시기에, 추가로 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.A resin obtained by reacting a compound having a functional group capable of further reacting with the carboxy group of the resin obtained by the above reaction is also included in the above (b1) epoxy (meth)acrylate-based resin.

이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는 화학 구조 상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한「(메트)아크릴레이트」에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이며, 또한,「(메트)아크릴레이트」가 대표예이므로 관용에 따라 이와 같이 명명되고 있다.In this way, the epoxy (meth) acrylate-based resin does not substantially have an epoxy group in terms of chemical structure, and is not limited to "(meth) acrylate", but an epoxy compound (epoxy resin) is a raw material, and " (meth)acrylate” is a representative example, so it is named as such according to convention.

본 발명에서 사용하는 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 특히 하기 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지(b1-1) 및/또는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지(b1-2) (이하 「카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」라고 부르는 경우가 있다) 가 현상성, 신뢰성의 관점에서 바람직하게 사용된다.As the (b1) epoxy (meth)acrylate-based resin used in the present invention, in particular, the following epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-1) and/or epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-2) (Hereinafter, it may be called "carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin") is preferably used from the viewpoint of developability and reliability.

또한, (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 아웃 가스의 관점에서, 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 보다 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, as (b1) epoxy (meth)acrylate-type resin, what has an aromatic ring in a principal chain can be used more preferably from a viewpoint of an outgas.

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-1)><Epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-1)>

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 임의로 이소시아네이트기 함유 화합물을 반응시킨 후, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is added to an epoxy resin, optionally an isocyanate group-containing compound is reacted, and then a polybasic acid and/or an anhydride thereof is further reacted. Alkali-soluble resin obtained by

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-2)><Epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-2)>

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 임의로 이소시아네이트기 함유 화합물을 반응시킨 후, 추가로 다가 알코올, 및 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.After adding an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, optionally reacting an isocyanate group-containing compound, further a polyhydric alcohol, and a polybasic acid and/or Alkali-soluble resin obtained by reacting with the anhydride.

여기서, 에폭시 수지란, 열 경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함하여 말하는 것으로 하고, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 혹은 2 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단량체여도 되고 중합체여도 된다.Here, the epoxy resin is meant to include raw material compounds prior to forming the resin by thermal curing, and the epoxy resin can be appropriately selected from known epoxy resins and used. Moreover, the compound obtained by making a phenolic compound and epihalohydrin react can be used for an epoxy resin. As the phenolic compound, a compound having a divalent or a divalent or higher phenolic hydroxyl group is preferable, and may be a monomer or a polymer.

원료가 되는 에폭시 수지의 종류로는, 예를 들어, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔과 페놀 또는 크레졸의 중부가 반응물과 에피할로히드린의 반응 생성물인 에폭시 수지, 아다만틸기 함유 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지를 바람직하게 사용할 수 있고, 이들 중에서도, 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 보다 바람직하게 사용할 수 있다.As a kind of epoxy resin used as a raw material, for example, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenolmethane type epoxy resin, biphenyl furnace A rockfish-type epoxy resin, a naphthalene novolak-type epoxy resin, an epoxy resin that is a reaction product of a polyaddition reaction of dicyclopentadiene and phenol or cresol and epihalohydrin, an epoxy resin containing an adamantyl group, and a fluorene-type epoxy resin. It can be used preferably, and among these, what has an aromatic ring in a principal chain can be used more preferably.

에폭시 수지로는, 예를 들면, 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER (등록상표, 이하 동일) 828」, 「jER1001」, 「jER1002」, 「jER1004」등), 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로로히드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-1302」(에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃)), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER807」, 「EP-4001」, 「EP-4002」, 「EP-4004」등), 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로로히드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-7406」(에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「YX-4000」), 페놀 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 케미컬사 제조의 「EP-152」, 「EP-154」, 다우 케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o, m, p-) 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EOCN (등록상표, 이하 동일)-102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN (등록상표, 이하 동일)-501」, 「EPPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀사 제조의 「셀록사이드 (등록상표, 이하 동일) 2021P」, 「셀록사이드 EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰 화약사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (B1) ∼ (B4) 로 나타내는 에폭시 수지, 를 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 하기 일반식 (B1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (B2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (B3) 으로 나타내는 에폭시 수지로서 오사카 유기 화학 공업사 제조의 「E-201」, 하기 일반식 (B4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 스미킨 화학사 제조의 「ESF-300」을 들 수 있다.As the epoxy resin, for example, bisphenol A type epoxy resin (for example, "jER (registered trademark, hereinafter the same) 828" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "jER1001", "jER1002", "jER1004", etc.), Epoxy resin obtained by reaction of the alcoholic hydroxyl group of bisphenol A type epoxy resin with epichlorohydrin (for example, “NER-1302” manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. (epoxy equivalent 323, softening point 76° C.)), bisphenol F type resin (For example, "jER807", "EP-4001", "EP-4002", "EP-4004", etc. manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in the reaction between the alcoholic hydroxyl group of bisphenol F-type epoxy resin and epichlorohydrin Epoxy resin obtained by (eg, "NER-7406" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (epoxy equivalent 350, softening point 66 ° C.), bisphenol S-type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether (eg, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) "YX-4000" of), phenol novolac type epoxy resin (for example, "EPPN-201" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd., "EP-152" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "EP-154" manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. manufactured "DEN-438"), (o, m, p-) cresol novolak type epoxy resin (for example, "EOCN (registered trademark, hereinafter the same) -102S" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd., "EOCN-1020 ", "EOCN-104S"), triglycidyl isocyanurate (eg, "TEPIC (registered trademark)" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), trisphenolmethane type epoxy resin (eg, manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. "EPPN (registered trademark, hereinafter the same) -501", "EPPN-502", "EPPN-503"), alicyclic epoxy resin ("Seloxide (registered trademark, hereinafter the same) 2021P" manufactured by Daicel, "Cellock Side EHPE”), an epoxy resin obtained by glycidylating a phenol resin by reaction of dicyclopentadiene and phenol (eg, “EXA-7200” manufactured by DIC, “NC-7300” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , epoxy resins represented by the following general formulas (B1) to (B4) can be preferably used. Specifically, for example, "XD-1000" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B1), and "NC-3000" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B2). "E-201" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B3), and "ESF-300" manufactured by Nippon Steel Sumikin Chemical Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B4) can

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

상기 일반식 (B1) 에 있어서, a 는 평균값이며, 0 ∼ 10 의 수를 나타내고, R111 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the above general formula (B1), a is an average value and represents a number from 0 to 10, and R 111 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, or a phenyl group. , a naphthyl group, or a biphenyl group. A plurality of R 111 groups present in one molecule may be the same or different.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

상기 일반식 (B2) 에 있어서, b1 및 b2 는 각각 독립적으로 평균값이며, 0 ∼ 10 의 수를 나타내고, R121 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the above general formula (B2), b1 and b2 are each independently an average value and represent a number of 0 to 10, and R 121 is each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and 3 to 10 carbon atoms. represents a cycloalkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. In addition, a plurality of R 121 groups present in one molecule may be the same or different.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

상기 일반식 (B3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (B3-1) 또는 (B3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 을 나타낸다.In the above general formula (B3), X represents a linking group represented by the following general formula (B3-1) or (B3-2). However, one or more adamantane structures are included in the molecular structure. c represents 2 or 3;

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

상기 일반식 (B3-1) 및 (B3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In the general formulas (B3-1) and (B3-2), R 131 to R 134 and R 135 to R 137 are each independently an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, or a hydrogen atom which may have a substituent. represents an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms or a phenyl group which may have a substituent, and * represents a bond.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

상기 일반식 (B4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타내고, R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.In the above general formula (B4), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and R 143 and R 144 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms each independently, and x and y each independently represent an integer of 0 or greater.

이들 중에서, 일반식 (B1) ∼ (B4) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use an epoxy resin represented by any of general formulas (B1) to (B4).

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산, (메트)아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트에 (무수)숙신산, (무수)프탈산, (무수)말레산 등의 산(무수물)을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다.Examples of α,β-unsaturated monocarboxylic acids or α,β-unsaturated monocarboxylic acid esters having a carboxy group include (meth)acrylic acid, crotonic acid, o-, m- or p-vinylbenzoic acid, and (meth)acrylic acid. α-position haloalkyl, alkoxyl, halogen, nitro, monocarboxylic acids such as cyano substituents, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyladipic acid, 2- (meth)acryloyloxyethylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylmaleic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylsuccinic acid, 2 -(meth)acryloyloxypropyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylmale Acid, 2-(meth)acryloyloxybutylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxybutyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylhydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxy Lactones such as ε-caprolactone, β-propiolactone, γ-butyrolactone, and δ-valerolactone are added to butylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylmaleic acid, and (meth)acrylic acid. a monomer obtained by adding an acid (anhydride) such as (anhydride) succinic acid, (anhydride) phthalic acid, or (anhydride) maleic acid to a monomer or hydroxyalkyl (meth)acrylate or pentaerythritol tri(meth)acrylate; (meth)acrylic acid dimer etc. are mentioned.

이들 중, 감도의 점에서, 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.Among these, (meth)acrylic acid is particularly preferred in terms of sensitivity.

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다. 여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.As a method for adding an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, a known method can be used. For example, an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxy group and an epoxy resin can be reacted at a temperature of 50 to 150° C. in the presence of an esterification catalyst. . Examples of the esterification catalyst used herein include tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, and dodecyltrimethylammonium chloride. etc. can be used.

에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매의 각 성분은, 각 성분을 1 종씩 선택하여 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Each component of the epoxy resin, the α,β-unsaturated monocarboxylic acid or the α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxy group, and the esterification catalyst may be used by selecting one of each component, or two or more types. may be used in combination.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대하여 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다. α,β-불포화 모노카복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카복실산 에스테르의 사용량을 상기 하한값 이상으로 함으로써 불포화기의 도입량의 부족을 억제할 수 있어, 계속되는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 충분한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 미반응물의 잔존을 억제할 수 있어, 경화 특성을 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 인정된다.The amount of α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxy group is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably 0.7 to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. to 1.1 equivalents. By setting the amount of α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to be used not less than the above lower limit, an insufficient amount of unsaturated groups introduced can be suppressed, and the subsequent reaction with the polybasic acid and/or its anhydride is sufficient. It tends to be easy to do. On the other hand, by setting the above upper limit or less, the remaining unreacted product of α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxy group can be suppressed, and the curing properties tend to be good. It is acknowledged.

다염기산 및/또는 그 무수물로는, 예를 들어, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물을 들 수 있다.Examples of polybasic acids and/or anhydrides thereof include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, and methylhexahydrophthalic acid. , endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and anhydrides thereof.

바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 이무수물이다.Preferably, it is maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or an anhydride thereof. Particularly preferred are tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, tetrahydrophthalic anhydride, or biphenyltetracarboxylic dianhydride.

다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응은, 공지된 수법을 사용하여 실시할 수 있고, 에폭시 수지에 대한 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성되는 카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가가 10 ∼ 150 mgKOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하고, 또한 20 ∼ 140 mgKOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 경화 성능이 양호해지는 경향이 있다.The addition reaction of the polybasic acid and/or its anhydride can be carried out using a known method, and the α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to the epoxy resin. Under the same conditions as for the addition reaction, the desired product can be obtained by continuing the reaction. The added amount of the polybasic acid and/or its anhydride component is preferably such that the acid value of the resulting carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin is in the range of 10 to 150 mgKOH/g, and is preferably 20 to 140 mgKOH/g It is preferable that the degree to be in the range of There exists a tendency for alkali developability to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for hardening performance to become favorable by using below the said upper limit.

다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올에탄, 1,2,3-프로판트리올 등의 다관능 알코올 (다가 알코올) 을 첨가하고, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다. 이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다관능 알코올의 혼합 순서에, 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복시기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다관능 알코올의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대하여 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.During the addition reaction of polybasic acids and/or their anhydrides, polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolethane, and 1,2,3-propanetriol (polyhydric alcohols) alcohol) may be added to introduce a multi-branched structure. In this case, the order of mixing the polybasic acid and/or its anhydride with the polyfunctional alcohol is not particularly limited. By heating, polybasic acids and/or polybasic acids and/or polybasic acids and/or polybasic acids and/or their Anhydride reacts with addition.

다가 알코올을 사용함으로써, (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 의 분자량을 증대시키고, 분자 중에 분기를 도입할 수 있어, 분자량과 점도의 밸런스를 취할 수 있는 경향이 있다. 또, 분자 중에 대한 산기의 도입률을 증대시킬 수 있어, 감도나 밀착성 등의 균형을 잡기 쉬운 경향이 있다.By using a polyhydric alcohol, (b1) the molecular weight of the epoxy (meth)acrylate resin can be increased and a branch can be introduced into the molecule, so that the molecular weight and viscosity tend to be balanced. In addition, the rate of introduction of acid groups into molecules can be increased, and there is a tendency that it is easy to balance sensitivity, adhesion, and the like.

카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 전술한 것 이외에, 예를 들어, 대한민국 공개 특허 제10-2013-0022955호에 기재된 것을 들 수 있다.As a carboxy group-containing epoxy (meth)acrylate-type resin, in addition to what was mentioned above, what was described in Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2013-0022955 is mentioned, for example.

카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 통상 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상, 보다 바람직하게는 2000 이상, 보다 바람직하게는 3000 이상, 더욱 바람직하게는 4000 이상, 특히 바람직하게는 5000 이상이고, 통상 30000 이하, 바람직하게는 20000 이하, 보다 바람직하게는 15000 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 1500 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 1500 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 2000 ∼ 15000 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 지나치게 높아지는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is usually 1000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more. , More preferably 3000 or more, still more preferably 4000 or more, particularly preferably 5000 or more, and usually 30000 or less, preferably 20000 or less, more preferably 15000 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1000 to 30000 are preferable, 1500 to 20000 are more preferable, 1500 to 15000 are still more preferable, and 2000 to 15000 are still more preferable. There exists a tendency that it can suppress too much solubility in a developing solution by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the upper limit above, there is a tendency that the solubility to the developer is good.

카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 20 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 100 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하며, 또한, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 150 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 mgKOH/g ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 60 mgKOH/g ∼ 150 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 80 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되어, 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다.The acid value of the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 20 mgKOH/g or more, more preferably 40 mgKOH/g or more, still more preferably 60 mgKOH/g or more, and 80 mgKOH/g or more. g or more is more preferred, 100 mgKOH/g or more is particularly preferred, 200 mgKOH/g or less is preferred, 150 mgKOH/g or less is more preferred, 130 mgKOH/g or less is still more preferred, and 120 mgKOH/g or less is more preferred. Particularly preferred is mgKOH/g or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 20 mgKOH/g to 200 mgKOH/g are preferable, 60 mgKOH/g to 150 mgKOH/g are more preferable, 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g are still more preferable, and 100 mgKOH/g to 130 mgKOH/g is more preferred. There exists a tendency for developing solubility to improve and resolution to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the remaining-film rate of the photosensitive coloring composition to become favorable by carrying out below the said upper limit.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상성, 신뢰성의 관점에서, 하기 일반식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (이하, 「(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」로 약기하는 경우가 있다) 및/또는 하기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (이하, 「(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」로 약기하는 경우가 있다) 를 함유하는 것이 바람직하다.The chemical structure of the epoxy (meth) acrylate-based resin is not particularly limited, but from the viewpoint of developability and reliability, an epoxy (meth) acrylate-based resin having a partial structure represented by the following general formula (b1-I) (hereinafter, Sometimes abbreviated as “(b1-I) epoxy (meth)acrylate resin”) and/or an epoxy (meth)acrylate resin having a partial structure represented by the following general formula (b1-II) (hereinafter, "(b1-II) Epoxy (meth)acrylate-based resin" may be abbreviated) is preferable.

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

식 (b1-I) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, k 는 1 또는 2 를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (b1-I), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, k represents 1 or 2, and * represents a bond.

식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in formula (b1-I) may be further substituted with an arbitrary substituent.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 (b1-II) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (b1-II), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain, and R 15 and R 16 each independently represent; Represents a divalent aliphatic group which may have a substituent, m and n each independently represent an integer of 0 to 2, and * represents a bond.

<(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1-I) Epoxy (meth)acrylate-based resin>

먼저, 상기 일반식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 대해 상세히 서술한다.First, an epoxy (meth)acrylate-based resin having a partial structure represented by the general formula (b1-I) will be described in detail.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

식 (b1-I) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, k 는 1 또는 2 를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (b1-I), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, k represents 1 or 2, and * represents a bond.

식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in formula (b1-I) may be further substituted with an arbitrary substituent.

(R12)( R12 )

상기 식 (b1-I) 에 있어서, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (b1-I), R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.

2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, and a group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are connected.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 지방족기를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 지방족기가 바람직하다. 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 지방족기가 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched and cyclic aliphatic groups. Among these, from the viewpoint of developing solubility, a linear aliphatic group is preferable. On the other hand, a cyclic aliphatic group is preferable from the viewpoint of reducing permeation of the developing solution into the exposed area. The carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, and preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 to 20 are preferable, 1 to 15 are more preferable, and 1 to 10 are still more preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 직사슬형의 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, and n-heptylene group are mentioned, for example. Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a methylene group is preferable.

2 가의 분기 사슬형 지방족기로는, 전술한 2 가의 직사슬형의 지방족기에, 측사슬로서 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.Examples of the divalent branched chain aliphatic group include the above-mentioned divalent linear aliphatic group, as a side chain, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec -The structure which has a butyl group and a tert- butyl group is mentioned.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 12 이하이고, 10 이하가 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 12 가 바람직하고, 1 ∼ 10 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings in the divalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 12 or less, preferably 10 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 to 12 are preferable, 1 to 10 are more preferable, and 2 to 10 are still more preferable. When the film is set to the above lower limit or more, a strong film tends to be formed and the adhesion to the substrate tends to be good. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 고리형의 지방족기로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 고리, 디시클로펜탄 고리 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 디시클로펜타디엔 고리, 디시클로펜탄 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Examples of the divalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, and groups obtained by removing two hydrogen atoms from rings such as dicyclopentadiene rings and dicyclopentane rings. Among these, groups in which two hydrogen atoms have been removed from the dicyclopentadiene ring, dicyclopentane ring, and adamantane ring are preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which a divalent aliphatic group may have, For example, C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; hydroxyl group; nitro group; cyano group; A carboxyl group etc. are mentioned. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of synthetic ease.

2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 4 ∼ 20 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aromatic ring group include a divalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic group. The number of carbon atoms is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, and preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4-20 are preferable, 5-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들면, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, and a tricyclic ring having two free valences. A phenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring are mentioned.

또, 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다.Moreover, a monocyclic ring or a condensed ring may be sufficient as an aromatic heterocyclic ring in an aromatic heterocyclic group. Examples of the aromatic heterocyclic group include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, and an indole ring having two free valences. ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring , Benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, A perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, and an azulene ring are mentioned.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of patterning characteristics, a benzene ring or a naphthalene ring having two free valences is preferable, and a benzene ring having two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.As a substituent which a divalent aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, and a propoxy group are mentioned, for example. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of developing solubility.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked include one or more divalent aliphatic groups described above and one or more divalent aromatic ring groups described above.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aliphatic groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들면, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 예를 들어, 하기 식 (b1-I-A) ∼ (b1-I-F) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 하기 식 (b1-I-A) 로 나타내는 기가 바람직하다.Examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are connected include groups represented by the following formulas (b1-I-A) to (b1-I-F). Among these, the group represented by the following formula (b1-I-A) is preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the membrane.

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

상기 식 (b1-I) 에 있어서, k 는 1 또는 2 를 나타낸다. 밀착성, 패터닝성의 관점에서 k 는 1 이 바람직하다. NMP 내성의 관점에서 k 는 2 가 바람직하다. (b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트 중에 k 가 1 인 부분 구조와 k 가 2 인 부분 구조의 양방이 함유되어 있어도 된다.In the formula (b1-I), k represents 1 or 2. As for k, 1 is preferable from a viewpoint of adhesiveness and patternability. As for k, 2 is preferable from a viewpoint of NMP resistance. (b1-I) Epoxy (meth)acrylate may contain both a partial structure in which k is 1 and a partial structure in which k is 2.

식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리에 허용되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리가 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.The benzene ring in formula (b1-I) may be further substituted with an arbitrary substituent. As a substituent permissible for the benzene ring in formula (b1-I), a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, and a propoxy group are mentioned, for example. When the benzene ring in formula (b1-I) has a substituent, the number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more.

패터닝 특성의 관점에서, 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는 무치환인 것이 바람직하다.From the viewpoint of patterning characteristics, the benzene ring in the formula (b1-I) is preferably unsubstituted.

식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조는, 합성의 간이성의 관점에서, 하기 식 (b1-I-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the formula (b1-I) is preferably a partial structure represented by the following formula (b1-I-1) from the viewpoint of synthesis simplicity.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

식 (b1-I-1) 중, R11, R12 및 k 는, 상기 식 (b1-I) 의 것과 동일한 의미이고, RX 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In the formula (b1-I-1), R 11 , R 12 and k have the same meanings as those in the formula (b1-I), R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue, and * represents a bond.

식 (b1-I-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in formula (b1-I-1) may be further substituted with an arbitrary substituent.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 다염기산으로는, 예를 들면, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.A polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid or its anhydride. Examples of the polybasic acid include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylenetetrahydro Phthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are exemplified.

패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.From the viewpoint of patterning properties, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferred, and more preferably tetrahydrophthalic acid. Hydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid.

식 (b1-I-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 치환기로는, 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리에 대해 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.The benzene ring in formula (b1-I-1) may be further substituted with an arbitrary substituent. As the substituent, those exemplified for the benzene ring in the formula (b1-I) can be preferably employed.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 상기 식 (b1-I-1) 로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되며, 예를 들어, RX 가 수소 원자인 것과, RX 가 다염기산 잔기인 것이 혼재되어 있어도 된다.(b1-I) The partial structure represented by the formula (b1-I-1) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin may be one or two or more, for example, R X is a hydrogen atom and that in which R X is a polybasic acid residue may be mixed.

또, (b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 상기 식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of partial structures represented by the formula (b1-I) contained in one molecule of the (b1-I) epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 1 or more, and more preferably 3 or more. It is preferable, and 20 or less is preferable, and 15 or less is more preferable. 1-20 are preferable, 1-15 are more preferable, and 3-15 are still more preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 1500 이상이 보다 바람직하고, 2000 이상이 더욱 바람직하고, 3000 이상이 보다 더 바람직하고, 4000 이상이 특히 바람직하고, 5000 이상이 가장 바람직하며, 통상 30000 이하이고, 20000 이하가 바람직하고, 15000 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 1500 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 1500 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 2000 ∼ 15000 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 양호해지는 경향이 있다.(b1-I) The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 1000 or more, and is preferably 1500 or more. More preferably, 2000 or more is still more preferable, 3000 or more is even more preferable, 4000 or more is particularly preferable, 5000 or more is most preferable, usually 30000 or less, 20000 or less is preferable, and 15000 or less is more preferable. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1000 to 30000 are preferable, 1500 to 20000 are more preferable, 1500 to 15000 are still more preferable, and 2000 to 15000 are still more preferable. There exists a tendency for the remaining-film rate of the photosensitive coloring composition to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the solubility with respect to a developing solution to become favorable by carrying out below the said upper limit.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 산가는 특별히 한정되지 않지만, 20 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 100 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하며, 또, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 150 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 mgKOH/g ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 60 mgKOH/g ∼ 150 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 80 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되어, 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다.(b1-I) The acid value of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 20 mgKOH/g or more, more preferably 40 mgKOH/g or more, and still more preferably 60 mgKOH/g or more. , 80 mgKOH/g or more is more preferred, 100 mgKOH/g or more is particularly preferred, and 200 mgKOH/g or less is preferred, 150 mgKOH/g or less is more preferred, and 130 mgKOH/g or less is more preferred. More preferably, 120 mgKOH/g or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 20 mgKOH/g to 200 mgKOH/g are preferable, 60 mgKOH/g to 150 mgKOH/g are more preferable, 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g are still more preferable, and 100 mgKOH/g to 130 mgKOH/g is more preferred. There exists a tendency for developing solubility to improve and resolution to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the remaining-film rate of the photosensitive coloring composition to become favorable by carrying out below the said upper limit.

이하에 (b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 구체예를 든다. 또한, 예 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Specific examples of (b1-I) epoxy (meth)acrylate-based resins are given below. In addition, * in an example represents a binding hand.

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

<(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1-II) Epoxy (meth)acrylate-based resin>

상기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 대하여 상세히 서술한다.An epoxy (meth)acrylate-based resin having a partial structure represented by the general formula (b1-II) will be described in detail.

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

식 (b1-II) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (b1-II), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain, and R 15 and R 16 each independently represent; Represents a divalent aliphatic group which may have a substituent, m and n each independently represent an integer of 0 to 2, and * represents a bond.

(R14)( R14 )

상기 일반식 (b1-II) 에 있어서, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the general formula (b1-II), R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings in the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, and preferably 40 or less, more preferably 30 or less, still more preferably 20 or less, and particularly 15 or less. desirable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4-40 are preferable, 4-30 are more preferable, 6-20 are still more preferable, and 8-15 are especially preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들면, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 감광성 착색 조성물의 잔막율과 해상성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, and a cyclododecane ring. can be heard Among these, an adamantane ring is preferable from the viewpoint of the remaining film rate and resolution of the photosensitive coloring composition.

방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 4 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 더 바람직하고, 3 ∼ 4 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings in the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 4 or less. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-4 are still more preferable, 2-4 are still more preferable, and 3-4 are especially preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 보다 더 바람직하고, 12 이상이 특히 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 40 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 20 이 보다 더 바람직하고, 12 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다.As an aromatic ring group, an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group are mentioned. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, even more preferably 10 or more, particularly preferably 12 or more, more preferably 40 or less, and 30 or more. The following is more preferable, 20 or less is still more preferable, and 15 or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4 to 40 are preferable, 6 to 40 are more preferable, 8 to 30 are still more preferable, 10 to 20 are even more preferable, and 12 to 15 are particularly preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. Patterning characteristics tend to be good by setting it below the said upper limit.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이것들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, and a triphenylene ring. , an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring. Among these, a fluorene ring is preferable from a viewpoint of a patterning characteristic.

고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기에 있어서의, 2 가의 탄화수소기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.The divalent hydrocarbon group in the divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain is not particularly limited, but examples include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic groups. and groups having cyclic groups connected thereto.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 지방족기를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 지방족기가 바람직하고, 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 지방족기가 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 25 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 25 가 바람직하고, 3 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched and cyclic aliphatic groups. Among these, a linear aliphatic group is preferable from the viewpoint of developing solubility, while a cyclic aliphatic group is preferable from the viewpoint of reducing permeation of the developing solution into the exposed area. The carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, and preferably 25 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1-25 are preferable, 3-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 직사슬형의 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, and n-heptylene group are mentioned, for example. Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a methylene group is preferable.

2 가의 분기 사슬형 지방족기로는, 예를 들어, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.As the divalent branched chain aliphatic group, for example, in addition to the divalent linear aliphatic group described above, as a side chain, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- A structure having a butyl group or a tert-butyl group is exemplified.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings of the divalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. When the film is set to the above lower limit or more, a strong film tends to be formed and the adhesion to the substrate tends to be good. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 고리형의 지방족기로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Examples of the divalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, and a cyclododecane ring. and groups in which two hydrogen atoms have been removed from the ring. Among these, a group obtained by removing two hydrogen atoms from the adamantane ring is preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which a divalent aliphatic group may have, For example, C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; hydroxyl group; nitro group; cyano group; A carboxyl group can be mentioned. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of synthetic ease.

2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aromatic ring group include a divalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic group. The carbon number is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, and preferably 30 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. For example, 4-30 are preferable, 5-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들면, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, and a tricyclic ring having two free valences. A phenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring are mentioned.

방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 방향족 복소 고리기로는, 예를 들면, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.The aromatic heterocyclic ring in the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the aromatic heterocyclic group include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, and an indole ring having two free valences. ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring , Benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, A benzoimidazole ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, and an azulene ring are mentioned. Among these, from the viewpoint of patterning characteristics, a benzene ring or a naphthalene ring having two free valences is preferable, and a benzene ring having two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.As a substituent which a divalent aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, and a propoxy group are mentioned, for example. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of developing solubility.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked include one or more divalent aliphatic groups described above and one or more divalent aromatic ring groups described above.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aliphatic groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 1 to 3 are still more preferable, and 2 to 3 are particularly preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 예를 들어, 상기 식 (b1-I-A) ∼ (b1-I-F) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 상기 식 (b1-I-C) 로 나타내는 기가 바람직하다.Examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked include groups represented by the above formulas (b1-I-A) to (b1-I-F). Among these, the group represented by the above formula (b1-I-C) is preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the membrane.

이들 2 가의 탄화수소기에 대해, 측사슬인 고리형 탄화수소기의 결합 양태는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 지방족기나 방향족 고리기의 수소 원자 1 개를 측사슬인 고리형 탄화수소기로 치환한 양태나, 지방족기의 탄소 원자의 1 개를 포함하여 측사슬인 고리형 탄화수소기를 구성한 양태를 들 수 있다.Regarding these divalent hydrocarbon groups, the bonding mode of the side chain cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but, for example, an aspect in which one hydrogen atom of an aliphatic group or an aromatic ring group is substituted with a side chain cyclic hydrocarbon group, An embodiment comprising a cyclic hydrocarbon group as a side chain by including one of the carbon atoms of the aliphatic group is exemplified.

(R15, R16)(R 15 , R 16 )

일반식 (b1-II) 에 있어서, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타낸다.In the general formula (b1-II), R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 지방족기를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 지방족기가 바람직하고, 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 지방족기가 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched and cyclic aliphatic groups. Among these, a linear aliphatic group is preferable from the viewpoint of developing solubility, while a cyclic aliphatic group is preferable from the viewpoint of reducing permeation of the developing solution into the exposed area. The carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, and preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. For example, 1-20 are preferable, 3-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. By setting the film to a value equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, surface roughness generated during development is less likely to occur, and adhesion to the substrate tends to be improved. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 직사슬형의 지방족기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, and n-heptylene group are mentioned, for example. Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a methylene group is preferable.

2 가의 분기 사슬형의 지방족기로는, 전술한 2 가의 직사슬형의 지방족기에, 측사슬로서 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 갖는 구조를 들 수 있다.Examples of the divalent branched aliphatic group include the divalent linear aliphatic group as a side chain, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, Structures having a sec-butyl group and a tert-butyl group are exemplified.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 12 이하이고, 10 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 12 가 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings in the divalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 12 or less, preferably 10 or less. For example, 1-12 are preferable and 2-10 are more preferable. When the film is set to the above lower limit or more, a strong film tends to be formed and the adhesion to the substrate tends to be good. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

2 가의 고리형의 지방족기로는, 예를 들어, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 디시클로펜타디엔 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Examples of the divalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, and groups obtained by removing two hydrogen atoms from the dicyclopentadiene ring. Among these, groups in which two hydrogen atoms have been removed from the dicyclopentadiene ring or adamantane ring are preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which a divalent aliphatic group may have, For example, C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; hydroxyl group; nitro group; cyano group; A carboxyl group can be mentioned. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of synthetic ease.

(m、n)(m、n)

일반식 (b1-II) 에 있어서, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 패터닝 적성이 양호해져, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있고, 또한 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 현상성의 관점에서 m 및 n 이 0 인 것이 바람직하다. 한편, 패터닝 적성, 현상시에 생기는 표면 거칠음의 관점에서 m 및 n 이 1 이상인 것이 바람직하다.In the general formula (b1-II), m and n represent an integer of 0 to 2 each independently. When the value is equal to or greater than the lower limit, the patterning aptitude tends to be improved and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. It is preferable that m and n are 0 from a developable viewpoint. On the other hand, it is preferable that m and n are 1 or more from the viewpoint of patterning aptitude and surface roughness generated during development.

일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 기판에 대한 밀착성의 관점에서, 하기 일반식 (b1-II-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the general formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following general formula (b1-II-1) from the viewpoint of adhesion to the substrate.

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00026
Figure pct00026

식 (b1-II-1) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 식 (b1-II) 와 동일한 의미이고, Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고, p 는 1 이상의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In formula (b1-II-1), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meaning as in formula (b1-II), R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, , p represents an integer greater than or equal to 1, and * represents a bonding hand. The benzene ring in formula (b1-II-1) may be further substituted with an arbitrary substituent.

(Rα)(R α )

일반식 (b1-II-1) 에 있어서, Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the general formula (b1-II-1), R ? represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 6 이하이고, 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다.The number of rings in the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 6 or less, preferably 4 or less, and more preferably 3 or less. For example, 1-6 are preferable, 1-4 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are especially preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. Patterning characteristics tend to be good by setting it below the said upper limit.

지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, and preferably 40 or less, more preferably 30 or less, still more preferably 20 or less, and particularly 15 or less. desirable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4-40 are preferable, 4-30 are more preferable, 6-20 are still more preferable, and 8-15 are especially preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. Patterning characteristics tend to be good by setting it below the said upper limit.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들면, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 강고한 막 특성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, and a cyclododecane ring. can be heard Among these, an adamantane ring is preferable from the viewpoint of robust film properties.

방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다.The number of rings in the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 2 to 5 are still more preferable, and 3 to 5 are particularly preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. Patterning characteristics tend to be good by setting it below the said upper limit.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하며, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 발생하기 어려워지는 경향이 있고, 또한 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다.As an aromatic ring group, an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group are mentioned. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, and preferably 30 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4-30 are preferable, 5-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. When the value is equal to or higher than the lower limit, a strong film is easily obtained and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur, and when the value is equal to or lower than the upper limit, the patterning characteristics tend to be good.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.As an aromatic ring in an aromatic ring group, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring are mentioned. Among these, a fluorene ring is preferable from a viewpoint of developing solubility.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 이들 중에서도 합성의 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of substituents that the cyclic hydrocarbon group may have include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, isoamyl, etc. an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group; hydroxyl group; nitro group; cyano group; A carboxyl group can be mentioned. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of ease of synthesis.

p 는 1 이상의 정수를 나타내는데, 2 이상이 바람직하고, 또, 3 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막 경화도와 잔막률이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다.Although p represents an integer greater than or equal to 1, 2 or more is preferable and 3 or less is preferable. For example, 1-3 are preferable and 2-3 are more preferable. There exists a tendency for a film hardening degree and a remaining film rate to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for developability to become favorable by carrying out below the said upper limit.

이들 중에서도, 강고한 막 경화도의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable that R <alpha> is a monovalent aliphatic ring group, and it is more preferable that it is an adamantyl group from a viewpoint of firm film hardening degree.

식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리에 허용되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리가 치환기를 갖는 경우, 치환기의 수는 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.The benzene ring in formula (b1-II-1) may be further substituted with an arbitrary substituent. As a substituent permissible for the benzene ring in formula (b1-II-1), a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, and a propoxy group are mentioned, for example. When the benzene ring in formula (b1-II-1) has a substituent, the number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more.

패터닝 특성의 관점에서, 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리는 무치환인 것이 바람직하다.From the viewpoint of patterning characteristics, the benzene ring in the formula (b1-II-1) is preferably unsubstituted.

이하에 식 (b1-II-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Specific examples of the partial structure represented by the formula (b1-II-1) are given below.

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00027
Figure pct00027

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00028
Figure pct00028

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00030
Figure pct00030

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00031
Figure pct00031

일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 골격의 강직성, 및 막 소수화의 관점에서, 하기 일반식 (b1-II-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the general formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following general formula (b1-II-2) from the viewpoint of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the film.

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00032
Figure pct00032

식 (b1-II-2) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 식 (b1-II) 와 동일한 의미이고, Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In formula (b1-II-2), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meaning as in formula (b1-II), R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, , * represents a bonding hand.

식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in formula (b1-II-2) may be further substituted with an arbitrary substituent.

(Rβ)(R β )

식 (b1-II-2) 에 있어서, Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (b1-II-2), R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of rings in the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less. For example, 1-10 are preferable and 2-5 are more preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상시의 막 거칠음을 억제하는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, and preferably 40 or less, more preferably 35 or less, still more preferably 30 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4 to 40 are preferable, 6 to 35 are more preferable, and 8 to 30 are still more preferable. There exists a tendency for film roughness at the time of development to be suppressed by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film|membrane decrease at the time of development, and there exists a tendency for resolution to improve.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리로는, 예를 들면, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상시의 막 감소, 해상성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, and a cyclododecane ring. can be heard Among these, an adamantane ring is preferable from the viewpoint of film reduction and resolution during development.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.On the other hand, the number of rings in the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, 2 to 5 are still more preferable, and 3 to 5 are particularly preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit value, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film decrease, and there exists a tendency for resolution to improve.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하며, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.As an aromatic ring group, an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group are mentioned. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, still more preferably 10 or more, and preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and 20 or less. is more preferred, and 15 or less is particularly preferred. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 4 to 40 are preferable, 6 to 30 are more preferable, 8 to 20 are still more preferable, and 10 to 15 are particularly preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit value, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film decrease, and there exists a tendency for resolution to improve.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리를 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.As an aromatic ring in an aromatic ring group, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring are mentioned, for example. Among these, from a developable viewpoint, a fluorene ring is preferable.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, 이소아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복시기를 들 수 있다. 이것들 중에서도 합성 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of substituents that the cyclic hydrocarbon group may have include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, amyl, isoamyl, etc. an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group; hydroxyl group; nitro group; cyano group; A carboxyl group can be mentioned. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of synthesis simplicity.

이들 중에서도, 막 감소의 억제, 해상성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of suppression of film shrinkage and resolution, R β is preferably a divalent aliphatic cyclic group, and more preferably a divalent adamantane cyclic group.

한편, 패터닝 특성의 관점에서 Rβ 가 2 가의 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 플루오렌 고리기인 것이 보다 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of patterning characteristics, R β is preferably a divalent aromatic ring group, and more preferably a divalent fluorene ring group.

식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리에 허용되는 치환기로는, 예를 들어, 하이드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기를 들 수 있다. 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리가 치환기를 갖는 경우, 치환기의 수는 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.The benzene ring in formula (b1-II-2) may be further substituted with an arbitrary substituent. As a substituent permissible for the benzene ring in formula (b1-II-2), a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, and a propoxy group are mentioned, for example. When the benzene ring in formula (b1-II-2) has a substituent, the number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more.

또, 치환기를 개재하여 2 개의 벤젠 고리가 연결되어 있어도 된다. 이 경우의 치환기로는, -O-, -S-, -NH-, -CH2- 등의 2 가의 기를 들 수 있다.Moreover, two benzene rings may be connected through the substituent. Examples of the substituent in this case include divalent groups such as -O-, -S-, -NH-, and -CH 2 -.

패터닝 특성의 관점에서, 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는 무치환인 것이 바람직하다. 또, 막 감소 등을 발생하기 어렵게 하는 관점에서, 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는 메틸기로 치환되어 있는 것이 바람직하다.From the viewpoint of patterning characteristics, the benzene ring in the formula (b1-II-2) is preferably unsubstituted. Further, from the viewpoint of making film reduction less likely to occur, the benzene ring in the formula (b1-II-2) is preferably substituted with a methyl group.

이하에 상기 식 (b1-II-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다. 또한, 예 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the partial structure represented by the formula (b1-II-2) are given below. In addition, * in an example represents a binding hand.

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00033
Figure pct00033

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00034
Figure pct00034

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00035
Figure pct00035

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00036
Figure pct00036

식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 도막 잔막율과 패터닝 특성의 관점에서, 하기 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following formula (b1-II-3) from the viewpoint of the coating film remaining film rate and patterning characteristics.

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00037
Figure pct00037

식 (b1-II-3) 중, R13, R14, R15, R16, m 및 n 은 식 (b1-II) 와 동일한 의미이고, RZ 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.In formula (b1-II-3), R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , m and n have the same meaning as in formula (b1-II), and R Z represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.

다염기산 잔기란, 다염기산으로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 또한, 추가로 또 하나의 OH 기가 제거되고, 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 다른 분자에 있어서의 RZ 와 공용되어 있어도 되며, 즉, RZ 를 개재하여 복수의 식 (b1-II-3) 이 연결되어 있어도 된다.A polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid. Further, another OH group may be removed and shared with R Z in another molecule represented by formula (b1-II-3), that is, a plurality of formulas (b1-II- 3) may be connected.

다염기산으로는, 예를 들면, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산을 들 수 있다.Examples of the polybasic acid include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylenetetrahydro Phthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are exemplified.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.Among these, from the viewpoint of patterning characteristics, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferable, and more preferably , tetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되며, 예를 들어, RZ 가 수소 원자인 것과, RZ 가 다염기산 잔기인 것이 혼재되어 있어도 된다.(b1-II) The partial structure represented by the formula (b1-II-3) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin may be one type or two or more types. For example, RZ is What is a hydrogen atom and what is a polybasic acid residue in R Z may be mixed.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 또 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 현상시에 생기는 표면 거칠음이 생기기 어려워지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉬워, 해상성이 향상되는 경향이 있다.(b1-II) The number of partial structures represented by the formula (b1-II) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 1 or more, and more preferably 3 or more, Moreover, 20 or less is preferable, 15 or less is more preferable, and 10 or less is still more preferable. For example, 1 to 20 are preferable, 1 to 15 are more preferable, and 3 to 10 are still more preferable. When the amount is equal to or greater than the lower limit, a firm film can be easily obtained, and surface roughness generated during development tends to be less likely to occur. By setting it below the said upper limit value, it is easy to suppress deterioration of sensitivity and film decrease, and there exists a tendency for resolution to improve.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 1500 이상이 보다 바람직하고, 2000 이상이 더욱 바람직하고, 3000 이상이 보다 더 바람직하고, 4000 이상이 특히 바람직하고, 5000 이상이 가장 바람직하며, 통상 10000 이하이고, 8000 이하가 바람직하고, 7000 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1000 ∼ 10000 이 바람직하고, 1500 ∼ 10000 이 보다 바람직하고, 1500 ∼ 8000 이 더욱 바람직하고, 2000 ∼ 8000 이 보다 더 바람직하고, 2000 ∼ 7000 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 양호해지는 경향이 있다.(b1-II) The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 1000 or more, and preferably 1500 or more. More preferably, 2000 or more is still more preferable, 3000 or more is even more preferable, 4000 or more is particularly preferable, 5000 or more is most preferable, usually 10000 or less, 8000 or less is preferable, and 7000 or less is more preferable. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1000 to 10000 are preferable, 1500 to 10000 are more preferable, 1500 to 8000 are still more preferable, 2000 to 8000 are even more preferable, and 2000 to 7000 are particularly preferable. There exists a tendency for the remaining-film rate of the photosensitive coloring composition to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the solubility with respect to a developing solution to become favorable by carrying out below the said upper limit.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 20 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 40 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 60 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 100 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하며, 또한, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 150 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 120 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 mgKOH/g ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 60 mgKOH/g ∼ 150 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 80 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되어, 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다.(b1-II) The acid value of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is preferably 20 mgKOH/g or more, more preferably 40 mgKOH/g or more, and still more preferably 60 mgKOH/g or more, 80 mgKOH/g or more is more preferred, 100 mgKOH/g or more is particularly preferred, and 200 mgKOH/g or less is preferred, 150 mgKOH/g or less is more preferred, and 130 mgKOH/g or less is further more preferred. It is preferred, and 120 mgKOH/g or less is particularly preferred. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 20 mgKOH/g to 200 mgKOH/g are preferable, 60 mgKOH/g to 150 mgKOH/g are more preferable, 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g are still more preferable, and 100 mgKOH/g to 130 mgKOH/g is more preferred. There exists a tendency for developing solubility to improve and resolution to become favorable by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the remaining-film rate of the photosensitive coloring composition to become favorable by carrying out below the said upper limit.

카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 수지를 혼합하여 사용해도 된다.The carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin may be used alone or in combination of two or more resins.

카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 일부를, 다른 바인더 수지로 치환하여 사용해도 된다. 즉, 카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지와 다른 바인더 수지를 병용해도 된다. 이 경우에 있어서, (b) 알칼리 가용성 수지에 있어서의 카르복시기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 비율을, 50 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 60 질량% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 70 질량% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하고, 80 질량% 이상으로 하는 것이 특히 바람직하며, 통상 100 질량% 이하이다.A part of the carboxy group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin may be used by substituting another binder resin. That is, you may use together the carboxy group-containing epoxy (meth)acrylate type resin and other binder resin. In this case, (b) the proportion of the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin in the alkali-soluble resin is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass or more. It is more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and usually 100% by mass or less.

(b) 알칼리 가용성 수지로서, 안료나 분산제 등과의 상용성의 관점에서, (b2) 아크릴 공중합 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 아크릴 공중합 수지를 바람직하게 사용할 수 있다.(b) As the alkali-soluble resin, it is preferable to use (b2) acrylic copolymer resin from the viewpoint of compatibility with pigments, dispersants, etc., and the acrylic copolymer resin described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-137466 can be preferably used. .

아크릴 공중합 수지로는, 예를 들어, 1 개 이상의 카르복시기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b2-1)」이라고 한다) 와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b2-2)」라고 한다) 의 공중합체를 들 수 있다.As an acrylic copolymer resin, for example, an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxy groups (hereinafter referred to as "unsaturated monomer (b2-1)") and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as "unsaturated monomer ( b2-2)”).

불포화 단량체 (b2-1) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 계피산 등의 불포화 모노카르복실산 ; 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그 무수물 ; 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬] 에스테르 ; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메트)아크릴레이트 ; p-비닐벤조산을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monomer (b2-1) include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; unsaturated dicarboxylic acids or their anhydrides such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; Mono[(meth)acryloyloxyalkyl] of divalent or higher polyhydric carboxylic acids such as succinate mono[2-(meth)acryloyloxyethyl] and phthalate mono[2-(meth)acryloyloxyethyl] ester; Mono(meth)acrylate of the polymer which has a carboxy group and a hydroxyl group at both terminals, such as (omega)-carboxy polycaprolactone mono(meth)acrylate; and p-vinylbenzoic acid.

이들 불포화 단량체 (b2-1) 은, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2-1) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

불포화 단량체 (b2-2) 로는, 예를 들면, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 N-치환 말레이미드 ;Examples of the unsaturated monomer (b2-2) include N-substituted maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, p-하이드록시스티렌, p-하이드록시-α-메틸스티렌, p-비닐벤질글리시딜에테르, 아세나프틸렌 등의 방향족 비닐 화합물 ;aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, p-vinylbenzyl glycidyl ether, and acenaphthylene;

메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시페닐(메트)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]옥세탄, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]옥세탄, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]-3-에틸옥세탄 등의 (메트)아크릴산에스테르 ;Methyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate , polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth)acrylate, polypropylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth)acrylate, polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) mono(meth)acrylate, poly Propylene glycol (degree of polymerization 2-10) mono(meth)acrylate, cyclohexyl(meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl(meth) Acrylates, dicyclopentenyl(meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate, 4-hydroxyphenyl(meth)acrylate, ethylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol, glycidyl (meth)acrylate )Acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, 3-[(meth)acryloyloxymethyl]oxetane, 3-[(meth)acryloyloxymethyl]oxetane, 3- (meth)acrylic acid esters such as [(meth)acryloyloxymethyl]-3-ethyloxetane;

시클로헥실비닐에테르, 이소보르닐비닐에테르, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일비닐에테르, 펜타시클로펜타데카닐비닐에테르, 3-(비닐옥시메틸)-3-에틸옥세탄 등의 비닐에테르 ;Cyclohexyl vinyl ether, isobornyl vinyl ether, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl vinyl ether, pentacyclopentadecanyl vinyl ether, 3-(vinyloxymethyl)-3-ethyloxetane Vinyl ether, such as;

폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자 사슬의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 매크로 모노머를 들 수 있다.and macromonomers having mono(meth)acryloyl groups at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl(meth)acrylate, poly-n-butyl(meth)acrylate, and polysiloxane.

이들 불포화 단량체 (b2-2) 는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2-2) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

불포화 단량체 (b2-1) 과 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체에 있어서, 불포화 단량체 (b2-1) 의 공중합 비율은, 바람직하게는 5 ∼ 50 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 질량% 이다. 이러한 범위에서 불포화 단량체 (b2-1) 을 공중합시킴으로써, 알칼리 현상성 및 보존 안정성이 우수한 감광성 착색 조성물을 얻을 수 있는 경향이 있다.In the copolymer of the unsaturated monomer (b2-1) and the unsaturated monomer (b2-2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (b2-1) is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass. % am. By copolymerizing the unsaturated monomer (b2-1) within this range, a photosensitive coloring composition excellent in alkali developability and storage stability tends to be obtained.

불포화 단량체 (b2-1) 과 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체로는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 평7-140654호, 일본 공개특허공보 평8-259876호, 일본 공개특허공보 평10-31308호, 일본 공개특허공보 평10-300922호, 일본 공개특허공보 평11-174224호, 일본 공개특허공보 평11-258415호, 일본 공개특허공보 2000-56118호, 일본 공개특허공보 2004-101728호에 개시되어 있는 공중합체를 들 수 있다.As a copolymer of an unsaturated monomer (b2-1) and an unsaturated monomer (b2-2), For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-140654, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-259876, Unexamined-Japanese-Patent No. 10 -31308, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-300922, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 11-174224, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 11-258415, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-56118, Japanese Unexamined Patent Publication 2004-101728 and the copolymers disclosed in .

불포화 단량체 (b2-1) 과 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체는, 공지된 방법에 의해 제조할 수 있지만, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2003-222717호, 일본 공개특허공보 2006-259680호, 국제 공개 제2007/029871호에 개시되어 있는 방법에 의해, 그 구조나 Mw, Mw/Mn 을 제어할 수도 있다.Although the copolymer of an unsaturated monomer (b2-1) and an unsaturated monomer (b2-2) can be manufactured by a well-known method, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-222717, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-259680 The structure, Mw, and Mw/Mn can also be controlled by a method disclosed in International Publication No. 2007/029871.

그 밖에, 국제 공개 제2016/194619호, 국제 공개 제2017/154439호에 기재된 수지를 사용해도 된다.In addition, you may use resin of international publication 2016/194619 and international publication 2017/154439.

<(c) 광중합 개시제><(c) photopolymerization initiator>

(c) 광중합 개시제는, 광을 직접 흡수하고, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생하는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.(c) The photopolymerization initiator is a component having a function of directly absorbing light, causing a decomposition reaction or a hydrogen withdrawal reaction, and generating polymerization active radicals. You may add and use additives, such as a polymerization accelerator (chain transfer agent) and a sensitizing dye, as needed.

광중합 개시제로는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체류 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체류, 할로메틸-s-트리아진 유도체류 ; α-아미노알킬페논 유도체류 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, Metallocene compounds containing the titanocene compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 59-152396 and Unexamined-Japanese-Patent No. 61-151197, for example; Hexaaryl biimidazole derivatives described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-56118; halomethylated oxadiazole derivatives and halomethyl-s-triazine derivatives described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-39503; α-aminoalkylphenone derivatives; The oxime ester type compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-80068, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-36750, etc. is mentioned.

메탈로센 화합물로는, 예를 들어, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄〔2,6-디-플루오로-3-(피롤-1-일)-페닐〕을 들 수 있다.As the metallocene compound, for example, dicyclopentadienyltitanium dichloride, dicyclopentadienyltitanium bisphenyl, dicyclopentadienyltitanium bis(2,3,4,5,6-pentafluoro phenyl), dicyclopentadienyltitanium bis(2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyltitaniumbis(2,4,6-trifluorophenyl), dicyclopentadienyl Titanium di(2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyltitanium di(2,4-difluorophenyl), di(methylcyclopentadienyl)titanium bis(2,3,4,5, 6-pentafluorophenyl), di(methylcyclopentadienyl)titanium bis(2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyltitanium[2,6-di-fluoro-3-(pyrrole- 1-yl)-phenyl].

헥사아릴비이미다졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 이량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 이량체를 들 수 있다.Hexaaryl biimidazole derivatives include, for example, 2-(2'-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(2'-chlorophenyl)-4,5- bis(3'-methoxyphenyl)imidazole dimer, 2-(2'-fluorophenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer, 2-(2'-methoxyphenyl)-4, 5-diphenylimidazole dimer and (4'-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazole dimer.

할로메틸화 옥사디아졸 유도체류로는, 예를 들어, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸을 들 수 있다.Halomethylated oxadiazole derivatives include, for example, 2-trichloromethyl-5-(2'-benzofuryl)-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-[β -(2'-benzofuryl)vinyl]-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-[β-(2'-(6''-benzofuryl)vinyl)]-1, 3,4-oxadiazole and 2-trichloromethyl-5-furyl-1,3,4-oxadiazole.

할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 예를 들어, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진을 들 수 있다.Halomethyl-s-triazine derivatives include, for example, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaph Tyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-ethoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4 -ethoxycarbonylnaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine.

α-아미노알킬페논 유도체류로는, 예를 들어, 2-메틸-1〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘을 들 수 있다.Examples of α-aminoalkylphenone derivatives include 2-methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1 -(4-morpholinophenyl)-butanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 4-dimethylaminoethylbenzoate, 4- Dimethylaminoisoamylbenzoate, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis(4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3-(4-diethylaminobenzoyl)coumarin, and 4-(diethylamino)chalcone.

광중합 개시제로는, 특히 감도나 제판성의 점에서 옥심에스테르계 화합물이 유효하고, 예를 들어, 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우에는, 특히 이러한 감도가 우수한 옥심에스테르계 화합물이 유용하다. 옥심에스테르계 화합물은, 그 구조 중에 자외선을 흡수하는 구조와 광 에너지를 전달하는 구조와 라디칼을 발생하는 구조를 겸비하고 있기 때문에, 소량으로 감도가 높고, 또한, 열 반응에 대해 안정적이고, 소량으로 고감도의 감광성 착색 수지 조성물을 얻는 것이 가능하다.As the photopolymerization initiator, oxime ester-based compounds are particularly effective in terms of sensitivity and platemaking properties, and, for example, when alkali-soluble resins containing phenolic hydroxyl groups are used, oxime ester-based compounds having excellent sensitivity are particularly useful. do. Since the oxime ester compound has a structure that absorbs ultraviolet rays, a structure that transmits light energy, and a structure that generates radicals in its structure, it is highly sensitive in a small amount and is stable against thermal reaction, and is stable in a small amount. It is possible to obtain a highly sensitive photosensitive colored resin composition.

옥심에스테르계 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an oxime ester type compound, the compound represented by the following general formula (IV) is mentioned, for example.

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00038
Figure pct00038

상기 식 (IV) 중, R21a 는, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.In the formula (IV), R 21a represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted aromatic ring group.

R21b 는 방향 고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.R 21b represents an arbitrary substituent containing an aromatic ring.

R22a 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.R 22a represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.

n 은 0 또는 1 의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 0 or 1;

R21a 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 1 이상, 바람직하게는 2 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 예를 들어, 1 ∼ 20, 바람직하게는 1 ∼ 15, 보다 바람직하게는 2 ∼ 10 이다. 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 시클로펜틸에틸기를 들 수 있다.The number of carbon atoms in the alkyl group in R 21a is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably from the viewpoint of solvent solubility and sensitivity. less than 10 For example, it is 1-20, Preferably it is 1-15, More preferably, it is 2-10. As an alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a cyclopentyl ethyl group are mentioned.

알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 4-(2-메톡시-1-메틸)에톡시-2-메틸페닐기 또는 N-아세틸-N-아세톡시아미노기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which an alkyl group may have, for example, an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, an amide group, a 4-(2-methoxy-1-methyl)ethoxy-2-methylphenyl group, or N -Acetyl-N-acetoxyamino group is mentioned, and unsubstituted is preferable from the viewpoint of synthetic ease.

R21a 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물에 대한 용해성의 관점에서 5 이상인 것이 바람직하다. 또한, 현상성의 관점에서 30 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 이하인 것이 더욱 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 30, 바람직하게는 5 ∼ 20, 보다 바람직하게는 5 ∼ 12 이하이다.Examples of the aromatic ring group for R 21a include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is not particularly limited, but is preferably 5 or more from the viewpoint of solubility in the photosensitive coloring composition. Moreover, from a developability viewpoint, it is preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and still more preferably 12 or less. For example, it is 5 to 30, preferably 5 to 20, and more preferably 5 to 12 or less.

방향족 고리기로는, 예를 들어, 페닐기, 나프틸기, 피리딜기, 푸릴기를 들 수 있고, 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 페닐기 또는 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.As an aromatic ring group, a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, and a furyl group are mentioned, for example, From a viewpoint of developability among these, a phenyl group or a naphthyl group is preferable, and a phenyl group is more preferable.

방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기, 알콕시기, 이들 치환기가 연결된 기를 들 수 있고, 현상성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 이들을 연결한 기가 바람직하고, 연결한 알콕시기가 보다 바람직하다.As a substituent which an aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, an amide group, an alkyl group, an alkoxy group, and the group which these substituents connected are mentioned, for example, An alkyl group, an alkoxy group, these from a developable viewpoint A linked group is preferable, and a linked alkoxy group is more preferable.

이들 중에서도, 현상성의 관점에서, R21a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 연결한 알콕시기를 치환기에 갖는 방향족 고리기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of developability, it is preferable that R 21a is an aromatic ring group which may have a substituent, and it is more preferable that it is an aromatic ring group having a linked alkoxy group as a substituent.

또, R21b 로는, 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 감도의 관점에서는, 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기가 바람직하다. 전기 신뢰성의 관점에서는, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기가 바람직하다.Moreover, as R21b , the optionally substituted carbazolyl group, the optionally substituted thioxanthonyl group, and the optionally substituted diphenyl sulfide group are mentioned. Among these, from a viewpoint of sensitivity, the carbazolyl group which may be substituted is preferable. From the viewpoint of electrical reliability, an optionally substituted diphenyl sulfide group is preferable.

또, R22a 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 2 이상, 바람직하게는 3 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하, 더욱 바람직하게는 5 이하이다. 예를 들어, 2 ∼ 20, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 3 ∼ 10, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 5 이다. 알카노일기로는, 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기를 들 수 있다.The number of carbon atoms in the alkanoyl group in R 22a is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 3 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, from the viewpoint of solubility and sensitivity to solvents; More preferably, it is 10 or less, More preferably, it is 5 or less. For example, it is 2 to 20, preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, still more preferably 3 to 5. An acetyl group, a propanoyl group, and a butanoyl group are mentioned as an alkanoyl group.

알카노일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 방향족 고리기, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which an alkanoyl group may have, an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, and an amide group are mentioned, for example, and unsubstituted is preferable from a viewpoint of synthetic ease.

또, R22a 에 있어서의 아릴로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 7 이상, 바람직하게는 8 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 예를 들어, 7 ∼ 20, 바람직하게는 7 ∼ 15, 보다 바람직하게는 8 ∼ 10 이다. 아릴로일기로는, 벤조일기, 나프토일기를 들 수 있다.The number of carbon atoms in the aryloyl group in R 22a is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 8 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, from the viewpoint of solvent solubility and sensitivity. More preferably, it is 10 or less. For example, it is 7-20, Preferably it is 7-15, More preferably, it is 8-10. A benzoyl group and a naphthoyl group are mentioned as an aryloyl group.

아릴로일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기를 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환이 바람직하다.As a substituent which an aryloyl group may have, a hydroxyl group, a carboxy group, a halogen atom, an amino group, an amide group, and an alkyl group are mentioned, for example, and unsubstitution is preferable from a viewpoint of synthetic ease.

이들 중에서도, 감도의 관점에서, R22a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기인 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기가 보다 바람직하며, 아세틸기가 더욱 바람직하다.Among them, from the viewpoint of sensitivity, R 22a is preferably an optionally substituted alkanoyl group, more preferably an unsubstituted alkanoyl group, and still more preferably an acetyl group.

일본 공개특허공보 2016-133574호에 기재되는 개시제도, 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감된다는 점에서 바람직하게 사용된다.The initiator described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-133574 is also preferably used from the viewpoint that contamination of the liquid crystal layer by the coloring agent is reduced.

광중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

광중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높이는 목적에서, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-000069호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노 벤젠 골격을 갖는 색소를 들 수 있다.In the photopolymerization initiator, a sensitizing dye and a polymerization accelerator according to the wavelength of the image exposure light source can be blended, if necessary, for the purpose of increasing the sensitivity. As a sensitizing dye, for example, the xanthene dye of Unexamined-Japanese-Patent No. 4-221958 and Unexamined-Japanese-Patent No. 4-219756, Unexamined-Japanese-Patent No. 3-239703, and Unexamined-Japanese-Patent No. 5 Heterocyclic coumarin dye described in No. -289335, 3-ketocoumarin compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 3-239703 and Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 5-289335, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 6-19240 Described pyrromethene pigment, Japanese Unexamined Patent Publication No. 47-2528, Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-155292, Japanese Patent Publication No. 45-37377, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-84183, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52 -112681, Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-15503, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-88005, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-56403, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-000069, Japanese Unexamined Patent Publication No. 57 -168088, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-107761, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-210240, and Unexamined-Japanese-Patent No. 4-288818 include pigments having a dialkylaminobenzene skeleton.

이들 증감 색소 중, 아미노기 함유 증감 색소가 바람직하고, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 바람직한 증감 색소로서, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물을 들 수 있다. 이들 중, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이 특히 바람직하다.Among these sensitizing dyes, amino group-containing sensitizing dyes are preferable, and compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule are more preferable. As a preferable sensitizing dye, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzo benzophenone compounds such as phenone, 3,3'-diaminobenzophenone, and 3,4-diaminobenzophenone; 2-(p-dimethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzo[4,5]benzooxazole, 2-(p -Dimethylaminophenyl)benzo[6,7]benzoxazole, 2,5-bis(p-diethylaminophenyl)-1,3,4-oxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzothiazole , 2-(p-diethylaminophenyl)benzothiazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzimidazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzimidazole, 2,5-bis(p- Diethylaminophenyl)-1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl)pyridine, (p-diethylaminophenyl)pyridine, (p-dimethylaminophenyl)quinoline, (p-diethylamino and p-dialkylaminophenyl group-containing compounds such as phenyl)quinoline, (p-dimethylaminophenyl)pyrimidine, and (p-diethylaminophenyl)pyrimidine. Among these, 4,4'-dialkylamino benzophenone is particularly preferred.

증감 색소는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.A sensitizing dye may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

중합 촉진제로는, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물이 사용된다. 중합 촉진제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As the polymerization accelerator, for example, aromatic amines such as p-dimethylaminobenzoate and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, and mercapto compounds described later are used. do. A polymerization accelerator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<(d) 에틸렌성 불포화 화합물><(d) ethylenically unsaturated compound>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유함으로써, 감도가 향상된다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (d) an ethylenically unsaturated compound. (d) Sensitivity is improved by containing an ethylenically unsaturated compound.

본 발명에 사용되는 에틸렌성 불포화 화합물은, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르를 들 수 있다.The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated group in its molecule. Specific examples thereof include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid alkyl esters, acrylonitrile, styrene, carboxylic acids having one ethylenically unsaturated bond, and monoesters of polyhydric or monohydric alcohols. .

본 발명에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화 결합을 2 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 2 개 이상이고, 바람직하게는 4 개 이상이고, 보다 바람직하게는 5 개 이상이며, 또, 바람직하게는 8 개 이하이고, 보다 바람직하게는 7 개 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 2 ∼ 8 개가 바람직하고, 2 ∼ 7 개가 보다 바람직하고, 4 ∼ 7 개가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 7 개가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 용매에 대한 용해성이 향상되는 경향이 있다.In this invention, it is especially preferable to use the polyfunctional ethylenic monomer which has 2 or more ethylenically unsaturated bonds in 1 molecule. The number of ethylenically unsaturated groups of the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 8 or less , and more preferably 7 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 2 to 8 are preferable, 2 to 7 are more preferable, 4 to 7 are still more preferable, and 5 to 7 are particularly preferable. There exists a tendency to become high sensitivity by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for solubility to a solvent to improve by using below the said upper limit.

다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르를 들 수 있다.Examples of polyfunctional ethylenic monomers include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; Esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; Ester obtained by esterification reaction of polyhydric hydroxy compounds, such as an aliphatic polyhydroxy compound and an aromatic polyhydroxy compound, and an unsaturated carboxylic acid and a polybasic carboxylic acid is mentioned.

지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 바꾼 메타크릴산에스테르, 이타코네이트로 바꾼 이타콘산에스테르, 크로네이트로 바꾼 크로톤산에스테르, 말레에이트로 바꾼 말레산에스테르를 들 수 있다.Esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids include, for example, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and pentaerythritol di. Aliphatic polyhydroxys such as acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate Acrylic acid esters of compounds, methacrylic acid esters obtained by converting these acrylates to methacrylates, itaconic acid esters converted to itaconate, crotonic acid esters converted to cronate, and maleic acid esters converted to maleate.

방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 예를 들어, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르를 들 수 있다.Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinone diacrylate, resorcinone dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. Acrylic acid ester and methacrylic acid ester of aromatic polyhydroxy compounds, such as these, are mentioned.

다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는, 반드시 단일물은 아니지만, 예를 들어, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물을 들 수 있다.Esters obtained by esterification of polybasic carboxylic acids and unsaturated carboxylic acids with polyhydric hydroxy compounds are not necessarily single substances, but examples thereof include condensates of acrylic acid, phthalic acid, and ethylene glycol, acrylic acid, and maleic acid. , and a condensate of diethylene glycol, a condensate of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, a condensate of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin.

그 밖에, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체로는, 에를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물이 유용하다.In addition, as the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention, for example, urethane obtained by reacting a polyisocyanate compound with a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester or a polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester ( meth)acrylates; Epoxy acrylates like addition reaction products of a polyhydric epoxy compound and hydroxy (meth)acrylate or (meth)acrylic acid; acrylamides such as ethylenebisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; Compounds containing a vinyl group such as divinyl phthalate are useful.

우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (미츠비시 케미컬사 제조) 를 들 수 있다.Examples of urethane (meth)acrylates include DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, and UV7640B (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) are exemplified.

이들 중에서도, 경화성의 관점에서 (d) 에틸렌성 불포화 화합물로서, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르류 또는 우레탄(메트)아크릴레이트류, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류를 사용하는 것이 바람직하고, (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 보다 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of curability, (d) as ethylenically unsaturated compounds, esters or urethane (meth)acrylates of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, polyisocyanate compounds and hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters, or It is preferable to use urethane (meth)acrylates obtained by reacting a polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester, and it is more preferable to use a (meth)acrylic acid alkyl ester, and dipentaerythritol hexa It is more preferable to use an acrylate.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<(e) 용제><(e) Solvent>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 함유한다. (e) 용제를 함유함으로써, (a) 착색제를 용제 중에 분산 또는 용해할 수 있고, 또한 도포가 용이해진다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (e) a solvent. (e) By containing a solvent, the (a) colorant can be dispersed or dissolved in the solvent, and application becomes easy.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (f) 분산제, 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 각종 재료가, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 용제 중에서도, 분산성이나 도포성의 관점에서 유기 용제가 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention usually contains (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (f) a dispersant, and various other materials used as needed. The material is used in a state dissolved or dispersed in a solvent. Among the solvents, organic solvents are preferred from the viewpoint of dispersibility and coating properties.

유기 용제 중에서도, 도포성의 관점에서 비점이 100 ∼ 300 ℃ 인 것을 선택하는 것이 바람직하고, 120 ∼ 280 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 비점은, 압력 1013.25 hPa 에 있어서의 비점을 의미하고, 이하 비점에 관해서는 모두 동일하다.Among the organic solvents, those having a boiling point of 100 to 300°C are preferably selected from the viewpoint of coating properties, and those of 120 to 280°C are more preferable. Note that the boiling point referred to here means the boiling point at a pressure of 1013.25 hPa, and the following boiling points are all the same.

이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸 펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ;Examples of such an organic solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether. -n-butyl ether, propylene glycol-t-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethyl pentanol, dipropylene glycol monoethyl ether , dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol methyl ether ;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether ;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether Acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ;glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanediol diacetate;

시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ;Alkyl acetates, such as cyclohexanol acetate;

아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether and dihexyl ether;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ;Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketones such as ketones, methyl nonyl ketones, and methoxymethylpentanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;Monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, and benzyl alcohol Ryu ;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, and dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ;alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, and bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ;aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and cumene;

아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부티레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl Caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-methoxypropylpropionate, 3-methoxymethylpropionate chain or cyclic esters such as butyl oxypropionate and γ-butyrolactone;

3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;

부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류 ;halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;ether ketones such as methoxymethylpentanone;

아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 ; 를 들 수 있다.nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; can be heard

시판되는 유기 용제로는, 예를 들어, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」 는 등록상표. 이하 동일), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 을 사용할 수 있다.Commercially available organic solvents include, for example, mineral spirits, Barsol #2, Afco #18 solvent, Afco thinner, Socal solvent No.1 and No.2, Solvesso #150, Shell TS28 solvent, Carbitol . can be used

이들 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These solvents may be used independently or may use 2 or more types together.

포토리소그래피법으로 격벽을 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 240 ℃ 인 것을 선택하는 것이 바람직하고, 120 ∼ 200 ℃ 인 것이 보다 바람직하고, 120 ℃ ∼ 170 ℃ 인 것이 더욱 바람직하다.When the barrier rib is formed by photolithography, the organic solvent having a boiling point of 100 to 240°C is preferably selected, more preferably 120 to 200°C, and even more preferably 120 to 170°C.

상기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the above-mentioned solvents, glycol alkyl ether acetates are preferable in terms of good balance of applicability, surface tension, and the like, and relatively high solubility of constituent components in the composition.

글리콜알킬에테르아세테이트류는, 단독으로 사용해도 되지만, 다른 용제를 병용해도 된다. 병용하는 용제로서, 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 조성물 중의 구성 성분의 용해성으로부터 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 너무 많으면 안료가 응집하기 쉬워, 나중에 얻어지는 감광성 착색 조성물의 점도가 올라가는 등의 보존 안정성이 저하하는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.Glycol alkyl ether acetates may be used alone or in combination with other solvents. As the solvent used in combination, glycol monoalkyl ethers are particularly preferred. Propylene glycol monomethyl ether is preferable from the viewpoint of the solubility of constituent components in the composition. Glycol monoalkyl ethers have high polarity, and if the amount added is too large, the pigment tends to aggregate, and the storage stability of the photosensitive coloring composition obtained later, such as an increase in viscosity, tends to decrease, so the ratio of glycol monoalkyl ethers in the solvent is 5 mass % - 30 mass % are preferable, and 5 mass % - 20 mass % are more preferable.

150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」라고 부르는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 고비점 용제를 병용함으로써, 감광성 착색 조성물은 건조되기 어려워지지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가, 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들면 슬릿 노즐 선단에 있어서의, 착색제 등의 석출·고화로 인한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이러한 효과가 높다는 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도, 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.It is also preferable to use together an organic solvent having a boiling point of 150°C or higher (hereinafter sometimes referred to as a "high boiling point solvent"). By using the high boiling point solvent together, the photosensitive coloring composition becomes difficult to dry, but there is an effect of preventing the uniform dispersion state of the pigment in the composition from being destroyed by rapid drying. That is, there is an effect of preventing the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of a colorant or the like at the tip of the slit nozzle, for example. Among the various solvents described above, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferred in view of their high effect.

고비점 용제를 병용하는 경우, 유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 예를 들면 슬릿 노즐 선단에서 색재 등이 석출·고화되어 이물질 결함을 야기하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또한 상기 상한값 이하로 함으로써 조성물의 건조 온도가 느려지는 것을 억제하여, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 자국과 같은 문제를 억제할 수 있는 경향이 있다.When a high boiling point solvent is used together, the content ratio of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, and 5% by mass to 30% by mass. particularly preferred. By setting it above the lower limit, it tends to be able to suppress the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of the colorant at the tip of the slit nozzle, for example, and by setting it below the above upper limit, the drying temperature of the composition is suppressed from slowing down, , problems such as tact failure in the vacuum drying process and pin marks in the prebaking tend to be suppressed.

비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가, 글리콜알킬에테르아세테이트류여도 되고, 또한 글리콜알킬에테르류여도 된다. 이 경우에는, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도 함유시키지 않아도 상관없다.The high boiling point solvent having a boiling point of 150°C or higher may be glycol alkyl ether acetates or glycol alkyl ethers. In this case, it is not necessary to separately contain a high boiling point solvent having a boiling point of 150°C or higher.

바람직한 고비점 용제로서, 전술한 각종 용제 중에서는, 예를 들어, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴을 들 수 있다.As a preferable high boiling point solvent, among the above-mentioned various solvents, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol Diacetate, 1,6-hexanol diacetate, and triacetin are mentioned.

<(f) 분산제><(f) Dispersant>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (f) 분산제를 함유한다. (f) 분산제를 함유함으로써, (a) 착색제를 안정적으로 분산시킬 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (f) a dispersing agent. (f) By containing a dispersing agent, the (a) coloring agent can be stably dispersed.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (f) 분산제는, 하기 일반식 (1) ∼ (3) 으로 나타내는 반복 단위를 갖는 아크릴 공중합체 (f1) (이하, 「분산제 (f1)」이라고 부르는 경우가 있다) 을 함유하고, 4 급 암모늄기를 포함하는 반복 단위를 갖지 않는다.The (f) dispersant in the photosensitive coloring composition of the present invention is an acrylic copolymer (f1) having repeating units represented by the following general formulas (1) to (3) (hereinafter referred to as “dispersant (f1)”) ) and does not have a repeating unit containing a quaternary ammonium group.

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00039
Figure pct00039

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.

R32 는 수소 원자 또는 메틸기이다.R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00040
Figure pct00040

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.

n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.n is an integer from 1 to 20;

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00041
Figure pct00041

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.

R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.

Z 는 2 가의 연결기이다.Z is a divalent linking group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

분산제 (f1) 은, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 반복 단위를 갖는다.The dispersing agent (f1) has a repeating unit represented by the following general formula (1) from the viewpoint of improving compatibility with solvents and alkali-soluble resins and improving dispersion stability.

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00042
Figure pct00042

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.

R32 는 수소 원자 또는 메틸기이다.R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

(R31)( R31 )

상기 식 (1) 에 있어서, R31 에 있어서의 알킬기로는, 직사슬형, 분기 사슬형, 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있고, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, 직사슬형인 것이 바람직하고, 또, 안료에 대한 친화성의 관점에서 분기 사슬형인 것이 바람직하다.In the formula (1), examples of the alkyl group for R 31 include linear, branched, or cyclic alkyl groups, and from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins, linear It is preferable, and from the viewpoint of affinity to a pigment, a branched chain type is preferable.

알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 4 이상이 보다 바람직하며, 또 10 이하가 바람직하고, 8 이하가 보다 바람직하고, 6 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 4 ∼ 6 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 안료에 대한 친화성을 높이는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성을 높여 분산성을 양화 (良化) 하는 경향이 있다.The number of carbon atoms in the alkyl group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 4 or more, more preferably 10 or less, more preferably 8 or less, still more preferably 6 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1-10 are preferable, 2-8 are more preferable, and 4-6 are still more preferable. There exists a tendency for affinity to a pigment to be improved by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for compatibility with a solvent or alkali-soluble resin to improve and to improve dispersibility by using below the said upper limit.

알킬기로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 에틸헥실기를 들 수 있고, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, 메틸기, 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and an ethylhexyl group, and from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins, A methyl group and an ethyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.

알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기를 들 수 있고, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서 무치환인 것이 바람직하고, 안료에 대한 친화성의 관점에서 페닐기인 것이 바람직하다.As a substituent which an alkyl group may have, For example, Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Aryl groups, such as a phenyl group and a naphthyl group, are mentioned, It is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of compatibility with a solvent or alkali-soluble resin, and a phenyl group is preferable from a viewpoint of affinity to a pigment.

R31 에 있어서의 아릴기로는, 1 가의 방향족 탄화수소 고리기, 1 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다.Examples of the aryl group for R 31 include a monovalent aromatic hydrocarbon ring group and a monovalent aromatic heterocyclic group.

아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이며, 또, 16 이하가 바람직하고, 12 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써 안료에 대한 친화성을 높이는 경향이 있다. 아릴기로는, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기를 들 수 있고, 분산성의 관점에서, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.The number of carbon atoms in the aryl group is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 10 or less. There exists a tendency for affinity to a pigment to be improved by using below the said upper limit. As an aryl group, a phenyl group, a naphthyl group, and anthracenyl group are mentioned, for example, From a dispersible viewpoint, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable.

아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기 등의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기 ; 벤질기, 페네틸기 등의 아르알킬기를 들 수 있고, 분산성의 관점에서 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which an aryl group may have, For example, Alkyl groups, such as a methyl group and an ethyl group; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; Aryl groups, such as a phenyl group and a naphthyl group; Aralkyl groups, such as a benzyl group and a phenethyl group, are mentioned, and unsubstituted is preferable from a dispersible viewpoint.

이들 중에서도, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, R31 로는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 부틸기, 에틸헥실기, 또는 벤질기가 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins, as R 31 , an alkyl group which may have a substituent is preferable, and a methyl group, a butyl group, an ethylhexyl group, or a benzyl group is more preferable.

분산제 (f1) 은, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 반복 단위를 갖는다.The dispersant (f1) has a repeating unit represented by the following general formula (2) from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins.

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00043
Figure pct00043

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.

n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.n is an integer from 1 to 20;

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

상기 식 (2) 에 있어서, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기, 또는 프로필렌기이지만, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, 에틸렌기가 바람직하다.In the formula (2), R 33 is a methylene group, an ethylene group, or a propylene group, but an ethylene group is preferable from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins.

상기 식 (2) 에 있어서, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이지만, 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성의 관점에서, 메틸기 또는 에틸기가 바람직하다.In the formula (2), R 34 is an alkyl group which may have a substituent, but is preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of compatibility with solvents and alkali-soluble resins.

상기 식 (2) 중, n 은 1 ∼ 20 의 정수이지만, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성이 양화되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 안료에 대한 친화성을 높여 분산성을 양화되는 경향이 있다.In the above formula (2), n is an integer of 1 to 20, preferably 1 or more, more preferably 2 or more, more preferably 10 or less, and more preferably 5 or less. For example, 1 to 10 are preferable, 1 to 5 are more preferable, and 2 to 5 are still more preferable. There exists a tendency for the compatibility with respect to a solvent or alkali-soluble resin to improve by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for affinity to a pigment to be raised and dispersibility to be quantified by setting it below the said upper limit.

분산제 (f1) 은, 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 갖는다. 전극의 표면 거칠음의 관점에서, 바람직하게 사용된다.The dispersant (f1) has a repeating unit represented by the general formula (3). From the viewpoint of the surface roughness of the electrode, it is preferably used.

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00044
Figure pct00044

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.

R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.

Z 는 2 가의 연결기이다.Z is a divalent linking group.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

상기 식 (3) 에 있어서, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다. 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (1) 에 있어서의 R31 로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.In the formula (3), R 36 and R 37 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent. As the alkyl group that may have a substituent and the aryl group that may have a substituent, those exemplified as R 31 in the formula (1) can be preferably employed.

상기 식 (3) 에 있어서, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. 고리형 구조로는, 예를 들면 5 ∼ 7 원 고리의 함질소 복소 고리 단고리 또는 이들이 2 개 축합하여 이루어지는 축합 고리를 들 수 있다. 함질소 복소 고리는 방향족성을 갖지 않는 것이 바람직하고, 포화 고리가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 이하의 것을 들 수 있다.In the formula (3), R 36 and R 37 may be bonded to each other to form a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocyclic monocyclic ring or a condensed ring formed by condensing two of them. It is preferable that the nitrogen-containing heterocyclic ring does not have aromaticity, and a saturated ring is more preferable. Specifically, the following are mentioned.

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00045
Figure pct00045

(이들 고리형 구조는, 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.(These cyclic structures may further have a substituent.

* 는 결합손을 나타낸다.)* indicates a bonding hand.)

(Z)(Z)

상기 식 (3) 에 있어서, Z 는 2 가의 연결기이다.In the formula (3), Z is a divalent linking group.

2 가의 연결기로는, 예를 들어, 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R39- 기, -COOR40- 기 (단, R39 및 R40 은 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다) 를 들 수 있고, 분산성의 관점에서 -COOR7- 기가 바람직하다. R40 중에서도, 분산액의 경시 안정성의 관점에서, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬렌기가 보다 바람직하고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬렌기가 더욱 바람직하다.Examples of the divalent linking group include a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, a -CONH-R 39 - group, a -COOR 40 - group (however, R 39 and R 40 are each independently a single bond, an alkylene group of 1 to 10 carbon atoms, or an ether group (alkyloxyalkyl group) of 2 to 10 carbon atoms), and a -COOR 7 - group is preferable from the viewpoint of dispersibility. Among R 40 , from the viewpoint of the stability over time of the dispersion, an alkylene group of 1 to 10 carbon atoms is preferable, an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms is more preferable, and an alkylene group of 1 to 3 carbon atoms is still more preferable.

분산제 (f1) 에 있어서의, 일반식 (1) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (1)」이라고 부르는 경우가 있다) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전체 반복 단위 중에 20 몰% 이상이 바람직하고, 30 몰% 이상이 보다 바람직하고, 40 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 50 몰% 이상이 보다 더 바람직하고, 60 몰% 이상이 특히 바람직하며, 또, 90 몰% 이하가 바람직하고, 85 몰% 이하가 보다 바람직하고, 80 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 75 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 몰% ∼ 90 몰% 가 바람직하고, 30 몰% ∼ 90 몰% 가 보다 바람직하고, 40 몰% ∼ 80 몰% 가 더욱 바람직하고, 50 몰% ∼ 80 몰% 가 보다 더 바람직하고, 60 몰% ∼ 80 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 안료에 대한 친화성을 높이는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성을 높이는 경향이 있다.The content of the repeating unit represented by the general formula (1) in the dispersant (f1) (hereinafter sometimes referred to as "repeating unit (1)") is not particularly limited, but is 20 mol% or more in all repeating units. is preferred, 30 mol% or more is more preferred, 40 mol% or more is more preferred, 50 mol% or more is even more preferred, 60 mol% or more is particularly preferred, and 90 mol% or less is preferred. , 85 mol% or less is more preferable, 80 mol% or less is still more preferable, and 75 mol% or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 20 mol% to 90 mol% is preferable, 30 mol% to 90 mol% is more preferable, 40 mol% to 80 mol% is still more preferable, and 50 mol% to 80 mol% is still more preferable. And 60 mol% - 80 mol% are especially preferable. There exists a tendency for affinity to a pigment to be improved by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the compatibility with respect to a solvent or alkali-soluble resin to be improved by using below the said upper limit.

분산제 (f1) 에 있어서의, 상기 일반식 (2) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (2)」라고 부르는 경우가 있다) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전체 반복 단위 중에 1 몰% 이상이 바람직하고, 2 몰% 이상이 보다 바람직하고, 2.5 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 3 몰% 이상이 특히 바람직하며, 또 30 몰% 이하가 바람직하고, 20 몰% 이하가 보다 바람직하고, 15 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 10 몰% 이하가 보다 더 바람직하고, 8 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 몰% ∼ 30 몰% 가 바람직하고, 1 몰% ∼ 20 몰% 가 보다 바람직하고, 1 몰% ∼ 15 몰% 가 더욱 바람직하고, 1 몰% ∼ 10 몰% 가 보다 더 바람직하고, 2 몰% ∼ 10 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 용제나 알칼리 가용성 수지에 대한 상용성을 높이는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 안료에 대한 친화성을 높이는 경향이 있다.The content of the repeating unit represented by the general formula (2) in the dispersant (f1) (hereinafter sometimes referred to as "repeating unit (2)") is not particularly limited, but is 1 mol% in all repeating units. The above is preferable, 2 mol% or more is more preferable, 2.5 mol% or more is more preferable, 3 mol% or more is particularly preferable, 30 mol% or less is preferable, 20 mol% or less is more preferable, 15 mol% or less is more preferable, 10 mol% or less is still more preferable, and 8 mol% or less is especially preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mol% to 30 mol% is preferable, 1 mol% to 20 mol% is more preferable, 1 mol% to 15 mol% is still more preferable, and 1 mol% to 10 mol% is still more preferable. And 2 mol% - 10 mol% are especially preferable. There exists a tendency for the compatibility with respect to a solvent or alkali-soluble resin to be improved by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for affinity to a pigment to be improved by using below the said upper limit.

분산제 (f1) 에 있어서의, 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (3)」라고 부르는 경우가 있다) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전체 반복 단위 중에 10 몰% 이상이 바람직하고, 20 몰% 이상이 보다 바람직하고, 25 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 30 몰% 이상이 특히 바람직하며, 또, 50 몰% 이하가 바람직하고, 45 몰% 이하가 보다 바람직하고, 40 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 35 몰% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 몰% ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 20 몰% ∼ 40 몰% 가 보다 바람직하고, 25 몰% ∼ 35 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 몰% ∼ 35 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산액의 경시 안정성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the repeating unit represented by the general formula (3) (hereinafter sometimes referred to as "repeating unit (3)") in the dispersant (f1) is not particularly limited, but is 10 mol% in all repeating units. The above is preferable, 20 mol% or more is more preferable, 25 mol% or more is more preferable, 30 mol% or more is particularly preferable, 50 mol% or less is preferable, and 45 mol% or less is more preferable. , 40 mol% or less is more preferable, and 35 mol% or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 10 mol% to 50 mol% is preferable, 20 mol% to 40 mol% is more preferable, 25 mol% to 35 mol% is still more preferable, and 30 mol% to 35 mol% is particularly preferable. . Dispersibility tends to become good by setting it as more than the said lower limit. When it is below the above upper limit, the stability over time of the dispersion tends to be good.

분산제 (f1) 은 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 되지만, 분산성의 관점에서, 블록 공중합체인 것이 바람직하고, 블록 공중합체는, 친용매기를 갖는 반복 단위를 함유하는 A 블록과, 안료 흡착기를 갖는 반복 단위를 함유하는 B 블록을 포함하는 것이 바람직하다.The dispersant (f1) may be contained in any of random copolymerization and block copolymerization, but from the viewpoint of dispersibility, it is preferably a block copolymer, and the block copolymer is an A block containing a repeating unit having a solvent group, a pigment It is preferable to include a B block containing a repeating unit having an adsorber.

분산제 (f1) 이 반복 단위 (1), 반복 단위 (2) 를 갖는 경우, 그들은 A 블록 중에 함유되는 것이 바람직하고, 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또한, 반복 단위 (1) 이나 반복 단위 (2) 는, A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.When the dispersing agent (f1) has the repeating unit (1) and the repeating unit (2), they are preferably contained in the A block, and may be contained in either mode of random copolymerization or block copolymerization. In addition, two or more types of repeating unit (1) or repeating unit (2) may be contained in the A block, respectively, in that case, each repeating unit is contained in either random copolymerization or block copolymerization in the A block it may be

반복 단위 (1) 및 (2) 이외의 반복 단위가 A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.Repeating units other than repeating units (1) and (2) may be contained in the A block, and examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth)acrylate type monomers such as (meth)acrylic acid chloride; (meth)acrylamide monomers such as (meth)acrylamide and N-methylolacrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; and repeating units derived from N-methacryloylmorpholine.

이들 중에서도, 반복 단위 (1), 반복 단위 (2) 를 갖는 A 블록과 반복 단위 (3) 을 갖는 B 블록을 갖는 블록 공중합체는 A-B 블록 공중합체 또는 A-B-A 블록 공중합체인 것이 보다 바람직하다.Among these, the block copolymer having an A block having repeating units (1) and repeating unit (2) and a B block having repeating unit (3) is more preferably an A-B block copolymer or an A-B-A block copolymer.

분산제 (f1) 의 아민가는 특별히 한정되지 않지만, 50 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 80 mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 90 mgKOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 160 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 140 mgKOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 130 mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 50 mgKOH/g ∼ 200 mgKOH/g 이 바람직하고, 80 mgKOH/g ∼ 160 mgKOH/g 이 보다 바람직하고, 100 mgKOH/g ∼ 140 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 100 mgKOH/g ∼ 130 mgKOH/g 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 전극의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산액의 경시 안정성이 양화되는 경향이 있다. 아민가는, 분산제 (f1) 의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 표시된다.The amine value of the dispersant (f1) is not particularly limited, but is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 80 mgKOH/g or more, still more preferably 90 mgKOH/g or more, and particularly preferably 100 mgKOH/g or more. Also, 200 mgKOH/g or less is preferable, 160 mgKOH/g or less is more preferable, 140 mgKOH/g or less is still more preferable, and 130 mgKOH/g or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 50 mgKOH/g to 200 mgKOH/g are preferable, 80 mgKOH/g to 160 mgKOH/g are more preferable, 100 mgKOH/g to 140 mgKOH/g are still more preferable, and 100 mgKOH/g to 130 mgKOH/g is particularly preferred. There exists a tendency that the surface roughness of an electrode can be suppressed by setting it more than the said lower limit. When it is below the above upper limit, the stability over time of the dispersion tends to be improved. An amine titer is represented by the mass of KOH equivalent to the amount of base per 1 g of the solid content of the dispersant (f1).

분산제 (f1) 의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 10 mgKOH/g 이하가 바람직하고, 5 mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 1 mgKOH/g 이 더욱 바람직하고, 0 mgKOH/g 이 특히 바람직하다.The acid value of the dispersant (f1) is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, it is preferably 10 mgKOH/g or less, more preferably 5 mgKOH/g or less, still more preferably 1 mgKOH/g, and 0 mgKOH/g or less. particularly preferred.

분산제 (f1) 의 중량 평균 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 3000 이상이 바람직하고, 5000 이상이 보다 바람직하고, 7000 이상이 더욱 바람직하고, 또, 100000 이하가 바람직하고, 50000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 3000 ∼ 100000 이 바람직하고, 5000 ∼ 50000 이 보다 바람직하고, 7000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호화되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산액의 경시 안정성이 양화되는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the dispersing agent (f1) is not particularly limited, but is preferably 3000 or more, more preferably 5000 or more, still more preferably 7000 or more, and preferably 100000 or less, more preferably 50000 or less, and 10000 The following is more preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 3000 to 100000 are preferable, 5000 to 50000 are more preferable, and 7000 to 10000 are still more preferable. There exists a tendency for dispersibility to improve by setting it as more than the said lower limit. When it is below the above upper limit, the stability over time of the dispersion tends to be improved.

분산제 (f1) 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 1.0 질량% 이하가 바람직하고, 0.5 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.2 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 실질적으로 염소 원자를 함유하지 않는, 즉 0.1 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써 표면 거칠음이 억제되는 경향이 있다.The content of chlorine atoms in the dispersant (f1) is not particularly limited, but is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.2% by mass or less, and substantially free of chlorine atoms. , that is, it is particularly preferably 0.1% by mass or less. There exists a tendency for surface roughness to be suppressed by carrying out below the said upper limit.

분산제 (f1) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 평01-299014호, 일본 공개특허공보 2017-019937호, 일본 공개특허공보 2018-172530호, 일본 공개특허공보 2018-203795호, 일본 공개특허공보 2019-099801호, 국제 공개 제2019/079659호에 기재되는 방법을 들 수 있다.The method for producing the dispersant (f1) is not particularly limited, and a known method can be employed. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 01-299014, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-019937, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-172530, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-203795, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-099801, The method described in international publication 2019/079659 is mentioned.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (f) 분산제는, 분산제 (f1) 이외의 분산제 (이하, 「그 밖의 분산제」라고 부르는 경우가 있다) 를 함유하고 있어도 된다.The (f) dispersant in the photosensitive coloring composition of the present invention may contain dispersants other than the dispersant (f1) (hereinafter sometimes referred to as "other dispersants").

그 밖의 분산제로는, 분산 안정성의 면에서, 예를 들어, 관능기로서 카르복시기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기를 갖는 분산제가 바람직하다. 그 중에서도, 염기성 관능기, 예를 들어, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기를 갖는 분산제가 보다 바람직하다.As another dispersing agent, it is a carboxyl group as a functional group from the point of dispersion stability, for example; or bases thereof; primary, secondary or tertiary amino groups; quaternary ammonium base; A dispersant having a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine is preferable. Among them, a basic functional group such as a primary, secondary or tertiary amino group; quaternary ammonium base; A dispersant having a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine is more preferable.

또한 안료를 분산할 때에 소량의 분산제로 분산할 수 있다는 관점에서, 고분자 분산제가 바람직하다.Moreover, when dispersing a pigment, a polymeric dispersing agent is preferable from the viewpoint that it can be dispersed with a small amount of dispersing agent.

고분자 분산제로는, 예를 들어 분산제 (f1) 이외의 아크릴계 분산제, 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제를 들 수 있다.As the polymer dispersant, for example, an acrylic dispersant other than the dispersant (f1), a urethane dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyallylamine dispersant, a dispersant composed of a monomer having an amino group and a macromonomer, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, and polyoxyethylene diester dispersants, polyether phosphoric acid dispersants, polyester phosphoric acid dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, and aliphatic modified polyester dispersants.

이러한 고분자 분산제로는, 예를 들어, 상품명으로, EFKA (등록상표. BASF 사 제조), DISPERBYK (등록상표. 빅케미사 제조), 디스파론 (등록상표. 쿠스모토 화성사 제조), SOLSPERSE (등록상표. 루브리졸사 제조), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록상표. 아지노모토사 제조) 를 들 수 있다.Such polymeric dispersants include, for example, as trade names, EFKA (registered trademark, manufactured by BASF), DISPERBYK (registered trademark, manufactured by Big Chemie, Inc.), Disparon (registered trademark, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.), SOLSPERSE (registered trademark). Trademark: Lubrizol Co., Ltd.), KP (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and Ajispur (registered trademark: Ajinomoto Co., Ltd.).

우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어, DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, BYK-LPN21116 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.Examples of the urethane-based and acrylic polymer dispersants include DISPERBYK160 to 166, 182 series (all urethane-based), DISPERBYK2000, 2001, and BYK-LPN21116 (all acrylic-based) (all of which are manufactured by Big Chemie Co., Ltd.).

그 밖의 분산제는 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Other dispersants may be used alone or in combination of two or more.

<감광성 착색 조성물의 그 밖의 배합 성분><Other ingredients of photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 계면 활성제, 안료 유도체, 광산 발생제, 가교제, 메르캅토 화합물, 중합 금지제 등의 첨가제를 적절히 배합할 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, in addition to the components described above, additives such as adhesion improvers such as silane coupling agents, surfactants, pigment derivatives, photoacid generators, crosslinking agents, mercapto compounds, and polymerization inhibitors can be appropriately blended. .

(1) 밀착 향상제(1) adhesion improver

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물이 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain an adhesion improver in order to improve adhesion with a substrate. As the adhesion improving agent, a silane coupling agent and a phosphoric acid group-containing compound are preferable.

실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지의 것을 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a kind of silane coupling agent, various things, such as an epoxy type, a (meth)acrylic type, and an amino type, can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

실란 커플링제로는, 예를 들어, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있다. 에폭시실란류의 실란 커플링제가 특히 바람직하다.Examples of the silane coupling agent include (meth)acryloxysilanes such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 2-(3,4-epoxycyclo Epoxysilanes such as hexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-ureido Isocyanate silanes, such as ureidosilanes, such as propyl triethoxysilane, and 3-isocyanate propyl triethoxysilane, are mentioned. A silane coupling agent of epoxysilanes is particularly preferred.

인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.As the phosphoric acid group-containing compound, (meth)acryloyl group-containing phosphates are preferable, and those represented by the following general formula (g1), (g2) or (g3) are preferable.

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00046
Figure pct00046

상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l'는 1 ∼ 10 의 정수이고, m 은 1, 2 또는 3 이다.In the general formulas (g1), (g2) and (g3), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and l' are integers of 1 to 10, and m is 1, 2 or 3.

이들 인산기 함유 화합물은, 1 종 단독으로 사용해도, 2 종 이상을 병용해도 된다.These phosphoric acid group-containing compounds may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

(2) 계면 활성제(2) surfactant

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 도포성 향상을 위해, 계면 활성제를 함유해도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a surfactant in order to improve applicability.

계면 활성제로는, 예를 들면 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.As surfactant, various things, such as anionic, cationic, nonionic, and amphoteric surfactants, can be used, for example. Among them, it is preferable to use a nonionic surfactant because the possibility of adversely affecting various properties is low, and among these, a fluorine-based or silicone-based surfactant is effective in terms of applicability.

이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들면, TSF4460 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), F-470, F-475, F-478, F-554, F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (도레이·다우코닝사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (3M 사 제조) 을 들 수 있다.As such a surfactant, for example, TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials), DFX-18 (manufactured by Neos), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Big Chemie), KP340 (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.), F-470, F-475, F-478, F-554, F-559 (manufactured by DIC Corporation), SH7PA (manufactured by Dow Corning Toray), DS-401 (manufactured by Daikin Corporation), L-77 (manufactured by Nippon Unica Co., Ltd.) and FC4430 (manufactured by 3M Co., Ltd.) are exemplified.

계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.Surfactant may use 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

(3) 안료 유도체(3) pigment derivatives

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a pigment derivative as a dispersing aid in order to improve dispersibility and storage stability.

안료 유도체로는, 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.As the pigment derivative, for example, azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazolone-based, quinophthalone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, anthraquinone-based, indanthrene-based, perylene-based, ferritic Rice-based, diketopyrrolopyrrole-based, and dioxazine-based derivatives are exemplified, but among these, phthalocyanine-based and quinophthalone-based derivatives are preferable.

안료 유도체의 치환기로는, 예를 들어, 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복시기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또한 이들 치환기는 하나의 안료 골격으로 복수 치환되어 있어도 된다.Substituents of the pigment derivative include, for example, sulfonic acid group, sulfonamide group and quaternary salts thereof, phthalimidemethyl group, dialkylaminoalkyl group, hydroxyl group, carboxy group, amide group, etc. directly on the pigment backbone or an alkyl group or aryl group. , and those bonded through a heterocyclic group or the like, preferably a sulfonic acid group. In addition, these substituents may be substituted in multiple numbers by one pigment skeleton.

안료 유도체로는, 예를 들어, 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체를 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the pigment derivative include sulfonic acid derivatives of phthalocyanine, sulfonic acid derivatives of quinophthalone, sulfonic acid derivatives of anthraquinone, sulfonic acid derivatives of quinacridone, sulfonic acid derivatives of diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of dioxazine. there is. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(4) 메르캅토 화합물(4) Mercapto compounds

중합 촉진제로서, 또한, 기판에 대한 밀착성의 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가하는 것도 가능하다.As a polymerization accelerator, it is also possible to add a mercapto compound in order to improve the adhesion to the substrate.

메르캅토 화합물로는, 예를 들어, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소 고리를 갖는 메르캅토 화합물, 지방족 다관능 메르캅토 화합물을 들 수 있다. 이들은 여러 가지의 것을 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the mercapto compound include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, hexanedithiol, decanedithiol, and 1,4-dimethylmercaptobenzene. , butanediol bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane trithioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane trithiopropionate, trimethylolpropane trithio Glycolate, pentaerythritol tetrakithiopropionate, pentaerythritol tetrakithioglycolate, trishydroxyethyltrithiopropionate, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mer captobutyrate), 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, trimethylolpropanetris(3-mercaptobutyrate), pentaerythritoltetrakis(3-mercaptobutyrate), pentaeryth Litoltris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutylate), butanediolbis (3-mercaptoisobutyrate), trimethylolpropanetris (3-mercaptoisobutylate) rate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) - having a heterocyclic ring such as trione A mercapto compound and an aliphatic polyfunctional mercapto compound are mentioned. These can use various things individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

(5) 중합 금지제(5) polymerization inhibitor

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 경화물의 형상 제어의 관점에서, 중합 금지제를 함유시켜도 된다. 중합 금지제를 함유함으로써 그것이 도포막 하층의 라디칼 중합을 저해하는 점에서, 테이퍼각 (경화물 단면에 있어서의 지지체와 경화물이 이루는 각도) 을 제어할 수 있다고 생각된다.You may contain a polymerization inhibitor in the photosensitive coloring composition of this invention from a viewpoint of shape control of hardened|cured material. By containing a polymerization inhibitor, it is considered that the taper angle (the angle formed by the support and the cured product in the cross section of the cured product) can be controlled since the radical polymerization of the lower layer of the coating film is inhibited by the polymerization inhibitor.

중합 금지제로는, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 을 들 수 있다. 이들 중에서도 형상 제어의 관점에서, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸이 바람직하다. 또한 인체에 대한 안전성이 특히 우수하다는 관점에서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논이 바람직하다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, methyl hydroquinone, methoxyphenol, and 2,6-di-tert-butyl-4-cresol (BHT). Among these, from the viewpoint of shape control, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol is preferable. Moreover, from the viewpoint of being particularly excellent in safety to the human body, hydroquinone monomethyl ether and methyl hydroquinone are preferred.

중합 금지제는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.A polymerization inhibitor can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

(b) 알칼리 가용성 수지를 제조할 때, 수지 중에 중합 금지제가 포함되는 경우가 있으며, 그것을 본 발명의 중합 금지제로서 사용해도 되고, 수지 중에 중합 금지제 외에, 그것과 동일, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 착색 조성물 제조시에 첨가해도 된다.(b) When an alkali-soluble resin is produced, a polymerization inhibitor may be contained in the resin, and it may be used as the polymerization inhibitor of the present invention, and a polymerization inhibitor other than the polymerization inhibitor in the resin, the same as or different from the polymerization inhibitor You may add at the time of preparing a photosensitive coloring composition.

감광성 착색 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 0.0005 질량% 이상, 바람직하게는 0.001 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상이며, 또한, 통상 0.3 질량% 이하, 바람직하게는 0.2 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.0005 질량% ∼ 0.3 질량% 가 바람직하고, 0.001 질량% ∼ 0.2 질량% 가 보다 바람직하며, 0.01 질량% ∼ 0.1 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 경화물의 형상을 제어할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 필요한 감도를 유지할 수 있는 경향이 있다.When the photosensitive coloring composition contains a polymerization inhibitor, the content thereof is not particularly limited, but is usually 0.0005% by mass or more, preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. % or more, and is usually 0.3% by mass or less, preferably 0.2% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 0.0005 mass % - 0.3 mass % are preferable, 0.001 mass % - 0.2 mass % are more preferable, and 0.01 mass % - 0.1 mass % are still more preferable. There exists a tendency for the shape of hardened|cured material to be controllable by setting it more than the said lower limit. There exists a tendency that required sensitivity can be maintained by setting it below the said upper limit.

<감광성 착색 조성물 중의 각 성분의 함유 비율><Content ratio of each component in the photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (a) 착색제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전체 고형분량에 대하여 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 더 바람직하며, 또, 50 질량% 이하가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 25 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하며, 15 질량% ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 15 질량% ∼ 30 질량% 가 보다 더 바람직하고, 15 질량% ∼ 25 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산제량을 줄일 수 있어, 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content ratio of the (a) colorant in the photosensitive coloring composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and still more preferably 15% by mass or more with respect to the total solid amount. It is preferably 20% by mass or more, more preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 30% by mass or less, and particularly preferably 25% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 5 mass% - 50 mass% are preferable, 10 mass% - 40 mass% are more preferable, 15 mass% - 40 mass% are still more preferable, 15 mass% - 30 mass% are still more preferable And 15 mass % - 25 mass % are especially preferable. There exists a tendency that light-shielding property can be ensured by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, the amount of dispersant can be reduced and there exists a tendency for surface roughness to be suppressed.

제 1 양태에 있어서, 감광성 착색 조성물 중의 화합물 (I) 의 함유 비율은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이상이 특히 바람직하며, 또 통상 50 질량% 이하이고, 40 질량% 이하가 바람직하고, 30 질량% 이하가 보다 바람직하고, 25 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 70 질량% 가 바람직하고, 20 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하며, 20 질량% ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 질량% ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 경화에 필요한 자외선광의 손실을 억제하면서 차광성이 높아지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산제량을 줄일 수 있고, 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.In the first aspect, the content ratio of compound (I) in the photosensitive coloring composition is preferably 5 mass% or more, more preferably 10 mass% or more, and 15 mass% or more with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. It is more preferably 20% by mass or more, particularly preferably 50% by mass or less, preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and particularly preferably 25% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 5 mass % - 70 mass % are preferable, 20 mass % - 70 mass % are more preferable, 20 mass % - 60 mass % are still more preferable, 20 mass % - 50 mass % are especially preferable . There exists a tendency for light-shielding property to improve, suppressing the loss of the ultraviolet light required for hardening by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, the amount of dispersant can be reduced and there exists a tendency for surface roughness to be suppressed.

제 1 양태에서, (a) 착색제가 화합물 (I) 및 다른 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율의 합계는 특별히 한정되지 않지만, (a) 착색제 중의 화합물 (I) 의 함유 비율이, 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 30 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 70 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 질량% ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 질량% ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하며, 30 질량% ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아져, 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상시의 잔사가 적어져, 소자 제작시의 신뢰성이 양호해지는 경향이 있다.In the first aspect, when the (a) colorant contains compound (I) and other pigments, the total content is not particularly limited, but (a) the content of compound (I) in the colorant is 10% by mass The above is preferable, 20 mass% or more is more preferable, 30 mass% or more is more preferable, and 90 mass% or less is preferable, 80 mass% or less is more preferable, and 70 mass% or less is particularly preferable. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 10 mass % - 90 mass % are preferable, 20 mass % - 80 mass % are more preferable, and 30 mass % - 70 mass % are still more preferable. There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit, and it can make it a color tone close to black. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the residue at the time of development to become small and the reliability at the time of element fabrication to become favorable.

제 1 양태에서, (a) 착색제가 화합물 (I) 및 유기 착색 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율의 합계는 특별히 한정되지 않지만, (a) 착색제 중의 화합물 (I) 의 함유 비율이, 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 30 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 70 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 질량% ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 질량% ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 30 질량% ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아져, 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상시의 잔사가 적어져, 소자 제작시의 신뢰성이 양호해지는 경향이 있다.In the first aspect, when the (a) colorant contains compound (I) and an organic color pigment, the total content is not particularly limited, but (a) the content of compound (I) in the colorant is 10 mass % or more is preferable, 20 mass% or more is more preferable, 30 mass% or more is more preferable, and 90 mass% or less is preferable, 80 mass% or less is more preferable, and 70 mass% or less is particularly preferable. do. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 10 mass % - 90 mass % are preferable, 20 mass % - 80 mass % are more preferable, and 30 mass % - 70 mass % are still more preferable. There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit, and it can make it a color tone close to black. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the residue at the time of development to become small and the reliability at the time of element fabrication to become favorable.

감광성 착색 조성물이 유기 착색 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이상이 특히 바람직하며, 또 통상 50 질량% 이하이고, 40 질량% 이하가 바람직하고, 30 질량% 이하가 보다 바람직하고, 25 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 70 질량% 가 바람직하고, 20 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하며, 20 질량% ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 질량% ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산제량을 줄일 수 있고, 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.When the photosensitive coloring composition contains an organic color pigment, the content thereof is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and 15% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. The above is more preferable, 20 mass% or more is particularly preferable, and is usually 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less, more preferably 30 mass% or less, and particularly preferably 25 mass% or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 5 mass % - 70 mass % are preferable, 20 mass % - 70 mass % are more preferable, 20 mass % - 60 mass % are still more preferable, 20 mass % - 50 mass % are especially preferable . There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, the amount of dispersant can be reduced and there exists a tendency for surface roughness to be suppressed.

(a) 착색제가 적색 안료 및/또는 주황색 안료를 함유하는 경우, 적색 안료 및 주황색 안료의 함유 비율의 합계는 특별히 한정되지 않지만, (a) 착색제 중에 5 질량% 이상이 바람직하고, 8 질량% 이상이 보다 바람직하고, 10 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 12 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또한, 40 질량% 이하가 바람직하고, 30 질량% 이하가 보다 바람직하고, 20 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 바람직하고, 8 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 10 질량% ∼ 30 질량% 가 더욱 바람직하고, 12 질량% ∼ 20 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다. 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있다.(a) When the colorant contains a red pigment and/or an orange pigment, the total content of the red pigment and the orange pigment is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or more, and preferably 8% by mass or more in the colorant (a). More preferably, 10 mass% or more is more preferable, 12 mass% or more is particularly preferable, and 40 mass% or less is preferable, 30 mass% or less is more preferable, and 20 mass% or less is particularly preferable. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 5 mass % - 40 mass % are preferable, 8 mass % - 40 mass % are more preferable, 10 mass % - 30 mass % are still more preferable, 12 mass % - 20 mass % are especially preferable . There is a tendency that a color tone close to black can be obtained by setting the value to be equal to or greater than the lower limit. Moreover, there exists a tendency for high sensitivity by using below the said upper limit.

(a) 착색제가 청색 안료 및/또는 보라색 안료를 함유하는 경우, 청색 안료 및 보라색 안료의 함유 비율의 합계는 특별히 한정되지 않지만, (a) 착색제 중에 30 질량% 이상이 바람직하고, 50 질량% 이상이 보다 바람직하고, 70 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 80 질량% 이상이 특히 바람직하며, 또 95 질량% 이하가 바람직하고, 92 질량% 이하가 보다 바람직하고, 90 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 30 질량% ∼ 95 질량% 가 바람직하고, 50 질량% ∼ 95 질량% 가 보다 바람직하고, 70 질량% ∼ 92 질량% 가 더욱 바람직하고, 80 질량% ∼ 90 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도, 차광성이 양호해지는 경향이 있다.(a) When the colorant contains a blue pigment and/or a purple pigment, the total content of the blue pigment and the purple pigment is not particularly limited, but is preferably 30% by mass or more, and preferably 50% by mass or more in the (a) colorant. More preferably, 70 mass% or more is more preferable, 80 mass% or more is particularly preferable, 95 mass% or less is preferable, 92 mass% or less is more preferable, and 90 mass% or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 30 mass % - 95 mass % are preferable, 50 mass % - 95 mass % are more preferable, 70 mass % - 92 mass % are still more preferable, 80 mass % - 90 mass % are especially preferable . There is a tendency that a color tone close to black can be obtained by setting the value to be equal to or greater than the lower limit. There exists a tendency for sensitivity and light-shielding property to become favorable by using below the said upper limit.

(a) 착색제가 적색 안료 및/또는 주황색 안료와, 청색 안료 및/또는 보라색 안료의 양방을 함유하는 경우, 적색 안료 및/또는 주황색 안료의 함유 비율은, 청색 안료 및/또는 보라색 안료의 함유량에 대해, 특별히 한정은 없지만, 1 질량% 이상이 바람직하고, 3 질량% 이상이 보다 바람직하고, 5 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 8 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 300 질량% 이하가 바람직하고, 100 질량% 이하가 보다 바람직하고, 50 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 질량% ∼ 300 질량% 가 바람직하고, 3 질량% ∼ 100 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 100 질량% 가 더욱 바람직하고, 8 질량% ∼ 50 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 청색광의 투과를 억제하여 차광성이 높아지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다.(a) When the coloring agent contains both a red pigment and/or an orange pigment and a blue pigment and/or a purple pigment, the content ratio of the red pigment and/or the orange pigment depends on the content of the blue pigment and/or the violet pigment. is not particularly limited, but is preferably 1 mass% or more, more preferably 3 mass% or more, still more preferably 5 mass% or more, particularly preferably 8 mass% or more, and preferably 300 mass% or less. And, 100 mass % or less is more preferable, and 50 mass % or less is especially preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mass % - 300 mass % are preferable, 3 mass % - 100 mass % are more preferable, 5 mass % - 100 mass % are still more preferable, 8 mass % - 50 mass % are especially preferable . There exists a tendency for transmission of blue light to be suppressed and light-shielding property to improve by setting it more than the said lower limit. There is a tendency that a color tone close to black can be obtained by setting the value below the above upper limit.

감광성 착색 조성물이 유기 흑색 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 10 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이상이 특히 바람직하며, 또한, 60 질량% 이하가 바람직하고, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 40 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 3 질량% ∼ 60 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 60 질량% 가 보다 바람직하고, 10 질량% ∼ 50 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 질량% ∼ 40 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산제량을 줄일 수 있어, 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.When the photosensitive coloring composition contains an organic black pigment, the proportion thereof is not particularly limited, but is preferably 3 mass% or more, more preferably 5 mass% or more, and 10 mass% with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. The above is more preferable, 20 mass% or more is particularly preferable, and 60 mass% or less is preferable, 50 mass% or less is more preferable, and 40 mass% or less is particularly preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 3 mass % - 60 mass % are preferable, 5 mass % - 60 mass % are more preferable, 10 mass % - 50 mass % are still more preferable, 20 mass % - 40 mass % are especially preferable . There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, the amount of dispersant can be reduced and there exists a tendency for surface roughness to be suppressed.

감광성 착색 조성물이 무기 흑색 안료로서 카본 블랙을 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 1 질량% 이상이 바람직하고, 3 질량% 이상이 보다 바람직하고, 5 질량% 이상이 더욱 바람직하며, 또한, 30 질량% 이하가 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 3 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 3 질량% ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 고저항, 저유전율의 경화물을 형성할 수 있는 경향이 있다.When the photosensitive coloring composition contains carbon black as the inorganic black pigment, the content thereof is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more, and more preferably 3% by mass or more, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition. 5 mass % or more is more preferable, 30 mass % or less is preferable, 20 mass % or less is more preferable, and 10 mass % or less is especially preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mass % - 30 mass % are preferable, 3 mass % - 20 mass % are more preferable, and 3 mass % - 10 mass % are still more preferable. There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency for the hardened|cured material of high resistance and low permittivity to be formed by setting it below the said upper limit.

(a) 착색제가 흑색 안료 및 유기 착색 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율의 합계는 특별히 한정되지 않지만, (a) 착색제 중의 흑색 안료의 함유 비율이 10 질량% 이상이 바람직하고, 20 질량% 이상이 보다 바람직하고, 30 질량% 이상이 더욱 바람직하며, 또 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 70 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 10 질량% ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 20 질량% ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 30 질량% ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 높아져, 흑색에 가까운 색조로 할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상시의 잔사가 적어져, 소자 제작시의 신뢰성이 양호해지는 경향이 있다.(a) When the colorant contains a black pigment and an organic color pigment, the total content ratio is not particularly limited, but (a) the content ratio of the black pigment in the colorant is preferably 10% by mass or more, and 20% by mass or more It is more preferably 30% by mass or more, more preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and particularly preferably 70% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 10 mass % - 90 mass % are preferable, 20 mass % - 80 mass % are more preferable, and 30 mass % - 70 mass % are still more preferable. There exists a tendency for light-shielding property to become high by setting it as more than the said lower limit, and it can make it a color tone close to black. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the residue at the time of development to become small and the reliability at the time of element fabrication to become favorable.

(b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이며, 통상 85 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 55 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 20 질량% ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 질량% ∼ 60 질량% 가 보다 더 바람직하고, 30 질량% ∼ 55 질량% 가 특별히 바람직하고, 40 질량% ∼ 55 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하여, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또한 패턴의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.(b) The content ratio of the alkali-soluble resin is not particularly limited, but is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention; More preferably 30% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more, and usually 85% by mass or less, preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less , more preferably 55% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, it is preferably 5% by mass to 80% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, still more preferably 20% by mass to 60% by mass, and still more preferably 30% by mass to 60% by mass. And, 30 mass % - 55 mass % are especially preferable, and 40 mass % - 55 mass % are especially preferable. There exists a tendency that the fall of the solubility of an unexposed part to a developing solution can be suppressed by setting it as more than the said lower limit, and development defect can be suppressed. By setting it below the above upper limit, there is a tendency that appropriate sensitivity can be maintained, dissolution by the developing solution of the exposed area can be suppressed, and a decrease in sharpness and adhesiveness of the pattern can be suppressed.

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 통상 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하, 특히 바람직하게는 55 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 5 질량% ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 20 질량% ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 질량% ∼ 60 질량% 가 보다 더 바람직하고, 30 질량% ∼ 55 질량% 가 한층 더 바람직하며, 40 질량% ∼ 55 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또한 패턴의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.(b1) The content of the epoxy (meth)acrylate-based resin is not particularly limited, but is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. 15% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, particularly preferably 30% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more, and usually 80% by mass or less, preferably 70% by mass or less, more preferably is 60% by mass or less, particularly preferably 55% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, it is preferably 5% by mass to 80% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, still more preferably 20% by mass to 60% by mass, and still more preferably 30% by mass to 60% by mass. And, 30 mass % - 55 mass % are still more preferable, and 40 mass % - 55 mass % are especially preferable. There exists a tendency that solubility in the developing solution of an unexposed part can be ensured by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the above upper limit, there is a tendency that appropriate sensitivity can be maintained, dissolution by the developing solution of the exposed area can be suppressed, and a decrease in sharpness and adhesiveness of the pattern can be suppressed.

(b) 알칼리 가용성 수지 중에 함유되는 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 20 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 통상 100 질량% 이하, 바람직하게는 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 80 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 20 질량% ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 30 질량% ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 40 질량% ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또한 패턴의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.(b) The content ratio of the (b1) epoxy (meth)acrylate-based resin contained in the alkali-soluble resin is not particularly limited, but is usually 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and more preferably 40% by mass. or more, and is usually 100% by mass or less, preferably 90% by mass or less, and more preferably 80% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 20 mass % - 90 mass % are preferable, 30 mass % - 80 mass % are more preferable, and 40 mass % - 80 mass % are still more preferable. There exists a tendency that solubility in the developing solution of an unexposed part can be ensured by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the above upper limit, there is a tendency that appropriate sensitivity can be maintained, dissolution by the developing solution of the exposed area can be suppressed, and a decrease in sharpness and adhesiveness of the pattern can be suppressed.

(c) 광중합 개시제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량% 이상이며, 통상 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 6 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.1 질량% ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.5 질량% ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하며, 1 질량% ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 2 질량% ∼ 8 질량% 가 보다 더 바람직하고, 3 질량% ∼ 6 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하여, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.(c) The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. Preferably 2% by mass or more, still more preferably 3% by mass or more, and usually 15% by mass or less, preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, still more preferably 6% by mass or less. am. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 0.1 mass % - 15 mass % are preferable, 0.5 mass % - 15 mass % are more preferable, 1 mass % - 10 mass % are still more preferable, 2 mass % - 8 mass % are still more preferable And 3 mass % - 6 mass % are especially preferable. There exists a tendency that the sensitivity fall can be suppressed by setting it more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the fall of the solubility of an unexposed part to a developing solution to be suppressed, and development failure to be suppressed.

(c) 광중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 통상 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이다. 또한, 중합 촉진제는, (c) 광중합 개시제 100 질량부에 대하여 통상 0.1 ∼ 50 질량부, 특히 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 중합 촉진제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 노광 광선에 대한 감도의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하여, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.(c) When a polymerization accelerator is used together with a photopolymerization initiator, the content of the polymerization accelerator is not particularly limited, but is preferably 0.05% by mass or more and usually 10% by mass or less relative to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. , Preferably it is 5 mass % or less. The polymerization promoter is preferably used in an amount of usually 0.1 to 50 parts by mass, particularly 0.1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (c) photopolymerization initiator. When the content ratio of the polymerization accelerator is equal to or greater than the lower limit, the decrease in sensitivity to exposure light tends to be suppressed. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the fall of the solubility of an unexposed part to a developing solution to be suppressed, and development failure to be suppressed.

(c) 광중합 개시제와 함께 증감 색소를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감도의 관점에서 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분량에 대하여 통상 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하이다.(c) When a sensitizing dye is used together with a photopolymerization initiator, the content thereof is not particularly limited, but is usually 20% by mass or less, preferably 15% by mass or less, based on the total solid content in the photosensitive coloring composition from the viewpoint of sensitivity, More preferably, it is 10 mass % or less.

(d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상이며, 또 통상 30 질량% 이하, 바람직하게는 25 질량% 이하, 보다 바람직하게는 20 질량% 이하이다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 10 질량% ∼ 20 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또한 패턴의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 노광부로의 현상액의 침투성이 높아지는 것을 억제하여, 양호한 화상을 얻는 것이 용이해지는 경향이 있다.(d) The content of the ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. , more preferably 15% by mass or more, and usually 30% by mass or less, preferably 25% by mass or less, and more preferably 20% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mass % - 30 mass % are preferable, 5 mass % - 20 mass % are more preferable, and 10 mass % - 20 mass % are still more preferable. There is a tendency that proper sensitivity can be maintained, dissolution by the developing solution of the exposed area can be suppressed, and deterioration of the sharpness and adhesiveness of the pattern can be suppressed by setting it to the above lower limit or more. By setting it below the above upper limit, it tends to suppress an increase in permeability of the developing solution into the exposed portion and to obtain a good image easily.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 사용함으로써, 전체 고형분량의 함유 비율이 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 15 질량% 이상, 또한, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 25 질량% 이하가 되도록 조액된다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 바람직하게는 5 질량% ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 10 질량% ∼ 30 질량%, 더욱 바람직하게는 15 질량% ∼ 25 질량% 가 되도록 조액된다.The photosensitive coloring composition of the present invention has a content ratio of the total solid content of preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 15% by mass or more, by using (e) a solvent. , preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 25% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, it is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, still more preferably 15% by mass to 25% by mass.

(f) 분산제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 1 질량% 이상이고, 2 질량% 이상이 바람직하고, 3 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상 20 질량% 이하, 15 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 7 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 질량% ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 2 질량% ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 3 질량% ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 3 질량% ∼ 7 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 전극 표면의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.(f) The content of the dispersant is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and usually 20% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. % or less, preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and still more preferably 7% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mass % - 20 mass % are preferable, 2 mass % - 15 mass % are more preferable, 3 mass % - 10 mass % are still more preferable, 3 mass % - 7 mass % are especially preferable . There exists a tendency for sufficient dispersibility to be easily obtained by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency that the surface roughness of the electrode surface can be suppressed by setting it below the said upper limit.

분산제 (f1) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 1 질량% 이상이고, 2 질량% 이상이 바람직하고, 3 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상 20 질량% 이하, 15 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 7 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 1 질량% ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 2 질량% ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 3 질량% ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 3 질량% ∼ 7 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 전극 표면의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.Although the content ratio of the dispersant (f1) is not particularly limited, it is usually 1% by mass or more, preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and usually 20% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. % or less, preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and still more preferably 7% by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 1 mass % - 20 mass % are preferable, 2 mass % - 15 mass % are more preferable, 3 mass % - 10 mass % are still more preferable, 3 mass % - 7 mass % are especially preferable . There exists a tendency for sufficient dispersibility to be easily obtained by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency that the surface roughness of the electrode surface can be suppressed by setting it below the said upper limit.

분산제 (f1) 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, (f) 분산제 중에 통상 20 질량% 이상이고, 40 질량% 이상이 바람직하고, 60 질량% 이상이 보다 바람직하고, 80 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 통상 100 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 전극 표면의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of the dispersant (f1) is not particularly limited, but is usually 20% by mass or more in the dispersant (f), preferably 40% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and still more preferably 80% by mass or more. , and usually 100% by mass or less. There exists a tendency that the surface roughness of the electrode surface can be suppressed by setting it as more than the said lower limit.

(a) 착색제 100 질량부에 대한 (f) 분산제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 15 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 통상 50 질량부 이하, 특히 30 질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 5 질량부 ∼ 50 질량부가 바람직하고, 10 질량부 ∼ 50 질량부가 보다 바람직하고, 15 질량부 ∼ 30 질량부가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 전극 표면의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content ratio of (f) dispersant to 100 parts by mass of (a) colorant is not particularly limited, but is usually 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 15 parts by mass or more, and usually 50 parts by mass It is preferably less than or equal to 30 parts by mass or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 5 parts by mass to 50 parts by mass are preferable, 10 parts by mass to 50 parts by mass are more preferable, and 15 parts by mass to 30 parts by mass are still more preferable. There exists a tendency for sufficient dispersibility to be easily obtained by setting it as more than the said lower limit. There exists a tendency that the surface roughness of the electrode surface can be suppressed by setting it below the said upper limit.

(d) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대한 (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 100 질량부 이상, 200 질량부 이상이 바람직하고, 250 질량부 이상이 보다 바람직하고, 300 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 350 질량부 이상이 특히 바람직하며, 또 통상 700 질량부 이하, 500 질량부 이하가 바람직하고, 450 질량부 이하가 보다 바람직하고, 400 질량부 이하가 더욱 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 100 질량부 ∼ 700 질량부가 바람직하고, 200 질량부 ∼ 700 질량부가 보다 바람직하고, 250 질량부 ∼ 500 질량부가 더욱 바람직하고, 250 질량부 ∼ 450 질량부가 보다 더 바람직하고, 250 질량부 ∼ 400 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 박리 등이 없는 적정한 용해 현상 상태가 되는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대하여 적절한 용해 시간을 얻을 수 있는 경향이 있다.(d) The content ratio of the alkali-soluble resin (b) to 100 parts by mass of the ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, but is usually 100 parts by mass or more, preferably 200 parts by mass or more, and more preferably 250 parts by mass or more, 300 parts by mass or more is more preferable, 350 parts by mass or more is particularly preferable, and usually 700 parts by mass or less and 500 parts by mass or less are preferable, 450 parts by mass or less are more preferable, and 400 parts by mass or less are still more preferable. . The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, preferably 100 parts by mass to 700 parts by mass, more preferably 200 parts by mass to 700 parts by mass, still more preferably 250 parts by mass to 500 parts by mass, still more preferably 250 parts by mass to 450 parts by mass, and even more preferably 250 parts by mass Part to 400 parts by mass is particularly preferred. By setting the above lower limit or more, it tends to be in an appropriate dissolution state without peeling or the like. There exists a tendency that an appropriate dissolution time can be obtained with respect to a developing solution by setting it below the said upper limit.

밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량%이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 밀착성의 향상 효과를 충분히 얻을 수 있는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 감도가 저하되거나, 현상 후에 잔사가 잔류하여 결함이 되거나 하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.When an adhesion improver is used, the content thereof is not particularly limited, but is usually 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, and more preferably 0.4 to 2% by mass relative to the total solid content of the photosensitive coloring composition. am. There exists a tendency for the adhesive improvement effect to fully be acquired by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the above upper limit, it tends to be able to suppress the decrease in sensitivity or the occurrence of defects due to residues remaining after development.

계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 통상 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량%이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉬운 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉽고, 다른 특성의 악화도 억제할 수 있는 경향이 있다.When a surfactant is used, the content thereof is not particularly limited, but is usually 0.001 to 10% by mass, preferably 0.005 to 1% by mass, and more preferably 0.01 to 0.5% by mass relative to the total solid content of the photosensitive coloring composition. , most preferably 0.03 to 0.3% by mass. There exists a tendency for the smoothness and uniformity of a coating film to be easily expressed by setting it as more than the said lower limit. By setting it below the said upper limit, the smoothness and uniformity of a coating film tend to be expressed easily, and deterioration of other characteristics also tends to be suppressed.

<감광성 착색 조성물 중의 염소 원자 함유량><Content of Chlorine Atoms in Photosensitive Coloring Composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하이다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.

격벽을 제작함에 있어서는, 후술하는 바와 같은, 가열 처리를 실시하여, 감광성 착색 조성물을 경화시키는 공정을 수반한다. 그때, 전극 표면에 표면 거칠음이 발생하는 경우가 있다. 표면 거칠음은 광학 현미경으로 관찰할 수 있고, 또한 표면 조도도 높아진다. 전극 표면에 표면 거칠음이 발생한 경우에는, 그 부분에 발광층을 균일하게 형성할 수 없어, 유기 전계 발광 소자를 제작했을 때에, 단락 등에 의한 표시 불량을 일으킬 가능성이 있다. 이것은, 가열 처리시에, 특히 소성시에, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자가 분해, 휘발, 혹은 승화되어, 은 등의 금속 전극에 대하여 작용하여, 부식 혹은 에칭 등을 일으키기 때문이라고 추정되며, 염소 원자의 함유량을 일정값 이하로 함으로써, 표면 거칠음을 억제할 수 있다.In producing a partition, the process of hardening a photosensitive coloring composition by performing heat processing as mentioned later is accompanied. At that time, surface roughness may occur on the surface of the electrode. Surface roughness can be observed with an optical microscope, and surface roughness also increases. When surface roughness occurs on the electrode surface, a light emitting layer cannot be uniformly formed on that portion, and display defects due to a short circuit or the like may occur when an organic electroluminescent device is manufactured. This is presumed to be because chlorine atoms in the photosensitive coloring composition decompose, volatilize, or sublimate during heat treatment, particularly during firing, and act on a metal electrode such as silver to cause corrosion or etching. Surface roughness can be suppressed by making content into a fixed value or less.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자는, 주로 (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (f) 분산제와 같은 구성 재료에 함유되지만, 다른 재료에도 함유되는 경우가 있다. 염소 원자의 함유량을 본 발명이 규정하는 수치 범위에 들어가게 하기 위해서는, 하나의 구성 재료의 염소 함유량을 저감시켜도 되고, 혹은 각각의 재료에 있어서의 염소 함유량을 저감시켜, 규정의 수치 범위에 들어가도록 설계해도 된다.Chlorine atoms in the photosensitive coloring composition are mainly contained in constituent materials such as (a) colorant, (b) alkali-soluble resin, and (f) dispersant, but may also be contained in other materials. In order to make the chlorine atom content fall within the numerical range stipulated by the present invention, the chlorine content of one constituent material may be reduced, or the chlorine content in each material may be reduced and designed to fall within the stipulated numerical range. You can do it.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하이고, 0.04 질량% 이하가 바람직하고, 0.03 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.01 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 전극의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is not particularly limited, but is 0.05% by mass or less, preferably 0.04% by mass or less, more preferably 0.03% by mass or less, and 0.01% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. The following is more preferable. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the surface roughness of an electrode to be suppressed.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상 0.0005 질량% 이상이고, 0.001 질량% 이상이 바람직하고, 0.002 질량% 가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 각 구성 재료의 제조시에 정제 (精製) 를 완화할 수 있는 점에서 유효하다.Although content of the chlorine atom in the photosensitive coloring composition is not specifically limited, It is 0.0005 mass % or more normally, 0.001 mass % or more is preferable, and 0.002 mass % is more preferable. It is effective at the point where refining can be alleviated at the time of manufacture of each constituent material by setting it as more than the said lower limit.

상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 0.0005 ∼ 0.05 질량% 가 바람직하고, 0.0005 ∼ 0.04 질량% 가 보다 바람직하고, 0.001 ∼ 0.03 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.002 ∼ 0.01 질량% 가 특히 바람직하다.The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 0.0005-0.05 mass % is preferable, 0.0005-0.04 mass % is more preferable, 0.001-0.03 mass % is still more preferable, and 0.002-0.01 mass % is especially preferable.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 용제를 함유한 감광성 착색 조성물의 전체 질량에 대해서, 100 μg/g 이하가 바람직하고, 80 μg/g 이하가 보다 바람직하고, 50 μg/g 이하가 더욱 바람직하고, 30 μg/g 이하가 보다 더 바람직하며, 10 μg/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 전극의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is not particularly limited, but is preferably 100 µg/g or less, more preferably 80 µg/g or less, and 50 µg/g or less based on the total mass of the photosensitive coloring composition containing the solvent. g or less is more preferable, 30 μg/g or less is even more preferable, and 10 μg/g or less is particularly preferable. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the surface roughness of an electrode to be suppressed.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상 0.5 μg/g 이상이며, 1.0 μg/g 이상이 바람직하고, 2.0 μg/g 이상이 보다 바람직하다. 하한값 이상으로 함으로써, 각 구성 재료의 제조시에 정제를 완화할 수 있는 점에서 유효하다.The content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is not particularly limited, but is usually 0.5 μg/g or more, preferably 1.0 μg/g or more, and more preferably 2.0 μg/g or more. By setting it to the lower limit or more, it is effective at the point where refining can be relieved at the time of manufacturing each constituent material.

상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 0.5 ∼ 100 μg/g 이 바람직하고, 0.5 ∼ 80 μg/g 이 보다 바람직하고, 1.0 ∼ 50 μg/g 이 더욱 바람직하고, 1.0 ∼ 30 μg/g 이 보다 더 바람직하며, 2.0 ∼ 10 μg/g 이 특히 바람직하다.The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 0.5 to 100 μg/g is preferable, 0.5 to 80 μg/g is more preferable, 1.0 to 50 μg/g is still more preferable, 1.0 to 30 μg/g is even more preferable, and 2.0 to 2.0 μg/g is more preferable. 10 μg/g is particularly preferred.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 (a) 착색제의 함유량 100 질량% 에 대하여, 0.20 질량% 이하가 바람직하고, 0.15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.10 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 0.05 질량% 이하가 보다 더 바람직하고, 0.03 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 전극의 표면 거칠음을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is not particularly limited, but is preferably 0.20% by mass or less, more preferably 0.15% by mass or less, and 0.10% by mass relative to 100% by mass of the colorant (a) of the photosensitive coloring composition. % or less is more preferable, 0.05 mass % or less is still more preferable, and 0.03 mass % or less is especially preferable. By setting it below the said upper limit, there exists a tendency for the surface roughness of an electrode to be suppressed.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상 0.001 질량% 이상이고, 0.005 질량% 이상이 바람직하고, 0.010 질량% 가 보다 바람직하다. 하한값 이상으로 함으로써, 각 구성 재료의 제조시에 정제를 완화할 수 있는 점에서 유효하다.Although content of the chlorine atom in the photosensitive coloring composition is not specifically limited, It is 0.001 mass % or more normally, 0.005 mass % or more is preferable, and 0.010 mass % is more preferable. By setting it to the lower limit or more, it is effective at the point where refining can be relieved at the time of manufacturing each constituent material.

상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 감광성 착색 조성물의 (a) 착색제의 함유량 100 질량% 에 대하여, 0.001 ∼ 0.20 질량% 가 바람직하고, 0.001 ∼ 0.15 질량% 가 보다 바람직하고, 0.005 ∼ 0.10 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.005 ∼ 0.05 질량% 가 보다 더 바람직하며, 0.010 ∼ 0.03 질량% 가 특히 바람직하다.The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, with respect to 100 mass% of content of the (a) coloring agent of the photosensitive coloring composition, 0.001-0.20 mass% is preferable, 0.001-0.15 mass% is more preferable, 0.005-0.10 mass% is still more preferable, and 0.005 - 0.05 mass % is more preferable, and 0.010 - 0.03 mass % is especially preferable.

감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량은, 예를 들어, 연소 이온 크로마토그래프법 (Combustion ion chromatography) 등으로 측정할 수 있다.The content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition can be measured, for example, by combustion ion chromatography or the like.

<감광성 착색 조성물의 물성><Physical properties of photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 그 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 제 1 양태에 있어서는 특별히 한정되지 않지만, 0.5 이상이 바람직하다. 제 2 양태에 있어서는, 0.5 이상이다. 0.7 이상이 보다 바람직하고, 1.0 이상이 더욱 바람직하고, 1.3 이상이 보다 더 바람직하고, 1.5 이상이 특히 바람직하고, 통상 4.0 이하이고, 3.0 이하가 바람직하고, 2.0 이하가 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 제 1 양태 및 제 2 양태 중 어느 것에 있어서도, 예를 들어, 0.5 ∼ 4.0 이 바람직하고, 0.7 ∼ 4.0 이 보다 바람직하고, 1.0 ∼ 3.0 이 더욱 바람직하고, 1.3 ∼ 3.0 이 보다 더 바람직하고, 1.5 ∼ 2.0 이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있다. 상기 상한값 이하로 함으로써 전극의 표면 거칠음이 양호해지는 경향이 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the optical density (OD) per 1 μm of film thickness of the coating film is not particularly limited in the first aspect, but is preferably 0.5 or more. In the second aspect, it is 0.5 or more. 0.7 or more is more preferable, 1.0 or more is more preferable, 1.3 or more is still more preferable, 1.5 or more is particularly preferable, and it is usually 4.0 or less, 3.0 or less is preferable, and 2.0 or less is more preferable. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. Also in any of the 1st aspect and the 2nd aspect, 0.5-4.0 are preferable, 0.7-4.0 are more preferable, 1.0-3.0 are still more preferable, 1.3-3.0 are still more preferable, and 1.5-4.0 are still more preferable, for example. 2.0 is particularly preferred. There exists a tendency for sufficient light-shielding property to be obtained by setting it as more than the said lower limit. The surface roughness of an electrode tends to become favorable by setting it below the said upper limit.

도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 는, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킨 도막을 사용하여 측정하면 되고, 230 ℃ 에서 20 분간 가열 경화시킨 도막을 사용하여 측정할 수 있다.The optical density (OD) per 1 μm of film thickness of the coating film may be measured using a coating film cured with the photosensitive coloring composition of the present invention, and can be measured using a coating film cured by heating at 230 ° C. for 20 minutes.

광학 농도란, 수광부의 분광 감도 특성이 ISO 5-3 규격에 있어서의 ISO visual density 로 나타내는 투과 광학 농도를 말한다. 통상, 광원으로는, CIE (국제 조명 위원회) 가 규정하는 A 광원이 사용된다. 투과 광학 농도의 측정에 사용할 수 있는 측정기로는, 예를 들면, 사카타 잉크스 엔지니어링사의 X-Rite 361T(V) 를 들 수 있다.The optical density refers to the transmission optical density in which the spectral sensitivity characteristics of the light receiving section are expressed by ISO visual density in the ISO 5-3 standard. Usually, as a light source, the A light source prescribed|regulated by CIE (International Commission on Illumination) is used. An example of a measuring device that can be used for measuring the transmission optical density is X-Rite 361T(V) from Sakata Inks Engineering Co., Ltd.

<감광성 착색 조성물의 제조 방법><Method for producing photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상의 방법에 따라 제조된다.The photosensitive coloring composition of the present invention is prepared according to a conventional method.

통상, (a) 착색제는 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리되는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (a) 착색제가 미립자화되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.Usually, it is preferable that the colorant (a) be subjected to dispersion treatment in advance using a paint conditioner, sand grinder, ball mill, roll mill, stone mill, jet mill, homogenizer or the like. By the dispersion treatment (a), since the colorant is finely divided, the coating properties of the resist are improved.

분산 처리는, 통상, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제, 그리고 (b) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 사용되는 혼합물, 및 분산 처리에서 얻어진 조성물을 「안료 분산액」이라고 부르는 경우가 있다). 특히 (f) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 안료 분산액 및 감광성 착색 수지 조성물의 경시의 증점이 억제되므로, 즉 분산 안정성이 우수하므로 바람직하다.Dispersion treatment is usually preferably carried out in a system in which a part or all of (a) colorant, (e) solvent, (f) dispersant, and (b) alkali-soluble resin are used in combination (hereinafter used for dispersion treatment). The resulting mixture and the composition obtained by the dispersion treatment may be referred to as "pigment dispersion"). Particularly, when a polymeric dispersant is used as the dispersant (f), the obtained pigment dispersion and the photosensitive colored resin composition are prevented from thickening over time, that is, the dispersion stability is excellent, so it is preferable.

이와 같이, 감광성 착색 조성물을 제조하는 공정에 있어서, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다.Thus, in the process of producing a photosensitive coloring composition, it is preferable to prepare a pigment dispersion liquid containing at least (a) a colorant, (e) a solvent, and (f) a dispersing agent.

안료 분산액에 사용할 수 있는 (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제로는, 각각 감광성 착색 수지 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 안료 분산액에 있어서의 (a) 착색제의 각 착색제의 함유 비율로도, 감광성 착색 수지 조성물에 있어서의 함유 비율로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.As the colorant (a), the solvent (e), and the dispersant (f) that can be used for the pigment dispersion, those described as those that can be used for the photosensitive colored resin composition can be preferably employed. Moreover, also as the content rate of each colorant of the (a) colorant in the pigment dispersion, what was described as the content rate in the photosensitive colored resin composition can be preferably employed.

감광성 착색 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대하여 분산 처리를 실시한 경우, 분산 처리시에 발생하는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 포함하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.When a dispersion treatment is performed on a liquid containing all components to be blended in the photosensitive coloring composition, highly reactive components may be denatured due to heat generated during the dispersion treatment. Therefore, it is preferable to carry out the dispersion treatment in a system containing a polymeric dispersant.

샌드 그라인더로 (a) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 입자경의 유리 비드 또는 지르코니아 비드가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이하기 때문에 적절히 조절한다. 감광성 착색 조성물의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 안료 분산액의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다. 감광성 착색 조성물의 광택도가 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않아 거친 안료 (색재) 입자가 남아 있는 경우가 많아, 현상성, 밀착성, 해상성 등이 불충분해질 가능성이 있다. 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 실시하면, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 발생하기 때문에, 오히려 분산 안정성이 손상되는 경향이 있다.When dispersing (a) the coloring agent with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a particle diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. As for the dispersion treatment conditions, the temperature is usually in the range of 0°C to 100°C, preferably room temperature to 80°C. The dispersing time is appropriately adjusted because the appropriate time differs depending on the composition of the liquid and the size of the dispersing treatment device. Controlling the gloss of the pigment dispersion so that the 20 degree specular gloss (JIS Z8741) of the photosensitive coloring composition is in the range of 50 to 300 is a standard for dispersion. When the glossiness of the photosensitive coloring composition is low, dispersion treatment is not sufficient and coarse pigment (coloring material) particles often remain, which may result in insufficient developability, adhesion, resolution, and the like. If the dispersion treatment is performed until the gloss value exceeds the above range, the pigment is crushed and a large number of ultrafine particles are generated, so the dispersion stability tends to deteriorate.

안료 분산액 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광산란법에 의해 측정될 수 있다.The dispersed particle size of the pigment dispersed in the pigment dispersion is usually 0.03 to 0.3 µm, and can be measured by a dynamic light scattering method.

다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 안료 분산액과, 감광성 착색 조성물 중에 함유되는, 상기 다른 성분을 혼합하여, 균일한 용액 혹은 분산액으로 한다. 감광성 착색 수지 조성물의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 있기 때문에, 얻어진 감광성 착색 수지 조성물은 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the pigment dispersion obtained by the dispersion treatment and the other components contained in the photosensitive coloring composition are mixed to form a uniform solution or dispersion. In the manufacturing process of the photosensitive colored resin composition, since fine dust may be mixed in a liquid, it is preferable to filter the obtained photosensitive colored resin composition with a filter etc.

[경화물][cured material]

본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써, 본 발명의 경화물을 얻을 수 있다. 본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화하여 이루어지는 경화물은, 격벽으로서 바람직하게 사용할 수 있다.The cured product of the present invention can be obtained by curing the photosensitive coloring composition of the present invention. A cured product formed by curing the photosensitive coloring composition of the present invention can be suitably used as a barrier rib.

[격벽][septum]

본 발명의 감광성 착색 조성물은 격벽, 특히 유기 전계 발광 소자의 유기층을 구획하기 위한 격벽을 형성하기 위하여 바람직하게 사용할 수 있다. 유기 전계 발광 소자에 사용하는 유기층으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2016-165396호에 기재되어 있는, 정공 주입층, 정공 수송층 혹은 정공 주입층 상의 정공 수송층에 사용하는 유기층을 들 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention can be suitably used to form barrier ribs, particularly barrier ribs for partitioning an organic layer of an organic electroluminescent device. As an organic layer used for an organic electroluminescent element, the organic layer used for the hole injection layer, the hole transport layer, or the hole transport layer on the hole injection layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-165396 is mentioned, for example.

다음으로, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 격벽에 대하여, 그 제조 방법에 따라 설명한다.Next, the barrier rib using the photosensitive coloring composition of the present invention will be described according to its manufacturing method.

(1) 지지체(1) support

격벽을 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면, 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 기판이 사용되지만, 재질로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리(메트)아크릴 수지 등의 열경화성 수지 시트, 각종 유리를 들 수 있다. 그 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또한, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극, 또는 은, 금, 백금, 알루미늄, 마그네슘과 같은 금속 전극이 성막되어 있는 경우도 있다. 상기 서술한 기판 이외에서는, TFT 어레이 상에 형성하는 것도 가능하다.As the support for forming the barrier rib, the material is not particularly limited as long as it has appropriate strength. A substrate is mainly used, but as a material, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polypropylene and polyethylene, and thermoplastic resins such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, and polysulfone. Sheets, thermosetting resin sheets such as epoxy resins, unsaturated polyester resins, and poly(meth)acrylic resins, and various types of glass are exemplified. Especially, from a viewpoint of heat resistance, glass and heat-resistant resin are preferable. In some cases, a transparent electrode such as ITO or IZO or a metal electrode such as silver, gold, platinum, aluminum or magnesium is formed on the surface of the substrate. It is also possible to form on a TFT array other than the above-mentioned substrate.

지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라, 예를 들어 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시해도 된다.The support may be subjected to, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, thin film formation treatment of various resins such as silane coupling agents and urethane-based resins, as necessary, in order to improve surface properties such as adhesiveness.

기판의 두께는, 통상 0.05 ∼ 10 mm, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 mm 의 범위가 된다. 또한 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는, 통상 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of the substrate is usually in the range of 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. In the case of performing thin film formation treatment of various resins, the film thickness is usually in the range of 0.01 to 10 µm, preferably 0.05 to 5 µm.

(2) 격벽(2) Bulkhead

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 공지된 컬러 필터용 감광성 착색 조성물과 동일한 용도로 사용되지만, 이하, 격벽으로서 사용되는 경우에 대해, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 격벽의 형성 방법의 구체예에 따라서 설명한다.Although the photosensitive coloring composition of the present invention is used for the same purpose as the known photosensitive coloring composition for color filters, hereinafter, according to a specific example of a method for forming a partition using the photosensitive coloring composition of the present invention, for the case of being used as a partition wall. Explain.

통상, 격벽이 형성될 기판 상에, 감광성 착색 조성물을, 도포 등의 방법에 의해 막 형상 혹은 패턴 형상으로 공급하고, 용제를 건조시킨다. 계속해서, 노광-현상을 실시하는 포토리소그래피법 등의 방법에 의해 패턴 형성을 실시한다. 그 후, 필요에 따라 추가 노광이나 열경화 처리를 실시함으로써, 기판 상에 격벽이 형성된다.Usually, a photosensitive coloring composition is supplied in the form of a film or pattern by a method such as coating on a substrate on which a barrier rib is to be formed, and the solvent is dried. Subsequently, pattern formation is performed by a method such as a photolithography method in which exposure-development is performed. Thereafter, barrier ribs are formed on the substrate by performing additional exposure or thermal curing treatment as necessary.

(3) 격벽의 형성(3) Formation of bulkheads

[1] 기판에 대한 공급 방법[1] Supply method to the board

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상, 용제에 용해 혹은 분산된 상태로, 기판 상에 공급된다. 그 공급 방법으로는, 종래 공지된 방법, 예를 들어 스피너법, 와이어 바법, 플로 코팅법, 다이 코팅법, 롤 코팅법, 스프레이 코팅법에 의해 실시할 수 있다. 또한, 예를 들어 잉크젯법이나 인쇄법에 의해, 패턴 형상으로 공급되어도 된다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액 사용량이 대폭 삭감되고, 또한 스핀 코트법에 따랐을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없어, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention is usually supplied onto a substrate in a state of being dissolved or dispersed in a solvent. As the supply method, it can be carried out by a conventionally known method, for example, a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, or a spray coating method. Moreover, you may supply in pattern shape by the inkjet method or the printing method, for example. Among them, the die coating method is preferable from a comprehensive point of view, in that the amount of the coating liquid used is significantly reduced, and the influence of mist or the like adhered when the spin coating method is used is completely eliminated and the generation of foreign substances is suppressed.

도포량은 용도에 따라 다르지만, 예를 들어 격벽의 경우에는, 건조 막두께로서 통상 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 9 ㎛, 특히 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 7 ㎛ 가 되도록 도포된다. 건조 막두께 혹은 최종적으로 형성된 격벽의 높이가, 기판 전역에 걸쳐 균일한 것이 중요하다. 편차를 작게 함으로써, 발광층을 균일하게 제작할 수 있어, 발광시의 표시 불량을 억제할 수 있다.The application amount varies depending on the application, but, for example, in the case of a barrier rib, the dry film thickness is usually 0.5 μm to 10 μm, preferably 1 μm to 9 μm, and particularly preferably 1 μm to 7 μm. It is important that the dry film thickness or the height of the finally formed barrier rib be uniform over the entire substrate. By making the variation small, the light emitting layer can be produced uniformly, and display defects at the time of light emission can be suppressed.

본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용하여, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 격벽을 일괄 형성하는 경우에는, 최종적으로 형성된 격벽의 높이는 상이한 것이 된다.In the case of collectively forming barrier ribs having different heights by the photolithography method using the photosensitive coloring composition of the present invention, the finally formed barrier ribs become different in height.

또한, 기판으로는 유리 기판, 어레이 기판 등, 공지된 기판을 사용할 수 있다. 기판 표면은 평면인 것이 적합하다.As the substrate, known substrates such as glass substrates and array substrates can be used. Suitably, the substrate surface is planar.

[2] 건조 방법[2] Drying method

기판 상에 감광성 착색 조성물을 공급한 후의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의한 것이 바람직하다. 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법을 조합해도 된다.Drying after supplying the photosensitive coloring composition onto the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, IR oven, or convection oven. A reduced pressure drying method may be combined in which drying is performed in a reduced pressure chamber without raising the temperature.

건조의 조건은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상은, 40 ℃ ∼ 130 ℃ 의 온도로 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ℃ ∼ 110 ℃ 의 온도로 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.Drying conditions can be appropriately selected according to the type of solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. The drying time is usually selected from the range of 15 seconds to 5 minutes at a temperature of 40 ° C. to 130 ° C., preferably at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. It is selected from the range of 30 second - 3 minutes.

[3] 노광 방법[3] Exposure method

노광은, 감광성 착색 조성물의 도포막 상에, 네거티브의 마스크 패턴을 중첩하고, 이 마스크 패턴을 개재하여, 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사하여 실시한다. 노광 마스크를 사용하여 노광을 실시하는 경우에는, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막에 근접시키는 방법이나, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막으로부터 떨어진 위치에 배치하고, 노광 마스크를 개재한 노광광을 투영하는 방법에 따라도 된다. 마스크 패턴을 사용하지 않는 레이저광에 의한 주사 노광 방식에 따라도 된다. 필요에 따라서, 산소에 의한 광 중합성층의 감도의 저하를 방지하기 위해, 탈산소 분위기 하에서 실시하거나 광 중합성층 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시하거나 해도 된다.Exposure is performed by superimposing a negative mask pattern on the coating film of the photosensitive coloring composition, and irradiating a light source of ultraviolet rays or visible rays through this mask pattern. In the case of exposure using an exposure mask, a method of bringing the exposure mask close to the coating film of the photosensitive coloring composition, or arranging the exposure mask at a position away from the coating film of the photosensitive coloring composition, and exposure light passing through the exposure mask It may also depend on how to project . A scanning exposure method using a laser beam without using a mask pattern may be employed. If necessary, in order to prevent a decrease in the sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen, exposure may be carried out in a deoxidized atmosphere or after forming an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable layer.

본 발명의 바람직한 양태로서, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 격벽을 동시에 형성하는 경우에는, 예를 들어 차광부 (광투과율 0 %) 와, 복수의 개구부로서, 평균 광 투과율이 가장 높은 개구부 (완전 투과 개구부) 에 대하여 평균 광 투과율이 작은 개구부 (중간 투과 개구부) 를 갖는 노광 마스크를 사용한다. 이 방법에 의해, 중간 투과 개구부와 완전 투과 개구부의 평균 광 투과율의 차, 즉 노광량의 차에 의해, 잔막률의 차이를 발생시킨다.As a preferred aspect of the present invention, when barrier ribs having different heights are formed simultaneously by a photolithography method, for example, a light-shielding portion (light transmittance: 0%) and a plurality of openings, the opening having the highest average light transmittance (perfect An exposure mask having an opening having a small average light transmittance (intermediate transmission opening) with respect to the transmission opening) is used. With this method, a difference in remaining film rate is generated by the difference in average light transmittance between the intermediate transmission opening and the full transmission opening, that is, the difference in exposure amount.

중간 투과 개구부는, 예를 들면, 미소한 다각형의 차광 유닛을 갖는 매트릭스상 차광 패턴에 의해 제작하는 방법이 알려져 있다. 또한 흡수체로서, 예를 들어, 크롬계, 몰리브덴계, 텅스텐계, 실리콘계 재료의 막에 의해, 광 투과율을 제어하여 제작하는 방법이 알려져 있다.There is known a method for producing the intermediate transmission opening by, for example, a matrix-like light-shielding pattern having minute polygonal light-shielding units. Further, as an absorber, a method of producing a film of, for example, a chromium-based, molybdenum-based, tungsten-based, or silicon-based material by controlling the light transmittance is known.

상기 노광에 사용되는 광원은, 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 청자색 반도체 레이저, 근적외 반도체 레이저 등의 레이저 광원을 들 수 있다. 특정한 파장의 광을 조사하여 사용하는 경우에는, 광학 필터를 이용할 수도 있다.A light source used for the exposure is not particularly limited. As the light source, for example, a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a fluorescent lamp, an argon ion laser, a YAG laser , laser light sources such as excimer lasers, nitrogen lasers, helium cadmium lasers, blue-violet semiconductor lasers, and near-infrared semiconductor lasers. In the case of irradiating and using light of a specific wavelength, an optical filter may be used.

광학 필터로는, 예를 들어 박막이고 노광 파장에 있어서의 광 투과율을 제어 가능한 타입이어도 되고, 그 경우의 재질로는, 예를 들어, Cr 화합물 (Cr 의 산화물, 질화물, 산질화물, 불화물 등), MoSi, Si, W, Al 을 들 수 있다.The optical filter may be, for example, a thin film and of a type capable of controlling light transmittance at an exposure wavelength. As a material in that case, for example, a Cr compound (oxide, nitride, oxynitride, fluoride, etc. of Cr) , MoSi, Si, W, and Al.

노광량으로는, 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 mJ/cm2 이상, 바람직하게는 5 mJ/cm2 이상, 보다 바람직하게는 10 mJ/cm2 이상이며, 통상 300 mJ/cm2 이하, 바람직하게는 200 mJ/cm2 이하, 보다 바람직하게는 150 mJ/cm2 이하이다.The exposure amount is not particularly limited, but is usually 1 mJ/cm 2 or more, preferably 5 mJ/cm 2 or more, more preferably 10 mJ/cm 2 or more, and usually 300 mJ/cm 2 or less, preferably 200 mJ/cm 2 or less, more preferably 150 mJ/cm 2 or less.

근접 노광 방식의 경우에는, 노광 대상과 마스크 패턴의 거리로는 특별히 한정되지 않지만, 통상 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 75 ㎛ 이상이고, 통상 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 400 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎛ 이하이다.In the case of the proximity exposure method, the distance between the exposure target and the mask pattern is not particularly limited, but is usually 10 μm or more, preferably 50 μm or more, more preferably 75 μm or more, and usually 500 μm or less, preferably 400 μm or less, more preferably 300 μm or less.

[4] 현상 방법[4] Development method

상기 노광을 실시한 후, 알칼리성 화합물의 수용액, 또는 유기 용제를 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상 패턴을 형성할 수 있다. 알칼리성 화합물의 수용액은, 또한, 예를 들어, 계면 활성제, 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료가 함유되어 있어도 된다.After performing the exposure, an image pattern can be formed on the substrate by development using an aqueous solution of an alkaline compound or an organic solvent. The aqueous solution of the alkaline compound may further contain, for example, a surfactant, an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산이수소나트륨, 인산이수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물, 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민, 모노-, 디- 또는 트리메틸아민, 모노-, 디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-, 디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은, 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.As the alkaline compound, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate , inorganic alkali compounds such as sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or and organic alkaline compounds such as diisopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and choline. 2 or more types of mixtures may be sufficient as these alkaline compounds.

계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세라이드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제 ; 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제 ; 알킬 베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters. ; anionic surfactants such as alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkyl sulfates, alkylsulfonic acid salts, and sulfosuccinic acid ester salts; Amphoteric surfactants, such as alkyl betaines and amino acids, are mentioned.

유기 용제로는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 2 종 이상을 병용해도 된다. 또한, 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 물이나 알칼리성 화합물의 수용액과 병용해도 된다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, and diacetone alcohol. These organic solvents may use 2 or more types together. In addition, the organic solvent may be used alone or in combination with water or an aqueous solution of an alkaline compound.

현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상, 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃, 바람직하게는 15 ∼ 45 ℃, 보다 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 이다. 현상 방법은, 예를 들어, 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러시 현상법, 초음파 현상법에 따를 수 있다.The conditions for the development treatment are not particularly limited, and the development temperature is usually 10 to 50°C, preferably 15 to 45°C, and more preferably 20 to 40°C. The developing method may follow, for example, an immersion developing method, a spray developing method, a brush developing method, or an ultrasonic developing method.

[5] 추가 노광 및 열경화 처리[5] Additional exposure and heat curing treatment

현상 후의 기판에는, 필요에 따라 상기의 노광 방법과 동일한 방법에 의해 추가 노광을 실시해도 된다. 현상 후, 또는 추가 노광 후, 열경화 처리 (소성이라고도 한다) 를 실시해도 된다. 열경화 처리 조건은, 온도가 바람직하게는 100 ℃ ∼ 280 ℃, 보다 바람직하게는 150 ℃ ∼ 250 ℃ 이고, 시간이 5 분간 ∼ 60 분간이다.The board|substrate after development may be additionally exposed by the same method as the said exposure method as needed. After development or additional exposure, a thermal curing treatment (also referred to as baking) may be performed. Regarding the thermal curing treatment conditions, the temperature is preferably 100°C to 280°C, more preferably 150°C to 250°C, and the time is 5 minutes to 60 minutes.

본 발명의 감광성 착색 조성물을 격벽으로서 사용하는 경우의 크기나 형상 등은, 이것을 적용하는 유기 전계 발광 소자의 사양 등에 따라 적절히 조정되지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물에 의해 형성되는 격벽의 높이는 통상 0.5 ∼ 10 ㎛ 정도이다.When the photosensitive coloring composition of the present invention is used as a barrier rib, the size, shape, etc. are appropriately adjusted depending on the specifications of the organic electroluminescent device to which it is applied, but the height of the barrier rib formed by the photosensitive coloring composition of the present invention is usually 0.5 to 0.5. It is about 10 μm.

또, 본 발명의 격벽으로서의 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 는, 차광성의 관점에서, 0.7 이상이 바람직하고, 1.2 이상이 보다 바람직하고, 1.5 이상이 더욱 바람직하고, 1.8 이상이 특히 바람직하다. 또한 4.0 이하인 것이 바람직하고, 3.0 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 상한 및 하한은 임의로 조합할 수 있다. 예를 들어, 0.7 ∼ 4.0 이 바람직하고, 1.2 ∼ 4.0 이 보다 바람직하고, 1.5 ∼ 3.0 이 더욱 바람직하고, 1.8 ∼ 3.0 이 특히 바람직하다. 여기서 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다.In addition, the optical density (OD) per 1 μm of the barrier rib of the present invention is preferably 0.7 or more, more preferably 1.2 or more, still more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 1.8 or more from the viewpoint of light-shielding properties. Moreover, it is preferable that it is 4.0 or less, and it is more preferable that it is 3.0 or less. The above upper and lower limits can be arbitrarily combined. For example, 0.7 to 4.0 are preferable, 1.2 to 4.0 are more preferable, 1.5 to 3.0 are still more preferable, and 1.8 to 3.0 are particularly preferable. Here, the optical density (OD) is a value measured by the method described below.

[유기 전계 발광 소자][Organic electroluminescence device]

본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 본 발명의 경화물, 예를 들어 격벽을 구비한다.The organic electroluminescent device of the present invention includes the cured product of the present invention, for example, a barrier rib.

예를 들어, 상기 서술한 방법에 의해 제조된 격벽 패턴을 구비하는 기판을 사용하여, 다양한 유기 전계 발광 소자가 제조된다. 유기 전계 발광 소자를 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, 상기 서술한 방법에 의해 기판 상에 격벽의 패턴을 형성한 후에, 기능 재료를 진공 상태에서 승화시키고, 기판 상의 격벽에 의해 둘러싸인 영역 내에 부착시켜 성막하는 증착법이나, 캐스트법, 스핀 코트법, 잉크젯 인쇄법과 같은 웨트 프로세스로 화소 등의 유기층을 형성함으로써, 유기 전계 발광 소자가 제조된다.For example, various organic electroluminescent elements are manufactured using a substrate having a barrier rib pattern manufactured by the method described above. The method of forming the organic electroluminescent element is not particularly limited, but preferably, after forming a pattern of barrier ribs on the substrate by the method described above, the functional material is sublimated in a vacuum state, and surrounded by the barrier ribs on the substrate. An organic electroluminescent device is manufactured by forming an organic layer such as a pixel by a deposition method in which a film is deposited in a region and a wet process such as a cast method, a spin coat method, or an inkjet printing method.

유기 전계 발광 소자의 타입으로는, 보텀 이미션형이나 톱 이미션형을 들 수 있다.Examples of the type of organic electroluminescent element include a bottom emission type and a top emission type.

보텀 이미션형에서는, 예를 들어, 투명 전극을 적층한 유리 기판 상에 격벽을 형성하고, 격벽으로 둘러싸인 개구부에 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 금속 전극층을 적층하여 제조된다. 한편 톱 이미션형에서는, 예를 들어, 반사층으로서 금속 전극층을 적층한 유리 기판 상에 격벽을 형성하고, 격벽으로 둘러싸인 개구부에 전자 수송층, 발광층, 정공 수송층, 투명 전극층을 적층하여 제조된다.In the bottom emission type, for example, barrier ribs are formed on a glass substrate on which transparent electrodes are laminated, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a metal electrode layer are laminated in the opening surrounded by the barrier ribs. On the other hand, in the top emission type, for example, a barrier rib is formed on a glass substrate on which a metal electrode layer is laminated as a reflective layer, and an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a transparent electrode layer are laminated in the opening surrounded by the barrier rib.

또한, 발광층으로는, 일본 공개특허공보 2009-146691호나 일본 특허공보 제5734681호에 기재되어 있는 유기 전계 발광층을 들 수 있다. 또, 일본 특허공보 제5653387호나 일본 특허공보 제5653101호에 기재되어 있는 양자 도트를 사용해도 된다.Moreover, as a light emitting layer, the organic electroluminescent layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-146691 or Japanese Patent Publication No. 5734681 is mentioned. Moreover, you may use the quantum dot described in Japanese Patent Publication No. 5653387 or Japanese Patent Publication No. 5653101.

층 구성은 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 정공 수송층, 전자 수송층의 각 층은 발광 효율의 관점에서 2 층 이상으로 이루어지는 적층 구성이어도 된다. 각 층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 발광 효율이나 휘도의 관점에서, 통상 1 ∼ 500 nm 이다.The layer configuration is not limited to this, and for example, each layer of the hole transport layer and the electron transport layer may have a laminate configuration composed of two or more layers from the viewpoint of luminous efficiency. The thickness of each layer is not particularly limited, but is usually 1 to 500 nm from the viewpoint of luminous efficiency and luminance.

유기 전계 발광 소자는, 개구부마다 RGB 각 색을 나누어 형성해도 되고, 하나의 개구부에 2 색 이상을 적층해도 된다. 유기 전계 발광 소자는 신뢰성 향상의 관점에서, 봉지층을 구비하고 있어도 된다. 봉지층은 공기 중의 수분이 유기 전계 발광 소자에 흡착되어, 발광 효율을 저하시키는 것을 방지하는 기능을 갖는다. 유기 전계 발광 소자는, 광취출 효율 향상의 관점에서, 공기와의 계면에 저반사막을 구비하고 있어도 된다. 저반사막을 공기와 소자의 계면에 배치함으로써 굴절률의 갭을 작게 하여, 계면에서의 반사를 억제하는 것을 기대할 수 있다. 이와 같은 저반사막에는, 예를 들어, 모스아이 구조, 초다층막의 기술이 적용될 수 있다.The organic electroluminescent element may be formed by dividing each RGB color for each opening, or two or more colors may be laminated in one opening. The organic electroluminescent element may be provided with a sealing layer from the viewpoint of improving reliability. The encapsulation layer has a function of preventing moisture in the air from adsorbing to the organic electroluminescent device and reducing luminous efficiency. The organic electroluminescent element may have a low reflection film at the interface with air from the viewpoint of improving the light extraction efficiency. By arranging the low-reflection film at the interface between the air and the element, it is expected to reduce the refractive index gap and suppress reflection at the interface. For such a low-reflection film, for example, a moth-eye structure or super-multilayer film technology can be applied.

유기 전계 발광 소자를 화상 표시 장치의 화소로서 사용하는 경우에는, 어느 화소의 발광층의 광이 다른 화소로 누설되는 것을 방지할 필요가 있고, 또한, 전극 등이 금속인 경우에는 외광의 반사에 수반되는 화상 품질의 저하를 방지할 필요가 있기 때문에, 유기 전계 발광 소자를 구성하는 격벽에 차광성을 부여하는 것이 바람직하다.When an organic electroluminescent element is used as a pixel of an image display device, it is necessary to prevent light from a light emitting layer of a certain pixel from leaking to another pixel, and when the electrode or the like is made of metal, it is necessary to prevent the reflection of external light. Since it is necessary to prevent deterioration of image quality, it is preferable to impart light-shielding properties to barrier ribs constituting the organic electroluminescent element.

또, 유기 전계 발광 소자에 있어서는, 격벽의 상면 및 하면에 전극을 부여하는 것이 필요하기 때문에, 절연성의 관점에서, 격벽은 고저항, 저유전율인 것이 바람직하다. 그 때문에, 격벽에 차광성을 부여하기 위해서 착색제를 사용하는 경우에는, 고저항이고 또한 저유전율인 상기 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.Further, in the organic electroluminescent element, since it is necessary to provide electrodes to the upper and lower surfaces of the barrier rib, it is preferable that the barrier rib has high resistance and low permittivity from the viewpoint of insulating property. Therefore, when using a coloring agent in order to provide light-shielding property to a partition, it is preferable to use the said organic pigment with high resistance and low dielectric constant.

[화상 표시 장치][Image display device]

본 발명의 화상 표시 장치로는, 본 발명의 경화물을 포함하는 격벽이나 본 발명의 유기 전계 발광 소자를 갖는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.Examples of the image display device of the present invention include barrier ribs containing the cured product of the present invention and organic EL display devices having the organic electroluminescent element of the present invention.

유기 EL 표시 장치는, 상기 서술한 유기 전계 발광 소자를 포함하는 것이면 화상 표시 장치의 형식이나 구조에 대해서는 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자를 사용하여 통상적인 방법에 따라 조립할 수 있다. 예를 들어, 「유기 EL 디스플레이」 (오움사, 2004년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재되어 있는 방법으로 형성할 수 있다. 예를 들어, 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자와 컬러 필터를 조합하여 화상 표시시켜도 되고, RGB 등의 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여 화상 표시시켜도 된다.As long as the organic EL display device includes the organic electroluminescent element described above, there is no particular limitation on the format or structure of the image display device, and for example, an active drive type organic electroluminescent element is used according to a conventional method. can be assembled For example, it can be formed by the method described in "Organic EL Display" (Oum Corporation, published on August 20, 2004, by Shizuo Tokito, Chihaya Adachi, and Hideyuki Murata). For example, image display may be performed by combining an organic electroluminescent element that emits white light and a color filter, or image display may be performed by combining organic electroluminescent elements of different emission colors such as RGB.

[조명][light]

본 발명의 경화물을 포함하는 유기 전계 발광 소자는, 조명에 사용될 수 있다. 조명의 형식이나 구조에 대해 특별히 제한은 없고, 본 발명의 경화물을 포함하는 유기 전계 발광 소자를 사용하여 통상적인 방법에 따라 조립할 수 있다. 유기 전계 발광 소자로는, 단순 매트릭스 구동 방식으로 해도 되고, 액티브 매트릭스 구동 방식으로 해도 된다.An organic electroluminescent device containing the cured product of the present invention can be used for lighting. There is no particular limitation on the form or structure of the lighting, and it can be assembled according to a conventional method using the organic electroluminescent device containing the cured product of the present invention. The organic electroluminescent element may be a simple matrix driving method or an active matrix driving method.

조명이 백색광을 발광하는 것으로 하기 위해서, 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자를 사용해도 된다. 또한, 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여, 각 색이 혼색되어 백색이 되도록 구성해도 되고, 혼색 비율을 조정할 수 있도록 구성하여 조색 기능을 부여해도 된다.In order for illumination to emit white light, an organic electroluminescent element emitting white light may be used. Further, organic electroluminescent elements having different luminous colors may be combined, and each color may be mixed to become white, or a color mixing function may be provided by a configuration such that the mixing ratio can be adjusted.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.

이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분, 및 그들의 평가 방법은 다음과 같다.The constituent components of the photosensitive coloring composition used in the following Examples and Comparative Examples and their evaluation methods are as follows.

<알칼리 가용성 수지-I><Alkali Soluble Resin-I>

닛폰 화약사 제조 「XD1000」 (디시클로펜타디엔·페놀 중합물의 폴리글리시딜에테르, 에폭시 당량 252) 300 질량부, 아크릴산 87 질량부, p-메톡시페놀 0.2 질량부, 트리페닐포스핀 5 질량부, 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 255 질량부를 반응 용기에 주입하고, 100 ℃ 에서 산가가 3.0 mgKOH/g 이 될 때까지 교반하였다. 이어서 추가로 테트라하이드로무수프탈산 145 질량부를 첨가하고, 120 ℃ 에서 4 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2600, 산가는 106 mgKOH/g 이었다."XD1000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (Polyglycidyl ether of dicyclopentadiene/phenol polymer, epoxy equivalent 252) 300 parts by mass, 87 parts by mass of acrylic acid, 0.2 parts by mass of p-methoxyphenol, 5 parts by mass of triphenylphosphine part, and 255 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged into the reaction vessel, and stirred at 100°C until the acid value became 3.0 mgKOH/g. Subsequently, 145 mass parts of tetrahydrophthalic anhydride was further added, and it was made to react at 120 degreeC for 4 hours. The weight average molecular weight (Mw) of alkali-soluble resin-I obtained in this way measured by GPC was 2600, and the acid value was 106 mgKOH/g.

<알칼리 가용성 수지-II><Alkali Soluble Resin-II>

[화학식 47][Formula 47]

Figure pct00047
Figure pct00047

상기 구조의 에폭시 화합물 (에폭시 당량 248) 50.0 질량부, 아크릴산 14.2 질량부, 메톡시부틸아세테이트 52.6 질량부, 트리페닐포스핀 1.29 질량부, 및 파라메톡시페놀 0.044 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 mgKOH/g 이하가 될 때까지 반응시켰다. 반응에는 12 시간을 필요로 하고, 에폭시아크릴레이트 용액을 얻었다.50.0 parts by mass of the epoxy compound (epoxy equivalent 248) of the above structure, 14.2 parts by mass of acrylic acid, 52.6 parts by mass of methoxybutyl acetate, 1.29 parts by mass of triphenylphosphine, and 0.044 parts by mass of paramethoxyphenol, thermometer, stirrer, cooling tube into a flask equipped with, and reacted at 90°C with stirring until the acid value became 5 mgKOH/g or less. The reaction required 12 hours to obtain an epoxy acrylate solution.

상기 에폭시아크릴레이트 용액에, 메톡시부틸아세테이트 42.9 질량부, 트리메틸올프로판 (TMP) 1.98 질량부, 비페닐테트라카르복실산 이무수물 (BPDA) 24.9 질량부, 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 5.39 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온시켜 반응시켰다.To the epoxy acrylate solution, 42.9 parts by mass of methoxybutyl acetate, 1.98 parts by mass of trimethylolpropane (TMP), 24.9 parts by mass of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and 5.39 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) , put into a flask equipped with a thermometer, stirrer, and cooling tube, and reacted by slowly raising the temperature to 105 ° C. while stirring.

수지 용액이 투명해졌을 때, 메톡시부틸아세테이트로 희석하고, 고형분 50 질량% 가 되도록 조제하여, 산가 100 mgKOH/g, 중량 평균 분자량 (Mw) 12000 의 알칼리 가용성 수지 (II) 를 얻었다.When the resin solution became transparent, it was diluted with methoxybutyl acetate, and it prepared so that it might become 50 mass % of solid content, and obtained alkali-soluble resin (II) of acid value 100 mgKOH/g and weight average molecular weight (Mw) 12000.

<알칼리 가용성 수지-III><Alkali-soluble resin-III>

닛폰 화약사 제조 「ZCR-8035H」(중량 평균 분자량 Mw = 7000, 산가 = 82 mgKOH/g). 하기 식 (C-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는다.Nippon Kayaku Co., Ltd. "ZCR-8035H" (weight average molecular weight Mw = 7000, acid value = 82 mgKOH/g). It has a partial structure represented by the following formula (C-1).

[화학식 48][Formula 48]

Figure pct00048
Figure pct00048

<안료-I><Pigment-I>

BASF 사 제조, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (하기 식 (2) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다)Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF manufactured by BASF (has a chemical structure represented by the following formula (2))

[화학식 49][Formula 49]

Figure pct00049
Figure pct00049

<안료-II><Pigment-II>

C.I. 피그먼트 오렌지 64C.I. Pigment Orange 64

<안료-III><Pigment-III>

C.I. 피그먼트 바이올렛 29C.I. Pigment Violet 29

<안료-IV><Pigment-IV>

C.I. 피그먼트 블루 60C.I. Pigment Blue 60

<분산제-I><Dispersant-I>

친용매기를 갖는 반복 단위를 함유하는 A 블록과, 안료 흡착기를 갖는 반복 단위를 함유하는 B 블록으로 이루어진 메타크릴계 A-B 디블록 공중합체. 하기 식 (a) ∼ (f) 의 반복 단위를 갖는다. 아민가는 120 mgKOH/g 이다. 중량 평균 분자량은 9000 이다. 분산제 중에는 염소 원자를 실질적으로 함유하고 있지 않다.A methacrylic A-B diblock copolymer composed of an A block containing a repeating unit having a solvophilic group and a B block containing a repeating unit having a pigment adsorbing group. It has repeating units of the following formulas (a) to (f). The amine value is 120 mgKOH/g. The weight average molecular weight is 9000. The dispersant does not substantially contain chlorine atoms.

전체 반복 단위 중에 있어서의 하기 식 (a) ∼ (f) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 (a) 33.3 몰%, (b) 13.3 몰%, (c) 6.7 몰%, (d) 6.7 몰%, (e) 6.7 몰%, (f) 33.3 몰% 이다.The content ratio of the repeating units of the following formulas (a) to (f) in all the repeating units is (a) 33.3 mol%, (b) 13.3 mol%, (c) 6.7 mol%, and (d) 6.7 mol%, respectively. , (e) 6.7 mol%, and (f) 33.3 mol%.

[화학식 50][Formula 50]

Figure pct00050
Figure pct00050

[화학식 51][Formula 51]

Figure pct00051
Figure pct00051

<분산제-II><Dispersant-II>

친용매기를 갖는 반복 단위를 함유하는 A 블록과, 안료 흡착기를 갖는 반복 단위를 함유하는 B 블록으로 이루어진 메타크릴계 A-B 디블록 공중합체. 하기 식 (h) ∼ (n) 의 반복 단위를 갖는다. 아민가는 70 mgKOH/g 이다. 아미노기를 4 급화하기 전의 중량 평균 분자량은, 9000 이다. 분산제 중의 염소 원자의 함유량은 2.1 질량% 이다.A methacrylic A-B diblock copolymer composed of an A block containing a repeating unit having a solvophilic group and a B block containing a repeating unit having a pigment adsorbing group. It has repeating units of the following formulas (h) to (n). The amine value is 70 mgKOH/g. The weight average molecular weight before quaternizing the amino group is 9000. Content of the chlorine atom in a dispersing agent is 2.1 mass %.

전체 반복 단위 중에 있어서의 하기 식 (h) ∼ (n) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 (h) 33.3 몰%, (i) 13.3 몰%, (j) 6.7 몰%, (k) 6.7 몰%, (l) 6.7 몰%, (m) 24.0 몰%, (n) 9.3 몰% 이다.The content ratio of the repeating units of the following formulas (h) to (n) in all the repeating units is (h) 33.3 mol%, (i) 13.3 mol%, (j) 6.7 mol%, and (k) 6.7 mol%, respectively. , (l) 6.7 mol%, (m) 24.0 mol%, and (n) 9.3 mol%.

[화학식 52][Formula 52]

Figure pct00052
Figure pct00052

[화학식 53][Formula 53]

Figure pct00053
Figure pct00053

<용제-I><Solvent-I>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<용제-II><Solvent-II>

MB : 3-메톡시-1-부탄올MB: 3-methoxy-1-butanol

<용제-III><Solvent-III>

MBA : 3-메톡시부틸아세테이트MBA: 3-methoxybutyl acetate

<광중합 개시제-I><Photoinitiator-I>

이하의 화학 구조를 갖는 옥심에스테르계 광중합 개시제Oxime ester-based photopolymerization initiator having the following chemical structure

[화학식 54][Formula 54]

Figure pct00054
Figure pct00054

<에틸렌성 불포화 화합물><ethylenically unsaturated compounds>

DPHA-40H : 닛폰 화약사 제조 우레탄아크릴레이트DPHA-40H: Urethane acrylate manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.

<계면 활성제><Surfactant>

DIC 사 제조 메가팍 F-559Megafac F-559 manufactured by DIC

<점도의 평가><Evaluation of viscosity>

조제한 안료 분산액의 점도는, 토키 산업사 제조 RE-85L 형 점도계 (측정 조건 : 23 ℃, 20 rpm) 에 의해 측정하였다.The viscosity of the prepared pigment dispersion was measured with a RE-85L viscometer manufactured by Toki Sangyo (measurement conditions: 23°C, 20 rpm).

<염소 원자 함유량의 측정><Measurement of chlorine atom content>

연소 이온 크로마토그래프법 (Combustion ion chromatography) 으로 측정을 실시하였다. 미츠비시 케미컬 아날리텍사 (현 닛토 세이코 아날리텍사) 의 연소 흡수 이온 크로마토그래프 (CIC) 장치 AQF2100H 로, 검량선법에 의해, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자 함유량을 정량하였다.The measurement was performed by combustion ion chromatography. The chlorine atom content in the photosensitive coloring composition was quantified by a calibration curve method using a combustion absorption ion chromatograph (CIC) apparatus AQF2100H manufactured by Mitsubishi Chemical Analytec (currently Nitto Seiko Analytec).

<단위 막두께당 광학 농도 (단위 OD 값) 의 측정><Measurement of optical density per unit film thickness (unit OD value)>

단위 막두께당 광학 농도는 이하의 순서로 측정하였다.The optical density per unit film thickness was measured in the following procedure.

먼저, 조제한 감광성 착색 조성물을, 소성 후의 막두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 유리 기판에 도포하고, 1 분간 감압 건조한 후에, 핫 플레이트에서 100 ℃ 로 120 초간 건조하였다. 얻어진 도포막에 대해, 노광 마스크를 사용하지 않고, 노광을 실시하였다. 조사 광원으로는 파장 365 nm 에서의 강도가 40 mW/cm2 인 고압 수은등을 사용하고, 노광량은 50 mJ/cm2 로 하였다. 계속해서 오븐 230 ℃ 에서 30 분간 가열 경화함으로써, 레지스트 도공 기판 1 을 얻었다.First, the prepared photosensitive coloring composition was applied to a glass substrate with a spin coater so that the film thickness after firing was 1.5 µm, dried under reduced pressure for 1 minute, and then dried at 100°C for 120 seconds on a hot plate. The obtained coating film was exposed without using an exposure mask. A high-pressure mercury lamp having an intensity of 40 mW/cm 2 at a wavelength of 365 nm was used as an irradiation light source, and an exposure amount was 50 mJ/cm 2 . Subsequently, the resist coated substrate 1 was obtained by heat-curing at 230°C in an oven for 30 minutes.

얻어진 레지스트 도공 기판 1 의 광학 농도 (OD 값) 를 X-Rite 사 제조 361T(V) 투과 농도계 (조명 광원의 색 온도 : 약 2850 K (CIE 표준 광원 A 상당), 수광부의 분광 감도 특성 : ISO 5-3 규격에서의 ISO visual density) 를 사용하여 측정하고, 막두께를 료카 시스템사 제조 비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan(R) 2.0 에 의해 측정하여, 광학 농도 (OD 값) 및 막두께로부터, 단위 막두께 (1 ㎛) 당 광학 농도 (단위 OD 값) 를 산출하였다. 또한, OD 값은 차광 능력을 나타내는 수치이며, 수치가 클수록 고차광성인 것을 나타낸다.The optical density (OD value) of the obtained resist-coated substrate 1 was measured using a 361T (V) transmission densitometer manufactured by X-Rite (color temperature of illumination light source: about 2850 K (equivalent to CIE standard light source A), spectral sensitivity characteristics of light receiving section: ISO 5 ISO visual density in the -3 standard), and the film thickness was measured by VertScan(R) 2.0, a non-contact surface/layer cross-section shape measurement system manufactured by Ryoka Systems, and from the optical density (OD value) and film thickness , the optical density (unit OD value) per unit film thickness (1 μm) was calculated. In addition, the OD value is a numerical value representing the light-shielding ability, and the higher the numerical value, the higher the light-shielding property.

<전극 표면 거칠음 평가><Evaluation of electrode surface roughness>

유리 기판 위의 전체면에 막두께 60 nm 의 은의 박막이 증착된 전극 기판 위에, 각 감광성 착색 조성물을, 소성 후의 막두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조한 후에, 핫 플레이트에서 100 ℃ 로 120 초간 건조하였다. 다음에, 얻어진 도막 기판에 한 변이 50 ㎛ 인 정방형의 개구 패턴이 형성 가능한 포토마스크를 사용하여, 고압 수은등으로 330 nm 이하의 파장을 커트하고, 노광 갭 5 ㎛ 로 50 mJ/cm2 의 자외선 노광을 실시하였다. 이 때의 파장 365 ㎚ 에 있어서의 강도는 40 mW/cm2 였다. 계속해서, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액을 현상액으로 하여, 25 ℃ 에 있어서 현상액 수압 0.05 MPa 의 샤워 현상을 60 초간 실시한 후, 순수로 현상액을 흘려보내 현상을 정지하고, 수세 스프레이로 60 초간 세정하였다.On an electrode substrate on which a silver thin film having a film thickness of 60 nm was deposited on the entire surface of a glass substrate, each photosensitive coloring composition was applied by a spin coater so that the film thickness after firing was 1.5 μm, dried under reduced pressure for 1 minute, and then dried on a hot plate was dried at 100 °C for 120 seconds. Next, using a photomask capable of forming a square opening pattern with a side of 50 μm on the obtained coating film substrate, a wavelength of 330 nm or less is cut with a high-pressure mercury lamp, and exposure gap is 5 μm, and 50 mJ/cm 2 ultraviolet light exposure was carried out. The intensity at a wavelength of 365 nm at this time was 40 mW/cm 2 . Then, using a 2.38% by mass TMAH (tetramethylammonium hydroxide) aqueous solution as a developer, shower development at 25°C at a developer water pressure of 0.05 MPa was performed for 60 seconds, then the developer was flowed with pure water to stop the development, and a water washing spray washed for 60 seconds.

이들 조작에 의해 개구 부분을 현상 제거하여, 격벽이 패터닝된 전극 기판을 얻었다. 당해 패턴이 형성된 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 30 분간 가열 (소성) 하여 패턴을 경화시켰다.By these operations, the opening portion was removed from development to obtain an electrode substrate having partition walls patterned thereon. The board|substrate on which the said pattern was formed was heated (baked) for 30 minutes at 230 degreeC in oven, and the pattern was hardened.

얻어진 50 ㎛ 개구 패턴이 형성된 전극 기판을 광학 현미경으로 200 배로 관찰하여, 개구 패턴 내에 전극 표면의 형상 변화 (표면 거칠음) 의 유무를 확인하였다. A, B, C 의 순으로 표면 거칠음이 양호하고, A 가 가장 양호한 것을 나타낸다.The obtained electrode substrate on which the 50 μm opening pattern was formed was observed under an optical microscope at 200 times, and the presence or absence of a shape change (surface roughness) of the electrode surface in the opening pattern was confirmed. Surface roughness is good in the order of A, B, and C, and A shows that it is the best.

A : 가열 경화 후에, 전극 표면의 표면 거칠음이 발생하지 않았다.A: No surface roughness occurred on the surface of the electrode after heat curing.

B : 가열 경화 후에, 전극 표면의 약간 표면 거칠음이 발생하고 있지만, 실용상 문제가 없고, 허용할 수 있다.B: After curing by heating, some surface roughness occurs on the surface of the electrode, but there is no practical problem and this is acceptable.

C : 가열 경화 후에, 전극 표면에 요철이 보이고, 표면 거칠음이 발생되어 있어, 실용상 문제가 있고, 허용하기 어렵다.C: After heat curing, irregularities are seen on the surface of the electrode and surface roughness is generated, which is a problem in practical use and is difficult to accept.

<발광 특성 평가><Evaluation of luminescence characteristics>

유리 상에 인듐·주석 산화물 (ITO) 투명 도전막을 70 nm 의 두께로 퇴적한 것을 통상의 포토리소그래피 기술과 염산 에칭을 사용하여 양극을 형성한 기판 상에, 각 감광성 착색 조성물을, 소성 후의 막두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조한 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 120 초간 건조하였다. 다음에, 얻어진 도막 기판에, 노광 마스크 (장방형 형상의 피복부 (세로 40 ㎛×가로 80 ㎛) 를, 세로 60 ㎛, 가로 100 ㎛ 의 피치로 복수 갖는 것) 를 사용하여, 330 nm 이하의 파장을 컷트한 고압 수은등으로, 노광 갭 5 ㎛ 로 50 mJ/cm2 의 자외선 노광을 실시하였다. 이 때의 파장 365 ㎚ 에 있어서의 광 강도는 40 mW/cm2 였다. 계속해서, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액을 현상액으로 하여, 25 ℃ 에 있어서 현상액 수압 0.05 MPa 의 샤워 현상을 60 ∼ 120 초간 실시한 후, 순수로 현상액을 흘려보내 현상을 정지하고, 수세 스프레이로 60 초간 세정하였다. 샤워 현상 시간은 도막의 미노광부가 용해 제거되는 시간의 1.2 배 이상으로 하였다.On a substrate on which an anode was formed by using a conventional photolithography technique and hydrochloric acid etching to deposit an indium tin oxide (ITO) transparent conductive film having a thickness of 70 nm on glass, each photosensitive coloring composition was applied to the film thickness after firing. was applied with a spin coater to a thickness of 1.5 μm, dried under reduced pressure for 1 minute, and dried at 100° C. for 120 seconds with a hot plate. Next, an exposure mask (one having a plurality of rectangular coating portions (40 μm long × 80 μm wide) at a pitch of 60 μm long and 100 μm wide) was used on the obtained coating film substrate, and a wavelength of 330 nm or less was subjected to ultraviolet light exposure at 50 mJ/cm 2 with an exposure gap of 5 μm by a high-pressure mercury lamp that had cut . The light intensity at a wavelength of 365 nm at this time was 40 mW/cm 2 . Then, using a 2.38 mass% TMAH (tetramethylammonium hydroxide) aqueous solution as a developing solution, shower development at 25 ° C. at a developer water pressure of 0.05 MPa was performed for 60 to 120 seconds, and then the developing solution was poured into pure water to stop development, It was washed for 60 seconds with a water washing spray. The shower developing time was set to be 1.2 times or more of the time for dissolving and removing the unexposed portion of the coating film.

이들 조작에 의해 개구 부분을 현상 제거하고, 격벽이 패터닝된 전극 기판을 얻었다. 당해 패턴이 형성된 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 30 분간 가열 (소성) 하여 패턴을 경화시켰다.By these operations, the opening portion was removed from development, and an electrode substrate having partition walls patterned was obtained. The board|substrate on which the said pattern was formed was heated (baked) for 30 minutes at 230 degreeC in oven, and the pattern was hardened.

<유기 전계 발광 소자의 제작><Production of organic electroluminescent device>

제조한 격벽이 패터닝된 전극 기판 상 전체면에, 정공 주입층으로서 산화몰리브덴을 막두께 10 nm, 정공 수송층으로서 N-([1,1'-비페닐]-4-일)-9,9-디메틸-N-[4-(9-페닐-9H-카르바졸-3-일)페닐]-9H-플루오렌-2-아민을 막두께 60 nm, 발광층으로서 트리스(8-하이드록시퀴놀리네이트)알루미늄을 막두께 60 nm, 전자 주입층으로서 8-하이드록시퀴놀리노레이트-리튬을 막두께 1 nm, 음극으로서 알루미늄을 막두께 80 nm 가 되도록 진공 증착법에 의해 순서대로 적층하여 유기 전계 발광 소자를 제조하였다.On the entire surface of the electrode substrate on which the prepared barrier rib is patterned, molybdenum oxide is applied as a hole injection layer with a film thickness of 10 nm and N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)-9,9- as a hole transport layer. Dimethyl-N-[4-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)phenyl]-9H-fluoren-2-amine with a film thickness of 60 nm and tris(8-hydroxyquinolinate) as the light emitting layer An organic electroluminescent device was produced by sequentially laminating aluminum with a film thickness of 60 nm, 8-hydroxyquinolinolate-lithium as an electron injection layer with a film thickness of 1 nm, and aluminum as a cathode with a film thickness of 80 nm by vacuum evaporation. did

이어서, 중앙에 오목부를 갖는 봉지 유리의 그 오목부에 건조제를 첩부하고, 오목부 주위의 프레임 부분에 UV 경화 수지를 도포하였다. 봉지 유리의 오목부가 상기 전극 기판 상의 유기 전계 발광 소자를 모두 덮도록 배치하고, 봉지 유리를 상기 전극 기판에 첩부하고, UV 경화 수지에 UV 를 조사하여 경화시켜, 중공 구조의 봉지를 함으로써 유기 전계 발광 소자 평가용 디바이스를 제작하였다.Next, a drying agent was applied to the concave portion of the sealing glass having a concave portion in the center, and a UV curable resin was applied to the frame portion around the concave portion. Organic electroluminescence by arranging the concave portion of the sealing glass so as to cover all the organic electroluminescent elements on the electrode substrate, attaching the sealing glass to the electrode substrate, curing the UV curable resin by irradiating UV, and encapsulating the hollow structure A device for element evaluation was fabricated.

<유기 전계 발광 소자의 발광 특성 평가><Evaluation of light emitting characteristics of organic electroluminescent device>

제작한 소자에 전류 밀도 10 mA/cm2 의 직류 전류를 통전했을 때의 전압값 (구동 전압) 을 측정하였다.A voltage value (drive voltage) when a direct current having a current density of 10 mA/cm 2 was passed through the fabricated element was measured.

셀 작성시에, 전류 밀도로 10 mA/cm2 통전했을 때의 전압값 (구동 전압)Voltage value (drive voltage) when 10 mA/cm 2 is energized at the current density when creating the cell

A : 전압 6.5 V 이하A: voltage 6.5 V or less

B : 전압 6.5 V 보다 높다B: Voltage higher than 6.5 V

이어서, 제작한 소자를 60 ℃ 환경하에 있어서 전류 밀도 50 mA/cm2 의 직류 전류를 정전류 구동시켰을 때에, 초기 휘도로부터 90 % 의 값이 될 때까지의 시간 (h) 을 구동 수명으로서 측정하였다.Next, when the manufactured element was driven with a direct current having a current density of 50 mA/cm 2 at a constant current in a 60°C environment, the time (h) from the initial luminance to a value of 90% was measured as a drive life.

초기 휘도에 대해, 90 % 의 휘도가 될 때까지의 시간 (수명)Time from initial luminance to 90% luminance (lifetime)

A : 25 시간보다 길다A: longer than 25 hours

B : 25 시간 이하B: 25 hours or less

<안료 분산액 1 ∼ 3 의 조제><Preparation of Pigment Dispersions 1 to 3>

표 1 에 기재된 안료, 분산제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 혼합액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비드로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비드를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비드와 분산액을 분리하여, 안료 분산액 1 ∼ 3 을 조제하였다.The pigments, dispersants, alkali-soluble resins, and solvents shown in Table 1 were mixed in a mass ratio shown in Table 1. This liquid mixture was subjected to dispersion treatment in the range of 25 to 45°C for 3 hours with a paint shaker. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and 2.5 times the mass of the dispersion liquid was added. After completion of the dispersion, the beads and the dispersion were separated by a filter to prepare pigment dispersions 1 to 3.

또한, 표 1 중의 용제의 양은, 분산제 및 알칼리 가용성 수지 유래의 용제의 양도 포함된다. 또한, 전술한 방법으로 측정한 안료 분산액의 점도의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.In addition, the quantity of the solvent in Table 1 includes the quantity of the solvent derived from a dispersing agent and alkali-soluble resin. In addition, Table 1 shows the evaluation result of the viscosity of the pigment dispersion liquid measured by the method mentioned above.

Figure pct00055
Figure pct00055

[실시예 1, 2, 비교예 1][Examples 1 and 2, Comparative Example 1]

전체 고형분량 중에서 차지하는 각 성분의 고형분의 함유 비율이 표 2 에 기재된 값이 되도록 각 성분을 첨가하고, 또한 PGMEA/MB/MBA = 72/20/8, 전체 고형분량의 함유 비율이 17 질량% 가 되도록 용제를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 실시예 1, 2 및 비교예 1 의 감광성 착색 조성물을 조제하였다. 또한, 전술한 방법으로 측정한 염소 원자 함유량이나, 단위 OD 값, 전극의 표면 거칠음의 평가 결과를 표 2 및 표 3 에 나타낸다.Each component was added so that the solid content ratio of each component in the total solid content was the value shown in Table 2, and PGMEA / MB / MBA = 72/20/8, the content ratio of the total solid content was 17% by mass A solvent was added as much as possible, and the mixture was stirred and dissolved to prepare photosensitive coloring compositions of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. In addition, Table 2 and Table 3 show the evaluation results of the chlorine atom content, unit OD value, and surface roughness of the electrode measured by the method described above.

Figure pct00056
Figure pct00056

비교예 1 의 감광성 착색 조성물을 사용한 기판은 은 (전극) 표면에 요철이 형성되어, 거칠어져 있는 것이 확인되었다. 이것은 분산제-II 중에 함유되는 염소 원자량이 많기 때문에, 감광성 착색 조성물 중에도 많이 함유되어, 소성시에 염소를 함유하는 가스가 발생되고, 은 (전극) 표면과 반응하여, 표면에 요철을 형성하였다, 고 생각된다.In the substrate using the photosensitive coloring composition of Comparative Example 1, it was confirmed that irregularities were formed on the surface of the silver (electrode) and that it was rough. Since this is a large amount of chlorine atoms contained in the dispersant-II, it is also contained in a large amount in the photosensitive coloring composition, and a gas containing chlorine is generated during firing, and reacts with the silver (electrode) surface to form irregularities on the surface. I think.

한편, 실시예 1 의 감광성 착색 조성물을 사용한 기판에서는, 은 (전극) 표면의 요철이 형성되어 있는 모습은 관찰되지 않았다. 이것은 분산제-I 중에는 염소 원자량이 없고, 그 결과, 감광성 착색 조성물 중의 함유량도 적었기 때문에, 은 (전극) 에 표면 거칠음을 일으키지 않고 정상적인 전극 기판이 얻어졌다, 고 생각된다.On the other hand, in the substrate using the photosensitive coloring composition of Example 1, no irregularities were observed on the surface of the silver (electrode). This is considered to be that since there is no chlorine atomic weight in the dispersant-I and, as a result, the content in the photosensitive coloring composition is also small, a normal electrode substrate was obtained without causing surface roughness to the silver (electrode).

유기 전계 발광 소자의 발광 특성에 있어서, 실시예 1 은 비교예 1 에 비해 수명이 길어져 있다. 이것은 염소량이 적음으로써, 발광 소자의 경시 열화가 억제되었기 때문, 이라고 생각된다.In terms of light emitting characteristics of the organic electroluminescent device, Example 1 has a longer lifetime than Comparative Example 1. This is considered to be because deterioration with time of the light emitting element was suppressed because the amount of chlorine was small.

Figure pct00057
Figure pct00057

실시예 2 의 감광성 착색 조성물을 사용한 기판에서도, 은 (전극) 표면의 요철은 실질상 문제가 없는 레벨이었다. 실시예 2 보다 실시예 1 의 쪽이 은 (전극) 표면 거칠음이 양호했던 것은, 안료-I 이 방향 고리로 이루어지는 강직한 골격 때문에, 미량의 염소 원자조차도 막 밖으로 방출되지 않았기 때문, 이라고 생각된다.Even in the substrate using the photosensitive coloring composition of Example 2, the unevenness of the surface of the silver (electrode) was at a substantially satisfactory level. The reason why the surface roughness of the silver (electrode) of Example 1 was better than that of Example 2 is that even a small amount of chlorine atoms were not released out of the film due to the rigid skeleton of Pigment-I composed of aromatic rings.

유기 전계 발광 소자의 발광 특성에 있어서, 실시예 2 는 초기 구동 전압이 낮아져, 양호하였다. 또한 실시예 1 보다도 양호하였다.Regarding the emission characteristics of the organic electroluminescent device, Example 2 had a low initial driving voltage and was good. It was also better than Example 1.

Claims (11)

(a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,
상기 (a) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하고,
상기 (f) 분산제가, 적어도 하기 일반식 (1), (2) 및 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하고, 4 급 암모늄기를 함유하는 반복 단위를 갖지 않는 아크릴 공중합체 (f1) 을 함유하고,
또한, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.
Figure pct00058

(식 (I) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;
R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ;
R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;
R11 및 R12 는 서로 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.)
Figure pct00059

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.
R32 은 수소 원자 또는 메틸기이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
Figure pct00060

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
Figure pct00061

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.
R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.
Z 는 2 가의 연결기이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,
The (a) colorant contains at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometric isomer of the compound,
The (f) dispersant contains at least repeating units represented by the following general formulas (1), (2) and (3) and contains an acrylic copolymer (f1) having no repeating units containing a quaternary ammonium group, ,
Further, the photosensitive coloring composition characterized in that the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.
Figure pct00058

(In formula (I), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are, independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, R 11 , COOH, COOR 11 , COO - , CONH 2 , CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N=CH 2 , N=CHR 11 , N=CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ;
At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 is directly related to each other. or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 11 bridge;
R 11 and R 12 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms. .)
Figure pct00059

(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.
R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.
* indicates a binding hand.)
Figure pct00060

(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.
n is an integer of 1-20.
* indicates a binding hand.)
Figure pct00061

(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.
R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.
Z is a divalent linking group.
* indicates a binding hand.)
제 1 항에 있어서,
상기 (a) 착색제가, 유기 착색 안료를 함유하는, 감광성 착색 조성물.
According to claim 1,
The photosensitive coloring composition in which the coloring agent (a) contains an organic color pigment.
(a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,
경화시킨 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도가 0.5 이상이고,
상기 (f) 분산제가, 적어도 하기 일반식 (1), (2) 및 (3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하고, 4 급 암모늄기를 함유하는 반복 단위를 갖지 않는 아크릴 공중합체 (f1) 을 함유하고,
또한, 감광성 착색 조성물 중의 염소 원자의 함유량이, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 0.05 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.
Figure pct00062

(식 (1) 중, R31 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다.
R32 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
Figure pct00063

(식 (2) 중, R33 은 메틸렌기, 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R34 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R35 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
Figure pct00064

(식 (3) 중, R36 및 R37 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R36 및 R37 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다.
R38 은 수소 원자 또는 메틸기이다.
Z 는 2 가의 연결기이다.
* 는 결합손을 나타낸다.)
A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,
The optical density per 1 μm of film thickness of the cured coating film is 0.5 or more,
The (f) dispersant contains at least repeating units represented by the following general formulas (1), (2) and (3) and contains an acrylic copolymer (f1) having no repeating units containing a quaternary ammonium group, ,
Further, the photosensitive coloring composition characterized in that the content of chlorine atoms in the photosensitive coloring composition is 0.05% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.
Figure pct00062

(In Formula (1), R 31 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent.
R 32 is a hydrogen atom or a methyl group.
* indicates a bonding hand.)
Figure pct00063

(In Formula (2), R 33 is a methylene group, ethylene group or propylene group, R 34 is an alkyl group which may have a substituent, and R 35 is a hydrogen atom or a methyl group.
n is an integer from 1 to 20;
* indicates a bonding hand.)
Figure pct00064

(In Formula (3), R 36 and R 37 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, R 36 and R 37 These may combine with each other to form a cyclic structure.
R 38 is a hydrogen atom or a methyl group.
Z is a divalent linking group.
* indicates a bonding hand.)
제 3 항에 있어서,
상기 (a) 착색제가, 적색 안료 및 주황색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, 감광성 착색 조성물.
According to claim 3,
The photosensitive coloring composition in which the said (a) coloring agent contains at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a red pigment and an orange pigment, and at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a blue pigment and a purple pigment.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴 공중합체 (f1) 이 블록 공중합체인, 감광성 착색 조성물.
According to any one of claims 1 to 4,
The photosensitive coloring composition in which the said acrylic copolymer (f1) is a block copolymer.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴 공중합체 (f1) 의 아민가가 90 mgKOH/g 이상인, 감광성 착색 조성물.
According to any one of claims 1 to 5,
The photosensitive coloring composition in which the amine value of the said acrylic copolymer (f1) is 90 mgKOH/g or more.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a) 착색제가, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대하여 10 질량% 이상 함유되는, 감광성 착색 조성물.
According to any one of claims 1 to 6,
The photosensitive coloring composition in which the said (a) coloring agent is contained 10 mass % or more with respect to the total solid amount of the photosensitive coloring composition.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위해서 사용되는, 감광성 착색 조성물.
According to any one of claims 1 to 7,
The photosensitive coloring composition used in order to form the partition of an organic electroluminescent element.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 수지 조성물을 경화시킨 경화물.A cured product obtained by curing the photosensitive colored resin composition according to any one of claims 1 to 8. 제 9 항에 기재된 경화물을 포함하는 유기 전계 발광 소자.An organic electroluminescent device comprising the cured product according to claim 9. 제 10 항에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.An image display device comprising the organic electroluminescent device according to claim 10.
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