KR20210105876A - Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device - Google Patents

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Abstract

표면 조도 및 기계적 특성이 우수한 착색 스페이서를 형성 가능한 감광성 착색 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, 및 (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유하는 감광성 착색 조성물로서, 상기 (a) 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 2 ∼ 20 질량% 이고, 상기 (a) 착색제가 보라색 안료를 포함하고, 또한, 상기 (a) 착색제 중의 상기 보라색 안료의 함유 비율이 50 질량% 이상이다.A photosensitive coloring composition capable of forming a colored spacer having excellent surface roughness and mechanical properties is provided. The photosensitive coloring composition of this invention is a photosensitive coloring composition containing (a) a coloring agent, (b) alkali-soluble resin, (c) a photoinitiator, and (d) an ethylenically unsaturated compound, Comprising: The containing of said (a) coloring agent A ratio is 2-20 mass % in the total solid of the photosensitive coloring composition, the said (a) coloring agent contains a purple pigment, and the content rate of the said purple pigment in the said (a) coloring agent is 50 mass % or more.

Description

감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 및 화상 표시 장치Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device

본 발명은, 감광성 착색 조성물 등에 관한 것이다. 상세하게는, 예를 들어 액정 디스플레이 등의 컬러 필터에 있어서 착색 스페이서 등의 형성에 바람직하게 사용되는 감광성 착색 조성물, 이 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물 및 착색 스페이서, 이 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive coloring composition and the like. Specifically, for example, a photosensitive coloring composition preferably used for formation of a colored spacer in a color filter such as a liquid crystal display, a cured product obtained by curing the photosensitive coloring composition, a colored spacer, and an image comprising the colored spacer It relates to a display device.

2018년 12월 18일에 일본 특허청에 출원된 일본 특원 2018-236121 의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용, 그리고, 본 명세서에서 인용된 문헌 등에 개시된 내용의 일부 또는 전부를 여기에 인용하고, 본 명세서의 개시 내용으로서 도입한다.The entire contents of the specification, claims, drawings, and abstracts of Japanese Patent Application No. 2018-236121 filed with the Japan Patent Office on December 18, 2018, and part or all of the contents disclosed in documents cited in this specification, etc., are hereby incorporated herein by reference. It is cited and incorporated as the disclosure of this specification.

액정 디스플레이 (LCD) 는 액정에 대한 전압의 온·오프에 의해 액정 분자의 나열 방법이 바뀌는 성질을 이용하고 있다. 액정 패널을 구성하는 각 부재는, 포토리소그래피로 대표되는, 감광성 조성물을 이용한 방법에 의해 형성되는 것이 많다. 일례로서, 액정 패널에 있어서의 2 장의 기판의 간격을 일정하게 유지하기 위해서 사용되고 있는 것, 소위, 스페이서를 들 수 있다.A liquid crystal display (LCD) utilizes the property that the arrangement method of liquid crystal molecules is changed by on/off of the voltage with respect to liquid crystal. Each member which comprises a liquid crystal panel is formed by the method using the photosensitive composition typified by photolithography in many cases. As an example, what is used in order to keep the space|interval of the board|substrate of 2 sheets in a liquid crystal panel constant, what is called a spacer is mentioned.

종래, 투명 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, 스페이서를 투과해 오는 광에 의해 스위칭 소자로서의 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있었다. 이것을 방지하기 위해서, 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 차광성을 갖는 스페이서 (착색 스페이서) 를 사용하는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2 에는, 차광성과 액정의 전압 유지율을 확보한 후에, 형상이나 단차의 컨트롤이 가능하고, 기판과의 밀착성이 우수한 착색 스페이서를 얻기 위해서, 특정한 조합의 안료를 포함하는 착색 감광성 조성물을 사용하는 것이 제안되어 있다.Conventionally, when a transparent spacer is used for a TFT-type LCD, the TFT as a switching element may cause malfunction by the light which penetrated the spacer. In order to prevent this, for example, Patent Document 1 describes a method of using a spacer (colored spacer) having light-shielding properties. In addition, in Patent Document 2, after securing light-shielding properties and voltage retention of liquid crystals, in order to obtain a colored spacer that can control the shape and level difference and has excellent adhesion to the substrate, a colored photosensitive composition containing a pigment of a specific combination. It is suggested to use

또한, 액정 패널 제조시에는, 2 장의 기판 사이를 고온 고압하에서 압착하는 공정을 거치기 때문에, 스페이서에는 이 압착시의 고온 고압 조건에 의해서도 변형되지 않고, 스페이서 기능이 유지되는 것이 요구된다. 즉, 외부 압력에 의해 변형되어도, 외부 압력이 제외된 경우에 원래의 형상으로 돌아오기 위한, 회복율이나 탄성 복원율 등의 기계적 특성이 필요하게 된다. 예를 들어 특허문헌 3 에는, 특정한 광 중합 개시제를 사용함으로써 고 (高) 막 두께에 있어서의 기계적 특성이 높아지는 것이 기재되어 있고, 또한 특허문헌 4 에는, 특정한 불포화기 함유 화합물을 사용함으로써 기계적 특성이 높아지는 것이 기재되어 있다.In addition, since the liquid crystal panel is manufactured through a step of pressing between two substrates under high temperature and high pressure, it is required that the spacer is not deformed even by the high temperature and high pressure conditions at the time of pressing and that the spacer function is maintained. That is, even if it is deformed by external pressure, mechanical properties such as recovery rate and elastic recovery rate are required to return to the original shape when external pressure is excluded. For example, it is described in patent document 3 that the mechanical property in a high film thickness becomes high by using a specific photoinitiator, and, in patent document 4, mechanical property is improved by using a specific unsaturated group containing compound. rising is described.

한편으로 특허문헌 5 에는, 보라색 착색제 및/또는 갈색 착색제와, 특정한 청색 착색제를 포함하는 착색 조성물을 사용함으로써, 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감되는 것이 기재되어 있다.On the other hand, patent document 5 describes that the contamination of the liquid-crystal layer by a coloring agent is reduced by using the coloring composition containing a purple coloring agent and/or a brown coloring agent, and a specific blue coloring agent.

일본 공개특허공보 평8-234212호Japanese Patent Laid-Open No. 8-234212 국제 공개 제2013/115268호International Publication No. 2013/115268 일본 공개특허공보 2015-38607호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-38607 일본 공개특허공보 2005-165294호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-165294 일본 공개특허공보 2018-9132호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2018-9132

액정 디스플레이의 표시 불량을 억제하기 위해서, 착색 스페이서의 표면 조도가 낮고, 평활성이 우수할 필요가 있다.In order to suppress the display defect of a liquid crystal display, the surface roughness of a colored spacer is low and it is necessary to be excellent in smoothness.

본 발명자들이 검토한 결과, 특허문헌 2 나 5 에 기재된 감광성 착색 조성물로는, 표면 조도와 기계적 특성을 양립한 착색 스페이서를 얻는 것이 곤란하다는 것이 판명되었다.As a result of the present inventors examining, it became clear with the photosensitive coloring composition of patent document 2 and 5 that it was difficult to obtain the colored spacer which made surface roughness and mechanical characteristic compatible.

특허문헌 3 및 4 에는, 착색 스페이서에 관한 기재가 없어, 스페이서에 착색제를 함유시켰을 때의 영향이 불명하였다.In Patent Documents 3 and 4, there is no description regarding the colored spacer, and the influence of the colorant in the spacer is unknown.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 표면 조도 및 기계적 특성이 우수한 착색 스페이서를 형성 가능한 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a photosensitive coloring composition capable of forming a colored spacer excellent in surface roughness and mechanical properties.

본 발명자들이, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 실시한 결과, 전고형분 중의, 착색제의 함유 비율을 특정한 범위 내로 하고, 또한 착색제로서 특정한 안료를 이용하여, 그 함유 비율을 특정 범위로 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명에 이르렀다.As a result of the present inventors earnestly examining in order to solve the said subject, the content rate of the coloring agent in total solid should be within a specific range, and using a specific pigment as a coloring agent, By making the content rate into a specific range, the said subject found out what could be solved, and led to the present invention.

즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [9] 의 구성을 갖는다.That is, the present invention has the following structures [1] to [9].

[1] (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, 및 (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유하는 감광성 착색 조성물로서,[1] A photosensitive coloring composition comprising (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photoinitiator, and (d) an ethylenically unsaturated compound,

상기 (a) 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 2 ∼ 20 질량% 이고,The content rate of the said (a) coloring agent is 2-20 mass % in the total solid of the photosensitive coloring composition,

상기 (a) 착색제가 보라색 안료를 포함하고, 또한,(a) the colorant comprises a purple pigment, and

상기 (a) 착색제 중의 상기 보라색 안료의 함유 비율이 50 질량% 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.The content rate of the said purple pigment in the said (a) coloring agent is 50 mass % or more, The photosensitive coloring composition characterized by the above-mentioned.

[2] 상기 보라색 안료가, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 및 C. I. 피그먼트 바이올렛 23 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, [1] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[2] The photosensitive coloring composition according to [1], wherein the purple pigment contains at least one selected from the group consisting of C. I. Pigment Violet 29 and C. I. Pigment Violet 23.

[3] 상기 (a) 착색제가, 추가로 등색 안료를 포함하는, [1] 또는 [2] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[3] The photosensitive coloring composition according to [1] or [2], wherein the (a) colorant further contains an orange pigment.

[4] 상기 (d) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대한 상기 (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율이 150 질량부 이하인, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[4] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [3], wherein the content ratio of the alkali-soluble resin (b) to 100 parts by mass of the (d) ethylenically unsaturated compound is 150 parts by mass or less.

[5] 상기 (c) 광 중합 개시제가, 헥사아릴비이미다졸 화합물을 함유하는, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[5] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [4], wherein the (c) photoinitiator contains a hexaarylbiimidazole compound.

[6] 착색 스페이서 형성용인, [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[6] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [5], which is for forming a colored spacer.

[7] [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[7] A cured product obtained by curing the photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [6].

[8] [7] 에 기재된 경화물로 구성되는 착색 스페이서.[8] A colored spacer composed of the cured product according to [7].

[9] [8] 에 기재된 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치.[9] An image display device comprising the colored spacer according to [8].

본 발명에 의하면, 표면 조도 및 기계적 특성이 우수한 착색 스페이서를 형성 가능한 감광성 착색 조성물, 경화물, 그것으로부터 구성되는 착색 스페이서, 나아가 이와 같은 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photosensitive coloring composition which can form the colored spacer excellent in surface roughness and mechanical properties, a hardened|cured material, the colored spacer comprised from it, and also the image display apparatus provided with such a colored spacer can be provided.

이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지로 변경하여 실시할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described concretely, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement with various changes within the range of the summary.

또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」 이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」 을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」 에 대해서도 동일하다.In addition, in this invention, "(meth)acryl" means "acryl and/or methacryl", and it is the same also about "(meth)acrylate" and "(meth)acryloyl."

「(공)중합체」 란, 단일 중합체 (호모 폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하고, 「산(무수물)」, 「(무수)… 산」 이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」 란, (메트)아크릴산을 포함하는 (공)중합체, 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 (공)중합체를 의미한다."(co)polymer" means including both a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and "acid (anhydride)", "(anhydride)... Acid" means containing both an acid and its anhydride. In addition, in this invention, "acrylic resin" means the (co)polymer containing (meth)acrylic acid, and the (co)polymer containing the (meth)acrylic acid ester which has a carboxyl group.

또한, 본 발명에 있어서 「모노머」 란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 대립되는 용어로, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 2 량체, 3 량체, 올리고머 등도 포함하는 의미이다.In addition, in this invention, "monomer" is a term opposite to what is called a high molecular substance (polymer), and it is a meaning including a dimer, a trimer, an oligomer, etc. in addition to the narrow monomer (monomer).

본 발명에 있어서 「전고형분」 이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 후술하는 잉크 중에 포함되는, 용제 이외의 전성분을 의미하는 것으로 한다.In this invention, "total solid content" shall mean all components other than a solvent contained in the photosensitive coloring composition or the ink mentioned later.

본 발명에 있어서, 「중량 평균 분자량」 이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.In this invention, a "weight average molecular weight" refers to the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion by GPC (gel permeation chromatography).

또한, 본 발명에 있어서, 「아민가」 란, 특별히 언급이 없는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 한편, 「산가」 란, 특별히 언급이 없는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.In addition, in the present invention, unless otherwise specified, the term "amine number" refers to an amine value in terms of effective solid content, and is a value expressed by the amount of base per 1 g of solid content of the dispersant and the mass of equivalent KOH. In addition, a measurement method is mentioned later. In addition, unless otherwise indicated, an "acid value" shows an acid value in terms of effective solid content, and is computed by neutralization titration.

또한, 본 명세서에 있어서, 「질량」 으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」 으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.In addition, in this specification, the percentage and part represented by "mass" have the same meaning as the percentage and part represented by "weight".

또한, 본 명세서에 있어서, 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타내는 경우가 있는데, 「C. I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는, 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다.In addition, in this specification, although the specific example of a pigment may be shown by a pigment number, "C. Terms such as "I. Pigment Red 2" mean a color index (C.I.).

[감광성 착색 조성물][Photosensitive Coloring Composition]

본 발명의 감광성 착색 조성물은,The photosensitive coloring composition of the present invention,

(a) 착색제(a) colorants

(b) 알칼리 가용성 수지(b) alkali-soluble resin

(c) 광 중합 개시제(c) photoinitiator

(d) 에틸렌성 불포화 화합물(d) ethylenically unsaturated compounds

을 필수 성분으로서 함유하고, 필요에 따라, 추가로 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 계면 활성제 (도포성 향상제), 안료 유도체, 광산 발생제, 가교제, 메르캅토 화합물, 중합 금지제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등의 그 밖의 배합 성분을 포함하는 것이고, 통상적으로, 각 배합 성분이, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.as an essential component, and if necessary, further adhesion improvers such as silane coupling agents, surfactants (applicability improvers), pigment derivatives, photoacid generators, crosslinking agents, mercapto compounds, polymerization inhibitors, development improving agents, ultraviolet rays It contains other compounding components, such as an absorbent and antioxidant, and each compounding component is normally used in the state melt|dissolved or disperse|distributed to the solvent.

<(a) 착색제><(a) Colorant>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제를 함유한다. (a) 착색제를 함유함으로써, 적당한 광 흡수성, 특히 착색 스페이서 등의 차광 부재를 형성하는 용도에 사용하는 경우에는 적당한 차광성을 얻을 수 있다.The photosensitive coloring composition of this invention contains (a) a coloring agent. (a) By containing a coloring agent, when using for the use which forms light-shielding members, such as moderate light absorption, especially a colored spacer, moderate light-shielding property can be acquired.

또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제의 함유 비율이, 전고형분 중 2 ∼ 20 질량% 이다. 이와 같이 (a) 착색제를 특정량 함유함으로써, 얻어지는 경화물, 특히 착색 스페이서에 있어서, 차광성과 높은 기계적 특성을 양립하는 것이 가능해진다.Moreover, in the photosensitive coloring composition of this invention, the content rate of (a) coloring agent is 2-20 mass % in total solid. Thus, by containing (a) a specific amount of a coloring agent, the hardened|cured material obtained, especially a colored spacer WHEREIN: It becomes possible to make light-shielding property and high mechanical characteristic compatible.

(a) 착색제의 함유 비율은, 전고형분 중에 2 ∼ 20 질량% 이면 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는, 3 질량% 이상이 바람직하고, 4 질량% 이상이 보다 바람직하고, 5 질량% 이상이 더욱 바람직하다. 한편으로, 기계적 특성의 관점에서는, 18 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 12 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 8 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 3 ∼ 18 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 12 질량% 가 더욱 바람직하고, 4 ∼ 10 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 5 ∼ 8 질량% 가 특히 바람직하다.(a) Although the content rate of a coloring agent will not be specifically limited if it is 2-20 mass % in total solid, From a light-shielding viewpoint, 3 mass % or more is preferable, 4 mass % or more is more preferable, 5 mass % or more This is more preferable. On the other hand, from a viewpoint of a mechanical property, 18 mass % or less is preferable, 15 mass % or less is more preferable, 12 mass % or less is still more preferable, 10 mass % or less is still more preferable, 8 mass % or less is Especially preferred. For example, 3-18 mass % is preferable, 3-15 mass % is more preferable, 4-12 mass % is still more preferable, 4-10 mass % is still more preferable, 5-8 mass % is more preferable Especially preferred.

(a) 착색제로는, 안료를 사용해도 되고, 염료를 사용해도 된다. 이들 중에서도, 내구성의 관점에서, 안료를 사용하는 것이 바람직하다.(a) As a coloring agent, a pigment may be used and dye may be used for it. Among these, it is preferable to use a pigment from a durable viewpoint.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (a) 착색제는 보라색 안료를 포함하고, 또한, (a) 착색제 중의 상기 보라색 안료의 함유 비율이 50 질량% 이상이다. 보라색 안료를 (a) 착색제 중에 50 질량% 이상 포함함으로써 도막 중의 안료의 분산이 균일해짐으로써, 현상시의 현상액에 대한 용해성이 균일해지고, 표면 조도가 양호해지는 것으로 생각된다. 또한, 보라색 안료는 흡수 스펙트럼에 있어서 파장 500 ∼ 600 ㎚ 부근에 흡수 피크의 극대 흡수 파장을 갖는 것으로부터, 보라색 안료를 포함함으로써 광학 농도 (OD) 를 높게 하기 쉬운 점에서도 유효하다. 한편으로, 파장 400 ㎚ 미만의 흡수가 적은 것으로부터, (c) 광 중합 개시제의 흡수 파장과의 겹침이 적어, 광 경화성, 감도의 관점에서도 유효하다. 또한, 파장 450 ㎚ 의 흡수가 적은 것으로부터, 액정 디스플레이의 백라이트로부터 강하게 조사되는 청색 광에 대한 내광성의 관점에서도 유효하다.The photosensitive coloring composition of this invention WHEREIN: (a) a coloring agent contains a purple pigment, and the content rate of the said purple pigment in (a) coloring agent is 50 mass % or more. It is thought that the solubility with respect to the developing solution at the time of image development becomes uniform, and surface roughness becomes favorable because dispersion|distribution of the pigment in a coating film becomes uniform by including a purple pigment in 50 mass % or more in (a) coloring agent. Moreover, since a purple pigment has the maximum absorption wavelength of an absorption peak in the wavelength vicinity of 500-600 nm in an absorption spectrum, it is effective also at the point which makes it easy to make optical density (OD) high by including a purple pigment. On the other hand, since there is little absorption with a wavelength of less than 400 nm, there is little overlap with the absorption wavelength of (c) photoinitiator, and it is effective also from a viewpoint of photocurability and a sensitivity. Moreover, since there is little absorption of wavelength 450nm, it is effective also from a viewpoint of the light resistance with respect to the blue light strongly irradiated from the backlight of a liquid crystal display.

보라색 안료로는, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 이 중에서도, 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 29, 보다 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 들 수 있다. 한편으로 분산성이나 내광성의 점에서, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 바람직하다.As a purple pigment, CI Pigment Violet 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3: 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27 , 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. Among these, from a light-shielding viewpoint, Preferably C.I. Pigment Violet 19, 23, 29, More preferably, C. I. Pigment Violet 23, 29 is mentioned. On the other hand, it is preferable to use C.I. Pigment Violet 29 from the viewpoint of dispersibility and light resistance.

(a) 착색제 중의 보라색 안료의 함유 비율은 50 질량% 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 표면 조도 향상의 관점에서는, 55 질량% 이상이 바람직하고, 58 질량% 이상이 보다 바람직하고, 60 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 62 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 65 질량% 이상이 특히 바람직하다. 한편으로, 보라색 안료 이외의 착색제의 광학 특성을 이용하여, 흡수 파장대를 폭 넓게 한다는 관점에서는, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 75 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 50 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 55 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 58 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 80 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 62 ∼ 75 질량% 가 특히 바람직하고, 65 ∼ 75 질량% 가 특히 바람직하다.(a) Although the content rate of the purple pigment in a coloring agent will not be specifically limited if it is 50 mass % or more, From a viewpoint of surface roughness improvement, 55 mass % or more is preferable, 58 mass % or more is more preferable, 60 mass % or more More preferably, 62 mass % or more is still more preferable, and 65 mass % or more is especially preferable. On the other hand, 90 mass % or less is preferable, 80 mass % or less is more preferable, and 75 mass % or less is still more preferable from a viewpoint of widening an absorption wavelength band using the optical characteristic of colorants other than a purple pigment. For example, 50-90 mass % is preferable, 55-90 mass % is more preferable, 58-80 mass % is still more preferable, 60-80 mass % is still more preferable, 62-75 mass % is more preferable It is especially preferable, and 65-75 mass % is especially preferable.

(a) 착색제 중의 C. I. 피그먼트 바이올렛 29 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 표면 조도 및 내광성 향상의 관점에서는, 50 질량% 이상이 바람직하고, 55 질량% 이상이 보다 바람직하고, 60 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 62 질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 65 질량% 이상이 특히 바람직하다. 한편으로, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 이외의 착색제의 광학 특성을 이용하여, 흡수 파장대를 폭 넓게 한다는 관점에서는, 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하고, 75 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 50 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 55 ∼ 90 질량% 가 보다 바람직하고, 58 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 80 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 62 ∼ 75 질량% 가 특히 바람직하고, 65 ∼ 75 질량% 가 특히 바람직하다.(a) Although the content rate of CI pigment violet 29 in a coloring agent is not specifically limited, From a viewpoint of surface roughness and light resistance improvement, 50 mass % or more is preferable, 55 mass % or more is more preferable, 60 mass % or more More preferably, 62 mass % or more is still more preferable, and 65 mass % or more is especially preferable. On the other hand, from the viewpoint of broadening the absorption wavelength band using the optical properties of colorants other than CI Pigment Violet 29, 90 mass % or less is preferable, 80 mass % or less is more preferable, and 75 mass % or less is further desirable. For example, 50-90 mass % is preferable, 55-90 mass % is more preferable, 58-80 mass % is still more preferable, 60-80 mass % is still more preferable, 62-75 mass % is more preferable It is especially preferable, and 65-75 mass % is especially preferable.

(a) 착색제는 보라색 안료 이외의 착색제 (이하, 「그 밖의 착색제」 라고 약기한다) 를 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 착색제로는, 안료나 염료를 들 수 있고, 내열성의 관점에서 안료가 바람직하고, 색조, 광 경화성, 감도의 관점에서 유기 안료가 바람직하다.(a) The colorant may contain a colorant other than the purple pigment (hereinafter, abbreviated as "other colorant"). As another coloring agent, a pigment and dye are mentioned, A pigment is preferable from a heat resistant viewpoint, and an organic pigment is preferable from a viewpoint of color tone, photocurability, and a sensitivity.

안료로는, 황색 안료, 등색 안료, 적색 안료, 청색 안료, 녹색 안료, 갈색 안료 등의 유기 착색 안료를 들 수 있다.As a pigment, organic coloring pigments, such as a yellow pigment, an orange pigment, a red pigment, a blue pigment, a green pigment, and a brown pigment, are mentioned.

황색 안료로는, C. I. 피그먼트 옐로우 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성, 신뢰성의 관점에서 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185 가 바람직하고, C. I. 피그먼트 옐로우 138, 139, 150 이 더욱 바람직하고, 차광성의 관점에서 C. I. 피그먼트 옐로우 139 가 특히 바람직하다.As a yellow pigment, CI Pigment Yellow 1, 1:1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83 , 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134 , 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170 , 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199 , 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208. Among these, from the viewpoint of dispersibility and reliability, CI Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185 is preferable, and CI Pigment Yellow 138, 139, 150 is more preferable. , CI Pigment Yellow 139 is particularly preferable from the viewpoint of light-shielding properties.

등색 안료 (오렌지 안료) 로는, C. I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 등색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하고, C. I. 피그먼트 오렌지 64 가 특히 바람직하다.As the orange pigment (orange pigment), CI Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. Among these, it is preferable to use CI pigment orange 13, 43, 64, 72 from the point of dispersibility and light-shielding property, and when hardening a photosensitive coloring composition with ultraviolet-ray, as an orange pigment, a thing with a low ultraviolet absorption rate It is preferable to use, it is more preferable to use CI pigment orange 64 and 72 from such a viewpoint, and CI pigment orange 64 is especially preferable.

적색 안료로는, C. I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다. 이 중에서도, 차광성, 분산성의 관점에서 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.As a red pigment, CI Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38 , 41, 47, 48, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1 , 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1 , 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146 , 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202 , 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250 , 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 can Among these, from the viewpoint of light-shielding property and dispersibility, preferably CI Pigment Red 48:1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably may include CI Pigment Red 177, 209, 224, and 254. In addition, it is preferable to use CI pigment red 177, 254, and 272 from the point of dispersibility and light-shielding property, and when hardening a photosensitive coloring composition with ultraviolet-ray, it is to use a thing with a low ultraviolet-ray absorption as a red pigment. It is preferable, and it is more preferable to use CI pigment red 254 and 272 from such a viewpoint.

청색 안료로는, C. I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다. 이 중에서도, 차광성의 관점에서 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 60, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16 을 들 수 있다.As a blue pigment, CI Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27 , 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 can be heard Among these, from a light-shielding viewpoint, Preferably CI Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 60, More preferably, CI Pigment Blue 15 : 6, 16 are mentioned.

또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 한편으로, 한국 등록특허 제10-1840984호에 기재된 바와 같이, 신뢰성, 차광성, 탄성 복원율의 관점에서는, C. I. 피그먼트 블루 16 을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to use CI Pigment Blue 15:6, 16,60 from the point of dispersibility and light-shielding property, and when hardening the photosensitive coloring composition with ultraviolet-ray, as a blue pigment, a thing with a low ultraviolet absorption is used. It is preferable to do it, and it is more preferable to use CI Pigment Blue 60 from such a viewpoint. On the other hand, as described in Korean Patent Registration No. 10-1840984, it is preferable to use C. I. Pigment Blue 16 from the viewpoint of reliability, light blocking properties, and elastic recovery rate.

녹색 안료로는, C. I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58 을 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성의 관점에서 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.As a green pigment, CI Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58 can be heard Among these, preferably C.I. Pigment Green 7 and 36 from the viewpoint of dispersibility.

갈색 안료 (브라운 안료) 로는, C. I. 피그먼트 브라운 23, 25, 26, 28, 38, 41, 83, 93 을 들 수 있다. 이 중에서도, 근적외선 투과성과 차광성을 양립한다는 관점에서 바람직하게는 C. I. 피그먼트 브라운 26, 28, 83, 93 을 들 수 있다.Examples of the brown pigment (brown pigment) include C. I. Pigment Brown 23, 25, 26, 28, 38, 41, 83, 93. Among these, C.I. Pigment Brown 26, 28, 83, and 93 are preferably mentioned from the viewpoint of achieving both near-infrared transmittance and light-shielding properties.

이들 유기 착색 안료 중에서도, 보라색 안료의 흡수대와는 상이한 파장 400 ∼ 500 ㎚ 부근에 흡수대를 갖는 것으로부터, 등색 안료가 바람직하다.Among these organic color pigments, an orange pigment is preferable because it has an absorption band in the vicinity of a wavelength of 400 to 500 nm different from the absorption band of the purple pigment.

등색 안료를 포함하는 경우, (a) 착색제 중의 등색 안료의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 5 질량% 이상이 바람직하고, 10 질량% 이상이 보다 바람직하고, 20 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 30 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또한, 50 질량% 이하가 바람직하고, 45 질량% 이하가 보다 바람직하고, 40 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 35 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 45 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 35 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 광학 농도 (OD) 가 높아지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 표면 조도가 양호해지는 경향이 있다.When an orange pigment is included, the content rate of the orange pigment in the (a) colorant is not particularly limited, but preferably 5 mass% or more, more preferably 10 mass% or more, still more preferably 20 mass% or more, 30 Mass % or more is especially preferable, 50 mass % or less is preferable, 45 mass % or less is more preferable, 40 mass % or less is still more preferable, and 35 mass % or less is especially preferable. For example, 5-50 mass % is preferable, 10-45 mass % is more preferable, 20-40 mass % is still more preferable, 30-35 mass % is especially preferable. There exists a tendency for optical density (OD) to become high by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for surface roughness to become favorable by setting it as below the said upper limit.

한편으로, 등색 안료를 포함하는 경우에는 내광성이 악화되는 경향이 있기 때문에, 내광성 향상의 관점에서는 (a) 착색제 중의 등색 안료의 함유 비율은 50 질량% 이하가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 10 질량% 이하가 특히 바람직하고, 0 질량% 가 가장 바람직하다.On the other hand, since light resistance tends to deteriorate when an orange pigment is included, from the viewpoint of improving the light resistance (a), the content ratio of the orange pigment in the colorant is preferably 50 mass% or less, and more preferably 40 mass% or less. and 30 mass % or less is more preferable, 20 mass % or less is still more preferable, 10 mass % or less is especially preferable, and 0 mass % is the most preferable.

또한, 청색 안료를 포함하는 경우에는 표면 조도가 악화되는 경향이 있기 때문에, (a) 착색제 중의 청색 안료의 함유 비율은 50 질량% 이하가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 10 질량% 이하가 특히 바람직하고, 0 질량% 가 가장 바람직하다.Moreover, since surface roughness tends to deteriorate when a blue pigment is included, 50 mass % or less is preferable, as for the content rate of the blue pigment in (a) coloring agent, 40 mass % or less is more preferable, 30 mass % It is still more preferable, 20 mass % or less is still more preferable, 10 mass % or less is especially preferable, and 0 mass % is the most preferable.

청색 안료 중에서도 C. I. 피그먼트 블루 60 을 포함하는 경우에는 표면 조도가 악화되는 경향이 있기 때문에, (a) 착색제 중의 C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율은 50 질량% 이하가 바람직하고, 40 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 10 질량% 이하가 특히 바람직하고, 0 질량% 가 가장 바람직하다.When CI Pigment Blue 60 is included among blue pigments, since surface roughness tends to deteriorate, the content rate of CI Pigment Blue 60 in (a) coloring agent is preferably 50 mass % or less, and 40 mass % or less More preferably, 30 mass % or less is still more preferable, 20 mass % or less is still more preferable, 10 mass % or less is especially preferable, and 0 mass % is the most preferable.

또한, 그 밖의 착색제로서 흑색 안료를 포함하고 있어도 된다. 흑색 안료로는, 유기 흑색 안료나 무기 흑색 안료를 들 수 있다.Moreover, you may contain the black pigment as another coloring agent. As a black pigment, an organic black pigment and an inorganic black pigment are mentioned.

유기 흑색 안료로서 예를 들어, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 화합물의 기하 이성체, 그 화합물의 염, 및 그 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 유기 흑색 안료를 들 수 있다.Organic black containing at least one selected from the group consisting of, for example, a compound represented by the following formula (1), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of a geometric isomer of the compound represented by the following formula (1) as an organic black pigment pigments.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (1) 중, R1 및 R6 은 각각 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; In formula (1), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom, or a chlorine atom;

R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ;R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R 11 , COOH, COOR 11 , COO - , CONH 2 , CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N= CH 2 , N=CHR 11 , N=CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ;

또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합할 수도 있고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;In addition, at least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 is, may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other via an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 11 bridge;

R11 및 R12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.R 11 and R 12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. .

일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 아마도 가장 안정적이다.The geometric isomer of the compound represented by the general formula (1) has the following core structures (however, the substituents in the structural formula are omitted), and the trans-trans isomer is probably the most stable.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또한, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When the compound represented by the general formula (1) is anionic, its charge is transferred to any known suitable cation, for example a metal, organic, inorganic or metal organic cation, specifically an alkali metal, alkaline earth metal, transition metal , tertiary ammonium such as primary ammonium, secondary ammonium, trialkylammonium, quaternary ammonium such as tetraalkylammonium, or a salt compensated with an organometallic complex. Moreover, when the geometrical isomer of the compound represented by General formula (1) is anionic, it is preferable that it is the same salt.

일반식 (1) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있는 것으로부터, 이하가 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없고, 안료의 색상에 영향을 주지 않는 것으로 생각되기 때문이다.In the substituents of the general formula (1) and their definitions, the following are preferable because the shielding rate tends to increase. This is because the following substituents have no absorption and are considered to have no influence on the color of the pigment.

R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 2 , R 4 , R 5 , R 7 , R 9 and R 10 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom.

R3 및 R8 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.R 3 and R 8 are each independently preferably a hydrogen atom, NO 2 , OCH 3 , OC 2 H 5 , a bromine atom, a chlorine atom, CH 3 , C 2 H 5 , N(CH 3 ) 2 , N(CH 3 )(C 2 H 5 ), N(C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl, β-naphthyl, SO 3 H or SO 3 , and more preferably a hydrogen atom or SO 3 H .

R1 및 R6 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 1 and R 6 are each independently preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , and more preferably a hydrogen atom.

바람직하게는, R1 과 R6, R2 와 R7, R3 과 R8, R4 와 R9, 및 R5 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, 또한, R5 는 R10 과 동일하다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 1 and R 6 , R 2 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 9 , and R 5 and R 10 is the same, more preferably Preferably, R 1 is identical to R 6 , R 2 is identical to R 7 , R 3 is identical to R 8 , R 4 is identical to R 9 , and R 5 is identical to R 10 .

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1, 1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.The C1-C12 alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 2-methylbutyl group, n -pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, heptyl group, n-octyl group, 1, 1,3,3-tetramethylbutyl group, 2- an ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, or a dodecyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 투일기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.The cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, a cyclopropyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a trimethylcyclohexyl group, a tuyl group, a norbornyl group, and a boryl group. nyl group, norcaryl group, caryl group, menthyl group, norphinyl group, pinyl group, 1-adamantyl group or 2-adamantyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.The alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is, for example, a vinyl group, an allyl group, a 2-propen-2-yl group, a 2-buten-1-yl group, a 3-buten-1-yl group, and 1,3-butadiene- 2-yl group, 2-penten-1-yl group, 3-penten-2-yl group, 2-menthyl-1-buten-3-yl group, 2-methyl-3-buten-2-yl group, 3-methyl-2- buten-1-yl group, 1,4-pentadien-3-yl group, hexenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group or dodecenyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투젠-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.The cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, a 2-cyclobuten-1-yl group, a 2-cyclopenten-1-yl group, a 2-cyclohexen-1-yl group, a 3-cyclohexen-1-yl group, 2,4-cyclohexadien-1-yl group, 1-p-menten-8-yl group, 4(10)-tuzen-10-yl group, 2-norbornen-1-yl group, 2,5-norbornadi en-1-yl group, 7,7-dimethyl-2,4-norkaradien-3-yl group or campenyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.A C2-C12 alkynyl group is, for example, 1-propyn-3-yl group, 1-butyn-4-yl group, 1-pentyn-5-yl group, 2-methyl-3-butyn-2-yl group, 1,4-pentadiyn-3-yl group, 1,3-pentadiyn-5-yl group, 1-hexyn-6-yl group, cis-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, Trans-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, 1,3-hexadiyn-5-yl group, 1-octyne-8-yl group, 1-nonin-9-yl group, 1-decyne- 10-yl or 1-dodecin-12-yl.

할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.The halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

상기 일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물 및/또는 그 화합물의 기하 이성체이다.The organic black pigment represented by the general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (2) and/or a geometric isomer of the compound.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로, Irgaphor (등록 상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.As a specific example of such an organic black pigment, Irgaphor (trademark) Black S 0100 CF (made by BASF) is mentioned as a brand name.

이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 분산제, 용제, 방법에 의해 분산되어 사용된다. 또한, 분산시에 상기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물 또는 그 화합물의 기하 이성체의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.This organic black pigment is preferably dispersed and used by a dispersing agent, a solvent, and a method described later. In addition, the presence of a compound represented by the general formula (2) or a sulfonic acid derivative of a geometric isomer of the compound during dispersion may improve dispersibility and storage properties.

또한, 유기 흑색 안료로서, 광학 특성과 신뢰성의 관점에서, 한국 공개특허공보 제10-2018-0052502호에 기재되어 있는 유기 흑색 안료나, 한국 공개특허공보 제10-2018-0052864호에 기재되어 있는 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, as an organic black pigment, from the viewpoint of optical properties and reliability, the organic black pigment described in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2018-0052502, or the organic black pigment described in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2018-0052864 Preference is given to using organic black pigments.

또한, 그 밖의 유기 흑색 안료로서, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 페릴렌 블랙 등도 들 수 있다.Moreover, as another organic black pigment, aniline black, cyanine black, perylene black, etc. are mentioned.

또한, 무기 흑색 안료인 카본 블랙을 사용해도 된다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.Moreover, you may use carbon black which is an inorganic black pigment. Examples of carbon black include the following carbon blacks.

미츠비시 케미컬사 제조 : MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31BMitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40 , #144, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000 2200, #12300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, OIL7B4000, #9B4000, #140 , OIL11B, OIL30B, OIL31B

데구사사 제조 : Printex (등록 상표, 이하 동일) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170Manufactured by Degusa: Printex (registered trademark, hereinafter the same) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170

캐보트사 제조 : Monarch (등록 상표, 이하 동일) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (등록 상표, 이하 동일) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (등록 상표) XC72R, ELFTEX (등록 상표)-8Manufactured by Cabot Corporation: Monarch (registered trademark, hereinafter the same) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (registered trademark, hereinafter the same) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R , REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (registered trademark) XC72R, ELFTEX (registered trademark)-8

비를라사 제조 : RAVEN (등록 상표, 이하 동일) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000Manufactured by Birla: RAVEN (registered trademark, hereinafter the same) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN850, RAVEN1020, RAVEN1020, RAVEN10U , RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000

카본 블랙은, 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에 대한 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.As carbon black, you may use what was coat|covered with resin. When carbon black coated with resin is used, there is an effect of improving the adhesiveness to the glass substrate and the volume resistance value. As carbon black coated with resin, the carbon black etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 09-71733, etc. can be used preferably, for example. From the viewpoints of volume resistance and dielectric constant, resin-coated carbon black is preferably used.

이들 안료는, 평균 입자경이 통상적으로 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입자경의 기준은 안료 입자의 수이다.It is preferable to disperse|distribute these pigments so that an average particle diameter may become 1 micrometer or less normally, Preferably it is 0.5 micrometer or less, More preferably, it may become 0.25 micrometer or less. Here, the standard of the average particle diameter is the number of pigment particles.

또한, 감광성 착색 조성물에 있어서, 안료의 평균 입자경은, 동적 광 산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입자경으로부터 구한 값이다. 입자경 측정은, 충분히 희석된 감광성 착색 조성물 (통상적으로는 희석하여, 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다) 에 대하여 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.In addition, the photosensitive coloring composition WHEREIN: The average particle diameter of a pigment is the value calculated|required from the pigment particle diameter measured by dynamic light scattering (DLS). Particle size measurement is carried out with respect to a sufficiently diluted photosensitive coloring composition (usually diluted and prepared with a pigment concentration of about 0.005-0.2 mass%. However, if there is a concentration recommended by the measuring instrument, it follows the concentration), at 25 ° C. measured in

또한, 상기 서술한 안료 외에, 염료를 사용해도 된다. 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.Moreover, you may use dye other than the pigment mentioned above. Examples of the dye include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.

아조계 염료로는, 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 11, C. I. 애시드 오렌지 7, C. I. 애시드 레드 37, C. I. 애시드 레드 180, C. I. 애시드 블루 29, C. I. 다이렉트 레드 28, C. I. 다이렉트 레드 83, C. I. 다이렉트 옐로우 12, C. I. 다이렉트 오렌지 26, C. I. 다이렉트 그린 28, C. I. 다이렉트 그린 59, C. I. 리액티브 옐로우 2, C. I. 리액티브 레드 17, C. I. 리액티브 레드 120, C. I. 리액티브 블랙 5, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 디스퍼스 레드 58, C. I. 디스퍼스 블루 165, C. I. 베이직 블루 41, C. I. 베이직 레드 18, C. I. 모르단트 레드 7, C. I. 모르단트 옐로우 5, C. I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.Examples of the azo dye include CI acid yellow 11, CI acid orange 7, CI acid red 37, CI acid red 180, CI acid blue 29, CI direct red 28, CI direct red 83, CI direct yellow 12, CI Direct Orange 26, CI Direct Green 28, CI Direct Green 59, CI Reactive Yellow 2, CI Reactive Red 17, CI Reactive Red 120, CI Reactive Black 5, CI Disperse Orange 5, CI Disperse Red 58 , CI Disperse Blue 165, CI Basic Blue 41, CI Basic Red 18, CI Mordant Red 7, CI Mordant Yellow 5, CI Mordant Black 7 and the like.

안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어, C. I. 배트 블루 4, C. I. 애시드 블루 40, C. I. 애시드 그린 25, C. I. 리액티브 블루 19, C. I. 리액티브 블루 49, C. I. 디스퍼스 레드 60, C. I. 디스퍼스 블루 56, C. I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.Examples of the anthraquinone dye include CI Vat Blue 4, CI Acid Blue 40, CI Acid Green 25, CI Reactive Blue 19, CI Reactive Blue 49, CI Disperse Red 60, CI Disperse Blue 56, CI Disperse Blue 60 etc. are mentioned.

이 외에, 프탈로시아닌계 염료로서, 예를 들어, C. I. 배트 블루 5 등을, 퀴논이민계 염료로서, 예를 들어, C. I. 베이직 블루 3, C. I. 베이직 블루 9 등을, 퀴놀린계 염료로서, 예를 들어, C. I. 솔벤트 옐로우 33, C. I. 애시드 옐로우 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 64 등을, 니트로계 염료로서, 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 1, C. I. 애시드 오렌지 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 42 등을 들 수 있다.In addition, as a phthalocyanine-based dye, for example, CI Vat Blue 5 and the like, as a quinoneimine-based dye, for example, CI Basic Blue 3, CI Basic Blue 9, etc., as a quinoline-based dye, for example, CI solvent yellow 33, CI acid yellow 3, CI disperse yellow 64 etc. are mentioned as nitro type dye, for example, CI acid yellow 1, CI acid orange 3, CI disperse yellow 42, etc. are mentioned.

<(b) 알칼리 가용성 수지><(b) alkali-soluble resin>

본 발명에서 사용하는 (b) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복실기 또는 수산기를 포함하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있지만, 그 중에서도(b) alkali-soluble resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, for example, an epoxy (meth)acrylate-based resin, an acrylic resin, a carboxyl group-containing epoxy resin, a carboxyl group-containing urethane resins, novolac-based resins, polyvinylphenol-based resins, and the like,

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지(b1) Epoxy (meth)acrylate-based resin

(b2) 아크릴 공중합 수지(b2) acrylic copolymer resin

가 우수한 제판성의 관점에서 바람직하게 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다.is preferably used from the viewpoint of excellent plate making properties. These can be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

<(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1) Epoxy (meth)acrylate-based resin>

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 에폭시 수지 (에폭시 화합물) 와 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물의, 반응으로 생성된 수산기에 추가로 다염기산, 및/또는 그 무수물을 반응시켜 얻어지는 수지이다.(b1) The epoxy (meth) acrylate-based resin is a reaction product of an epoxy resin (epoxy compound) and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group It is a resin obtained by further reacting a polybasic acid and/or its anhydride with the hydroxyl group produced by

또한 상기, 다염기산 및/또는 그 무수물을 수산기와 반응시키기 전에, 그 수산기와 반응할 수 있는 치환기를 2 개 이상 갖는 화합물을 반응시킨 후, 다염기산, 및/또는 그 무수물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.In addition, before reacting the polybasic acid and/or its anhydride with a hydroxyl group, after reacting a compound having two or more substituents capable of reacting with the hydroxyl group, the resin obtained by reacting the polybasic acid and/or its anhydride is also described above. (b1) It is contained in the epoxy (meth)acrylate-type resin.

또한 상기 반응으로 얻어진 수지의 카르복실기에, 추가로 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.Moreover, resin obtained by making the carboxyl group of resin obtained by the said reaction react with the compound which has a functional group which can further react is also contained in the said (b1) epoxy (meth)acrylate-type resin.

이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는 화학 구조 상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한 「(메트)아크릴레이트」 에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이고, 또한, 「(메트)아크릴레이트」 가 대표 예이기 때문에 관용에 따라 이와 같이 명명되어 있다.As described above, the epoxy (meth) acrylate-based resin does not substantially have an epoxy group on the chemical structure, and is not limited to “(meth) acrylate”, but an epoxy compound (epoxy resin) is a raw material, and “ (meth)acrylate" is a representative example, so it is named like this according to custom.

본 발명에서 사용하는 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 구체적으로는, 하기 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-1) 및/또는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-2) (이하 「카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」 라고 칭하는 경우가 있다) 가 현상성, 신뢰성의 관점에서 바람직하게 사용된다.Specifically, as the (b1) epoxy (meth) acrylate-based resin used in the present invention, the following epoxy (meth) acrylate-based resin (b1-1) and/or epoxy (meth) acrylate-based resin (b1) -2) (hereinafter, sometimes referred to as "carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin") is preferably used from the viewpoint of developability and reliability.

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-1)><Epoxy (meth) acrylate resin (b1-1)>

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로, 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시키는 것에 의해 얻어진 알칼리 가용성 수지.Alkali-soluble resin obtained by adding α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, and further reacting a polybasic acid and/or anhydride thereof .

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-2)><Epoxy (meth) acrylate resin (b1-2)>

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로, 다가 알코올, 그리고 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시키는 것에 의해 얻어진 알칼리 가용성 수지.By adding α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, and further reacting with a polyhydric alcohol and a polybasic acid and/or anhydride thereof The obtained alkali-soluble resin.

여기서, 에폭시 수지란, 열 경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함하여 말하는 것으로 하고, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단량체여도 되고 중합체여도 된다.Here, an epoxy resin shall include the raw material compound before formation of resin by thermosetting, and as this epoxy resin, it can select suitably from well-known epoxy resins and can use it. Moreover, the compound obtained by making a phenolic compound and epihalohydrin react can be used for an epoxy resin. As a phenolic compound, the compound which has a phenolic hydroxyl group more than bivalence is preferable, and a monomer or a polymer may be sufficient as it.

원료가 되는 에폭시 수지의 종류로는, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 비페닐노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔과 페놀 또는 크레졸의 중부가 반응물과 에피할로히드린의 반응 생성물인 에폭시 수지, 아다만틸기 함유 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 이와 같이 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.As the kind of epoxy resin used as a raw material, cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin , naphthalene novolak-type epoxy resin, epoxy resin that is a reaction product of a polyaddition product of dicyclopentadiene and phenol or cresol and epihalohydrin, adamantyl group-containing epoxy resin, fluorene-type epoxy resin, etc. are preferably used and those having an aromatic ring in the main chain as described above can be preferably used.

또한, 에폭시 수지의 구체예로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER (등록 상표, 이하 동일) -828」, 「jER-1001」, 「jER-1002」, 「jER-1004」, 닛폰 화약사 제조의 「NER-1302」 (에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃) 등), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER-807」, 「jER-4004P」, 「jER-4005P」, 「jER-4007P」, 닛폰 화약사 제조의 「NER-7406」 (에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃) 등), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER-YX4000」), 페놀노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER-152」, 「jER-154」, 다우 케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o, m, p-) 크레졸노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EOCN (등록 상표, 이하 동일) -102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록 상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN (등록 상표, 이하 동일) -501」, 「EPPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀사 제조의 「셀록사이드 (등록 상표, 이하 동일) 2021P」, 「셀록사이드 EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰 화약사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (B1) ∼ (B4) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 (B1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (B2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (B4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 주금 화학사 제조의 「ESF-300」 등을 들 수 있다.In addition, as a specific example of an epoxy resin, for example, a bisphenol A epoxy resin (For example, "jER (trademark, the same) -828" manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., "jER-1001", "jER" -1002", "jER-1004", "NER-1302" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (epoxy equivalent 323, softening point 76°C), etc.), bisphenol F-type resin (e.g., "jER-807" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ”, “jER-4004P”, “jER-4005P”, “jER-4007P”, “NER-7406” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (epoxy equivalent 350, softening point 66°C), etc.), bisphenol S-type epoxy resin, biphenyl Glycidyl ether (for example, "jER-YX4000" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), phenol novolac type epoxy resin (eg, "EPPN-201" manufactured by Nippon Kayaku Corporation, "jER" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) -152", "jER-154", "DEN-438" manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), (o, m, p-) cresol novolak-type epoxy resin (e.g., "EOCN (registered)" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Trademark, hereinafter the same) -102S", "EOCN-1020", "EOCN-104S"), triglycidyl isocyanurate (for example, "TEPIC (registered trademark)" manufactured by Nissan Chemical Corporation), trisphenolmethane Epoxy resin (for example, "EPPN (registered trademark, hereinafter the same)-501", "EPPN-502", "EPPN-503" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), an alicyclic epoxy resin ("Celoc" manufactured by Daicel Corporation) Side (registered trademark, hereinafter the same) 2021P", "Celoxide EHPE"), an epoxy resin obtained by glycidylating a phenol resin by reaction of dicyclopentadiene and phenol (for example, "EXA-7200" manufactured by DIC Corporation) ', "NC-7300" by Nippon Kayaku Co., Ltd.), the epoxy resins represented by the following general formulas (B1) to (B4), etc. can be used preferably. Specifically, as an epoxy resin represented by the following general formula (B1), "XD-1000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "NC-3000" manufactured by Nippon Kayaku Corporation as an epoxy resin represented by the following general formula (B2), the following general As an epoxy resin represented by a formula (B4), "ESF-300" by the Shin-Nippon Steel Chemicals, etc. are mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 일반식 (B1) 에 있어서, a 는 평균치로서 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R111 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the said general formula (B1), a represents the number of 0-10 as an average value. R 111 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. In addition, a plurality of R 111 present in one molecule may be the same or different, respectively.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 일반식 (B2) 에 있어서, b 는 평균치로서 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R121 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기의 어느 것을 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the said general formula (B2), b represents the number of 0-10 as an average value. R 121 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. In addition, a plurality of R 121 present in one molecule may be the same or different, respectively.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 일반식 (B3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (B3-1) 또는 (B3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 을 나타낸다.In the above general formula (B3), X represents a linking group represented by the following general formula (B3-1) or (B3-2). However, at least one adamantane structure is included in the molecular structure. c represents 2 or 3.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

상기 일반식 (B3-1) 및 (B3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.In the formulas (B3-1) and (B3-2), R 131 to R 134 and R 135 to R 137 are each independently an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, or an adamantyl group which may have a substituent A C1-C12 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent is shown. * indicates a bond.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 일반식 (B4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.In the formula (B4), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. R 143 and R 144 each independently represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. x and y each independently represent an integer of 0 or more.

이들 중에서, 일반식 (B1) ∼ (B4) 의 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use the epoxy resin represented by either of general formulas (B1) - (B4).

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산, (메트)아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트에 (무수) 숙신산, (무수) 프탈산, (무수) 말레산 등의 산(무수물) 을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다.As α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, (meth)acrylic acid, crotonic acid, o-, m- or p-vinylbenzoic acid, (meth)acrylic acid Monocarboxylic acids such as α-position haloalkyl, alkoxyl, halogen, nitro, and cyano substituents, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyladipic acid, 2- (meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylmaleic acid, 2-(meth)acryloyloxypropyl succinic acid, 2 -(meth)acryloyloxypropyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylmale Acid, 2-(meth)acryloyloxybutylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxybutyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylhydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxy Lactones such as ε-caprolactone, β-propiolactone, γ-butyrolactone and δ-valerolactone are added to butylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylmaleic acid, and (meth)acrylic acid Monomer, or hydroxyalkyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate (anhydride) succinic acid, (anhydride) phthalic acid, (anhydride) maleic acid A monomer to which an acid (anhydride), such as these, was added, a (meth)acrylic acid dimer, etc. are mentioned.

이들 중, 표면 조도의 점에서, 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.Among these, (meth)acrylic acid is especially preferable from the point of surface roughness.

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다. 여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.A well-known method can be used as a method of adding the alpha, beta-unsaturated monocarboxylic acid and/or the (alpha), beta-unsaturated monocarboxylic acid ester which has a carboxyl group to an epoxy resin. For example, in the presence of an esterification catalyst, at a temperature of 50 to 150° C., an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is reacted with an epoxy resin. can Examples of the esterification catalyst used herein include tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, and quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride and dodecyltrimethylammonium chloride. etc. can be used.

또한, 에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매는, 모두 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.In addition, the epoxy resin, α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, and esterification catalyst may all be used individually by 1 type, or 2 or more types may be used together.

α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대하여 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다. α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량을 상기 하한치 이상으로 함으로써 불포화기의 도입량의 부족을 억제할 수 있고, 계속되는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 충분한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다. 한편, 상기 상한치 이하로 함으로써 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 미반응물의 잔존을 억제할 수 있고, 경화 특성을 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 확인된다.The amount of the α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or the α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents based on 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, more preferably is in the range of 0.7 to 1.1 equivalents. By setting the amount of the α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or the α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to be equal to or more than the lower limit, the shortage of the introduction amount of the unsaturated group can be suppressed, and the continuous polybasic acid and/or The reaction with the anhydride also tends to be sufficient. On the other hand, by setting it below the said upper limit, residual|survival of the unreacted material of the alpha, beta-unsaturated monocarboxylic acid and/or the alpha, beta- unsaturated monocarboxylic acid ester which has a carboxyl group can be suppressed, and hardening characteristic is easy to make good. trend is confirmed.

다염기산 및/또는 그 무수물로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물 등으로부터 선택되는, 1 종 이상을 들 수 있다.Examples of the polybasic acid and/or its anhydride include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylenetetra. 1 or more types selected from hydrophthalic acid, chlorendic acid, methyl tetrahydrophthalic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, these anhydrides, etc. are mentioned.

바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 2 무수물이다.Preferably, they are maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or an anhydride thereof. Particularly preferably, they are tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, tetrahydrophthalic anhydride, or biphenyltetracarboxylic dianhydride.

다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지된 방법을 사용할 수 있고, 에폭시 수지에 대한 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성되는 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가가 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 것과 같은 정도인 것이 바람직하고, 20 ∼ 140 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 보다 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화 성능이 양호해지는 경향이 있다.As for the addition reaction of a polybasic acid and/or its anhydride, a known method can also be used, and addition of an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin The target product can be obtained by continuing the reaction under the same conditions as the reaction. The addition amount of the polybasic acid and/or its anhydride component is preferably such that the acid value of the resulting carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin is in the range of 10 to 150 mgKOH/g, and 20 to 140 mg It is more preferable that it is a grade used in the range of KOH/g. There exists a tendency for alkali developability to become favorable by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for hardening performance to become favorable by using below the said upper limit.

또한, 이 다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 다가 알코올을 첨가하여, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다.Moreover, polyhydric alcohol, such as trimethylol propane, a pentaerythritol, and dipentaerythritol, is added at the time of the addition reaction of this polybasic acid and/or its anhydride, and it is good also as what introduce|transduced the multi-branched structure.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 통상적으로, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물을 혼합한 후, 혹은, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물 및 다가 알코올을 혼합한 후에, 가온함으로써 얻어진다. 이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다가 알코올의 혼합 순서에, 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다가 알코올의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대하여 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.A carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin is usually a reaction product of an epoxy resin and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, a polybasic acid and / or after mixing the anhydride, or in a reaction product of an epoxy resin and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, a polybasic acid and/or its anhydride and polyvalent After mixing the alcohol, it is obtained by heating. In this case, there is no restriction|limiting in particular in the mixing order of a polybasic acid and/or its anhydride, and a polyhydric alcohol. Upon heating, a polybasic acid and/or any hydroxyl group present in a mixture of a polyhydric alcohol and a reaction product of an epoxy resin with an α,β-unsaturated monocarboxylic acid and/or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group The anhydride undergoes an addition reaction.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 전술한 것 이외에, 한국 공개특허공보 제10-2013-0022955호, 한국 등록특허 제10-0965189호, 일본 공개특허공보 2005-165294호, 일본 공개특허공보 2006-312704호에 기재된 것 등을 들 수 있다.As the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate-based resin, in addition to the above, Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2013-0022955, Korean Patent No. 10-0965189, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-165294, Japanese Laid-Open The thing of patent publication 2006-312704, etc. are mentioned.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상, 보다 바람직하게는 2000 이상, 보다 바람직하게는 2500 이상이고, 통상적으로 10000 이하, 바람직하게는 8000 이하, 보다 바람직하게는 6000 이하, 더욱 바람직하게는 5000 이하, 특히 바람직하게는 4000 이하이다. 예를 들어, 1000 ∼ 10000 이 바람직하고, 1000 ∼ 8000 이 보다 바람직하고, 1500 ∼ 6000 이 더욱 바람직하고, 2000 ∼ 5000 이 보다 더욱 바람직하고, 2500 ∼ 4000 이 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 지나치게 높아지는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy (meth)acrylate-based resin in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is usually 1000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more, more Preferably it is 2500 or more, Usually, it is 10000 or less, Preferably it is 8000 or less, More preferably, it is 6000 or less, More preferably, it is 5000 or less, Especially preferably, it is 4000 or less. For example, 1000-10000 are preferable, 1000-8000 are more preferable, 1500-6000 are still more preferable, 2000-5000 are still more preferable, 2500-4000 are especially preferable. By setting it more than the said lower limit, there exists a tendency which can suppress that the solubility with respect to a developing solution becomes high too much, and there exists a tendency for it easy to make the solubility with respect to a developing solution good by setting it as below the said upper limit.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 또한, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 가 바람직하고, 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 100 ㎎KOH/g 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 ㎎KOH/g 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 적당한 현상 용해성이 얻어지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상이 지나치게 진행되어 막 용해되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.Although the acid value of epoxy (meth)acrylate-type resin is not specifically limited, 10 mgKOH/g or more is preferable, 20 mgKOH/g or more is more preferable, Furthermore, 200 mgKOH/g or less is preferable, 150 mgKOH/g or less is more preferable, 100 mgKOH/g or less is still more preferable, and 50 mgKOH/g or less is especially preferable. For example, 10-200 mgKOH/g is preferable, 10-150 mgKOH/g is more preferable, 20-100 mgKOH/g is still more preferable, 20-50 mgKOH/g is especially preferable. . By setting it as more than the said lower limit, there exists a tendency for moderate image development solubility to be acquired, and there exists a tendency which can suppress that image development progresses too much and film melt|dissolution by setting it below the said upper limit.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 이중 결합 당량은 특별히 한정되지 않지만, 800 이하가 바람직하고, 700 이하가 보다 바람직하고, 600 이하가 더욱 바람직하고, 500 이하가 보다 더욱 바람직하고, 400 이하가 특히 바람직하고, 300 이하가 가장 바람직하고, 또한, 100 이상이 바람직하고, 150 이상이 보다 바람직하고, 200 이상이 더욱 바람직하고, 250 이상이 특히 바람직하다. 예를 들어, 100 ∼ 800 이 바람직하고, 100 ∼ 700 이 보다 바람직하고, 150 ∼ 600 이 더욱 바람직하고, 150 ∼ 500 이 보다 더욱 바람직하고, 200 ∼ 400 이 특히 바람직하고, 250 ∼ 300 이 특히 바람직하다. 상기 상한치 이하로 함으로써 기계적 특성과 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 하한치 이상으로 함으로써 보존 안정성이 향상되는 경향이 있다.Although the double bond equivalent of an epoxy (meth)acrylate-type resin is not specifically limited, 800 or less are preferable, 700 or less are more preferable, 600 or less are still more preferable, 500 or less are still more preferable, 400 or less are especially Preferably, 300 or less are most preferable, 100 or more are preferable, 150 or more are more preferable, 200 or more are still more preferable, 250 or more are especially preferable. For example, 100-800 are preferable, 100-700 are more preferable, 150-600 are still more preferable, 150-500 are still more preferable, 200-400 are especially preferable, 250-300 are especially preferable. do. By using below the said upper limit, there exists a tendency for a mechanical characteristic and surface roughness to improve, Moreover, there exists a tendency for storage stability to improve by setting it as more than the said lower limit.

또한, 수지의 이중 결합 당량은 하기 식 (x) 로부터 산출할 수 있다.In addition, the double bond equivalent of resin is computable from following formula (x).

(수지의 이중 결합 당량) =(Double bond equivalent of resin) =

(수지의 분자량)/(수지 1 분자 당의 에틸렌성 불포화 이중 결합의 수)···(x)(molecular weight of resin)/(number of ethylenically unsaturated double bonds per molecule of resin)...(x)

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 경화성의 관점에서, 하기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-A) (이하, 「에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-A)」 라고 약기하는 경우가 있다) 나, 하기 일반식 (ii) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-B) (이하, 「에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-B)」 라고 약기하는 경우가 있다) 가 바람직하다. 또한, 신뢰성의 관점에서는, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-B) 가 보다 바람직하다.(b1) The chemical structure of the epoxy (meth) acrylate-based resin is not particularly limited, but from the viewpoint of curability, an epoxy (meth) acrylate-based resin having a partial structure represented by the following general formula (i) (b1-A) (Hereinafter, it may be abbreviated as "epoxy (meth) acrylate-based resin (b1-A)") or an epoxy (meth) acrylate-based resin (b1-) having a partial structure represented by the following general formula (ii) B) (Hereinafter, it may be abbreviated as "epoxy (meth)acrylate-type resin (b1-B)") is preferable. Moreover, from a viewpoint of reliability, epoxy (meth)acrylate-type resin (b1-B) is more preferable.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (i) 중, Ra 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Rb 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. * 는 결합손을 나타낸다.In formula (i), R a represents a hydrogen atom or a methyl group, and R b represents the divalent hydrocarbon group which may have a substituent. The benzene ring in Formula (i) may be further substituted by arbitrary substituents. * indicates a bond.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (ii) 중, Rc 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. Rd 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.In formula (ii), each R c independently represents a hydrogen atom or a methyl group. R d represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain. * indicates a bond.

(Rb)(R b )

상기 식 (i) 에 있어서, Rb 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (i), R b represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.

2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, and a group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형, 이들을 조합한 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편으로 현상 밀착성의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상적으로 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, cyclic, and combinations thereof. Among these, a linear thing is preferable from a viewpoint of image development solubility, on the other hand, a cyclic thing is preferable from a viewpoint of image development adhesiveness. The carbon number is usually 1 or more, 3 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 20 or less are preferable, 15 or less are more preferable, and 10 or less are still more preferable. For example, 1-20 are preferable, 3-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 직사슬형 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 경화성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.Specific examples of the divalent linear aliphatic group include a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group, and n-heptylene group. Among these, a methylene group is preferable from a sclerosis|hardenable viewpoint.

2 가의 분기 사슬형 지방족기의 구체예로는, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.Specific examples of the divalent branched aliphatic group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, The structure which has a sec-butyl group, a tert-butyl group, etc. is mentioned.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Although the number of rings which a bivalent cyclic aliphatic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Moreover, 10 or less and 5 or less are usually preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, and 2-5 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit. Specific examples of the divalent cyclic aliphatic group include a hydrogen atom from a ring such as a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, and an adamantane ring. and a group in which two were removed. Among these, a group obtained by removing two hydrogen atoms from the adamantane ring is preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include a hydroxyl group; C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; nitro group; cyano group; A carboxyl group etc. are mentioned. It is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of synthetic|combination easiness.

또한, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 20 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the divalent aromatic cyclic group include a divalent aromatic hydrocarbon cyclic group and a divalent aromatic heterocyclic group. The carbon number is usually 4 or more, 5 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 20 or less are preferable, 15 or less are more preferable, and 10 or less are still more preferable. For example, 4-20 are preferable, 5-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the divalent aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, having two free valences. , a triphenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.

또한, 2 가의 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 시노린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 광 경화성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.In addition, as an aromatic heterocyclic ring in a bivalent aromatic heterocyclic group, a monocyclic ring may be sufficient and a condensed ring may be sufficient. Examples of the divalent aromatic heterocyclic group include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, having two free valences. , indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoox sazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine and groups such as a ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring and an azulene ring. Among these, from a viewpoint of photocurability, the benzene ring or naphthalene ring which has two free valences is preferable, and the benzene ring which has two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 경화성의 관점에서는, 무치환이 바람직하다.As the substituent which the divalent aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group, etc. are mentioned. From a sclerosis|hardenable viewpoint, unsubstitution is preferable.

또한, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the group linking one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups include groups in which one or more divalent aliphatic groups described above and one or more divalent aromatic cyclic groups described above are linked.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of divalent aliphatic groups is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Usually, 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of divalent aromatic ring groups is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Usually, 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. There exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 하기 식 (i-A) ∼ (i-E) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 하기 식 (i-A) 로 나타내는 기가 바람직하다. 화학식 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked include groups represented by the following formulas (i-A) to (i-E). Among these, the group represented by a following formula (i-A) from a viewpoint of developing solubility is preferable. * in the formula represents a bond.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

상기한 바와 같이, 식 (i) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As above-mentioned, the benzene ring in Formula (i) may be further substituted by arbitrary substituents. As the substituent, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group etc. are mentioned, for example. The number of substituents is not specifically limited, The number may be one, and two or more may be sufficient as them.

경화성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.From a viewpoint of sclerosis|hardenability, it is preferable that it is unsubstituted.

또한, 상기 일반식 (i) 로 나타내는 부분 구조는, 경화성의 관점에서, 하기 일반식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the partial structure represented by the said general formula (i) is a partial structure represented by the following general formula (i-1) from a sclerosis|hardenability viewpoint.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 (i-1) 중, Ra 및 Rb 는, 상기 식 (i) 의 것과 동일한 의미이다. RX 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (i-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In formula (i-1), R a and R b have the same meaning as in the formula (i). R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue. * indicates a bond. The benzene ring in Formula (i-1) may be further substituted by arbitrary substituents.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산으로부터 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.The polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from the polybasic acid or anhydride thereof. Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorend. The 1 type(s) or 2 or more types selected from an acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are mentioned.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 다염기산으로는, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.Among these, from the viewpoint of patterning properties, the polybasic acid is preferably maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, More preferably, they are tetrahydrophthalic acid and biphenyl tetracarboxylic acid.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-A) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (i-1) 로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되고, 예를 들어, RX 가 수소 원자인 것과, RX 가 다염기산 잔기인 것이 혼재되어 있어도 된다.One kind or two or more kinds of partial structures represented by the formula (i-1) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-A) may be one, for example, R X is hydrogen An atom and a polybasic acid residue in which R X is a polybasic acid residue may be mixed.

또한, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-A) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (i) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상 용해성이 양호해지는 경향이 있다.Further, the number of partial structures represented by the formula (i) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-A) is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, Moreover, 20 or less are preferable and 15 or less are more preferable. For example, 1-20 are preferable and 3-15 are more preferable. Sclerosis|hardenability exists in the tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for image development solubility to become favorable by setting it as below the said upper limit.

이하에 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-A) 의 구체예를 든다.Specific examples of the epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-A) are given below.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

(Rd)(R d )

상기 식 (ii) 에 있어서, Rd 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (ii), R d represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of rings which an aliphatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Moreover, 10 or less and 5 or less are preferable normally, and 3 or less are more preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

또한, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또한, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Moreover, carbon number of an alicyclic group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 40 or less are preferable, 30 or less are more preferable, 20 or less are still more preferable, 15 The following are particularly preferred. For example, 4-40 are preferable, 4-30 are more preferable, 6-20 are more preferable, 6-15 are still more preferable, 8-15 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 신뢰성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, and an adamantane ring. Among these, an adamantane ring is preferable from a viewpoint of reliability.

한편으로, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 4 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 더욱 바람직하고, 3 ∼ 4 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.On the other hand, although the number of rings which an aromatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more, 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, Moreover, 10 or less, 5 or less are preferable and usually 4 or less. more preferably. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-4 are still more preferable, 2-4 are still more preferable, 3-4 are especially preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또한, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 보다 더욱 바람직하고, 12 이상이 특히 바람직하고, 또한, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 보다 더욱 바람직하고, 12 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the aromatic cyclic group include an aromatic hydrocarbon cyclic group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 10 or more are still more preferable, 12 or more are especially preferable, and 40 or less are preferable, 30 or less are more preferable, 20 or less are still more preferable, and 15 or less are especially preferable. For example, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are still more preferable, 10-15 are still more preferable, 12-15 are especially preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, An acenaphthene ring, a fluoranthene ring, a fluorene ring, etc. are mentioned. Among these, a fluorene ring is preferable from a viewpoint of a patterning characteristic.

또한, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기에 있어서의, 2 가의 탄화수소기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Moreover, the divalent hydrocarbon group in the divalent hydrocarbon group which has a cyclic hydrocarbon group as a side chain is although it does not specifically limit, For example, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, 1 or more divalent aliphatic groups, and 1 or more 2 The group which linked the valent aromatic ring group is mentioned.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형, 이들을 조합한 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 상용성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편으로 신뢰성의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상적으로 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또한, 25 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 25 가 바람직하고, 3 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, cyclic, and combinations thereof. Among these, a linear thing is preferable from a compatibility viewpoint, on the other hand, a cyclic thing is preferable from a reliability viewpoint. The carbon number is usually 1 or more, 3 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 25 or less are preferable, 20 or less are more preferable, and 15 or less are still more preferable. For example, 1-25 are preferable, 3-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 직사슬형 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 경화성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.Specific examples of the divalent linear aliphatic group include a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group, and n-heptylene group. Among these, a methylene group is preferable from a sclerosis|hardenable viewpoint.

2 가의 분기 사슬형 지방족기의 구체예로는, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.Specific examples of the divalent branched aliphatic group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, The structure which has a sec-butyl group, a tert-butyl group, etc. is mentioned.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하, 더욱 바람직하게는 3 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 신뢰성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Although the number of rings which a bivalent cyclic aliphatic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Moreover, 10 or less, 5 or less, More preferably, 3 or less are preferable normally. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit. Specific examples of the divalent cyclic aliphatic group include a hydrogen atom from a ring such as a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, and an adamantane ring. and a group in which two were removed. Among these, groups in which two hydrogen atoms have been removed from the adamantane ring from the viewpoint of reliability are preferable.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include a hydroxyl group; C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; nitro group; cyano group; A carboxyl group etc. are mentioned. It is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of synthetic|combination easiness.

또한, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또한, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the divalent aromatic cyclic group include a divalent aromatic hydrocarbon cyclic group and a divalent aromatic heterocyclic group. The carbon number is usually 4 or more, 5 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 30 or less are preferable, 20 or less are more preferable, and 15 or less are still more preferable. For example, 4-30 are preferable, 5-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the divalent aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, having two free valences. , a triphenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.

또한, 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 시노린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다. 2 가의 방향족 고리기 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 플루오렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 플루오렌 고리가 보다 바람직하다.In addition, as an aromatic heterocyclic ring in an aromatic heterocyclic group, a monocyclic ring may be sufficient and a condensed ring may be sufficient as it. Examples of the divalent aromatic heterocyclic group include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, having two free valences. , indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoox sazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine and groups such as a ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring and an azulene ring. Among the divalent aromatic ring groups, from the viewpoint of patterning properties, a benzene ring, a naphthalene ring or a fluorene ring having two free valences is preferable, and a fluorene ring having two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 현상 용해성, 내흡습성의 관점에서는, 무치환이 바람직하다.As the substituent which the divalent aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group, etc. are mentioned. From a viewpoint of image development solubility and hygroscopic resistance, unsubstitution is preferable.

또한, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the group linking one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups include groups in which one or more divalent aliphatic groups described above and one or more divalent aromatic cyclic groups described above are linked.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of divalent aliphatic groups is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Usually, 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of divalent aromatic ring groups is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Usually, 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 상기 식 (i-A) ∼ (i-E) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 신뢰성의 관점에서, 상기 식 (i-C) 로 나타내는 기가 바람직하다.Specific examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are linked include groups represented by the formulas (i-A) to (i-E). Among these, the group represented by the said formula (i-C) from a reliability viewpoint is preferable.

이들 2 가의 탄화수소기에 대하여, 측사슬인 고리형 탄화수소기의 결합 양태는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 지방족기나 방향족 고리기의 수소 원자 1 개를 그 측사슬로 치환한 양태나, 지방족기의 탄소 원자의 1 개를 포함하여 측사슬인 고리형 탄화수소기를 구성한 양태를 들 수 있다.With respect to these divalent hydrocarbon groups, the bonding mode of the cyclic hydrocarbon group which is a side chain is not particularly limited, For example, an aspect in which one hydrogen atom of an aliphatic group or an aromatic ring group is substituted with the side chain, or an aliphatic group The aspect which comprised the cyclic hydrocarbon group which is a side chain including one carbon atom is mentioned.

또한, 상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 상용성의 관점에서, 하기 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the partial structure represented by the said Formula (ii) is a partial structure represented by a following formula (ii-1) from a compatible viewpoint.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 (ii-1) 중, Rc 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. n 은 1 이상의 정수이다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In formula (ii-1), R c has the same meaning as in formula (ii). R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent. n is an integer greater than or equal to 1; * indicates a bond. The benzene ring in Formula (ii-1) may be further substituted by arbitrary substituents.

(Rα)(R α )

상기 식 (ii-1) 에 있어서, Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (ii-1), R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또한, 통상적으로 6 이하, 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 1 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of rings which an aliphatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Furthermore, 6 or less and 4 or less are preferable normally, and 3 or less are more preferable. For example, 1-6 are preferable, 1-4 are more preferable, 1-3 are still more preferable, and 2-3 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

또한, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또한, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 4 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Moreover, carbon number of an alicyclic group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 40 or less are preferable, 30 or less are more preferable, 20 or less are still more preferable, 15 The following are particularly preferred. For example, 4-40 are preferable, 4-30 are more preferable, 6-20 are still more preferable, 8-15 are especially preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 상용성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, and an adamantane ring. Among these, an adamantane ring is preferable from a compatible viewpoint.

한편으로, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.On the other hand, although the number of rings which an aromatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, Moreover, 10 or less and 5 or less are preferable normally. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 2-5 are still more preferable, and 3-5 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또한, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또한, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the aromatic cyclic group include an aromatic hydrocarbon cyclic group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 5 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 30 or less are preferable, 20 or less are more preferable, and 15 or less are still more preferable. For example, 4-30 are preferable, 5-20 are more preferable, and 6-15 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 신뢰성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring. Among these, a fluorene ring is preferable from a reliability viewpoint.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent that the cyclic hydrocarbon group may have include a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an amyl group, and an iso-a group. C1-C5 alkyl groups, such as a push group; C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; nitro group; cyano group; A carboxyl group etc. are mentioned. From the viewpoint of synthesis easiness, unsubstituted is preferable.

n 은 1 이상의 정수를 나타내지만, 2 이상이 바람직하고, 또한, 3 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 2 ∼ 3 이 보다 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although n represents an integer of 1 or more, 2 or more are preferable and 3 or less are preferable. For example, 1-3 are preferable and 2-3 are more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

이들 중에서도, 상용성의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.Among them, from the viewpoint of compatibility, R α is preferably a monovalent aliphatic cyclic group, more preferably an adamantyl group.

상기한 바와 같이, 식 (ii-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As above-mentioned, the benzene ring in Formula (ii-1) may be further substituted by arbitrary substituents. As the substituent, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group etc. are mentioned, for example. The number of substituents is not specifically limited, The number may be one, and two or more may be sufficient as them.

패터닝 특성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.From a viewpoint of a patterning characteristic, it is preferable that it is unsubstituted.

이하에 상기 식 (ii-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Specific examples of the partial structure represented by the above formula (ii-1) are given below.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

또한, 상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 신뢰성의 관점에서, 하기 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the partial structure represented by said Formula (ii) is a partial structure represented by a following formula (ii-2) from a reliability viewpoint.

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

식 (ii-2) 중, Rc 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다. 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In formula (ii-2), R c has the same meaning as in formula (ii). R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent. * indicates a bond. The benzene ring in Formula (ii-2) may be further substituted by arbitrary substituents.

(Rβ)(R β )

상기 식 (ii-2) 에 있어서, Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (ii-2), R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Although the number of rings which an aliphatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, Moreover, 10 or less and 5 or less are preferable normally. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, and 2-5 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

또한, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또한, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 이 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Moreover, carbon number of an alicyclic group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 40 or less are preferable, 35 or less are more preferable, and 30 or less are still more preferable. For example, 4-40 are preferable, 6-35 are more preferable, 8-30 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 상용성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the alicyclic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isobornane ring, and an adamantane ring. Among these, an adamantane ring is preferable from a compatible viewpoint.

한편으로, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또한, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.On the other hand, although the number of rings which an aromatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, Moreover, 10 or less and 5 or less are preferable normally. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, 2-5 are still more preferable, and 3-5 are still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또한, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있다.Examples of the aromatic cyclic group include an aromatic hydrocarbon cyclic group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 10 or more are still more preferable, Furthermore, 40 or less are preferable, 30 or less are more preferable, 20 The following is more preferable, and 15 or less are especially preferable. For example, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are still more preferable, 10-15 are especially preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for image development adhesiveness to become favorable, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by using below the said upper limit.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 신뢰성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring. Among these, a fluorene ring is preferable from a reliability viewpoint.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 합성 용이성의 관점에서는, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent that the cyclic hydrocarbon group may have include a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an amyl group, and an iso-a group. C1-C5 alkyl groups, such as a push group; C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; nitro group; cyano group; A carboxyl group etc. are mentioned. From the viewpoint of synthesis easiness, unsubstituted is preferable.

이들 중에서도, 상용성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.Among them, from the viewpoint of compatibility, R β is preferably a divalent aliphatic cyclic group, and more preferably a divalent adamantane cyclic group.

한편으로, 신뢰성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 플루오렌 고리기인 것이 보다 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of reliability, R β is preferably a divalent aromatic ring group, and more preferably a divalent fluorene ring group.

상기한 바와 같이, 식 (ii-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 또한, 이들 치환기를 개재하여, 식 (ii-2) 중의 2 개의 벤젠 고리가 연결되어 있어도 된다.As mentioned above, the benzene ring in Formula (ii-2) may be further substituted by arbitrary substituents. As the substituent, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group etc. are mentioned, for example. The number of substituents is not specifically limited, The number may be one, and two or more may be sufficient as them. Moreover, two benzene rings in Formula (ii-2) may be connected through these substituents.

패터닝 특성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.From a viewpoint of a patterning characteristic, it is preferable that it is unsubstituted.

이하에 상기 식 (ii-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Specific examples of the partial structure represented by the above formula (ii-2) are given below.

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00026
Figure pct00026

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00027
Figure pct00027

한편으로, 상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조는, 상용성의 관점에서, 하기 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the partial structure represented by the said Formula (ii) is a partial structure represented by a following formula (ii-3) from a compatible viewpoint.

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00028
Figure pct00028

식 (ii-3) 중, Rc 및 Rd 는 상기 식 (ii) 와 동일한 의미이다. RZ 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.)In formula (ii-3), R c and R d have the same meanings as in formula (ii). R Z represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.)

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 또한, 추가로 다른 1 개의 OH 기가 제거되고, 식 (ii-3) 으로 나타내는 다른 분자에 있어서의 RZ 와 공용되어 있어도 되고, 요컨대, RZ 를 개재하여 복수의 식 (ii-3) 이 연결되어 있어도 된다.The polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from the polybasic acid or anhydride thereof. Further, another OH group is removed, and may be shared with R Z in another molecule represented by the formula (ii-3), that is, a plurality of formulas (ii-3) are linked through R Z it may be

다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산으로부터 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorend. The 1 type(s) or 2 or more types selected from an acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are mentioned.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 다염기산으로는, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.Among these, from the viewpoint of patterning properties, the polybasic acid is preferably maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, More preferably, they are tetrahydrophthalic acid and biphenyl tetracarboxylic acid.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-B) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (ii-3) 으로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되고, 예를 들어, RX 가 수소 원자인 것과, RZ 가 다염기산 잔기인 것이 혼재되어 있어도 된다.One kind or two or more kinds of partial structures represented by the formula (ii-3) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-B) may be, for example, R X is hydrogen An atom and one in which R Z is a polybasic acid residue may be mixed.

또한, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-B) 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (ii) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 경화성이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상 용해성이 양호해지는 경향이 있다.The number of partial structures represented by the formula (ii) contained in one molecule of the epoxy (meth)acrylate-based resin (b1-B) is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, Moreover, 20 or less are preferable, 15 or less are more preferable, and 10 or less are still more preferable. For example, 1-20 are preferable, 1-15 are more preferable, 3-15 are more preferable, 3-10 are still more preferable. Sclerosis|hardenability exists in the tendency for sclerosis|hardenability to become favorable by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for image development solubility to become favorable by setting it as below the said upper limit.

한편으로, (b) 알칼리 가용성 수지로서, 착색제나 분산제 등과의 상용성의 관점에서, (b2) 아크릴 공중합 수지를 사용하는 것이 바람직하다.On the other hand, as (b) alkali-soluble resin, it is preferable to use (b2) acrylic copolymer resin from a compatible viewpoint with a coloring agent, a dispersing agent, etc.

<(b2) 아크릴 공중합 수지><(b2) acrylic copolymer resin>

(b2) 아크릴 공중합 수지는, 카르복실기 또는 수산기를 포함하는 아크릴 공중합 수지이면 특별히 한정되지 않지만, 측사슬에 에틸렌성 불포화기를 갖는 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화기를 갖는 것으로 함으로써, 노광에 의한 광 경화에 의해, 현상시에 알칼리 현상액에 의한 막 감소가 잘 일어나지 않게 되고, 표면 조도가 양호해지는 경향이 있다.(b2) Although it will not specifically limit if acrylic copolymer resin is an acrylic copolymer resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, It is preferable to have an ethylenically unsaturated group in a side chain. By setting it as having an ethylenically unsaturated group, the film|membrane decrease by an alkali developing solution at the time of image development becomes difficult to occur by photocuring by exposure, and there exists a tendency for surface roughness to become favorable.

(일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조)(partial structure represented by general formula (I))

(b2) 아크릴 공중합 수지가, 측사슬에 에틸렌성 불포화기를 갖는 경우, 에틸렌성 불포화기를 갖는 측사슬을 포함하는 부분 구조는 특별히 한정되지 않지만, 막의 유연성에서 수반하는 라디칼의 발산하기 쉬움의 관점에서, 예를 들어, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다.(b2) When the acrylic copolymer resin has an ethylenically unsaturated group in the side chain, the partial structure including the side chain having the ethylenically unsaturated group is not particularly limited, but from the viewpoint of easiness of divergence of radicals accompanying the flexibility of the film, For example, it is preferable to have a partial structure represented by the following general formula (I).

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

식 (I) 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.)In formula (I), R<1> and R<2> respectively independently represent a hydrogen atom or a methyl group. * indicates a bond hand.)

또한, 상기 식 (I) 로 나타내는 부분 구조 중에서도, 감도나 알칼리 현상성의 관점에서, 하기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조가 바람직하다.Moreover, among the partial structures represented by the said Formula (I), the partial structure represented by the following general formula (I') from a viewpoint of a sensitivity or alkali developability is preferable.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00030
Figure pct00030

식 (I') 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. RX 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.In formula (I'), R<1> and R<2> respectively independently represent a hydrogen atom or a methyl group. R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산으로부터 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.The polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from the polybasic acid or anhydride thereof. Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorend. The 1 type(s) or 2 or more types selected from an acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are mentioned.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.Among these, from the viewpoint of patterning properties, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, and biphenyltetracarboxylic acid are preferable, and more preferably , tetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid.

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만 10 몰% 이상이 바람직하고, 30 몰% 이상이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 70 몰% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 80 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또한, 98 몰% 이하가 바람직하고, 95 몰% 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 10 ∼ 98 몰% 가 바람직하고, 30 ∼ 98 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 98 몰% 가 더욱 바람직하고, 70 ∼ 98 몰% 가 보다 더욱 바람직하고, 80 ∼ 95 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 기계적 특성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.(b2) When an acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said general formula (I), although the content rate is not specifically limited, 10 mol% or more is preferable, 30 mol% or more is more preferable, 50 mol% More preferably, 70 mol% or more is still more preferable, 80 mol% or more is particularly preferable, 98 mol% or less is preferable, and 95 mol% or less is more preferable. For example, 10-98 mol% is preferable, 30-98 mol% is more preferable, 50-98 mol% is still more preferable, 70-98 mol% is still more preferable, 80-95 mol% is more preferable Especially preferred. There exists a tendency for a mechanical characteristic to improve by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (I') 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 10 몰% 이상이 바람직하고, 30 몰% 이상이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 70 몰% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 80 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또한, 98 몰% 이하가 바람직하고, 95 몰% 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 10 ∼ 98 몰% 가 바람직하고, 30 ∼ 98 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 98 몰% 가 더욱 바람직하고, 70 ∼ 98 몰% 가 보다 더욱 바람직하고, 80 ∼ 95 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이나 기계 특성이 양호해지기 쉬운 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 표면 조도가 향상되고, 잔류물이 저감하는 경향이 있다.(b2) When acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said general formula (I'), Although the content rate is not specifically limited, 10 mol% or more is preferable, 30 mol% or more is more preferable, 50 mol% or more is more preferable, 70 mol% or more is still more preferable, 80 mol% or more is especially preferable, 98 mol% or less is preferable, and 95 mol% or less is more preferable. For example, 10-98 mol% is preferable, 30-98 mol% is more preferable, 50-98 mol% is still more preferable, 70-98 mol% is still more preferable, 80-95 mol% is more preferable Especially preferred. If it is more than the said lower limit, there exists a tendency for alkali developability and a mechanical characteristic to become favorable easily, Moreover, there exists a tendency for surface roughness to improve and a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

(일반식 (II) 로 나타내는 부분 구조)(partial structure represented by general formula (II))

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상 밀착성의 관점에서, 예를 들어, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것도 바람직하다.(b2) When an acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said General formula (I), Although the partial structure contained elsewhere is not specifically limited, From a viewpoint of image development adhesiveness, for example, following General formula (II) It is also preferable to have a partial structure represented by .

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00031
Figure pct00031

상기 식 (II) 중, R3 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다.In said formula (II), R<3> represents a hydrogen atom or a methyl group, R<4> represents the alkyl group which may have a substituent, the aromatic ring group which may have a substituent, or the alkenyl group which may have a substituent.

(R4)(R 4 )

상기 식 (II) 에 있어서, R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기를 나타낸다.In said Formula (II), R<4> represents the alkyl group which may have a substituent, the aromatic ring group which may have a substituent, or the alkenyl group which may have a substituent.

R4 에 있어서의 알킬기로는 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하고, 8 이상이 특히 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더욱 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 5 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 8 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkyl group for R 4 include a linear, branched or cyclic alkyl group. The carbon number is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 5 or more, particularly preferably 8 or more, more preferably 20 or less, more preferably 18 or less, more preferably 16 or less. It is preferable, 14 or less are still more preferable, and 12 or less are especially preferable. For example, 1-20 are preferable, 1-18 are more preferable, 3-16 are still more preferable, 5-14 are still more preferable, 8-12 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 디시클로펜타닐기 또는 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, a dicyclopentanyl group, and a dodecanyl group. Among these, a dicyclopentanyl group or a dodecanyl group is preferable from a developable viewpoint, and a dicyclopentanyl group is more preferable.

또한, 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.Moreover, as a substituent which the alkyl group may have, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, a carboxyl group, an acryloyl group, methacryl group A loyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R4 에 있어서의 방향족 고리기로는, 1 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 1 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 6 이상이 바람직하고, 또한, 24 이하가 바람직하고, 22 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 18 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 6 ∼ 24 가 바람직하고, 6 ∼ 22 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 6 ∼ 18 이 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the aromatic ring group for R 4 include a monovalent aromatic hydrocarbon ring group and a monovalent aromatic heterocyclic group. 6 or more are preferable, and, as for the carbon number, 24 or less are preferable, 22 or less are more preferable, 20 or less are still more preferable, 18 or less are especially preferable. For example, 6-24 are preferable, 6-22 are more preferable, 6-20 are still more preferable, 6-18 are especially preferable. There exists a tendency for image development adhesiveness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by using below the said upper limit.

방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되고, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, and a benzpyrene ring. a ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, a fluorene ring, etc. are mentioned.

또한, 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리기로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 되고, 예를 들어, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 시노린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 벤젠 고리, 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 벤젠 고리가 보다 바람직하다.The aromatic heterocyclic group in the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring, for example, a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, Dazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, Thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, A quinoxaline ring, a phenanthridine ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, an azulene ring, etc. are mentioned. Among these, a benzene ring or a naphthalene ring is preferable from a developable viewpoint, and a benzene ring is more preferable.

또한, 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.In addition, as a substituent which the aromatic ring group may have, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, A carboxyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R4 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또한, 22 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 18 이하가 더욱 바람직하고, 16 이하가 보다 더욱 바람직하고, 14 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkenyl group for R 4 include a linear, branched or cyclic alkenyl group. 2 or more are preferable, and, as for the carbon number, 22 or less are preferable, 20 or less are more preferable, 18 or less are still more preferable, 16 or less are still more preferable, and 14 or less are especially preferable. For example, 2-22 are preferable, 2-20 are more preferable, 2-18 are still more preferable, 2-16 are still more preferable, 2-14 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

또한, 알케닐기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.In addition, as a substituent which the alkenyl group may have, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, A carboxyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

이와 같이, R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기를 나타내지만, 이들 중에서도 현상성과 막 강도의 관점에서, 알킬기 또는 알케닐기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다.As described above, R 4 represents an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an alkenyl group which may have a substituent, among them, an alkyl group or an alkenyl group is preferable from the viewpoint of developability and film strength. , an alkyl group is more preferable.

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (II) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 0.1 몰% 이상이 바람직하고, 0.5 몰% 이상이 보다 바람직하고, 1 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 70 몰% 이하가 바람직하고, 50 몰% 이하가 보다 바람직하고, 30 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 10 몰% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 0.1 ∼ 70 몰% 가 바람직하고, 0.1 ∼ 50 몰% 가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 30 몰% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 10 몰% 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.(b2) When an acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said General formula (II), Although the content rate is not specifically limited, 0.1 mol% or more is preferable, 0.5 mol% or more is more preferable, 1 mol % or more is more preferable, and 70 mol% or less is preferable, 50 mol% or less is more preferable, 30 mol% or less is still more preferable, and 10 mol% or less is especially preferable. For example, 0.1 to 70 mol% is preferable, 0.1 to 50 mol% is more preferable, 0.5 to 30 mol% is still more preferable, and 1 to 10 mol% is especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

(일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조)(partial structure represented by general formula (III))

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조로서, 내열성, 막 강도의 관점에서 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조가 포함되는 것이 바람직하다.(b2) when the acrylic copolymer resin contains a partial structure represented by the general formula (I), the partial structure represented by the following general formula (III) from the viewpoint of heat resistance and film strength it is preferable

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00032
Figure pct00032

상기 식 (III) 중, R5 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록실기, 카르복실기, 할로겐 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다. t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.In the formula (III), R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 6 represents an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen An atom, an optionally substituted alkoxy group, a thiol group, or an optionally substituted alkylsulfide group is represented. t represents the integer of 0-5.

(R6)(R 6 )

상기 식 (III) 에 있어서 R6 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록실기, 카르복실기, 할로겐 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알콕시기, 티올기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타낸다.In the formula (III), R 6 is an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an alkoxy group which may have a substituent, A thiol group or the alkyl sulfide group which may have a substituent is represented.

R6 에 있어서의 알킬기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 5 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더욱 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 3 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 5 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 5 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkyl group for R 6 include a linear, branched or cyclic alkyl group. The carbon number is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 5 or more, more preferably 20 or less, more preferably 18 or less, still more preferably 16 or less, more preferably 14 or less. More preferably, 12 or less are particularly preferable. For example, 1-20 are preferable, 3-18 are more preferable, 3-16 are still more preferable, 5-14 are still more preferable, 5-12 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기, 디시클로펜타닐기, 도데카닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성과 표면 조도의 관점에서, 디시클로펜타닐기 또는 도데카닐기가 바람직하고, 디시클로펜타닐기가 보다 바람직하다.Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, a dicyclopentanyl group, and a dodecanyl group. Among these, a dicyclopentanyl group or a dodecanyl group is preferable from a viewpoint of developability and surface roughness, and a dicyclopentanyl group is more preferable.

또한, 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.Moreover, as a substituent which the alkyl group may have, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, a carboxyl group, an acryloyl group, methacryl group A loyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R6 에 있어서의 알케닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알케닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또한, 22 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 18 이하가 더욱 바람직하고, 16 이하가 보다 더욱 바람직하고, 14 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkenyl group for R 6 include a linear, branched or cyclic alkenyl group. 2 or more are preferable, and, as for the carbon number, 22 or less are preferable, 20 or less are more preferable, 18 or less are still more preferable, 16 or less are still more preferable, and 14 or less are especially preferable. For example, 2-22 are preferable, 2-20 are more preferable, 2-18 are still more preferable, 2-16 are still more preferable, 2-14 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

또한, 알케닐기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.In addition, as a substituent which the alkenyl group may have, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, A carboxyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R6 에 있어서의 알키닐기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알키닐기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 또한, 22 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 18 이하가 더욱 바람직하고, 16 이하가 보다 더욱 바람직하고, 14 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 2 ∼ 22 가 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 18 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 16 이 보다 더욱 바람직하고, 2 ∼ 14 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkynyl group for R 6 include a linear, branched or cyclic alkynyl group. 2 or more are preferable, and, as for the carbon number, 22 or less are preferable, 20 or less are more preferable, 18 or less are still more preferable, 16 or less are still more preferable, and 14 or less are especially preferable. For example, 2-22 are preferable, 2-20 are more preferable, 2-18 are still more preferable, 2-16 are still more preferable, 2-14 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

또한, 알키닐기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.In addition, as a substituent which the alkynyl group may have, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, A carboxyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R6 에 있어서의 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있고, 이들 중에서도 발잉크성의 관점에서는 불소 원자가 바람직하다.As a halogen atom in R<6> , a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, Among these, a fluorine atom is preferable from a viewpoint of ink repellency.

R6 에 있어서의 알콕시기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알콕시기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더욱 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkoxy group for R 6 include a linear, branched or cyclic alkoxy group. 1 or more are preferable, and, as for the carbon number, 20 or less are preferable, 18 or less are more preferable, 16 or less are still more preferable, 14 or less are still more preferable, 12 or less are especially preferable. For example, 1-20 are preferable, 1-18 are more preferable, 1-16 are still more preferable, 1-14 are still more preferable, 1-12 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

또한, 알콕시기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.Moreover, as a substituent which the alkoxy group may have, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxy group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, a carboxyl group, an acryloyl group, methacryl group A loyl group etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

R6 에 있어서의 알킬술파이드기로는, 직사슬형, 분기 사슬형 또는 고리형의 알킬술파이드기를 들 수 있다. 그 탄소수는, 1 이상이 바람직하고, 또한, 20 이하가 바람직하고, 18 이하가 보다 바람직하고, 16 이하가 더욱 바람직하고, 14 이하가 보다 더욱 바람직하고, 12 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 18 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 16 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 14 가 보다 더욱 바람직하고, 1 ∼ 12 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.Examples of the alkyl sulfide group for R 6 include a linear, branched or cyclic alkyl sulfide group. 1 or more are preferable, and, as for the carbon number, 20 or less are preferable, 18 or less are more preferable, 16 or less are still more preferable, 14 or less are still more preferable, 12 or less are especially preferable. For example, 1-20 are preferable, 1-18 are more preferable, 1-16 are still more preferable, 1-14 are still more preferable, 1-12 are especially preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

또한, 알킬술파이드기에 있어서의 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기, 클로로기, 브로모기, 플루오로기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 올리고에틸렌글리콜기, 페닐기, 카르복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서, 하이드록시기, 올리고에틸렌글리콜기가 바람직하다.In addition, as a substituent which the alkyl group in the alkyl sulfide group may have, a methoxy group, an ethoxy group, a chloro group, a bromo group, a fluoro group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, an oligoethylene glycol group, a phenyl group, a carboxyl group, An acryloyl group, a methacryloyl group, etc. are mentioned, From a developable viewpoint, a hydroxyl group and oligoethylene glycol group are preferable.

이와 같이, R6 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알키닐기, 하이드록실기, 카르복실기, 할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록시알킬기, 티올기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬술파이드기를 나타내지만, 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 하이드록실기 또는 카르복실기가 바람직하고, 카르복실기가 보다 바람직하다.As such, R 6 is an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, a thiol group, or a substituent Although the alkylsulfide group which may have is shown, a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable from a developable viewpoint among these, and a carboxyl group is more preferable.

상기 식 (III) 에 있어서 t 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타내지만, 합성 용이성의 관점에서는 t 가 0 인 것이 바람직하다.Although t represents the integer of 0-5 in said Formula (III), it is preferable that t is 0 from a viewpoint of synthetic|combination easiness.

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 0.5 몰% 이상이 바람직하고, 1 몰% 이상이 보다 바람직하고, 2 몰% 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 50 몰% 이하가 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 바람직하고, 20 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 10 몰% 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 0.5 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 1 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 10 몰% 가 보다 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감하는 경향이 있다.(b2) When an acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said General formula (III), Although the content rate is not specifically limited, 0.5 mol% or more is preferable, 1 mol% or more is more preferable, 2 mol % or more is more preferable. Moreover, 50 mol% or less is preferable, 30 mol% or less is more preferable, 20 mol% or less is still more preferable, and 10 mol% or less is more preferable. For example, 0.5-50 mol% is preferable, 1-30 mol% is more preferable, 1-20 mol% is still more preferable, 2-10 mol% is more preferable. There exists a tendency for surface roughness to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for a residue to reduce by setting it as below the said upper limit.

(일반식 (IV) 로 나타내는 부분 구조)(partial structure represented by general formula (IV))

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 경우, 그 밖에 포함되는 부분 구조로서, 현상성의 관점에서 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것도 바람직하다.(b2) When the acrylic copolymer resin has a partial structure represented by the general formula (I), it is also preferable to have a partial structure represented by the following general formula (IV) from the viewpoint of developability as a partial structure to be included.

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00033
Figure pct00033

상기 식 (IV) 중, R7 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the formula (IV), R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group.

(b2) 아크릴 공중합 수지가 상기 일반식 (IV) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 5 몰% 이상이 바람직하고, 10 몰% 이상이 보다 바람직하고, 20 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 80 몰% 이하가 바람직하고, 70 몰% 이하가 보다 바람직하고, 60 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 몰% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있다.(b2) When acrylic copolymer resin contains the partial structure represented by the said General formula (IV), Although the content rate is not specifically limited, 5 mol% or more is preferable, 10 mol% or more is more preferable, 20 mol % or more is more preferable, and 80 mol% or less is preferable, 70 mol% or less is more preferable, and 60 mol% or less is still more preferable. For example, 5-80 mol% is preferable, 10-70 mol% is more preferable, 20-60 mol% is still more preferable. Developability tends to improve by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for surface roughness to improve by setting it as below the said upper limit.

한편으로, (b2) 아크릴 공중합 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 15 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 150 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 120 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이하가 보다 더욱 바람직하다. 예를 들어, 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 가 바람직하고, 10 ∼ 120 ㎎KOH/g 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 100 ㎎KOH/g 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 50 ㎎KOH/g 가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있다.On the other hand, (b2) the acid value of the acrylic copolymer resin is not particularly limited, but preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 15 mgKOH/g or more, still more preferably 20 mgKOH/g or more, and , 150 mgKOH/g or less is preferable, 120 mgKOH/g or less is more preferable, 100 mgKOH/g or less is still more preferable, and 50 mgKOH/g or less is still more preferable. For example, 10-150 mgKOH/g is preferable, 10-120 mgKOH/g is more preferable, 15-100 mgKOH/g is still more preferable, 20-50 mgKOH/g is still more preferable. do. Developability tends to improve by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for surface roughness to improve by setting it as below the said upper limit.

(b2) 아크릴 공중합 수지의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1000 이상, 바람직하게는 2000 이상, 보다 바람직하게는 4000 이상, 더욱 바람직하게는 6000 이상, 보다 더욱 바람직하게는 7000 이상, 특히 바람직하게는 8000 이상이고, 또한, 통상적으로 30000 이하, 바람직하게는 20000 이하, 보다 바람직하게는 15000 이하, 더욱 바람직하게는 10000 이하이다. 예를 들어, 1000 ∼ 20000 이 바람직하고, 2000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 4000 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 6000 ∼ 15000 이 보다 더욱 바람직하고, 7000 ∼ 10000 이 특히 바람직하고, 8000 ∼ 10000 이 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다.(b2) Although the weight average molecular weight (Mw) of acrylic copolymer resin is not specifically limited, Usually, 1000 or more, Preferably it is 2000 or more, More preferably, it is 4000 or more, More preferably, it is 6000 or more, More preferably, it is 7000. or more, particularly preferably 8000 or more, and usually 30000 or less, preferably 20000 or less, more preferably 15000 or less, still more preferably 10000 or less. For example, 1000-20000 are preferable, 2000-20000 are more preferable, 4000-15000 are still more preferable, 6000-15000 are still more preferable, 7000-10000 are especially preferable, 8000-10000 are especially preferable. do. Surface roughness tends to improve by using more than the said lower limit, and there exists a tendency for developability to become favorable by setting it as below the said upper limit.

(b2) 아크릴 공중합 수지의 이중 결합 당량은 특별히 한정되지 않지만, 500 이하가 바람직하고, 400 이하가 보다 바람직하고, 350 이하가 더욱 바람직하고, 300 이하가 특히 바람직하고, 또한, 100 이상이 바람직하고, 150 이상이 보다 바람직하고, 180 이상이 더욱 바람직하고, 200 이상이 특히 바람직하다. 예를 들어, 100 ∼ 500 이 바람직하고, 150 ∼ 400 이 보다 바람직하고, 180 ∼ 350 이 더욱 바람직하고, 200 ∼ 300 이 특히 바람직하다. 상기 상한치 이하로 함으로써 기계적 특성이나 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 하한치 이상으로 함으로써 보존 안정성이 향상되는 경향이 있다.(b2) Although the double bond equivalent of acrylic copolymer resin is not specifically limited, 500 or less are preferable, 400 or less are more preferable, 350 or less are still more preferable, 300 or less are especially preferable, and 100 or more are preferable. , 150 or more are more preferable, 180 or more are still more preferable, and 200 or more are especially preferable. For example, 100-500 are preferable, 150-400 are more preferable, 180-350 are still more preferable, 200-300 are especially preferable. When it is below the said upper limit, there exists a tendency for a mechanical characteristic and surface roughness to improve, and there exists a tendency for storage stability to improve by setting it as more than the said lower limit.

또한, (b2) 아크릴 공중합 수지의 구체예로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평8-297366호나 일본 공개특허공보 2001-89533호에 기재된 수지를 들 수 있다.Moreover, as a specific example of (b2) acrylic copolymer resin, resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 8-297366 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-89533 is mentioned, for example.

<(c) 광 중합 개시제><(c) Photoinitiator>

(c) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수하고, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생하는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.(c) The photopolymerization initiator is a component having a function of directly absorbing light, causing a decomposition reaction or a hydrogen extraction reaction, and generating polymerization active radicals. You may add and use additives, such as a polymerization accelerator (chain transfer agent) and a sensitizing dye, as needed.

광 중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르계 화합물 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, For example, the metallocene compound containing the titanocene compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 59-152396 and Unexamined-Japanese-Patent No. 61-151197; Hexaarylbiimidazole derivatives described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-56118; N-aryl-α-amino acids and N-aryl-α-amino acids such as halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives, and N-phenylglycine described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-39503 , radical activators such as N-aryl-α-amino acid esters, α-aminoalkylphenone derivatives; The oxime ester type compound etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-80068, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-36750, etc. are mentioned.

광 중합 개시제로는, 기계적 특성과 표면 조도 향상의 관점에서, 특히 헥사아릴비이미다졸 화합물이 바람직하다.As a photoinitiator, a hexaarylbiimidazole compound is especially preferable from a viewpoint of a mechanical property and surface roughness improvement.

헥사아릴비이미다졸 화합물로는, 기계적 특성의 관점에서, 하기 일반식 (1-1) 및/또는 하기 일반식 (1-2) 로 나타내는 헥사아릴비이미다졸계 광 라디칼 개시제가 바람직하다.As a hexaarylbiimidazole compound, the hexaarylbiimidazole type radical optical radical initiator represented by the following general formula (1-1) and/or the following general formula (1-2) from a viewpoint of a mechanical characteristic is preferable.

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00034
Figure pct00034

상기 식 중, R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, l, m 및 n 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.In the formula, R 1 to R 3 each independently represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, l, m and n represents the integer of 0-5 each independently.

R1 ∼ R3 의 알킬기의 탄소수는 1 ∼ 4 의 범위 내이면 특별히 한정되지 않지만, 기계적 특성의 관점에서, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2 이하이다. 알킬기는 사슬형의 것이어도 되고, 고리형의 것이어도 된다. 알킬기의 구체예로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있고, 그 중에서도 메틸기, 에틸기가 바람직하다. R1 ∼ R3 의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기가 가져도 되는 치환기로는, 수소를 제외한 1 가의 비금속 원자단의 기가 이용되고, 바람직한 예로는, 할로겐 원자 (-F, -Br, -Cl, -I), 하이드록실기, 알콕시기를 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkyl group of R 1 ~ R 3 is is the range of 1-4 is not particularly limited, in terms of mechanical properties, and is preferably 3 or less, more preferably 2 or less. A chain type may be sufficient as an alkyl group, and a cyclic thing may be sufficient as it. Specific examples of the alkyl group include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, and among these, a methyl group and an ethyl group are preferable. R 1 ~ R to a substituent which may have an alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms of 3 are being used in group 1 non-metallic atomic group other than a valence hydrogen, preferred examples include a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I ), a hydroxyl group, and an alkoxy group are mentioned.

또한, R1 ∼ R3 의 알콕시기의 탄소수는 1 ∼ 4 의 범위 내이면 특별히 한정되지 않지만, 테이퍼 각도 증대의 관점에서, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2 이하이다. 알콕시기의 알킬기 부분은 사슬형의 것이어도 되고, 고리형의 것이어도 된다. 알콕시기의 구체예란, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기를 들 수 있고, 그 중에서도 메톡시기, 에톡시기가 바람직하다. R1 ∼ R3 의 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기가 가져도 되는 치환기로는 알킬기, 알콕시기를 들 수 있지만, 바람직하게는 알킬기이다.In addition, the carbon number of the alkoxy group of R 1 ~ R 3 is is the range of 1-4 is not particularly limited, in view of the taper angle increases, and is preferably 3 or less, more preferably 2 or less. The alkyl group portion of the alkoxy group may be a chain or a cyclic one. Specific examples of the alkoxy group include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, and a butoxy group, and among these, a methoxy group and an ethoxy group are preferable. R 1 ~ R 3 can be the 1-4C-alkoxy groups are also brought substituent is an alkyl group, an alkoxy group which is in the, preferably an alkyl group.

또한, R1 ∼ R3 의 할로겐 원자란, 예를 들어, 염소 원자, 요오드 원자, 브롬 원자, 불소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 염소 원자 또는 불소 원자가 바람직하고, 염소 원자가 보다 바람직하다.The halogen atom of R 1 to R 3 includes, for example, a chlorine atom, an iodine atom, a bromine atom, and a fluorine atom. Among them, a chlorine atom or a fluorine atom is preferable from the viewpoint of synthesis easiness, and the chlorine atom is more preferably.

이들 중에서도, 감도나 합성 용이성의 관점에서, R1 ∼ R3 은 각각 독립적으로 할로겐 원자인 것이 바람직하고, 염소 원자인 것이 보다 바람직하다.In view of these, the sensitivity or ease of synthesis, R 1 ~ R 3 is more preferably it is preferred, and a chlorine atom in a halogen atom independently.

m, n 및 l 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 5 의 정수를 나타내지만, 합성 용이성의 관점에서, m, n 및 l 의 적어도 2 개가 1 이상의 정수인 것이 바람직하고, m, n 및 l 중 어느 2 개가 1 이고, 또한, 나머지 1 개가 0 인 것이 보다 바람직하다.m, n, and l each independently represent an integer of 0 to 5, but from the viewpoint of synthesis easiness, it is preferable that at least two of m, n and l are an integer of 1 or more, and any two of m, n and l are It is 1, and it is more preferable that the remaining 1 is 0.

일반식 (1-1) 및/또는 일반식 (1-2) 로 나타내는 헥사아릴비이미다졸 화합물로는, 예를 들어, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-메틸페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o,p-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-플루오로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디브로모페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-클로로나프틸)비이미다졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 헥사페닐비이미다졸 화합물이 바람직하고, 그 이미다졸 고리 상의 2,2'- 위치에 결합한 벤젠 고리의 o- 위치가 메틸기, 메톡시기, 또는 할로겐 원자로 치환된 것이 더욱 바람직하고, 그 이미다졸 고리 상의 4,4',5,5'- 위치에 결합한 벤젠 고리가 무치환, 또는, 할로겐 원자 혹은 메톡시기로 치환된 것 등이 바람직하다.As a hexaarylbiimidazole compound represented by general formula (1-1) and/or general formula (1-2), for example, 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,5,4 ',5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(o-methylphenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl) )-4,4',5,5'-tetra (o,p-dichlorophenyl)biimidazole, 2,2'-bis(o,p-dichlorophenyl)-4,4',5,5'- Tetra (o,p-dichlorophenyl)biimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra (p-fluorophenyl)biimidazole, 2, 2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dibromophenyl)biimidazole, 2,2'-bis(o-bromophenyl)- 4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorophenyl)biimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(p- chloronaphthyl)biimidazole and the like. Among them, hexaphenylbiimidazole compounds are preferable, and those in which the o-position of the benzene ring bonded to the 2,2'-position on the imidazole ring is substituted with a methyl group, a methoxy group, or a halogen atom is more preferable, It is preferable that the benzene ring bonded to the 4,4',5,5'-position on the dazole ring is unsubstituted or substituted with a halogen atom or a methoxy group.

(c) 광 중합 개시제로서, 일반식 (1-1) 로 나타내는 헥사아릴비이미다졸 화합물과 일반식 (1-2) 로 나타내는 헥사아릴비이미다졸 화합물의 어느 것을 사용해도 되고, 양자를 병용해도 된다. 병용하는 경우에는, 그 비율에 대해서는 특별히 한정되지 않는다.(c) As a photoinitiator, any of the hexaarylbiimidazole compound represented by General formula (1-1) and the hexaarylbiimidazole compound represented by General formula (1-2) may be used, and both may be used together do. When using together, it does not specifically limit about the ratio.

또한 티타노센 유도체류로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄〔2,6-디플루오로-3-(피롤-1-일)페닐〕 등을 들 수 있다.Examples of the titanocene derivatives include dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl), Dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,4,6-trifluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium di ( 2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium di (2,4-difluorophenyl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,3,4,5,6-penta Fluorophenyl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium [2,6-difluoro-3- (pyrrol-1-yl) phenyl] and the like.

또한, 할로메틸화옥사디아졸 유도체류로는, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6"-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.Further, examples of the halomethylated oxadiazole derivatives include 2-trichloromethyl-5-(2'-benzofuryl)-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-[β-( 2'-benzofuryl)vinyl]-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-[β-(2'-(6"-benzofuryl)vinyl)]-1,3,4 -oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-furyl-1,3,4- oxadiazole, etc. are mentioned.

또한, 할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.In addition, as halomethyl-s-triazine derivatives, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphthyl) -4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-ethoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-e and oxycarbonylnaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine.

또한, α-아미노알킬페논 유도체류로는, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등을 들 수 있다.In addition, as α-aminoalkylphenone derivatives, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)butan-1-one, 4-dimethylaminoethylbenzoate, 4-dimethylaminoisoamylbenzoate, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethyl Hexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis(4-diethylaminobenzal)cyclohexanone, 7-diethylamino-3-(4-diethylaminobenzoyl)coumarin, 4-(di ethylamino) chalcone and the like.

옥심에스테르계 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an oxime ester type compound, the compound represented by the following general formula (IV) is mentioned, for example.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00035
Figure pct00035

상기 식 (IV) 중, R21a 는, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.In the formula (IV), R 21a represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted aromatic ring group.

R21b 는 방향 고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.R 21b represents an optional substituent including an aromatic ring.

R22a 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.R 22a represents an optionally substituted alkanoyl group or an optionally substituted aryloyl group.

n 은 0 또는 1 의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 0 or 1.

R21a 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상적으로 1 이상, 바람직하게는 2 이상, 또한, 통상적으로 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 예를 들어, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 1 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 10 이 보다 더욱 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 시클로펜틸에틸기, 프로필기 등을 들 수 있다.Although the number of carbon atoms of the alkyl group in R 21a is not particularly limited, from the viewpoint of solubility and sensitivity to a solvent, it is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably usually less than 10. For example, 1-20 are preferable, 1-15 are more preferable, 1-10 are still more preferable, 2-10 are still more preferable. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclopentylethyl group, and a propyl group.

알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 방향족 고리기, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 4-(2-메톡시-1-메틸)에톡시-2-메틸페닐기 또는 N-아세틸-N-아세톡시아미노기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent that the alkyl group may have include an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, a 4-(2-methoxy-1-methyl)ethoxy-2-methylphenyl group, or N-acetyl-N -acetoxyamino group etc. are mentioned, From a viewpoint of synthetic|combination easiness, it is preferable that it is unsubstituted.

R21a 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물에 대한 용해성의 관점에서 5 이상이 바람직하다. 또한, 현상성의 관점에서 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 12 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 12 가 더욱 바람직하다. Examples of the aromatic cyclic group for R 21a include an aromatic hydrocarbon cyclic group and an aromatic heterocyclic group. Although carbon number of an aromatic ring group is not specifically limited, From a soluble viewpoint with respect to the photosensitive coloring composition, 5 or more are preferable. Moreover, from a developable viewpoint, 30 or less are preferable, 20 or less are more preferable, and 12 or less are still more preferable. For example, 5-30 are preferable, 5-20 are more preferable, 5-12 are still more preferable.

방향족 고리기의 구체예로는, 페닐기, 나프틸기, 피리딜기, 푸릴기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 페닐기 또는 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.A phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group etc. are mentioned as a specific example of an aromatic ring group, Among these, a phenyl group or a naphthyl group is preferable from a developable viewpoint, and a phenyl group is more preferable.

방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기, 알콕시기, 이들 치환기가 연결된 기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 이들을 연결한 기가 바람직하고, 연결한 알콕시기가 보다 바람직하다.Examples of the substituent that the aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, an alkyl group, an alkoxy group, and a group to which these substituents are linked, and from the viewpoint of developability, an alkyl group, an alkoxy group, group is preferable, and a linked alkoxy group is more preferable.

이들 중에서도, 현상성의 관점에서, R21a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 연결한 알콕시기를 치환기에 갖는 방향족 고리기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from a developable viewpoint, it is preferable that R 21a is an aromatic ring group which may have a substituent, and it is more preferable that it is an aromatic ring group which has a connected alkoxy group in a substituent.

또한, R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기 또는 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 감도의 관점에서, 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기가 바람직하다.In addition, R 21b roneun, preferably there may be mentioned a carbazolyl group, may be optionally tea is oak Santo group or a group which is substituted is substituted diphenyl sulfide that may be substituted. Among these, the carbazolyl group which may be substituted from a viewpoint of a sensitivity is preferable.

또한, R22a 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상적으로 2 이상, 바람직하게는 3 이상, 또한, 통상적으로 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하, 더욱 바람직하게는 5 이하이다. 예를 들어, 2 ∼ 20 이 바람직하고, 2 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 가 특히 바람직하다. 알카노일기의 구체예로는, 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기 등을 들 수 있다.In addition, the carbon number of the alkanoyl group in R 22a is although it does not specifically limit, From a viewpoint of solubility to a solvent and a sensitivity, it is 2 or more normally, Preferably 3 or more, Furthermore, Usually 20 or less, Preferably 15 Below, more preferably, it is 10 or less, More preferably, it is 5 or less. For example, 2-20 are preferable, 2-15 are more preferable, 2-10 are still more preferable, 2-5 are still more preferable, 3-5 are especially preferable. Specific examples of the alkanoyl group include an acetyl group, a propanoyl group, and a butanoyl group.

알카노일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 방향족 고리기, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which the alkanoyl group may have, an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, etc. are mentioned, From a viewpoint of synthetic|combination easiness, it is preferable that it is unsubstituted.

또한, R22a 에 있어서의 아릴로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에 대한 용해성이나 감도의 관점에서, 통상적으로 7 이상, 바람직하게는 8 이상, 또한, 통상적으로 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 12 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하이다. 예를 들어, 7 ∼ 20 이 바람직하고, 7 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 7 ∼ 12 가 더욱 바람직하고, 8 ∼ 12 가 보다 더욱 바람직하다. 아릴로일기의 구체예로는, 벤조일기, 나프토일기 등을 들 수 있다.Moreover, carbon number of the aryl group in R 22a is although it does not specifically limit, From a viewpoint of the solubility to a solvent and a sensitivity, it is 7 or more normally, Preferably 8 or more, Furthermore, it is 20 or less normally, Preferably 15. Below, More preferably, it is 12 or less, More preferably, it is 10 or less. For example, 7-20 are preferable, 7-15 are more preferable, 7-12 are still more preferable, 8-12 are still more preferable. Specific examples of the aryl group include a benzoyl group and a naphthoyl group.

아릴로일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.As a substituent which the aryl group may have, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, an alkyl group, etc. are mentioned, From a viewpoint of synthetic|combination easiness, it is preferable that it is unsubstituted.

이들 중에서도, 감도의 관점에서, R22a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기인 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기인 것이 보다 바람직하고, 아세틸기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from a viewpoint of a sensitivity , it is preferable that R 22a is an alkanoyl group which may have a substituent, It is more preferable that it is an unsubstituted alkanoyl group, It is still more preferable that it is an acetyl group.

또한 일본 공개특허공보 2016-133574호에 기재되는 개시제도, 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감된다는 점에서도 바람직하게 사용된다.Moreover, the initiator described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-133574 is also used preferably from the point that the contamination of the liquid-crystal layer by a coloring agent is reduced.

광 중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

광 중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 외에, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.A sensitizing dye according to the wavelength of an image exposure light source and a polymerization accelerator can be mix|blended with a photoinitiator as needed for the purpose of raising a sensitivity sensitivity. As a sensitizing dye, the xanthene dye described in Unexamined-Japanese-Patent No. 4-221958 and Unexamined-Japanese-Patent No. 4-219756, Unexamined-Japanese-Patent No. 3-239703, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-289335. A coumarin dye having a heterocyclic ring as described, a 3-ketocoumarin compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 3-239703 and Hei 5-289335, and a pyromethene dye described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-19240 , and others, Japanese Patent Application Laid-Open No. 47-2528, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-155292, Japanese Patent Publication No. 45-37377, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-84183, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52- 112681, Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-15503, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-88005, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-56403, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-69, Japanese Unexamined Patent Publication No. 57- The pigment|dye etc. which have dialkylamino benzene skeleton of Unexamined-Japanese-Patent No. 168088, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-107761, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-210240, and Unexamined-Japanese-Patent No. 4-288818 are mentioned.

이들 증감 색소 중 바람직한 것은, 아미노기 함유 증감 색소이고, 더욱 바람직한 것은, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히, 바람직한 것은, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다.Among these sensitizing dyes, an amino group-containing sensitizing dye is preferable, and a compound having an amino group and a phenyl group in the same molecule is more preferable. Particularly preferred are, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzo benzophenone compounds such as phenone, 3,3'-diaminobenzophenone, and 3,4-diaminobenzophenone; 2-(p-dimethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzo[4,5]benzoxazole, 2-(p -Dimethylaminophenyl)benzo[6,7]benzoxazole, 2,5-bis(p-diethylaminophenyl)-1,3,4-oxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzothiazole , 2-(p-diethylaminophenyl)benzothiazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzimidazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzimidazole, 2,5-bis(p- Diethylaminophenyl)-1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl)pyridine, (p-diethylaminophenyl)pyridine, (p-dimethylaminophenyl)quinoline, (p-diethylamino p-dialkylaminophenyl group-containing compounds, such as phenyl)quinoline, (p-dimethylaminophenyl)pyrimidine, and (p-diethylaminophenyl)pyrimidine. Among these, 4,4'-dialkylaminobenzophenone is the most preferable.

증감 색소도 또한 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.A sensitizing dye may also be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

중합 촉진제로는, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산 2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polymerization accelerator include aromatic amines such as p-dimethylaminobenzoate ethyl and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, and mercapto compounds described later. used A polymerization accelerator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

<(d) 에틸렌성 불포화 화합물><(d) ethylenically unsaturated compound>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 포함한다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 포함함으로써, 감도가 향상된다.The photosensitive coloring composition of this invention contains (d) an ethylenically unsaturated compound. (d) By including an ethylenically unsaturated compound, a sensitivity improves.

본 발명에 사용되는 에틸렌성 불포화 화합물은, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르 등을 들 수 있다.The ethylenically unsaturated compound used for this invention is a compound which has at least 1 ethylenically unsaturated group in a molecule|numerator. Specific examples include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid alkylester, acrylonitrile, styrene, and monoester of carboxylic acid having one ethylenically unsaturated bond and polyhydric or monohydric alcohol. have.

본 발명에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 2 개 이상이고, 바람직하게는 4 개 이상이고, 보다 바람직하게는 5 개 이상이고, 또한, 바람직하게는 8 개 이하이고, 보다 바람직하게는 7 개 이하이다. 예를 들어, 2 ∼ 8 개가 바람직하고, 4 ∼ 8 개가 보다 바람직하고, 4 ∼ 7 개가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 7 개가 보다 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 용매에 대한 용해성이 향상되는 경향이 있다.In this invention, it is especially preferable to use the polyfunctional ethylenic monomer which has 2 or more of ethylenically unsaturated groups in 1 molecule. Although the number of ethylenically unsaturated groups which a polyfunctional ethylenic monomer has is not specifically limited, Usually, it is 2 or more, Preferably it is 4 or more, More preferably, it is 5 or more, More preferably, it is 8 pieces. It is less than, More preferably, it is seven or less. For example, 2-8 pieces are preferable, 4-8 pieces are more preferable, 4-7 pieces are still more preferable, and 5-7 pieces are still more preferable. There exists a tendency to become highly sensitive by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for the solubility with respect to a solvent to improve by setting it as below the said upper limit.

다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.As an example of a polyfunctional ethylenic monomer, For example, Ester of an aliphatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; Ester of aromatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; The ester etc. obtained by the esterification reaction of polyhydric hydroxy compounds, such as an aliphatic polyhydroxy compound and an aromatic polyhydroxy compound, and unsaturated carboxylic acid and polybasic carboxylic acid are mentioned.

상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르, 동일하게 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르, 크로네이트로 대신한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 대신한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Acrylic acid of aliphatic polyhydroxy compounds such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate Esters, methacrylic acid esters in which acrylates of these exemplary compounds are replaced with methacrylates, itaconic acid esters in the same way as itaconate, crotonic acid esters in place of cronate, maleic acid esters in place of maleate, etc. can be heard

방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aromatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include aromatic polyacrylates such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinol diacrylate, resorcinol dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. Acrylic acid ester of a hydroxy compound, methacrylic acid ester, etc. are mentioned.

다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.The ester obtained by the esterification reaction of a polybasic carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid with a polyhydric hydroxy compound is not necessarily a single substance, but representative specific examples include a condensate of acrylic acid, phthalic acid, and ethylene glycol, acrylic acid, maleic acid and a condensate of an acid and diethylene glycol, a condensate of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, and a condensate of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin.

그 외에, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 것과 같은 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.In addition, examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include urethane ( meth)acrylates; Epoxy acrylates like the addition reaction product of a polyhydric epoxy compound and hydroxy (meth)acrylate or (meth)acrylic acid; acrylamides such as ethylenebisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; Vinyl group-containing compounds, such as divinyl phthalate, etc. are useful.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학 공업사 제조) 등을 들 수 있다.The urethane (meth) acrylates include, for example, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), U-2PPA, U-6LPA , U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B , UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), and the like.

이들 중에서도, 경화성의 관점에서 (d) 에틸렌성 불포화 화합물로서, (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, as (d) an ethylenically unsaturated compound from a sclerosis|hardenable viewpoint, it is preferable to use (meth)acrylic-acid alkylester, and it is more preferable to use dipentaerythritol hexaacrylate.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<(e) 용제><(e) solvent>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 포함하고 있어도 된다. (e) 용제를 포함함으로써, 안료를 용제 중에 분산시킬 수 있고, 또한, 도포가 용이해지는 경향이 있다.The photosensitive coloring composition of this invention may contain the (e) solvent. (e) By including a solvent, a pigment can be disperse|distributed in a solvent, and there exists a tendency for application|coating to become easy.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상적으로, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, 및 (d) 에틸렌성 불포화 화합물, 그리고 필요에 따라 사용되는 그 밖의 배합 성분이, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 용제 중에서도, 분산성이나 도포성의 관점에서 유기 용제가 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention usually contains (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photoinitiator, and (d) an ethylenically unsaturated compound, and other compounding components used as needed. , used in a dissolved or dispersed state in a solvent. Among the solvents, an organic solvent is preferable from the viewpoint of dispersibility and applicability.

유기 용제 중에서도, 도포성의 관점에서 비점이 100 ∼ 300 ℃ 의 범위에 있는 유기 용제가 바람직하고, 비점이 120 ∼ 280 ℃ 의 범위에 있는 유기 용제가 보다 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 비점은, 압력 1013.25 hPa 에 있어서의 비점을 의미하고, 이하 비점에 관해서는 모두 동일하다.Among the organic solvents, from the viewpoint of applicability, the organic solvent having a boiling point in the range of 100 to 300°C is preferable, and the organic solvent having a boiling point in the range of 120 to 280°C is more preferable. In addition, the boiling point here means the boiling point in the pressure of 1013.25 hPa, and all are the same about a boiling point below.

이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 다음과 같은 것을 들 수 있다.As such an organic solvent, the following are mentioned, for example.

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol-t- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethylpentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl ether glycol monoalkyl ethers such as oxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, and tripropylene glycol methyl ether;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ; Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether ;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ; Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether Acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ; glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanol diacetate;

시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ; alkyl acetates such as cyclohexanol acetate;

아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ; ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether, and dihexyl ether;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ; Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methylhexyl ketones such as ketone, methyl nonyl ketone, and methoxymethyl pentanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ; Monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, and benzyl alcohol Ryu ;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene and dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene and bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and cumene;

아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부티레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ; Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl Caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, 3-ethoxy methyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-methoxypropyl propionate, 3-methyl chain or cyclic esters such as butyl oxypropionate and γ-butyrolactone;

3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ; alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;

부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화탄화수소류 ; halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ; ether ketones such as methoxymethylpentanone;

아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.nitriles such as acetonitrile and benzonitrile.

상기에 해당하는 시판되는 유기 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소카르 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔베소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」 는 등록 상표. 이하 동일), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다.Commercially available organic solvents corresponding to the above include Mineral Spirit, Barsol #2, Apco #18 Solvent, Apco Thinner, Socar Solvent No.1 and No.2, Solveso #150, Shell TS28 Solvent, Carr Bitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve (“Cellosolve” is a registered trademark; the same hereinafter), ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, diglyme (all trade names) and the like.

이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These organic solvents may be used independently and may use 2 or more types together.

포토리소그래피법으로 착색 스페이서를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ 의 범위에 있는 유기 용제가 바람직하고, 120 ∼ 170 ℃ 의 범위에 있는 유기 용제가 보다 바람직하다.When forming a colored spacer by the photolithographic method, as an organic solvent, the organic solvent which has a boiling point in the range of 100-200 degreeC is preferable, and the organic solvent which exists in the range of 120-170 degreeC is more preferable.

상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the said organic solvents, the balance of applicability|paintability, surface tension, etc. is favorable, and the point of the solubility of the structural component in a composition is comparatively high, glycol alkyl ether acetates are preferable.

또한, 글리콜알킬에테르아세테이트류는, 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서, 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성으로부터 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집하기 쉬워, 후에 얻어지는 감광성 착색 조성물의 점도가 높아지는 등의 보존 안정성이 저하하는 경향이 있기 때문에, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.In addition, although glycol alkyl ether acetates may be used independently, they may use other organic solvents together. As an organic solvent to be used together, glycol monoalkyl ethers are particularly preferable. Among them, propylene glycol monomethyl ether is particularly preferred from the viewpoint of solubility of the constituents in the composition. In addition, glycol monoalkyl ethers have high polarity, and when there is too much addition amount, pigments tend to aggregate, and storage stability such as increased viscosity of the photosensitive coloring composition obtained later tends to decrease. Therefore, glycol monoalkyl ethers in a solvent 5 mass % - 30 mass % are preferable, and, as for the ratio, 5 mass % - 20 mass % are more preferable.

또한, 150 ℃ 이상의 비점을 가지는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」 라고 칭하는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비점 용제를 병용함으로써, 감광성 착색 조성물은 잘 마르지 않게 되는데, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가, 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의, 착색제 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도, 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.Moreover, it is also preferable to use together the organic solvent (Hereinafter, it may call a "high boiling point solvent") which has a boiling point of 150 degreeC or more. By using such a high boiling point solvent together, although a photosensitive coloring composition becomes difficult to dry, it is effective in preventing that the uniform dispersion state of the pigment in a composition is destroyed by rapid drying. That is, for example, there is an effect of preventing the occurrence of a foreign matter defect due to precipitation and solidification of the colorant at the tip of the slit nozzle. Among the various solvents mentioned above, especially diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate are preferable at the point with such a high effect.

유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 착색제 등이 석출·고화하여 이물질 결함을 일으키는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또한 상기 상한치 이하로 함으로써 조성물의 건조 속도가 느려지는 것을 억제하여, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 흔적과 같은 문제를 억제할 수 있는 경향이 있다.3 mass % - 50 mass % are preferable, as for the content rate of the high boiling point solvent in an organic solvent, 5 mass % - 40 mass % are more preferable, 5 mass % - 30 mass % are especially preferable. By setting it more than the said lower limit, there exists a tendency that it can suppress that a coloring agent etc. precipitate and solidify at the tip of a slit nozzle, for example, and cause a foreign material defect, Moreover, by setting it below the said upper limit, the drying rate of a composition is suppressed from slowing down, There exists a tendency which can suppress problems, such as a tact defect of a reduced pressure drying process, and a pin trace of a prebaking.

또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가, 글리콜알킬에테르아세테이트류여도 되고, 또한 글리콜알킬에테르류여도 되고, 이 경우에는, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도로 함유시키지 않아도 상관없다.In addition, glycol alkyl ether acetates may be sufficient as the high boiling point solvent with a boiling point of 150 degreeC or more, and glycol alkyl ethers may be sufficient as it, In this case, it is not cared about without separately containing the high boiling point solvent of 150 degreeC or more boiling point.

바람직한 고비점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.As preferred high boiling point solvents, for example, among the various solvents described above, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, and 1,3-butylene glycol diacetate , 1,6-hexanol diacetate, triacetin, and the like.

<(f) 분산제><(f) dispersant>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, (a) 착색제를 미세하게 분산시켜 그 분산 상태를 안정화시킬 목적으로 (f) 분산제를 포함하고 있어도 된다.In the photosensitive coloring composition of this invention, the (f) dispersing agent may be included in order to disperse|distribute (a) a coloring agent finely and to stabilize the dispersed state.

(f) 분산제로는, 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하고, 또한, 분산 안정성의 면에서 카르복실기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하다. 그 중에서도 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 특히 바람직하다.(f) As a dispersing agent, the polymeric dispersing agent which has a functional group is preferable, Moreover, from the point of dispersion stability, a carboxyl group; phosphate group; sulfonic acid group; or a base thereof; a primary, secondary, or tertiary amino group; quaternary ammonium base; A polymer dispersing agent having a functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine or pyrazine is preferable. Among them, a primary, secondary, or tertiary amino group; quaternary ammonium base; A polymer dispersing agent having a basic functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine or pyrazine is particularly preferable from the viewpoint of dispersing the pigment with a small amount of the dispersing agent.

또한, 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 가지는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.Further, as the polymer dispersant, for example, a urethane dispersant, an acrylic dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyallylamine dispersant, a dispersant composed of a monomer having an amino group and a macromonomer, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, polyoxyethylene di and ester dispersants, polyether phosphate dispersants, polyester phosphate dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, and aliphatic modified polyester dispersants.

이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로, EFKA (등록 상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록 상표. 빅케미사 제조.), 디스파론 (등록 상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록 상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록 상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다.Specific examples of such a dispersing agent include EFKA (registered trademark, manufactured by BASF, Inc.), DISPERBYK (registered trademark, manufactured by Big Chemi, Inc.), DISPARON (registered trademark, manufactured by Kusumoto Chemicals, Inc.), and SOLSPERSE as a trade name. (registered trademark, manufactured by Lubrizol), KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.), Polyflo (manufactured by Kyoeisha Chemical), and Azisper (registered trademark, manufactured by Ajinomoto, Ltd.), and the like.

이들 고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.These polymeric dispersants may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또한 통상적으로 100000 이하, 바람직하게는 50000 이하이다. 예를 들어, 700 ∼ 100000 이 바람직하고, 700 ∼ 50000 이 보다 바람직하고, 1000 ∼ 50000 이 더욱 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) of a polymer dispersing agent is 700 or more normally, Preferably it is 1000 or more, Moreover, it is 100000 or less normally, Preferably it is 50000 or less. For example, 700-100000 are preferable, 700-50000 are more preferable, and 1000-50000 are still more preferable.

이들 중, 안료의 분산성의 관점에서, (f) 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및/또는 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 특히 바람직하다.Among them, from the viewpoint of dispersibility of the pigment, (f) the dispersant preferably contains a functional group-containing urethane-based polymer dispersant and/or an acrylic polymer dispersant, and particularly preferably contains an acrylic polymer dispersant.

또한 분산성, 보존성의 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.Moreover, the polymer dispersing agent which has a basic functional group and has a polyester bond and/or a polyether bond from the point of dispersibility and storage property is preferable.

우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, BYK-LPN21116 등 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.Examples of the urethane-based and acrylic polymer dispersants include DISPERBYK160 to 166 and 182 series (all of which are urethane-based), DISPERBYK2000, 2001, and BYK-LPN21116 (all of which are acrylic) (all of which are manufactured by Bikchemi).

우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시하면, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시키는 것에 의해 얻어지는, 중량 평균 분자량 1000 ∼ 200000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.If a chemical structure preferable as a urethane-based polymer dispersant is specifically illustrated, for example, a polyisocyanate compound, a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the molecule, and active hydrogen and tertiary in the same molecule and dispersion resins having a weight average molecular weight of 1000 to 200000 obtained by reacting a compound having an amino group, and the like. By treating these with a quaternizing agent such as benzyl chloride, all or a part of the tertiary amino groups can be made into quaternary ammonium base groups.

상기의 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the polyisocyanate compound include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, Aliphatic diisocyanates, such as aromatic diisocyanate, such as tolidine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4' -Methylenebis(cyclohexylisocyanate), ω,ω'-diisocyanate, alicyclic diisocyanate such as dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α,α,α',α'-tetramethylxylylene diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate having a ring, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecanetriisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanatemethyloctane, 1,3,6-hexamethylenetriisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, such as triisocyanate, tris(isocyanatephenylmethane), tris(isocyanatephenyl)thiophosphate, these trimers, water adduct, these polyol adduct, etc. are mentioned. As the polyisocyanate, preferred is a trimer of organic diisocyanate, and most preferred is a trimer of tolylene diisocyanate and trimer of isophorone diisocyanate. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕시드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 사용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거하여 목적으로 하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.As a method for producing a trimer of isocyanate, the polyisocyanate is partially formed by using an appropriate trimerization catalyst, for example, tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylates, etc. After performing trimerization and stopping trimerization by addition of a catalyst poison, solvent extraction and thin film distillation remove unreacted polyisocyanate, The method of obtaining the target isocyanurate group containing polyisocyanate is mentioned can

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of compounds having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol, and the like, and one terminal hydroxyl group of these compounds having 1 to 25 carbon atoms. alkoxylated with an alkyl group of , and mixtures of two or more thereof.

폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.As polyether glycol, polyether diol, polyether ester diol, and these 2 or more types of mixture are mentioned. Examples of the polyetherdiol include those obtained by copolymerizing an alkylene oxide alone or by copolymerization, for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol and A mixture of 2 or more types of them is mentioned.

폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시키는 것에 의해 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다. 폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.As the polyether ester diol, one obtained by reacting a mixture with an ether group-containing diol or other glycol with dicarboxylic acid or anhydride thereof, or reacting an alkylene oxide with polyester glycol, for example, poly (polyoxytetramethylene) adipate etc. are mentioned. The most preferable polyether glycol is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, or a compound in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.

폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알칸올아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.Examples of the polyester glycol include dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or anhydrides thereof and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1, 6-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2, Aliphatic glycols such as 5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, and xylylene Aromatic glycols such as glycol and bishydroxyethoxybenzene, N-alkyl dialkanolamines such as N-methyldiethanolamine) Hexamethylene adipate, polyethylene/propylene adipate, or the like, or polylactonediol or polylactone monool obtained by using the above diols or monohydric alcohols having 1 to 25 carbon atoms as an initiator, such as polycaprolactone glycol, polymethyl valerolactone and mixtures of two or more thereof. The most preferable polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone using an alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator.

폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다.As polycarbonate glycol, poly(1,6-hexylene) carbonate, poly(3-methyl-1,5-pentylene) carbonate, etc., as polyolefin glycol, polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, hydrogenated poly isoprene glycol etc. are mentioned.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 통상적으로 300 ∼ 10000, 바람직하게는 500 ∼ 6000, 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 4000 이다.The number average molecular weight of the compound which has one or two hydroxyl groups in the same molecule is 300-10000 normally, Preferably it is 500-6000, More preferably, it is 1000-4000.

본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.A compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention will be described.

활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급의 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.Examples of active hydrogen, that is, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. Atoms are preferred.

3 급 아미노기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리 등을 들 수 있다.Although the tertiary amino group is not specifically limited, For example, the amino group which has a C1-C4 alkyl group, or a heterocyclic structure, More specifically, an imidazole ring, a triazole ring, etc. are mentioned.

이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시하면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.Examples of such compounds having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule include N,N-dimethyl-1,3-propanediamine, N,N-diethyl-1,3-propanediamine, N,N-diamine Propyl-1,3-propanediamine, N,N-dibutyl-1,3-propanediamine, N,N-dimethylethylenediamine, N,N-diethylethylenediamine, N,N-dipropylethylenediamine, N ,N-dibutylethylenediamine, N,N-dimethyl-1,4-butanediamine, N,N-diethyl-1,4-butanediamine, N,N-dipropyl-1,4-butanediamine, N ,N-dibutyl-1,4-butanediamine; and the like.

또한, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.In addition, as the nitrogen-containing heterocyclic ring in case the tertiary amino group has a nitrogen-containing heterocyclic structure, a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, and a benz Nitrogen-containing hetero 5-membered rings such as imidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring and benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring , a nitrogen-containing hetero 6-membered ring, such as an acridine ring and an isoquinoline ring. Preferred among these nitrogen-containing heterocycles are an imidazole ring or a triazole ring.

이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시하면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다. 또한, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시하면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.Specific examples of the compounds having these imidazole rings and amino groups include 1-(3-aminopropyl)imidazole, histidine, 2-aminoimidazole and 1-(2-aminoethyl)imidazole. In addition, specific examples of compounds having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5-(2-amino-5-chlorophenyl)-3-phenyl-1H-1, 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino -1,4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole, etc. are mentioned. Among them, N,N-dimethyl-1,3-propanediamine, N,N-diethyl-1,3-propanediamine, 1-(3-aminopropyl)imidazole, 3-amino-1,2,4 - Triazole is preferred.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대하여, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.A preferred blending ratio of the raw materials for producing the urethane-based polymer dispersant is 10 to 200 parts by mass of a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to 100 parts by mass of the polyisocyanate compound, preferably Preferably it is 20-190 mass parts, More preferably, it is 30-180 mass parts, 0.2-25 mass parts of compounds which have active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule, Preferably it is 0.3-24 mass parts.

우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라서 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 통상적으로, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제 2 부탄올, 제 3 부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The production of the urethane-based polymer dispersant is carried out according to a known method for producing a polyurethane resin. As a solvent at the time of manufacture, usually, ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, Esters, such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate , hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and hexane, some alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, second butanol, and tertiary butanol, chlorides such as methylene chloride and chloroform, tetrahydrofuran, diethyl ether, etc. Aprotic polar solvents, such as ethers, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, etc. are used. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

상기 제조에 있어서, 통상적으로, 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어, 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스타너스옥토에이트 등의 주석계, 철아세틸아세토네이트, 염화 제 2 철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.In the above production, usually, a urethanation reaction catalyst is used. Examples of the catalyst include tin-based compounds such as dibutyltindilaurate, dioctyltindilaurate, dibutyltindioctoate, and stannus octoate; iron-based catalysts such as iron acetylacetonate and ferric chloride; Tertiary amine systems, such as ethylamine and triethylenediamine, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는, 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 분산 능력이 양호해지는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상성의 저하를 억제하기 쉬운 경향이 있다.The introduction amount of the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mgKOH/g in terms of the amine value after the reaction. More preferably, it is the range of 5-95 mgKOH/g. The amine value is a value expressed by the number of mg of KOH by titration by neutralizing a basic amino group with an acid and corresponding to the acid value. There exists a tendency for a dispersion capability to become favorable by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for it easy to suppress the fall of developability by setting it as below the said upper limit.

또한, 이상의 반응으로 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 추가로, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 다른 관능기로 변환하면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지기 때문에 바람직하다.In addition, when an isocyanate group remains in the polymer dispersing agent due to the above reaction, further conversion of the isocyanate group to another functional group with an alcohol or an amino compound is preferable because the stability over time of the product increases.

우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 1000 ∼ 200000, 바람직하게는 2000 ∼ 100000, 보다 바람직하게는 3000 ∼ 50000 이다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 분산성 및 분산 안정성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 용해성이나 분산성의 저하를 억제하기 쉬운 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of a urethane-type polymer dispersing agent is 1000-20000 normally, Preferably it is 2000-100000, More preferably, it is 3000-50000. There exists a tendency for dispersibility and dispersion stability to become favorable by setting it as more than the said lower limit, and there exists a tendency for it to be easy to suppress the fall of solubility and dispersibility by setting it as below the said upper limit.

아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.Examples of the acrylic polymer dispersant include a random copolymer, a graft copolymer, of an unsaturated group-containing monomer having a functional group (a functional group referred to herein is a functional group described above as a functional group contained in the polymer dispersing agent) and an unsaturated group-containing monomer having no functional group, Preference is given to using block copolymers. These copolymers can be prepared by a known method.

관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having a functional group include (meth)acrylic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylphthalic acid, and 2-(meth)acryloyloxyethylhexa Unsaturated monomers having a carboxyl group such as hydrophthalic acid and acrylic acid dimer; can be mentioned as specific examples. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리스티렌 매크로 모노머, 폴리 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로 모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로 모노머, 폴리카프로락톤 매크로 모노머 등의 매크로 모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having no functional group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, iso Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxymethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, tricyclodecane (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, N-vinylpyrrolidone , styrene and its derivatives, N-substituted maleimides such as α-methylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate, and polymethyl (meth)acryl Macromonomers, such as a late macromonomer, a polystyrene macromonomer, a poly 2-hydroxyethyl (meth)acrylate macromonomer, a polyethyleneglycol macromonomer, a polypropylene glycol macromonomer, and a polycaprolactone macromonomer, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

아크릴계 고분자 분산제는, 특히 바람직하게는, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체인데, 이 경우, A 블록 중에는 상기 관능기를 포함하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 포함되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또한, 관능기를 포함하지 않는 부분 구조의, A 블록 중의 함유 비율은, 통상적으로 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다.The acrylic polymer dispersant is particularly preferably an AB or BAB block copolymer comprising an A block having a functional group and a B block not having a functional group. In addition to the structure, a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer containing no functional group may be contained, and these may be contained in the A block in any aspect of random copolymerization or block copolymerization. Moreover, the content rate in A block of the partial structure which does not contain a functional group is 80 mass % or less normally, Preferably it is 50 mass % or less, More preferably, it is 30 mass % or less.

B 블록은, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어지는 것인데, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은, 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.Although the B block consists of a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer that does not contain the functional group, one B block may contain a partial structure derived from two or more types of monomers, and these are random copolymerized in the B block. Or you may contain in any aspect of block copolymerization.

그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어, 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.The A-B or B-A-B block copolymer is prepared, for example, by the living polymerization method shown below.

리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있고, 이 중, 아니온 리빙 중합법은, 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.The living polymerization method includes an anionic living polymerization method, a cationic living polymerization method, and a radical living polymerization method. Among these, the anionic living polymerization method is a polymerization active species an anion, and is shown, for example, by the following scheme.

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00036
Figure pct00036

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , M is a metal atom, and s and t are each an integer of 1 or more.

라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타난다.In the radical living polymerization method, the polymerization active species is a radical, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00037
Figure pct00037

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이고, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이고, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , j and k are each an integer of 1 or more, R a is a hydrogen atom or a monovalent organic group, R b is a hydrogen atom or a monovalent organic group different from R a .

이 아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.When synthesizing this acrylic polymer dispersant, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-62002, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), Koichi Ute, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Proceedings of Polymers, 46, 189 (1989) , M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Organic Synthetic Chemistry, 43, 300 (1985), DY Sogoh, WR Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987), etc. are adopted. can do.

본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체여도 되고, B-A-B 블록 공중합체여도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 분산성과 보존 안정성의 밸런스의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.The acrylic polymer dispersant usable in the present invention may be an AB block copolymer or a BAB block copolymer, and the A block/B block ratio constituting the copolymer is 1/99 to 80/20, particularly 5/95 to It is preferable that it is 60/40 (mass ratio), and there exists a tendency which can ensure the balance of dispersibility and storage stability by setting it as this range.

또한, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양은, 통상적으로 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.In addition, the amount of the quaternary ammonium base in 1 g of the AB block copolymer and BAB block copolymer that can be used in the present invention is preferably 0.1 to 10 mmol, and good dispersibility can be ensured by setting it within this range. tends to be

또한, 이와 같은 블록 공중합체 중에는, 통상적으로, 제조 과정에서 발생한 아미노기가 함유되는 경우가 있는데, 그 아민가는 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 정도이고, 분산성의 관점에서, 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎎KOH/g 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상, 또한, 바람직하게는 90 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎎KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 75 ㎎KOH/g 이하이다. 예를 들어, 10 ∼ 90 ㎎KOH/g 가 바람직하고, 30 ∼ 80 ㎎KOH/g 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 75 ㎎KOH/g 가 더욱 바람직하다.In addition, in such a block copolymer, an amino group generated during the production process is usually contained in some cases, and the amine value is about 1 to 100 mgKOH/g, and from the viewpoint of dispersibility, preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 30 mgKOH/g or more, still more preferably 50 mgKOH/g or more, further preferably 90 mgKOH/g or less, more preferably 80 mgKOH/g or less, still more preferably is 75 mgKOH/g or less. For example, 10-90 mgKOH/g is preferable, 30-80 mgKOH/g is more preferable, 50-75 mgKOH/g is still more preferable.

여기서, 이들 블록 공중합체 등의 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.Here, the amine titer of the dispersing agent such as these block copolymers is expressed by the amount of the base per 1 g of the solid content excluding the solvent in the dispersant sample and the mass of the equivalent KOH, and is measured by the following method.

100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해시킨다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하여 다음 식에 의해 아민가를 구한다.In a 100 ml beaker, 0.5 to 1.5 g of the dispersant sample is precisely weighed and dissolved with 50 ml of acetic acid. Using an automatic titrator equipped with a pH electrode, this solution is neutralized and titrated with a 0.1 mol/L HClO 4 acetic acid solution. Using the inflection point of the titration pH curve as the titration end point, the amine number is calculated by the following formula.

아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S)Amine number [mgKOH/g] = (561 × V)/(W × S)

〔단, W : 분산제 시료 칭량량 [g], V : 적정 종점에서의 적정량 [㎖], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다.〕[However, W: Weighing amount of dispersant sample [g], V: titration amount [ml] at the end point of titration, S: shows the solid content concentration [mass %] of the dispersant sample.]

또한, 이 블록 공중합체의 산가는, 그 산가의 기원이 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 것이 바람직하고, 통상적으로 10 ㎎KOH/g 이하이고, 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1000 ∼ 100000 의 범위가 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.In addition, although the acid value of this block copolymer differs depending on the presence or absence and type of the acidic group which becomes the origin of the acid value, it is generally preferable that it is low, and is usually 10 mgKOH/g or less, and its weight average molecular weight ( Mw) has a preferable range of 1000 to 100000. There exists a tendency for favorable dispersibility to be securable by setting it as the said range.

아크릴계 고분자 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 경우, 아크릴계 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (i)」 이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.When the acrylic polymer dispersant has a quaternary ammonium base as a functional group, the specific structure of the acrylic polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, a repeating unit represented by the following formula (i) (hereinafter, “repeating unit (i)”) It is preferable to have ).

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00038
Figure pct00038

상기 식 (i) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R34 는 수소 원자 또는 메틸기이다. X 는 2 가의 연결기이고, Y- 는 카운터 아니온이다.In the formula (i), R 31 to R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 31 to R 33 Two or more of them may combine with each other to form a cyclic structure. R 34 is a hydrogen atom or a methyl group. X is a divalent linking group, and Y - is a counter anion.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 또한, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 6 이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또한, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또한, 시클로헥실기, 시클로헥실 메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.The formula (i) The number of carbon atoms of R 31 ~, the alkyl group which may have a substituent in R 33 is not particularly limited, but is usually not less than 1, and more preferably not more than desirable, and 610 or less. For example, 1-10 are preferable and 1-6 are more preferable. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. Among them, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Or it is preferable that it is a hexyl group, and it is more preferable that they are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. Moreover, either linear or branched chain type may be sufficient. Moreover, cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexyl methyl group, may also be included.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이고, 또한, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 가 보다 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of an aryl group which may, have a substituent at the R 31 ~ R 33 in the formula (i) is not particularly limited, but is usually 6 or more and less than 16, it is preferable, and more preferably 12 or less . For example, 6-16 are preferable and 6-12 are more preferable. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. Among them, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, or a di It is preferable that it is an ethylphenyl group, and it is more preferable that they are a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또한, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 가 보다 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.The formula (i) The number of carbon atoms of R 31 ~ of the aralkyl group, which may have a substituent in R 33 is not particularly limited, but is usually not less than 7, and, less than 16, it is preferable, and more preferably 12 or less . For example, 7-16 are preferable and 7-12 are more preferable. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group (benzyl group), a phenylethyl group (phenethyl group), a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylisopropyl group, and among these, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, and a phenyl group A propyl group or a phenylbutyl group is preferable, and it is more preferable that it is a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 분산성의 관점에서, R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는, R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of dispersibility , it is preferable that R 31 to R 33 each independently represent an alkyl group or an aralkyl group, specifically, R 31 and R 33 each independently represent a methyl group or an ethyl group, and R 32 is preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group, more preferably R 31 and R 33 are methyl groups, and R 32 is a phenylmethyl group.

또한, 상기 아크릴계 고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (ii)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, when the said acrylic polymer dispersing agent has a tertiary amine as a functional group, from a dispersibility viewpoint, it is preferable to have a repeating unit represented by following formula (ii) (Hereinafter, it may be referred to as "repeating unit (ii)"). do.

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00039
Figure pct00039

상기 식 (ii) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R37 은 수소 원자 또는 메틸기이다. Z 는 2 가의 연결기이다.In the formula (ii), R 35 and R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 35 and R 36 These may combine with each other to form a cyclic structure. R 37 is a hydrogen atom or a methyl group. Z is a divalent linking group.

또한, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Further, the alkyl group which may have substituents in the R 35 and R 36 in the formula (ii), can be preferably employed as one example R 31 ~ R 33 in the formula (i).

동일하게, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또한, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Similarly, as the aryl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (ii) , those exemplified as R 31 to R 33 in the formula (i) can be preferably employed. Further, the aralkyl group which may, have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (ii), can be preferably employed as one example R 31 ~ R 33 in the formula (i).

이들 중에서도, R35 및 R36 이 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these , it is preferable that R 35 and R 36 are each independently an alkyl group which may have a substituent, and it is more preferable that they are a methyl group or an ethyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.As substituents the above formula optionally (i) R 31 ~ R 33 and the formula (ii) R 35 and R 36 has groups are an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group in the a is a halogen atom, an alkoxy group, a benzoyl group, a hydroxyl group and the like.

상기 식 (i) 및 (ii) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43- 기, -COOR44- 기〔단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다〕 등을 들 수 있고, 바람직하게는 -COOR44- 기이다.In the formulas (i) and (ii), the divalent linking groups X and Z include, for example, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, a -CONH-R 43 - group, and -COOR. 44 - group [provided that R 43 and R 44 are a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an ether group having 2 to 10 carbon atoms (alkyloxyalkyl group)], preferably -COOR 44 - It's gi.

또한, 상기 식 (i) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.In the formula (i), examples of Y of the counter anion include Cl , Br , I , ClO 4 , BF 4 , CH 3 COO , PF 6 and the like.

상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대하여 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이고, 또한, 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다.Although the content rate of the repeating unit represented by said formula (i) is not specifically limited, From a dispersibility viewpoint, the sum of the content rate of the repeating unit represented by said formula (i) and the content rate of said repeating unit represented by said formula (ii) It is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, still more preferably 40 mol% or less, particularly preferably 35 mol% or less, and preferably 5 mol% or more. and more preferably 10 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, and particularly preferably 30 mol% or more.

또한, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 1 몰% 이상이 바람직하고, 5 몰% 이상이 보다 바람직하고, 10 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 50 몰% 이하가 바람직하고, 30 몰% 이하가 보다 바람직하고, 20 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 15 몰% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 몰% 가 특히 바람직하다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (i) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, 10 mol% or more is still more preferable, 50 mol% or less is preferable, 30 mol% or less is more preferable, 20 mol% or less is still more preferable, 15 mol% or less is especially preferable. For example, 1-50 mol% is preferable, 5-30 mol% is more preferable, 5-20 mol% is still more preferable, 10-15 mol% is especially preferable.

또한, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 5 몰% 이상이 바람직하고, 10 몰% 이상이 보다 바람직하고, 15 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상이 특히 바람직하고, 또한, 60 몰% 이하가 바람직하고, 40 몰% 이하가 보다 바람직하고, 30 몰% 이하가 더욱 바람직하고, 25 몰% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 몰% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 몰% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 25 몰% 가 특히 바람직하다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the above formula (ii) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, 15 mol% or more is more preferable, 20 mol% or more is particularly preferable, and 60 mol% or less is preferable, 40 mol% or less is more preferable, 30 mol% or less is still more preferable, 25 mol% or less is particularly preferred. For example, 5-60 mol% is preferable, 10-40 mol% is more preferable, 15-30 mol% is still more preferable, 20-25 mol% is especially preferable.

또한, 고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iii)」 이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the polymer dispersant is a repeating unit represented by the following formula (iii) from the viewpoint of improving compatibility with binder components such as solvents and improving dispersion stability (hereinafter referred to as "repeating unit (iii)" in some cases. ) is preferred.

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00040
Figure pct00040

상기 식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.In the formula (iii), R 40 is an ethylene group or a propylene group, R 41 is an optionally substituted alkyl group, and R 42 is a hydrogen atom or a methyl group. n is an integer of 1-20.

상기 식 (iii) 의 R41 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또한, 10 이하가 바람직하고, 6 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 6 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 6 이 더욱 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또한, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또한, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다. Although carbon number of the alkyl group which may have a substituent in R 41 of said Formula (iii) is not specifically limited, Usually, 1 or more, 2 or more are preferable, Moreover, 10 or less are preferable, 6 or less are more desirable. For example, 1-10 are preferable, 1-6 are more preferable, and 2-6 are still more preferable. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. Among them, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Or it is preferable that it is a hexyl group, and it is more preferable that they are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. Moreover, either linear or branched chain type may be sufficient. Moreover, cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexylmethyl group, may be included.

또한, 상기 식 (iii) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상이 바람직하고, 2 이상이 보다 바람직하고, 또한, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 5 가 더욱 바람직하다.Further, n in the formula (iii) is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, more preferably 10 or less, and more desirable. For example, 1-10 are preferable, 1-5 are more preferable, and 2-5 are still more preferable.

또한, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상이 바람직하고, 2 몰% 이상이 보다 바람직하고, 4 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 30 몰% 이하가 바람직하고, 20 몰% 이하가 보다 바람직하고, 10 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 30 몰% 가 바람직하고, 2 ∼ 20 몰% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 10 몰% 가 더욱 바람직하다. 상기 범위 내인 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다.In addition, the content rate of the repeating unit represented by the said Formula (iii) in all the repeating units of a polymer dispersing agent is although it does not specifically limit, 1 mol% or more is preferable, 2 mol% or more is more preferable, 4 mol% or more More preferably, 30 mol% or less is preferable, 20 mol% or less is more preferable, and 10 mol% or less is still more preferable. For example, 1-30 mol% is preferable, 2-20 mol% is more preferable, 4-10 mol% is still more preferable. When it is in the said range, there exists a tendency for compatibility with respect to binder components, such as a solvent, and coexistence of dispersion stability to become possible.

또한, 고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iv)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the polymer dispersant is a repeating unit represented by the following formula (iv) from the viewpoint of improving the compatibility of the dispersant with a binder component such as a solvent and improving dispersion stability (hereinafter referred to as "repeating unit (iv)" It is preferable to have ).

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00041
Figure pct00041

상기 식 (iv) 중, R38 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다. R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.In the formula (iv), R 38 is an optionally substituted alkyl group, optionally substituted aryl group, or optionally substituted aralkyl group. R 39 is a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또한, 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 2 ∼ 8 이 더욱 바람직하고, 4 ∼ 8 이 보다 더욱 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또한, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또한, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다. Although the number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, it is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 4 or more, and 10 or less. It is preferable, and it is more preferable that it is 8 or less. For example, 1-10 are preferable, 1-8 are more preferable, 2-8 are still more preferable, 4-8 are still more preferable. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. Among them, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Or it is preferable that it is a hexyl group, and it is more preferable that they are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. Moreover, either linear or branched chain type may be sufficient. Moreover, cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexylmethyl group, may be included.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이고, 또한, 16 이하가 바람직하고, 12 이하가 보다 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 8 이 더욱 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다. Although carbon number of the aryl group which may have a substituent in R 38 of said Formula (iv) is not specifically limited, Usually, 6 or more, and 16 or less are preferable, 12 or less are more preferable, 8 or less is more preferable. For example, 6-16 are preferable, 6-12 are more preferable, and 6-8 are still more preferable. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. Among them, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, or a di It is preferable that it is an ethylphenyl group, and it is more preferable that they are a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또한, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다. 예를 들어, 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 7 ∼ 10 이 더욱 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다. Although the number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, it is usually 7 or more, and preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and 10 or less. more preferably. For example, 7-16 are preferable, 7-12 are more preferable, 7-10 are still more preferable. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylisopropyl group. Among them, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, or a phenylbutyl group is It is preferable, and it is more preferable that it is a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 페닐메틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from a viewpoint of solvent compatibility and dispersion stability , it is preferable that R 38 is an alkyl group or an aralkyl group, and it is more preferable that it is a methyl group, an ethyl group, or a phenylmethyl group.

R38 에 있어서의, 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또한, 아릴기 또는 아르알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또한, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기에는, 직사슬형 및 분기 사슬형 모두 포함된다.As a substituent which the alkyl group in R 38 may have, a halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned. Moreover, as a substituent which the aryl group or aralkyl group may have, a chain|strand-type alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned. In addition, the linear alkyl group represented by R 38 includes both linear and branched chain types.

또한, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서, 30 몰% 이상이 바람직하고, 40 몰% 이상이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 또한, 80 몰% 이하가 바람직하고, 70 몰% 이하가 보다 바람직하다. 예를 들어, 30 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 40 ∼ 80 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 70 몰% 가 더욱 바람직하다.Further, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (iv) in the total repeating units of the polymer dispersant is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and 50 mol% or more from the viewpoint of dispersibility. This is more preferable, and 80 mol% or less is preferable, and 70 mol% or less is more preferable. For example, 30-80 mol% is preferable, 40-80 mol% is more preferable, 50-70 mol% is still more preferable.

고분자 분산제는, 반복 단위 (i), 반복 단위 (ii), 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위를 가지고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.The polymer dispersant may have a repeating unit other than the repeating unit (i), the repeating unit (ii), the repeating unit (iii), and the repeating unit (iv). Examples of such a repeating unit include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth)acrylate-based monomers such as (meth)acrylic acid chloride; (meth)acrylamide type monomers, such as (meth)acrylamide and N-methylolacrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; and repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine.

고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는, 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로, 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또한, B 블록이 반복 단위 (iii) 을 갖는 것이 바람직하고, 추가로 반복 단위 (iv) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.A polymer dispersing agent is a block having an A block having a repeating unit (i) and a repeating unit (ii) and a B block having no repeating unit (i) and a repeating unit (ii) from the viewpoint of further improving the dispersibility. It is preferable that it is a copolymer. The block copolymer is preferably an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer. By introducing not only a quaternary ammonium base but also a tertiary amino group into the A block, unexpectedly, the dispersing ability of the dispersant tends to be remarkably improved. Moreover, it is preferable that the B block has a repeating unit (iii), and it is more preferable that it further has a repeating unit (iv).

A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 랜덤 공중합, 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또한, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.In the A block, the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in any aspect of random copolymerization or block copolymerization. In addition, the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may each contain 2 or more types in one A block, In that case, each repeating unit is either random copolymerization or block copolymerization in the A block. You may contain it in an aspect.

또한, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위가, A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위의, A 블록 중의 함유 비율은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.In addition, repeating units other than repeating unit (i) and repeating unit (ii) may be contained in the A block, and examples of such repeating units include repeating units derived from the above-mentioned (meth)acrylic acid ester monomer. can The content of the repeating units other than the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) in the A block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but such repeating units are in the A block It is most preferable not to contain it.

반복 단위 (iii) 및 (iv) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위의, B 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.Repeating units other than repeating units (iii) and (iv) may be contained in the B block, and examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth)acrylate-based monomers such as (meth)acrylic acid chloride; (meth)acrylamide type monomers, such as (meth)acrylamide and N-methylolacrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; and repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine. The content of repeating units other than the repeating unit (iii) and repeating unit (iv) in the B block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but these repeating units are contained in the B block. It is most preferable not to contain it.

또한 분산 안정성 향상의 점에서, (f) 분산제는, 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to use together the (f) dispersing agent with the pigment derivative mentioned later from the point of a dispersion stability improvement.

<감광성 착색 조성물의 그 밖의 배합 성분><Other compounding components of the photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 계면 활성제 (도포성 향상제), 안료 유도체, 광산 발생제, 가교제, 메르캅토 화합물, 중합 금지제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등의 첨가제를 적절히 배합할 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, in addition to the above components, adhesion improvers such as silane coupling agents, surfactants (applicability improvers), pigment derivatives, photoacid generators, crosslinking agents, mercapto compounds, polymerization inhibitors, development improving agents, Additives, such as a ultraviolet absorber and antioxidant, can be mix|blended suitably.

(1) 밀착 향상제(1) Adhesion improver

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해서, 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.In the photosensitive coloring composition of this invention, in order to improve adhesiveness with a board|substrate, you may contain an adhesiveness improving agent. As a close_contact|adherence improving agent, a silane coupling agent, a phosphoric acid group containing compound, etc. are preferable.

실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지 것을, 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a kind of a silane coupling agent, various things, such as an epoxy type, a (meth)acrylic type, and an amino type, can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

바람직한 실란 커플링제로서, 예를 들어, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는, 에폭시실란류의 실란 커플링제이다.As a preferable silane coupling agent, For example, (meth)acryloxysilanes, such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclo Epoxysilanes such as hexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-ureido Although ureidosilanes, such as propyltriethoxysilane, and isocyanate silanes, such as 3-isocyanate propyltriethoxysilane, are mentioned, Especially preferably, it is the silane coupling agent of epoxysilanes.

인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.As a phosphoric acid group containing compound, (meth)acryloyl group containing phosphates are preferable, and what is represented by the following general formula (g1), (g2) or (g3) is preferable.

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00042
Figure pct00042

상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수, m 은 1, 2 또는 3 이다.In the formulas (g1), (g2) and (g3), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and l' are an integer of 1 to 10, and m is 1, 2 or 3.

이들 인산기 함유 화합물은, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These phosphoric acid group containing compounds may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

(2) 계면 활성제(2) surfactant

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 도포성 향상을 위하여, 계면 활성제를 함유시켜도 된다.You may make the photosensitive coloring composition of this invention contain surfactant for an applicability|paintability improvement.

계면 활성제로는, 예를 들어, 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.As surfactant, various things, such as an anionic, cationic, nonionic, amphoteric surfactant, can be used, for example. Among them, it is preferable to use a nonionic surfactant from the viewpoint of having a low possibility of adversely affecting various properties, and among them, a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is effective in terms of applicability.

이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들어, TSF4460 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), 메가팍 (등록 상표, 이하 동일) F-470, 메가팍 F-475, 메가팍 F-478, 메가팍 F-554, 메가팍 F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (도레이·다우코닝사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (3M 사 제조) 등을 들 수 있다.As such surfactant, TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials), DFX-18 (manufactured by Neos Corporation), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Bikchemi), KP340 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), Megapac (registered trademark, hereinafter the same) F-470, Megapac F-475, Megapac F-478, Megapac F-554, Megapac F-559 (manufactured by DIC), SH7PA (made by Toray Dow Corning), DS-401 (made by Daikin), L-77 (made by Nippon Unika), FC4430 (made by 3M), etc. are mentioned.

또한, 계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.In addition, surfactant may use 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(3) 안료 유도체(3) pigment derivatives

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위하여, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.You may make the photosensitive coloring composition of this invention contain a pigment derivative as a dispersing auxiliary agent in order to improve dispersibility and storage stability.

안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.Pigment derivatives include azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, quinophthalone, isoindolinone, dioxazine, anthraquinone, indanthrene, perylene, perinone, diketopyrrolo Although derivatives, such as a pyrrole type and a dioxazine type, are mentioned, Especially, a phthalocyanine type and a quinophthalone type are preferable.

안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또한 이들 치환기는 1 개의 안료 골격에 복수 치환되어 있어도 된다.As a substituent of the pigment derivative, a sulfonic acid group, a sulfonamide group and a quaternary salt thereof, a phthalimidemethyl group, a dialkylaminoalkyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, etc. are directly attached to the pigment skeleton or an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, etc. and those bonded via a sulfonic acid group. In addition, two or more of these substituents may be substituted by one pigment frame|skeleton.

안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the pigment derivative include phthalocyanine sulfonic acid derivatives, quinophthalone sulfonic acid derivatives, anthraquinone sulfonic acid derivatives, quinacridone sulfonic acid derivatives, diketopyrrolopyrrole sulfonic acid derivatives, dioxazine sulfonic acid derivatives, and the like. . These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(4) 광산 발생제(4) photoacid generators

광산 발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물로, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등의 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다. 이러한 광산 발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직한 것이고, 예를 들어, 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은, 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만 이에 한정되지 않는다.A photo-acid generator is a compound which can generate|occur|produce an acid by ultraviolet-ray, and a crosslinking reaction advances by the action of the acid which generate|occur|produces when it exposes, for example, when crosslinking agents, such as a melamine compound, exist. Among these photo-acid generators, those having high solubility in solvents, particularly solvents used for the photosensitive coloring composition, are preferable, for example, diphenyliodonium, ditolyliodonium, and phenyl(p-anisyl)iodine. nium, bis(m-nitrophenyl)iodonium, bis(p-tert-butylphenyl)iodonium, bis(p-chlorophenyl)iodonium, bis(n-dodecyl)iodonium, p-isobutylphenyl ( Chloride, bromide, or borofluoride salt of diaryliodonium, such as p-tolyl) iodonium, p-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium, or triarylsulfonium, such as triphenylsulfonium, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, aromatic sulfonates, tetrakis(pentafluorophenyl)borate salts, and sulfonium organoboron complexes such as diphenylphenacylsulfonium(n-butyl)triphenylborate; or and triazine compounds such as 2-methyl-4,6-bistrichloromethyltriazine and 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bistrichloromethyltriazine, but is not limited thereto. .

(5) 가교제(5) crosslinking agent

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 추가로 가교제를 첨가할 수 있고, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어, 하기 일반식 (6) 으로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.A crosslinking agent can further be added to the photosensitive coloring composition of this invention, For example, a melamine or a guanamine type compound can be used. Examples of these crosslinking agents include melamine or guanamine compounds represented by the following general formula (6).

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00043
Figure pct00043

식 (6) 중, R61 은 -NR66R67 기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고, R61 이 -NR66R67 기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 1 개가 CH2OR68 기를 나타내고, R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 의 1 개가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로, 수소 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In formula (6), R 61 represents a -NR 66 R 67 group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and when R 61 is a -NR 66 R 67 group, R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and when one of R 67 represents a CH 2 OR 68 group and R 61 is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 represents a —CH 2 OR 68 group, and R 62 , The remainder of R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 independently represent hydrogen or a -CH 2 OR 68 group, and R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합하고 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는, 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도, 메틸기 또는 에틸기, 특히 메틸기인 것이 바람직하다.Here, the C6-C12 aryl group is typically a phenyl group, 1-naphthyl group, or 2-naphthyl group, Substituents, such as an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, may couple|bond with these phenyl group or a naphthyl group. The alkyl group and the alkoxy group may each have about 1 to 6 carbon atoms. Among the above, the alkyl group represented by R 68 is preferably a methyl group or an ethyl group, particularly a methyl group.

일반식 (6) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (6-1) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.In the melamine-based compound corresponding to the general formula (6), that is, the compound of the following general formula (6-1), hexamethylolmelamine, pentamethylolmelamine, tetramethylolmelamine, hexamethoxymethylmelamine, pentamethoxymethyl melamine, tetramethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, and the like.

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00044
Figure pct00044

식 (6-1) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 1 개가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 의 1 개가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, 여기서 R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.In formula (6-1), when one of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 is an aryl group, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 is -CH 2 OR 68 , and the remainder of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 , independently of each other, represent a hydrogen atom or a —CH 2 OR 68 group, wherein R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

또한, 일반식 (6) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (6) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.In addition, in the guanamine-type compound corresponded to General formula (6), ie, R<61> in General formula (6) is aryl, tetramethylolbenzoguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, trimethoxymethylbenzo guanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine, and the like.

추가로, 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.In addition, a crosslinking agent having a methylol group or a methylol alkyl ether group may be used. An example is given below.

2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올우론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디울레인 또는 그 테트라메틸에테르체.2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenol, 4-tert-butyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol, 5-ethyl-1,3-bis(hydroxymethyl)perhydro -1,3,5-triazin-2-one (common name N-ethyldimethyloltriazone) or its dimethyl ether, dimethyloltrimethyleneurea or its dimethyl ether, 3,5-bis(hydroxymethyl) Perhydro-1,3,5-oxadiazin-4-one (commonly known as dimethyloluron) or its dimethyl ether, tetramethylolglyoxaldiolein, or its tetramethylether.

또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.In addition, these crosslinking agents may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. As for the quantity at the time of using a crosslinking agent, 0.1-15 mass % is preferable in the total solid of the photosensitive coloring composition, Especially preferably, it is 0.5-10 mass %.

(6) 메르캅토 화합물(6) mercapto compounds

중합 촉진제로서, 추가로, 경화물 표면의 경화성 향상, 표면 조도 향상을 위하여, 메르캅토 화합물을 첨가하는 것도 가능하다.As a polymerization accelerator, it is also possible to add a mercapto compound in order to improve the curability of the surface of the cured product and to improve the surface roughness.

메르캅토 화합물로는, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물과 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 들 수 있다.Examples of the mercapto compound include a mercapto group-containing compound having an aromatic ring and an aliphatic mercapto group-containing compound.

방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물로는, 광 경화성의 관점에서, 하기 일반식 (1-3) 으로 나타내는 화합물이 바람직하게 사용된다.As the mercapto group-containing compound having an aromatic ring, a compound represented by the following general formula (1-3) is preferably used from the viewpoint of photocurability.

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00045
Figure pct00045

식 (1-3) 중, Z 는 -O-, -S- 또는 -NH- 를 나타내고, R61, R62, R63, 및 R64 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1 가의 치환기를 나타낸다.In formula (1-3), Z represents -O-, -S- or -NH-, and R 61 , R 62 , R 63 , and R 64 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.

이들 중, 광 경화성의 관점에서, Z 는 -S- 또는 -NH- 가 바람직하고, -NH- 가 보다 바람직하다.Among these, -S- or -NH- is preferable from a viewpoint of photocurability, and -NH- is more preferable.

또한, 광 경화성의 관점에서, R61, R62, R63, 및 R64 는 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.Further, from the viewpoint of photocurability, R 61 , R 62 , R 63 , and R 64 are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom. .

구체적으로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 3-메르캅토-1,2,4-트리아졸, 2-메르캅토-4(3H)-퀴나졸린, β-메르캅토나프탈렌, 1,4-디메틸메르캅토벤젠 등의 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물을 들 수 있고, 테이퍼각의 관점에서, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸이 바람직하다.Specifically, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2-mercapto-4 (3H )-quinazoline, β-mercaptonaphthalene, and a mercapto group-containing compound having an aromatic ring such as 1,4-dimethyl mercaptobenzene, from the viewpoint of a taper angle, 2-mercaptobenzothiazole, 2 - Mercaptobenzoimidazole is preferred.

한편으로 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물로는, 광 경화성의 관점에서, 헥산디티올, 데칸디티올, 또는 하기 일반식 (1-4) 로 나타내는 화합물이 바람직하게 사용된다.On the other hand, as the aliphatic mercapto group-containing compound, hexanedithiol, decanedithiol, or a compound represented by the following general formula (1-4) is preferably used from the viewpoint of photocurability.

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00046
Figure pct00046

식 (1-4) 중, m 은 0 ∼ 4 의 정수, n 은 2 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. R71 및 R72 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. X 는 n 가의 기를 나타낸다.In formula (1-4), m represents the integer of 0-4, and n represents the integer of 2-4. R 71 and R 72 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. X represents an n-valent group.

상기 일반식 (1-4) 에 있어서, 광 경화성의 관점에서, m 은 1 또는 2 인 것이 바람직하다. 또한, 광 경화성의 관점에서, n 은 3 또는 4 인 것이 바람직하고, 4 가 보다 바람직하다.In the said General formula (1-4), it is preferable that m is 1 or 2 from a viewpoint of photocurability. Moreover, from a viewpoint of photocurability, it is preferable that n is 3 or 4, and 4 is more preferable.

또한, R71 및 R72 의 알킬기로는, 광 경화성의 관점에서, 탄소수 1 ∼ 3 의 것이 바람직하다. 광 경화성의 관점에서, R71 및 R72 중의 적어도 일방, 예를 들어, R72 는 수소 원자인 것이 바람직하고, 이 경우에 있어서, R71 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기인 것이 바람직하다.Further, the alkyl group of R 71 and R 72 are, from the point of view of the photo-curable, preferably containing 1 to 3 carbon atoms. From the viewpoint of photocurability, at least one of R 71 and R 72 , for example, R 72 is preferably a hydrogen atom, and in this case, R 71 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. .

n 이 2 인 경우, 광 경화성의 관점에서, X 는 에테르 결합 및/또는 분기부를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기가 바람직하다. 광 경화성의 관점에서, 그 중에서도 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기가 보다 바람직하고, 탄소수 4 의 알킬렌기가 더욱 바람직하다.When n is 2, from a viewpoint of photocurability, X is a C1-C6 alkylene group which may have an ether bond and/or a branched part is preferable. From a photocurable viewpoint, a C1-C6 alkylene group is more preferable especially, and a C4 alkylene group is still more preferable.

n 이 3 인 경우, 광 경화성의 관점에서, X 는 하기 일반식 (1-5) 또는 (1-6) 으로 나타내는 구조인 것이 바람직하다.When n is 3, it is preferable from a viewpoint of photocurability that X is a structure represented by the following general formula (1-5) or (1-6).

[화학식 47][Formula 47]

Figure pct00047
Figure pct00047

식 (1-5) 중, R73 은 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 메틸올기를 나타낸다. R73 중에서도, 광 경화성의 관점에서, 에틸기가 바람직하다.In formula (1-5), R 73 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a methylol group. Among R 73 , an ethyl group is preferable from the viewpoint of photocurability.

[화학식 48][Formula 48]

Figure pct00048
Figure pct00048

식 (1-6) 중, R74 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. R74 중에서도, 광 경화성의 관점에서, 에틸렌기가 바람직하다.In formula (1-6), R 74 represents a C1-C4 alkylene group. Among R 74 , an ethylene group is preferable from the viewpoint of photocurability.

한편으로, n 이 4 인 경우, X 는 하기 일반식 (1-7) 로 나타내는 구조인 것이 바람직하다.On the other hand, when n is 4, it is preferable that X is a structure represented by the following general formula (1-7).

[화학식 49][Formula 49]

Figure pct00049
Figure pct00049

구체적으로는, 부탄디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부티레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부티레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부티레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있다.Specifically, butanediol bis (3-mercaptopropionate), butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylol propane tris (3-mer) Captopropionate), trimethylolpropane tristhioglycolate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tris (3-mercaptopropio) nate), butanediol bis (3-mercapto butyrate), ethylene glycol bis (3-mercapto butyrate), trimethylolpropane tris (3-mercapto butyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto butyrate), penta Erythritol tris(3-mercaptobutyrate), 1,3,5-tris(3-mercaptobutyloxyethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)- Trion etc. are mentioned.

이 중, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부티레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온이 바람직하고, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트) 가 보다 바람직하다.Among them, trimethylol propane tris (3-mercapto propionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto propionate), pentaerythritol tris (3-mercapto propionate), and trimethylol propane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl)- 1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione is preferable, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3 -mercaptobutyrate) is more preferable.

이들은 여러 가지 것을, 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These can use various things individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

이들 중에서도, 광 경화성의 관점에서, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 및 2-메르캅토벤조옥사졸로 이루어지는 군에서 선택된 1 이상과, 광 중합 개시제를 조합하여, 광 중합 개시제계로서 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 2-메르캅토벤조티아졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조이미다졸을 사용해도 되고, 2-메르캅토벤조티아졸과 2-메르캅토벤조이미다졸을 병용하여 사용해도 된다.Among these, from the viewpoint of photocurability, at least one selected from the group consisting of 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoimidazole, and 2-mercaptobenzooxazole, and a photopolymerization initiator are combined, photopolymerization It is preferably used as an initiator system. For example, 2-mercaptobenzothiazole may be used, 2-mercaptobenzoimidazole may be used, and 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoimidazole may be used together and may be used.

또한, 광 경화성의 관점에서, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트) 로 이루어지는 군에서 선택된 1 이상을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) from the viewpoint of photocurability.

또한, 특히 광 경화성의 관점에서, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물과 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 이것은, 개구부의 폭이 좁은 마스크를 사용함으로써 노광시의 회절에 의해 단위 면적 당의 조도가 낮아지고, 선폭이 굵은 경우에 비하여 산소 저해의 영향을 받기 쉬워, 표면 경화성이 낮아지는 경향이 있기 때문이다.Moreover, it is preferable to use together the mercapto group containing compound which has an aromatic ring, and the mercapto group containing compound of an aliphatic type, especially from a viewpoint of photocurability. This is because, by using a mask with a narrow opening, the illuminance per unit area is lowered by diffraction during exposure, and it is more susceptible to oxygen inhibition than in the case where the line width is large, and the surface hardenability tends to be lowered.

특히, (c) 광 중합 개시제로서 헥사아릴비이미다졸계 광 중합 개시제를 사용한 경우에는, 방향족 고리를 갖는 메르캅토기 함유 화합물과 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물을 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 한편으로, 아세토페논계 광 중합 개시제를 사용한 경우에는, 지방족계의 메르캅토기 함유 화합물의 단독 사용으로도 충분히 효과가 얻어지는 경향이 있다.In particular, when a hexaarylbiimidazole-based photopolymerization initiator is used as the photopolymerization initiator (c), it is preferable to use a mercapto group-containing compound having an aromatic ring and an aliphatic mercapto group-containing compound in combination. On the other hand, when an acetophenone-based photopolymerization initiator is used, there is a tendency that the effect can be sufficiently obtained even with single use of an aliphatic mercapto group-containing compound.

예를 들어, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 및 2-메르캅토벤조옥사졸로 이루어지는 군에서 선택된 1 이상과, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트) 로 이루어지는 군에서 선택된 1 이상과, 광 중합 개시제를 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.For example, at least one selected from the group consisting of 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoimidazole, and 2-mercaptobenzooxazole, and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) It is preferable to use in combination with at least one selected from the group consisting of , pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) and a photopolymerization initiator.

(7) 중합 금지제(7) polymerization inhibitor

형상 제어의 관점에서, 중합 금지제를 함유시켜도 된다.You may contain a polymerization inhibitor from a viewpoint of shape control.

중합 금지제로는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 형상 제어의 관점에서, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸이 바람직하다. 또한 인체에 대한 안전성의 관점에서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논이 바람직하다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, methyl hydroquinone, methoxyphenol, and 2,6-di-tert-butyl-4-cresol (BHT). Among these, from the viewpoint of shape control, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol is preferable. In addition, from the viewpoint of safety to the human body, hydroquinone monomethyl ether and methyl hydroquinone are preferable.

중합 금지제는, 1 종 또는 2 종 이상을 함유시켜도 된다. (b) 알칼리 가용성 수지를 제조할 때에, 당해 수지 중에 중합 금지제가 포함되는 경우가 있고, 그것을 본 발명의 중합 금지제로서 사용해도 되고, 수지 중에 중합 금지제 외에, 그것과 동일, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 착색 조성물 제조시에 첨가해도 된다.A polymerization inhibitor may contain 1 type or 2 or more types. (b) When manufacturing alkali-soluble resin, a polymerization inhibitor may be contained in the said resin, you may use it as a polymerization inhibitor of this invention, and other than a polymerization inhibitor, polymerization inhibitor same or different from it in resin. You may add an agent at the time of photosensitive coloring composition manufacture.

<감광성 착색 조성물 중의 성분 배합량><Ingredient compounding quantity in photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전고형분 중에 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상이고, 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 더욱 바람직하게는 40 질량% 이하, 특히 바람직하게는 35 질량% 이하이다. 예를 들어, 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 50 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 20 ∼ 40 질량% 가 특히 바람직하고, 25 ∼ 35 질량% 가 특히 바람직하다. (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 현상 용해성이 향상되는 경향이 있다. 또한 상기 상한치 이하로 함으로써, 기계적 특성이 향상되는 경향이 있다.The photosensitive coloring composition of this invention WHEREIN: Although the content rate of (b) alkali-soluble resin is not specifically limited, Usually 5 mass % or more in total solid, Preferably it is 10 mass % or more, More preferably, it is 15 mass % or more. , more preferably 20 mass% or more, particularly preferably 25 mass% or more, and usually 80 mass% or less, preferably 70 mass% or less, more preferably 60 mass% or less, still more preferably 50 mass% or less. % or less, still more preferably 40 mass% or less, and particularly preferably 35 mass% or less. For example, 5-80 mass % is preferable, 5-70 mass % is more preferable, 10-60 mass % is still more preferable, 15-50 mass % is still more preferable, 20-40 mass % is more preferable It is especially preferable, and 25-35 mass % is especially preferable. (b) By making the content rate of alkali-soluble resin more than the said lower limit, there exists a tendency for image development solubility to improve. Moreover, there exists a tendency for a mechanical characteristic to improve by using below the said upper limit.

(c) 광 중합 개시제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전고형분 중에 통상적으로 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 질량% 이상, 통상적으로 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 6 질량% 이하, 특히 바람직하게는 4 질량% 이하이다. 예를 들어, 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.1 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8 질량% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 6 질량% 가 특히 바람직하고, 1.5 ∼ 4 질량% 가 특히 바람직하다. (c) 광 중합 개시제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써 광 경화성이 높아지고, 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상 용해성이 향상되는 경향이 있다.(c) Although the content rate of a photoinitiator is not specifically limited, Usually 0.1 mass % or more in total solid, Preferably it is 0.5 mass % or more, More preferably, it is 1 mass % or more, More preferably, it is 1.5 mass % or more. , usually 15 mass% or less, preferably 10 mass% or less, more preferably 8 mass% or less, still more preferably 6 mass% or less, particularly preferably 4 mass% or less. For example, 0.1-15 mass % is preferable, 0.1-10 mass % is more preferable, 0.5-8 mass % is still more preferable, 1-6 mass % is especially preferable, 1.5-4 mass % is especially desirable. (c) By making the content rate of a photoinitiator more than the said lower limit, there exists a tendency for photocurability to become high, and for surface roughness to improve, and for it to exist in the tendency for developing solubility to improve by setting it as below the said upper limit.

(c) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유 비율은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에, 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 통상적으로 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하, 예를 들어, 0.05 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 질량% 이다. 또한, 중합 촉진제는, (c) 광 중합 개시제 100 질량부에 대하여 통상적으로 0.1 ∼ 50 질량부, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용한다. 중합 촉진제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 노광 광선에 대한 감도의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하여, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.(c) When using a polymerization accelerator together with a photoinitiator, the content rate of a polymerization accelerator is in the total solid of the photosensitive coloring composition of this invention, Preferably it is 0.05 mass % or more, Usually 10 mass % or less, Preferably is 5 mass % or less, for example, 0.05-10 mass %, Preferably it is 0.05-5 mass %. Moreover, a polymerization accelerator is 0.1-50 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (c) photoinitiators, Preferably it is used in the ratio of 0.1-20 mass parts. When the content ratio of the polymerization accelerator is higher than or equal to the lower limit, a decrease in sensitivity to exposure light tends to be suppressed. tend to be restrained.

또한, (c) 광 중합 개시제와 함께 증감 색소를 사용하는 경우, 증감 색소의 함유 비율은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에, 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.2 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.3 질량% 이상, 또한, 바람직하게는 5 질량% 이하, 보다 바람직하게는 4 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 3 질량% 이하이다. 예를 들어, 0.1 ∼ 5 질량% 가 바람직하고, 0.2 ∼ 4 질량% 가 보다 바람직하고, 0.3 ∼ 3 질량% 가 더욱 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 광 경화성이 높아지고, 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 현상 용해성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, (c) When using a sensitizing dye with a photoinitiator, the content rate of a sensitizing dye is in the total solid of the photosensitive coloring composition of this invention, Preferably it is 0.1 mass % or more, More preferably, 0.2 mass %. More preferably, it is 0.3 mass % or more, More preferably, it is 5 mass % or less, More preferably, it is 4 mass % or less, More preferably, it is 3 mass % or less. For example, 0.1-5 mass % is preferable, 0.2-4 mass % is more preferable, 0.3-3 mass % is still more preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for photocurability to become high and surface roughness to improve, and also by setting it as below the said upper limit, there exists a tendency for image development solubility to improve.

(d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에, 통상적으로 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상, 가장 바람직하게는 50 질량% 이상이고, 또한, 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 65 질량% 이하이다. 예를 들어, 1 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 70 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 30 ∼ 70 질량% 가 특히 바람직하고, 40 ∼ 65 질량% 가 특히 바람직하고, 50 ∼ 65 질량% 가 가장 바람직하다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써 기계적 특성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써, 현상 용해성이 향상되는 경향이 있다.(d) The content rate of an ethylenically unsaturated compound is 1 mass % or more normally in the total solid of the photosensitive coloring composition of this invention, Preferably it is 5 mass % or more, More preferably, it is 10 mass % or more, More preferably is 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more, and most preferably 50% by mass or more, and is usually 80% by mass or less, preferably 70% by mass or more. Hereinafter, more preferably, it is 65 mass % or less. For example, 1-80 mass % is preferable, 5-80 mass % is more preferable, 10-70 mass % is still more preferable, 20-70 mass % is still more preferable, 30-70 mass % is more preferable It is especially preferable, 40-65 mass % is especially preferable, and 50-65 mass % is the most preferable. (d) By making the content rate of an ethylenically unsaturated compound more than the said lower limit, there exists a tendency for a mechanical characteristic to improve, Moreover, there exists a tendency for image development solubility to improve by using below the said upper limit.

한편으로, (d) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대한 (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 10 질량부 이상이 바람직하고, 20 질량부 이상이 보다 바람직하고, 30 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 40 질량부 이상이 특히 바람직하고, 또한, 통상적으로 150 질량부 이하, 120 질량부 이하가 바람직하고, 100 질량부 이하가 보다 바람직하고, 70 질량부 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들어, 10 ∼ 150 질량부가 바람직하고, 20 ∼ 120 질량부가 보다 바람직하고, 30 ∼ 100 질량부가 더욱 바람직하고, 40 ∼ 70 질량부가 특히 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되는 경향이 있고, 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써 기계적 특성이 양호해지는 경향이 있다.On the other hand, the content rate of (b) alkali-soluble resin with respect to 100 mass parts of (d) ethylenically unsaturated compounds is although it does not specifically limit, 10 mass parts or more are preferable, 20 mass parts or more are more preferable, 30 mass parts More preferably, 40 parts by mass or more is particularly preferable, and usually 150 parts by mass or less and 120 parts by mass or less are preferable, more preferably 100 parts by mass or less, and still more preferably 70 parts by mass or less. For example, 10-150 mass parts is preferable, 20-120 mass parts is more preferable, 30-100 mass parts is still more preferable, 40-70 mass parts is especially preferable. By using more than the said lower limit, there exists a tendency for developing solubility to improve, and there exists a tendency for a mechanical characteristic to become favorable by setting it as below the said upper limit.

또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 사용함으로써, 그 전고형분의 함유 비율이 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 또한 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 30 질량% 이하, 보다 바람직하게는 25 질량% 이하가 되도록 조액된다. 예를 들어, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 30 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량% 가 더욱 바람직하다.Moreover, in the photosensitive coloring composition of this invention, the content rate of the total solid is 5 mass % or more normally by using (e) a solvent, Preferably it is 10 mass % or more, More preferably, 15 mass % or more, and Usually, it is 50 mass % or less, Preferably it is 30 mass % or less, It is crude so that it may become 25 mass % or less more preferably. For example, 5-50 mass % is preferable, 10-30 mass % is more preferable, 15-25 mass % is still more preferable.

본 발명의 감광성 착색 조성물이 (f) 분산제를 포함하는 경우, (f) 분산제의 함유 비율은 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 통상적으로 0.5 질량% 이상이고, 1 질량% 이상이 바람직하고, 1.5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또한 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 5 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 0.5 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 0.5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 1 ∼ 10 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 1.5 ∼ 5 질량% 가 특히 바람직하다. (f) 분산제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 보존 안정성이 향상되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 표시 신뢰성이 향상되는 경향이 있다.When the photosensitive coloring composition of this invention contains (f) a dispersing agent, the content rate of (f) dispersing agent is 0.5 mass % or more normally in the total solid of the photosensitive coloring composition, 1 mass % or more is preferable, 1.5 mass % The above is more preferable, and usually 30 mass % or less and 20 mass % or less are preferable, 15 mass % or less is more preferable, 10 mass % or less is still more preferable, and 5 mass % or less is especially preferable. For example, 0.5-30 mass % is preferable, 0.5-20 mass % is more preferable, 1-15 mass % is still more preferable, 1-10 mass % is still more preferable, 1.5-5 mass % is more preferable Especially preferred. (f) By making the content rate of a dispersing agent more than the said lower limit, there exists a tendency for storage stability to improve, and there exists a tendency for display reliability to improve by using below the said upper limit.

또한, (a) 착색제 100 질량부에 대한 (f) 분산제의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 20 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 통상적으로 50 질량부 이하, 특히 40 질량부 이하인 것이 바람직하다. 예를 들어, 5 ∼ 50 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 50 질량부가 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 질량부가 더욱 바람직하다. (f) 분산제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 보존 안정성이 향상되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 표시 신뢰성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, as for the content rate of (f) dispersing agent with respect to 100 mass parts of (a) coloring agents, 5 mass parts or more and 10 mass parts or more are more preferable normally, 20 mass parts or more are still more preferable, Usually 50 mass parts. Hereinafter, it is especially preferable that it is 40 mass parts or less. For example, 5-50 mass parts is preferable, 10-50 mass parts is more preferable, 20-40 mass parts is still more preferable. (f) By making the content rate of a dispersing agent more than the said lower limit, there exists a tendency for storage stability to improve, and there exists a tendency for display reliability to improve by using below the said upper limit.

밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 통상적으로 0.1 질량% 이상이고, 0.2 질량% 이상이 바람직하고, 0.5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또한 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 5 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 3 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 0.1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 0.2 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 0.2 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 5 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 3 질량% 가 특히 바람직하다. 밀착 향상제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 잔류물이 저감되는 경향이 있다.When using an adhesion improving agent, the content rate is 0.1 mass % or more normally in the total solid of the photosensitive coloring composition, 0.2 mass % or more is preferable, 0.5 mass % or more is more preferable, and 30 mass % normally Hereinafter, 20 mass % or less is preferable, 10 mass % or less is more preferable, 5 mass % or less is still more preferable, 3 mass % or less is especially preferable. For example, 0.1-30 mass % is preferable, 0.2-20 mass % is more preferable, 0.2-10 mass % is still more preferable, 0.5-5 mass % is still more preferable, 0.5-3 mass % is Especially preferred. By making the content rate of an adhesion improver more than the said lower limit, there exists a tendency for adhesiveness to improve, and there exists a tendency for a residue to reduce by using below the said upper limit.

또한, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 통상적으로 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현하기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현하기 쉽고, 다른 특성의 악화도 억제할 수 있는 경향이 있다.Moreover, when using surfactant, the content rate is 0.001-10 mass % normally in the total solid of the photosensitive coloring composition, Preferably it is 0.005-1 mass %, More preferably, 0.01-0.5 mass % is the most preferable. Preferably, it is 0.03-0.3 mass %. When the content ratio of the surfactant is more than the lower limit, the smoothness and uniformity of the coating film tend to be easily expressed, and when the content ratio of the surfactant is less than the upper limit, the smoothness and uniformity of the coating film are easily expressed, and deterioration of other properties can also be suppressed. tends to

메르캅토 화합물을 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에, 통상적으로 0.1 질량% 이상이고, 0.2 질량% 이상이 바람직하고, 0.5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또한 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하고, 5 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 3 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 0.1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 0.2 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 0.2 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 5 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 3 질량% 가 특히 바람직하다. 메르캅토 화합물의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 광 경화성이 높아지고, 표면 조도가 향상되는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 보존 안정성이 향상되는 경향이 있다.When using a mercapto compound, the content rate is 0.1 mass % or more normally in the total solid of the photosensitive coloring composition, 0.2 mass % or more is preferable, 0.5 mass % or more is more preferable, and 30 mass % or more normally. Mass % or less and 20 mass % or less are preferable, 10 mass % or less is more preferable, 5 mass % or less is still more preferable, 3 mass % or less is especially preferable. For example, 0.1-30 mass % is preferable, 0.2-20 mass % is more preferable, 0.2-10 mass % is still more preferable, 0.5-5 mass % is still more preferable, 0.5-3 mass % is Especially preferred. By making the content rate of a mercapto compound more than the said lower limit, there exists a tendency for photocurability to become high, and for surface roughness to improve, and by setting it as below the said upper limit, there exists a tendency for storage stability to improve.

중합 금지제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에, 통상적으로 0.05 질량% 이상이고, 0.1 질량% 이상이 바람직하고, 0.2 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또한 통상적으로 2 질량% 이하, 1 질량% 이하가 바람직하고, 0.8 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.7 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 0.5 질량% 이하가 특히 바람직하다. 예를 들어, 0.05 ∼ 2 질량% 가 바람직하고, 0.05 ∼ 1 질량% 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 0.8 질량% 가 더욱 바람직하고, 0.1 ∼ 0.7 질량% 가 보다 더욱 바람직하고, 0.2 ∼ 0.5 질량% 가 특히 바람직하다. 중합 금지제의 함유 비율을 상기 하한치 이상으로 함으로써, 해상도가 높아지는 경향이 있고, 상기 상한치 이하로 함으로써 경화성이 높아지는 경향이 있다.When using a polymerization inhibitor, the content rate is 0.05 mass % or more normally in the total solid of the photosensitive coloring composition, 0.1 mass % or more is preferable, 0.2 mass % or more is more preferable, and 2 Mass % or less and 1 mass % or less are preferable, 0.8 mass % or less is more preferable, 0.7 mass % or less is still more preferable, and 0.5 mass % or less is especially preferable. For example, 0.05-2 mass % is preferable, 0.05-1 mass % is more preferable, 0.1-0.8 mass % is still more preferable, 0.1-0.7 mass % is still more preferable, 0.2-0.5 mass % is Especially preferred. By making the content rate of a polymerization inhibitor more than the said lower limit, there exists a tendency for resolution to become high, and there exists a tendency for sclerosis|hardenability to become high by using below the said upper limit.

<감광성 착색 조성물의 물성><Physical properties of the photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 착색 스페이서 형성용으로 바람직하게 사용할 수 있고, 착색 스페이서로서 사용한다는 관점에서는, 그 도막의 막 두께 1 ㎛ 당의 광학 농도 (OD) 가 높은 것이 바람직하다. 본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 착색 스페이서 단독으로는, 0.1 이상인 것이 바람직하고, 0.15 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.2 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.25 이상인 것이 보다 더욱 바람직하다. 여기서 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다.The photosensitive coloring composition of this invention can be used suitably for the object for colored spacer formation, From a viewpoint of using as a colored spacer, it is preferable that the optical density (OD) per 1 micrometer of film thickness of the coating film is high. As a single colored spacer obtained by hardening|curing the photosensitive coloring composition of this invention, it is preferable that it is 0.1 or more, It is more preferable that it is 0.15 or more, It is still more preferable that it is 0.2 or more, It is still more preferable that it is 0.25 or more. Here, the optical density (OD) is a value measured by the method mentioned later.

<감광성 착색 조성물의 제조 방법><The manufacturing method of the photosensitive coloring composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상적인 방법에 따라서 제조된다.The photosensitive coloring composition of this invention is manufactured according to a conventional method.

통상적으로, (a) 착색제는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (a) 착색제가 미립자화되기 때문에, 감광성 착색 조성물의 도포 특성이 향상된다.In general, (a) the colorant is preferably dispersed in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer, or the like. Since the (a) colorant is finely divided by the dispersion treatment, the coating properties of the photosensitive coloring composition are improved.

분산 처리는, 통상적으로, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제, 필요에 따라 (b) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계로 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리로 얻어진 조성물을 「잉크」 또는 「안료 분산액」 이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (f) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 감광성 착색 조성물의 시간 경과적인 증점이 억제되기 (분산 안정성이 우수하기) 때문에 바람직하다.Dispersion treatment is preferably carried out in a system in which (a) a colorant, (e) a solvent, and (f) a dispersant, and optionally (b) some or all of the alkali-soluble resin are used in combination (hereinafter, dispersion treatment). The mixture to be provided in the above and the composition obtained by the treatment are sometimes referred to as "ink" or "pigment dispersion"). In particular (f), when a polymer dispersing agent is used as the dispersing agent, it is preferable because the time-dependent thickening of the obtained ink and photosensitive coloring composition is suppressed (excellent in dispersion stability).

이와 같이, 감광성 착색 조성물을 제조하는 공정에 있어서, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다. 안료 분산액에 사용할 수 있는 (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제로는, 각각 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Thus, in the process of manufacturing a photosensitive coloring composition, it is preferable to manufacture the pigment dispersion liquid containing at least (a) a coloring agent, (e) a solvent, and (f) a dispersing agent. As (a) coloring agent, (e) solvent, and (f) dispersing agent which can be used for a pigment dispersion liquid, what was described as what can be used for the photosensitive coloring composition, respectively can be employ|adopted preferably.

또한, 감광성 착색 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대하여 분산 처리를 실시했을 경우, 분산 처리시에 발생하는 발열로 인하여, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, (c) 광 중합 개시제나 (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 포함하지 않는 계로 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.Moreover, when a dispersion process is performed with respect to the liquid containing all the components mix|blended with the photosensitive coloring composition, the highly reactive component may be modified|denatured by the heat|fever generated at the time of a dispersion process. Therefore, it is preferable to perform a dispersion process with the system which does not contain (c) a photoinitiator or (d) an ethylenically unsaturated compound.

샌드 그라인더로 (a) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 입자경의 유리 비드 또는 지르코니아 비드가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상적으로 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이한 경향이 있고, 적절히 조절하면 된다. 안료 분산액 또는 감광성 착색 조성물을 기판에 도포했을 때의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다. 상기 하한치 이상으로 함으로써, 분산 처리가 충분하지 않아 거친 안료 ((a) 착색제) 입자의 잔존을 억제할 수 있고, 현상성, 밀착성, 해상성 등을 충분한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다. 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 발생하는 것을 억제할 수 있고, 분산 안정성을 양호한 것으로 할 수 있는 경향이 있다.When the (a) colorant is dispersed with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a particle diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. The dispersion treatment condition is that the temperature is usually 0°C to 100°C, preferably in the range of room temperature to 80°C. The dispersion time tends to vary depending on the composition of the liquid, the size of the dispersion processing apparatus, and the like, and may be appropriately adjusted. The standard of dispersion is to control the gloss of the ink so that the 20 degree specular gloss (JIS Z8741) when the pigment dispersion or the photosensitive coloring composition is applied to the substrate is in the range of 50 to 300. By setting it as more than the said lower limit, the dispersion process is not enough, and residual|survival of coarse pigment ((a) coloring agent) particle|grains can be suppressed, and there exists a tendency for developability, adhesiveness, resolution, etc. to be easy to make sufficient thing. Moreover, by setting it below the said upper limit, it can suppress that a pigment is crushed and generation|occurrence|production of many ultrafine particles can be suppressed, and there exists a tendency for dispersion stability to be made favorable.

또한, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상적으로 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다.In addition, the dispersed particle diameter of the pigment disperse|distributed in ink is 0.03-0.3 micrometer normally, and it is measured by the dynamic light scattering method etc.

다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 감광성 착색 조성물 중에 포함되는, 상기의 다른 성분을 혼합하여, 균일한 용액으로 한다. 감광성 착색 조성물의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 혼합되는 경우가 많기 때문에, 얻어진 감광성 착색 조성물은 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the ink obtained by the said dispersion process and said other component contained in the photosensitive coloring composition are mixed, and it is set as a uniform solution. In the manufacturing process of a photosensitive coloring composition, since fine dust is mixed in a liquid in many cases, it is preferable to filter the obtained photosensitive coloring composition with a filter etc.

[경화물][Cured material]

본 발명의 경화물은, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써 얻어진다. 감광성 착색 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물은, 착색 스페이서로서 바람직하게 사용할 수 있다.The hardened|cured material of this invention is obtained by hardening|curing the photosensitive coloring composition of this invention. The hardened|cured material formed by hardening|curing the photosensitive coloring composition can be used suitably as a coloring spacer.

[착색 스페이서][Colored spacer]

다음으로, 본 발명의 경화물로 구성되는, 본 발명의 착색 스페이서에 대하여, 그 제조 방법에 따라서 설명한다.Next, the colored spacer of this invention comprised from the hardened|cured material of this invention is demonstrated according to the manufacturing method.

(1) 지지체(1) support

착색 스페이서를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면, 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열 가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열 경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또한, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 성막되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에서는, TFT 어레이 상에 형성하는 것도 가능하다.As a support body for forming a colored spacer, if it has moderate intensity|strength, the material will not be specifically limited. Although a transparent substrate is mainly used, as a material, for example, polyester resins, such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins, such as polypropylene and polyethylene, thermoplastics, such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, polysulfone, and thermosetting resin sheets such as resin sheets, epoxy resins, unsaturated polyester resins and poly(meth)acrylic resins, and various types of glass. Among these, from a heat resistant viewpoint, glass and heat resistant resin are preferable. Moreover, transparent electrodes, such as ITO and IZO, may be formed into a film on the surface of a board|substrate. It is also possible to form on a TFT array other than a transparent substrate.

지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위하여, 필요에 따라, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.The support may be subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, thin film formation treatment of various resins such as a silane coupling agent and urethane resin, if necessary, for improvement of surface properties such as adhesion.

투명 기판의 두께는, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위가 된다. 또한 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막 두께는, 통상적으로 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of a transparent substrate is 0.05-10 mm normally, Preferably it becomes the range of 0.1-7 mm. Moreover, when performing the thin film formation process of various resin, the film thickness is 0.01-10 micrometers normally, Preferably it is the range of 0.05-5 micrometers.

(2) 착색 스페이서(2) colored spacer

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 공지된 컬러 필터용 감광성 착색 조성물과 동일한 용도에 사용할 수 있지만, 이하, 착색 스페이서로서 사용되는 경우에 대하여, 그 형성 방법을 설명한다.Although the photosensitive coloring composition of this invention can be used for the use similar to the well-known photosensitive coloring composition for color filters, the formation method is demonstrated about the case where it is used as a coloring spacer below.

통상적으로, 착색 스페이서가 형성되어야 하는 지지체 상에, 감광성 착색 조성물을, 도포 등의 방법에 의해 막상 혹은 패턴상으로 공급하고, 용제를 건조시킨다. 계속해서, 노광-현상을 실시하는 포토리소그래피법 등의 방법에 의해 패턴 형성을 실시한다. 그 후, 필요에 따라 추가 노광이나 열 경화 처리를 실시함으로써, 그 지지체 상에 착색 스페이서가 형성된다.Usually, the photosensitive coloring composition is supplied in the form of a film|membrane or a pattern by methods, such as application|coating, on the support body in which a coloring spacer should be formed, and a solvent is dried. Subsequently, pattern formation is performed by a method such as a photolithography method in which exposure-development is performed. Then, a colored spacer is formed on the support body by performing additional exposure or a thermosetting process as needed.

(3) 착색 스페이서의 형성(3) Formation of colored spacers

[1] 기판에 대한 공급 방법[1] How to feed the substrate

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상적으로, 용제에 용해 혹은 분산된 상태로, 지지체 상에 공급된다. 그 공급 방법으로는, 종래 공지된 방법, 예를 들어, 스피너법, 와이어 바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 또한, 잉크젯법이나 인쇄법 등에 의해, 패턴상으로 공급되어도 된다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액의 사용량이 대폭 삭감되고, 또한, 스핀 코트법에 의했을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 없고, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.The photosensitive coloring composition of this invention is normally melt|dissolved or disperse|distributed to a solvent, and is supplied on a support body. As the supply method, it can implement by a conventionally well-known method, for example, the spinner method, the wire bar method, the flow coat method, the die coat method, the roll coat method, the spray coat method, etc. Moreover, you may supply in the form of a pattern by the inkjet method, the printing method, etc. Especially, according to the die-coating method, the usage-amount of a coating liquid is greatly reduced, and there is no influence of mist etc. adhering when it is spin-coating method, and it is preferable from a general viewpoint, such as the generation|occurrence|production of a foreign material being suppressed.

도포량은 용도에 따라 상이하지만, 예를 들어 착색 스페이서의 경우에는, 건조 막 두께로서, 통상적으로 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 9 ㎛, 특히 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 7 ㎛ 의 범위이다. 또한, 건조 막 두께 혹은 최종적으로 형성된 스페이서의 높이가, 기판 전역에 걸쳐 균일한 것이 중요하다. 편차가 큰 경우에는, 액정 패널에 표시 얼룩 등의 결함이 발생하는 경우가 있다.Although the application amount changes depending on the use, for example, in the case of a colored spacer, as a dry film thickness, it is 0.5 micrometer - 10 micrometers normally, Preferably it is 1 micrometer - 9 micrometers, Especially preferably, it is the range of 1 micrometer - 7 micrometers. am. In addition, it is important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer is uniform over the entire substrate. When the variation is large, defects such as display unevenness may occur in the liquid crystal panel.

단, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용하여, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 착색 스페이서를 일괄 형성하는 경우에는, 최종적으로 형성된 착색 스페이서의 높이는 상이한 것이 된다.However, when forming collectively the colored spacer from which height differs by the photolithographic method using the photosensitive coloring composition of this invention, the height of the finally formed colored spacer differs.

또한, 기판으로서 유리 기판 등, 공지된 기판을 사용할 수 있다. 또한, 기판 표면은 평면인 것이 바람직하다.Moreover, as a board|substrate, well-known board|substrates, such as a glass substrate, can be used. In addition, it is preferable that the substrate surface is planar.

[2] 건조 방법[2] Drying method

기판 상에 감광성 착색 조성물을 공급한 후의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의한 것이 바람직하다. 또한, 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법을 조합해도 된다.It is preferable that drying after supplying the photosensitive coloring composition on a board|substrate is based on the drying method using a hotplate, IR oven, and a convection oven. Moreover, you may combine the reduced-pressure drying method which dries in a pressure reduction chamber without raising a temperature.

건조 온도 및 건조 시간 등의 건조 조건은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 통상적으로는, 40 ℃ ∼ 130 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ℃ ∼ 110 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.Drying conditions, such as a drying temperature and drying time, can be suitably selected according to the kind of solvent component, the performance of the dryer to be used, etc. Usually, it is selected from the range of 15 second - 5 minutes at the temperature of 40 degreeC - 130 degreeC, Preferably it is the range of 30 seconds - 3 minutes at the temperature of 50 degreeC - 110 degreeC.

[3] 노광 방법[3] Exposure method

노광은, 감광성 착색 조성물의 도포막 상에, 네거티브의 마스크 패턴을 겹치고, 이 마스크 패턴을 개재하여, 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사하여 실시한다. 노광 마스크를 사용하여 노광을 실시하는 경우에는, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막에 근접시키는 방법이나, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막으로부터 떨어진 위치에 배치하고, 그 노광 마스크를 개재한 노광 광을 투영하는 방법에 의해도 된다. 또한, 마스크 패턴을 이용하지 않는 레이저 광에 의한 주사 노광 방식에 의해도 된다. 이 때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도의 저하를 방지하기 위하여, 탈산소 분위기하에서 실시하거나, 광 중합성층 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시해도 된다.Exposure overlaps a negative mask pattern on the coating film of the photosensitive coloring composition, and irradiates and performs the light source of an ultraviolet-ray or visible light through this mask pattern. When exposing using an exposure mask, the method of making an exposure mask close to the coating film of the photosensitive coloring composition, or arrange|positioning the exposure mask in the position away from the coating film of the photosensitive coloring composition, and exposure through the exposure mask A method of projecting light may also be employed. Moreover, it is also possible by the scanning exposure method by the laser beam which does not use a mask pattern. At this time, if necessary, in order to prevent a decrease in the sensitivity of the photopolymerizable layer by oxygen, exposure is carried out in a deoxidized atmosphere or after an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer is formed on the photopolymerizable layer. also be

본 발명의 바람직한 양태로서, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 착색 스페이서를 동시에 형성하는 경우에는, 예를 들어, 차광부 (광 투과율 0 %) 와, 복수의 개구부로서, 평균 광 투과율이 가장 높은 개구부 (완전 투과 개구부) 및 평균 광 투과율이 낮은 개구부 (중간 투과 개구부) 를 갖는 노광 마스크를 사용한다. 이 방법에 의해, 중간 투과 개구부와 완전 투과 개구부의 평균 광 투과율의 차, 즉 노광량의 차에 의해, 잔막률의 차이를 발생시킨다.As a preferred aspect of the present invention, when colored spacers having different heights are simultaneously formed by photolithography, for example, a light-shielding portion (light transmittance 0%) and a plurality of openings, the openings having the highest average light transmittance An exposure mask having (completely transmitting openings) and low average light transmittance openings (intermediately transmitting openings) is used. According to this method, the difference in the remaining film rate is caused by the difference in average light transmittance between the intermediate transmission opening and the fully transmitting opening, ie, the difference in exposure amount.

중간 투과 개구부는, 예를 들어, 미소한 다각형의 차광 유닛을 갖는 매트릭스상 차광 패턴에 의해 제작하는 방법 등이 알려져 있다. 또한 흡수체로서, 크롬계, 몰리브덴계, 텅스텐계, 실리콘계 등의 재료의 막에 의해, 광 투과율을 제어하여 제작하는 방법 등이 알려져 있다.A method or the like is known in which the intermediate transmission opening is produced by, for example, a matrix-like light-shielding pattern having a microscopic polygonal light-shielding unit. Moreover, as an absorber, the method etc. which control the light transmittance and manufacture with film|membrane of materials, such as a chromium type, a molybdenum type, a tungsten type, a silicon type, are known.

상기의 노광에 사용되는 광원은, 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 청자색 반도체 레이저, 근적외 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정한 파장의 광을 조사하여 사용하는 경우에는, 광학 필터를 이용할 수도 있다.The light source used for said exposure is not specifically limited. Examples of the light source include lamp light sources such as xenon lamps, halogen lamps, tungsten lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, fluorescent lamps, argon ion lasers, YAG lasers. and laser light sources such as excimer lasers, nitrogen lasers, helium cadmium lasers, blue-violet semiconductor lasers, and near-infrared semiconductor lasers. In the case of irradiating and using light of a specific wavelength, an optical filter may be used.

광학 필터로는, 예를 들어 박막으로 노광 파장에 있어서의 광 투과율을 제어 가능한 타입이어도 되고, 그 경우의 재질로는, 예를 들어 Cr 화합물 (Cr 의 산화물, 질화물, 산질화물, 불화물 등), MoSi, Si, W, Al 등을 들 수 있다.As the optical filter, for example, a thin film may be of a type capable of controlling the light transmittance at the exposure wavelength, and as the material in that case, for example, a Cr compound (Cr oxide, nitride, oxynitride, fluoride, etc.); MoSi, Si, W, Al, etc. are mentioned.

노광량으로는, 통상적으로, 1 mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 5 mJ/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 10 mJ/㎠ 이상이고, 통상적으로 300 mJ/㎠ 이하, 바람직하게는 200 mJ/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 150 mJ/㎠ 이하이다.The exposure dose is usually 1 mJ/cm 2 or more, preferably 5 mJ/cm 2 or more, more preferably 10 mJ/cm 2 or more, usually 300 mJ/cm 2 or less, preferably 200 mJ/cm 2 or less, More preferably, it is 150 mJ/cm<2> or less.

또한, 근접 노광 방식의 경우에는, 노광 대상과 마스크 패턴의 거리로는, 통상적으로 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 75 ㎛ 이상이고, 통상적으로 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 400 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎛ 이하이다.In the case of the proximity exposure method, the distance between the exposure target and the mask pattern is usually 10 µm or more, preferably 50 µm or more, more preferably 75 µm or more, and usually 500 µm or less, preferably It is 400 micrometers or less, More preferably, it is 300 micrometers or less.

[4] 현상 방법[4] Development method

상기의 노광을 실시한 후, 알칼리성 화합물의 수용액, 또는 유기 용제를 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상 패턴을 형성할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 계면 활성제, 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.After performing said exposure, an image pattern can be formed on a board|substrate by image development using the aqueous solution of an alkaline compound, or the organic solvent. The aqueous solution may further contain surfactants, organic solvents, buffers, complexing agents, dyes or pigments.

알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산이수소나트륨, 인산이수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민, 모노-, 디- 또는 트리메틸아민, 모노-, 디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-, 디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록시드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은, 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.Examples of the alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate. Inorganic alkaline compounds such as sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or organic alkaline compounds such as diisopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and choline. A mixture of 2 or more types may be sufficient as these alkaline compounds.

상기 계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세리드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제 ; 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제 ; 알킬베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters. ; anionic surfactants such as alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylsulfates, alkylsulfonates, and sulfosuccinates; Amphoteric surfactants, such as alkyl betaines and amino acids, are mentioned.

유기 용제로는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는, 단독이어도 되고 수용액과 병용하여 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, and diacetone alcohol. The organic solvent may be used alone or in combination with an aqueous solution.

현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상적으로, 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 에서, 현상 방법은, 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러쉬 현상법, 초음파 현상법 등의 어느 방법에 의할 수 있다.The conditions of the developing treatment are not particularly limited, and the development temperature is usually in the range of 10 to 50°C, particularly 15 to 45°C, particularly preferably 20 to 40°C, and the developing method is an immersion developing method or spray development. It can be based on any method, such as a method, a brush developing method, and an ultrasonic developing method.

[5] 추가 노광 및 열 경화 처리[5] Additional exposure and heat curing treatment

현상 후의 기판에는, 필요에 따라 상기의 노광 방법과 동일한 방법에 의해 추가 노광을 실시해도 되고, 또한 열 경화 처리를 실시해도 된다. 이 때의 열 경화 처리 조건은, 온도는 100 ℃ ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ℃ ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 분간 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.The board|substrate after image development may be further exposed by the method similar to said exposure method as needed, and may also be thermosetted. The thermosetting treatment conditions at this time are the temperature in the range of 100 degreeC - 280 degreeC, Preferably it is selected in the range of 150 degreeC - 250 degreeC, and the time is selected in the range of 5 minutes - 60 minutes.

본 발명의 착색 스페이서의 크기나 형상 등은, 이것을 적용하는 컬러 필터의 사양 등에 따라 적절히 조정되지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특히, 포토리소그래피법에 의해 스페이서와 서브 스페이서의 높이가 상이한 착색 스페이서를 동시에 형성하는데 유용하고, 그 경우, 스페이서의 높이는 통상적으로 1 ∼ 7 ㎛ 정도이고, 서브 스페이서는, 스페이서보다 통상적으로 0.2 ∼ 1.5 ㎛ 정도 낮은 높이를 갖는다.Although the size, shape, etc. of the colored spacer of the present invention are appropriately adjusted according to the specifications of the color filter to which it is applied, the photosensitive coloring composition of the present invention is a colored spacer in which the height of the spacer and the sub-spacer differs by the photolithographic method in particular. In this case, the height of the spacer is usually about 1 to 7 μm, and the sub-spacer has a height lower than that of the spacer by about 0.2 to 1.5 μm.

[화상 표시 장치][Image display device]

본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 착색 스페이서를 구비한다.The image display apparatus of this invention is equipped with the coloring spacer of this invention.

예를 들어, 상기 서술한 본 발명의 착색 스페이서를 갖는 컬러 필터와, 액정 구동측 기판을 첩합하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입함으로써, 본 발명의 착색 스페이서를 구비한, 액정 표시 장치 등의 본 발명의 화상 표시 장치를 제조할 수 있다.For example, a color filter having a colored spacer of the present invention described above and a liquid crystal driving-side substrate are bonded together to form a liquid crystal cell, and liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell, thereby providing the colored spacer of the present invention; The image display device of this invention, such as a liquid crystal display device, can be manufactured.

실시예Example

다음으로, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Next, the present invention will be described in more detail by way of Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples without departing from the gist thereof.

이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.The constituent components of the photosensitive coloring composition used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

<알칼리 가용성 수지-I><Alkali-soluble resin-I>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온하였다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노메타크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.5 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기로 바꾸고, 아크릴산 43 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로 무수 프탈산 (THPA) 56 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가하고, 100 ℃ 에서 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw 는 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g 였다.It stirred, replacing 145 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetate with nitrogen, and heated up at 120 degreeC. 10 parts by mass of styrene, 85 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 66 parts by mass of monomethacrylate having a tricyclodecane skeleton (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) are added dropwise thereto, and 2,2'-azobis- 8.5 mass parts of 2-methylbutyronitrile was dripped over 3 hours, and also stirring was continued at 90 degreeC for 2 hours. Next, the inside of the reaction vessel was changed to air, and 0.7 parts by mass of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 parts by mass of hydroquinone were put into 43 parts by mass of acrylic acid, and the reaction was continued at 100°C for 12 hours. Then, 56 mass parts of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) and 0.7 mass parts of triethylamine were added, and it was made to react at 100 degreeC for 3.5 hours. The weight average molecular weight Mw of polystyrene conversion measured by GPC of the alkali-soluble resin-I obtained in this way was 8400, and the acid value was 80 mgKOH/g.

<알칼리 가용성 수지-II><Alkali-soluble resin-II>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 124 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온하였다. 여기에 스티렌 4 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 132 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노메타크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 4 질량부를 적하하고, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 7.2 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기로 바꾸고, 아크릴산 67 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.6 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로 무수 프탈산 (THPA) 15 질량부, 트리에틸아민 0.6 질량부를 첨가하고, 100 ℃ 에서 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 알칼리 가용성 수지-II 의 GPC 에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw 는 9000, 산가는 24 ㎎KOH/g, 이중 결합 당량은 260 g/㏖ 이었다.It stirred, replacing 124 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetate with nitrogen, and heated up at 120 degreeC. 4 parts by mass of styrene, 132 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 4 parts by mass of monomethacrylate (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) having a tricyclodecane skeleton are added dropwise thereto, and 2,2'-azobis- 7.2 mass parts of 2-methylbutyronitrile was dripped over 3 hours, and also stirring was continued at 90 degreeC for 2 hours. Next, the inside of the reaction container was changed to air, and 0.6 mass parts of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 mass parts of hydroquinone were thrown into 67 mass parts of acrylic acid, and reaction was continued at 100 degreeC for 12 hours. Then, 15 mass parts of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) and 0.6 mass parts of triethylamine were added, and it was made to react at 100 degreeC for 3.5 hours. Thus, the weight average molecular weight Mw of polystyrene conversion measured by GPC of alkali-soluble resin-II obtained in this way was 9000, the acid value was 24 mgKOH/g, and the double bond equivalent was 260 g/mol.

<분산제-I><Dispersant-I>

빅케미사 제조 「BYK-LPN21116」 (측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.)"BYK-LPN21116" manufactured by Big Chemie (acrylic AB block copolymer comprising an A block having a quaternary ammonium base and a tertiary amino group in the side chain, and a B block having no quaternary ammonium base and tertiary amino group. The amine value is 70 mgKOH/g. Acid value is 1 mgKOH/g or less.)

분산제-I 의 A 블록 중에는, 하기 식 (1a) 및 (2a) 의 반복 단위가 포함되고, B 블록 중에는 하기 식 (3a) 의 반복 단위가 포함된다. 분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.In the A block of the dispersant-I, the repeating unit of the following formulas (1a) and (2a) is contained, and the repeating unit of the following formula (3a) is contained in the B block. The content ratios of the repeating units of the following formulas (1a), (2a), and (3a) in the total repeating units of the dispersant-I are 11.1 mol%, 22.2 mol%, and 6.7 mol%, respectively.

[화학식 50][Formula 50]

Figure pct00050
Figure pct00050

<용제-I><Solvent-I>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<용제-II><Solvent-II>

MB : 3-메톡시부탄올MB: 3-methoxybutanol

<광 중합 개시제-I><Photoinitiator-I>

구로가네 화성사 제조 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1,2-비이미다졸2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,5,4',5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole manufactured by Kurogane Chemical Co., Ltd.

<광 중합 개시제-II><Photoinitiator-II>

BASF 사 제조 Irgacure (등록 상표) 369Irgacure (registered trademark) 369 manufactured by BASF

<메르캅토 화합물><Mercapto compound>

도쿄 화성사 제조 2-메르캅토벤조티아졸2-mercaptobenzothiazole manufactured by Tokyo Chemical Company

<광 중합성 모노머><Photopolymerizable monomer>

닛폰 화약사 제조 DPHA (디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트)Nippon Kayaku Co., Ltd. DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)

<계면 활성제><Surfactant>

DIC 사 제조 메가팍 F-554Megapac F-554 manufactured by DIC

<첨가제-I><Additive-I>

닛폰 화약사 제조 KAYAMER (등록 상표) PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트)Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYAMER (registered trademark) PM-21 (Phosphate containing methacryloyl group)

<첨가제-II><Additive-II>

세이코 화학사 제조 메틸하이드로퀴논Seiko Chemical Co., Ltd. Methylhydroquinone

<안료 분산액 1 ∼ 7 의 조제><Preparation of Pigment Dispersion Liquids 1 to 7>

표 1 에 기재된 안료, 분산제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하여 혼합액을 얻었다. 또한 표 1 중의 용제의 배합 비율에는, 분산제 및 알칼리 가용성 수지 유래의 용제의 양도 포함된다.The pigment, dispersing agent, alkali-soluble resin, and solvent of Table 1 were mixed so that it might become the mass ratio of Table 1, and the liquid mixture was obtained. In addition, the quantity of the solvent derived from a dispersing agent and alkali-soluble resin is also contained in the compounding ratio of the solvent in Table 1.

이 혼합액을 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비드로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비드를 이용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비드와 분산액을 분리하여, 안료 분산액 1 ∼ 7 을 조제하였다.The dispersion process was performed for this liquid mixture in the range of 25-45 degreeC with a paint shaker for 3 hours. As a bead, a zirconia bead of 0.5 mmφ was used, and 2.5 times the mass of the dispersion was added. After completion of the dispersion, beads and dispersions were separated by a filter to prepare pigment dispersions 1 to 7.

Figure pct00051
Figure pct00051

<감광성 착색 조성물 1 ∼ 13 의 조제><Preparation of the photosensitive coloring compositions 1-13>

[실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 5][Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5]

상기 조제한 안료 분산액 1 ∼ 7 을 사용하여, 전고형분 중의 각 성분의 고형분의 비율이 표 2 또는 표 3 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 전고형분의 함유 비율이 19 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물 1 ∼ 13 을 조제하였다. 얻어진 각 감광성 착색 조성물을 사용하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시하였다.Using the pigment dispersions 1 to 7 prepared above, each component is added so that the ratio of the solid content of each component in the total solid content becomes the blending ratio of Table 2 or Table 3, and further so that the total solid content content is 19 mass% PGMEA was added, stirred and melt|dissolved, and the photosensitive coloring compositions 1-13 were prepared. Using each obtained photosensitive coloring composition, the method mentioned later evaluated.

Figure pct00052
Figure pct00052

Figure pct00053
Figure pct00053

<단위 막 두께 당의 광학 농도 (단위 OD 값) 의 측정><Measurement of optical density per unit film thickness (unit OD value)>

유리 기판 상에 감광성 착색 조성물을 가열 경화 후의 막 두께가 1.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 도포하고, 1 분간 감압 건조시킨 후에, 핫 플레이트로 90 ℃ 에서 100 초간 건조시켰다. 얻어진 도막에, 마스크를 사용하지 않고, 365 ㎚ 에서의 강도가 40 ㎽/㎠ 인 자외선을 사용하여, 노광량이 60 mJ/㎠ 가 되도록 전면 (全面) 노광 처리를 실시하였다.The photosensitive coloring composition was apply|coated with the spin coater so that the film thickness after heat-hardening might be set to 1.5 micrometers on a glass substrate, and after drying under reduced pressure for 1 minute, it dried at 90 degreeC for 100 second with a hotplate. The whole surface exposure process was performed to the obtained coating film so that an exposure amount might be set to 60 mJ/cm<2> using the ultraviolet-ray whose intensity|strength in 365 nm is 40 mW/cm<2> without using a mask.

계속해서, 0.05 질량% 의 수산화칼륨과 0.08 질량% 의 논이온성 계면 활성제 (카오사 제조 「A-60」) 를 함유하는 수용액으로 이루어지는 현상액을 이용하여, 25 ℃ 에 있어서 수압 0.15 ㎫ 의 샤워 현상을 100 초간 실시한 후, 순수로 현상을 정지하고, 수세 스프레이로 세정하였다. 당해 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 20 분간 가열 경화시킴으로써, 레지스트 경화막 기판을 얻었다.Then, using the developing solution which consists of aqueous solution containing 0.05 mass % of potassium hydroxide and 0.08 mass % of nonionic surfactant ("A-60" manufactured by Kao Corporation), shower development with a water pressure of 0.15 MPa at 25°C After performing for 100 seconds, development was stopped with pure water and washed with water spray. The resist cured film board|substrate was obtained by heat-hardening the said board|substrate at 230 degreeC for 20 minute(s) in oven.

얻어진 레지스트 경화막 기판의 광학 농도 (OD) 를 투과 농도계 X-Rite 사 제조 361T (V) 에 의해 측정하고, 막 두께를 히타치 하이테크놀로지사 제조 주사형 백색 간섭 현미경 VS1530 에 의해 측정하였다. 광학 농도 (OD) 및 막 두께로부터, 단위 막 두께 당의 광학 농도 (단위 OD 값, OD/㎛) 를 산출하여, 표 4 에 나타냈다. 또한, OD 값은 차광 능력을 나타내는 수치로, 수치가 클수록 고차광성인 것을 나타낸다.The optical density (OD) of the obtained resist cured film board|substrate was measured with the transmission densitometer 361T (V) by X-Rite, Inc., and the film thickness was measured with Hitachi High-Technologies, Inc. scanning type white interference microscope VS1530. From the optical density (OD) and the film thickness, the optical density per unit film thickness (unit OD value, OD/µm) was calculated and shown in Table 4. In addition, the OD value is a numerical value indicating the light-shielding ability, and the larger the numerical value, the higher the light-shielding property.

<조도의 평가><Evaluation of illuminance>

노광량을 10 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는, 상기 레지스트 경화막 기판과 동일하게 하여, 조도 평가용 기판을 얻었다.Except having set the exposure amount to 10 mJ/cm<2>, it carried out similarly to the said resist cured film board|substrate, and obtained the board|substrate for illumination intensity evaluation.

얻어진 기판의 10 ㎛ × 10 ㎛ 의 범위의 표면의 산술 평균 표면 조도 (Sa) 를 히타치 하이테크놀로지사 제조 주사형 백색 간섭 현미경 VS1530 에 의해 측정하고, 이하의 기준으로 조도의 평가를 실시하였다. 측정 결과와 평가 결과를 표 4 에 나타냈다. 또한, 측정 모드는 Focus 모드로 하고, 대물 렌즈의 배율은 50 배, 측정 광의 중심 파장은 520 ㎚ 로 하였다.The arithmetic mean surface roughness (Sa) of the surface in the range of 10 micrometers x 10 micrometers of the obtained board|substrate was measured with Hitachi High-Technologies company make scanning white interference microscope VS1530, and the following references|standards evaluated roughness. Table 4 shows the measurement results and evaluation results. In addition, the measurement mode was set to focus mode, the magnification of the objective lens was set to 50 times, and the center wavelength of the measurement light was set to 520 nm.

Sa 는, 표면 형상 곡면과 평균면으로 둘러싸인 부분의 체적을 측정 면적으로 나눈 것으로, 수치가 작을수록 평활성이 높은 것을 나타낸다.Sa is obtained by dividing the volume of the portion surrounded by the surface-shaped curved surface and the average surface by the measurement area, and the smaller the numerical value, the higher the smoothness.

(조도의 평가 기준)(evaluation standard of illuminance)

A : 2 ㎚ 이하A: 2 nm or less

B : 2 ㎚ 초과B: more than 2 nm

<탄성 복원율의 평가><Evaluation of elastic recovery rate>

기판으로서 표면에 ITO 막을 형성한 유리 기판을 이용하고, 노광시에 20 ㎛ 개구 (직경 20 ㎛ 의 원형 개구) 를 갖는 마스크를 이용하고, 노광 갭 150 ㎛ 로 한 것 이외에는 상기 레지스트 경화막 기판과 동일하게 하여, 착색 스페이서를 얻었다.A glass substrate having an ITO film formed on its surface is used as the substrate, and a mask having a 20 µm opening (a circular opening having a diameter of 20 µm) is used for exposure, and the same as the above-mentioned resist cured film substrate except that the exposure gap is 150 µm. and a colored spacer was obtained.

얻어진 착색 스페이서의 탄성 복원율을 이하의 순서로 측정하였다. 피셔 스코프 H-100 (피셔 인스트루먼트사 제조) 을 사용하여, 측정 온도 23 ℃, 직경 50 ㎛ 의 평면 압자를 사용하고, 일정 속도 (5 mN/sec) 로 착색 스페이서에 하중을 가하여, 하중이 300 mN 에 이른 시점에서 5 초간 유지하고, 계속해서 동일한 속도로 제하를 실시하여, 하중-변위 곡선을 얻었다. 이 하중-변위 곡선으로부터, 최대 변위 H [max], 최종 변위 H [Last] (하중이 0 mN 이 되고 5 초간 유지한 후의 변위) 를 측정하였다. 이어서, 하기 식에 의해 탄성 복원율을 산출하고, 이하의 기준으로 평가하였다. 그 결과를 표 4 에 나타냈다.The elastic recovery rate of the obtained colored spacer was measured in the following procedure. Using a Fischer Scope H-100 (manufactured by Fischer Instruments), using a flat indenter having a measurement temperature of 23°C and a diameter of 50 µm, a load was applied to the colored spacer at a constant speed (5 mN/sec) so that the load was 300 mN The load-displacement curve was obtained by holding for 5 seconds at the time of reaching , and continuously unloading at the same speed. From this load-displacement curve, the maximum displacement H [max] and the final displacement H [Last] (displacement after the load became 0 mN and held for 5 seconds) were measured. Next, the elastic recovery rate was computed by the following formula, and the following reference|standard evaluated. The results are shown in Table 4.

탄성 복원율 (%) = {(최대 변위 H [max] - 최종 변위 H [Last])/최대 변위 H [max]} × 100Elastic recovery rate (%) = {(maximum displacement H [max] - final displacement H [Last])/maximum displacement H [max]} × 100

(탄성 복원율의 평가 기준)(Evaluation criteria for elastic recovery rate)

A : 95 % 이상A: 95% or more

B : 95 % 미만B: less than 95%

Figure pct00054
Figure pct00054

<내광성의 평가><Evaluation of light resistance>

상기 레지스트 경화막 기판과 동일하게 하여, 내광성 평가용 기판을 얻었다.It carried out similarly to the said resist cured film board|substrate, and obtained the board|substrate for light resistance evaluation.

얻어진 기판의 파장 450 ㎚ 에 있어서의 흡광도를, 히타치 하이테크놀로지사 제조 분광 광도계 U-3500 을 사용하여 측정하였다.The absorbance in wavelength 450nm of the obtained board|substrate was measured using the Hitachi High-Technologies company make spectrophotometer U-3500.

다음으로, 상기 기판을 기온 25 ℃, 상대 습도 50 %RH 의 환경하에서, 파장 450 ㎚ 에서의 강도가 19 ㎽/㎠ 인 광을, 막면측으로부터 500 시간 조사하였다. 그 기판의 파장 450 ㎚ 에 있어서의 흡광도를 동일하게 측정하였다. 하기 식에 의해 파장 450 ㎚ 의 흡광도의 변화율을 산출하고, 이하의 기준으로 평가하여, 결과를 표 5 에 나타냈다.Next, the said board|substrate was irradiated with the light whose intensity|strength at a wavelength of 450 nm is 19 mW/cm<2> from the film surface side in the environment of 25 degreeC of temperature and 50%RH of relative humidity for 500 hours. The absorbance of the substrate at a wavelength of 450 nm was measured similarly. The change rate of the absorbance at a wavelength of 450 nm was computed by the following formula, it evaluated by the following reference|standard, and the result was shown in Table 5.

흡광도의 변화율 (%) = {(조사 전의 450 ㎚ 의 흡광도 - 조사 후의 450 ㎚ 의 흡광도)/조사 전의 450 ㎚ 의 흡광도} × 100Change in absorbance (%) = {(absorbance at 450 nm before irradiation - absorbance at 450 nm after irradiation)/absorbance at 450 nm before irradiation} x 100

(평가의 기준)(Criteria for evaluation)

A : 20 % 미만A: less than 20%

B : 20 % 이상B: 20% or more

Figure pct00055
Figure pct00055

표 4 에 나타낸 실시예 1 ∼ 8 로부터 분명한 바와 같이, 착색제의 함유 비율이 전고형분 중에 2 ∼ 20 질량% 이고, 보라색 안료를 포함하고, 착색제 중의 보라색 안료의 함유 비율이 50 질량% 이상인 감광성 착색 조성물을 사용함으로써, 표면 조도 및 기계적 특성이 우수한 착색 스페이서를 형성 가능한 것을 알 수 있다.As is clear from Examples 1 to 8 shown in Table 4, the content rate of the colorant is 2 to 20 mass% in the total solid content, including a purple pigment, and the content rate of the purple pigment in the colorant is 50 mass% or more A photosensitive coloring composition It turns out that the colored spacer excellent in surface roughness and mechanical properties can be formed by using.

실시예 1 과 비교예 1 의 비교로부터, 착색제 중의 보라색 안료의 함유 비율을 50 질량% 이상으로 함으로써, 표면 조도가 우수한 것을 알 수 있다. 보라색 안료는 분산성이 높고, 경화막 중에 균일하게 분산되는 것으로부터, 보라색 안료를 많이 함유함으로써, 현상시의 용해성이 균일해지기 때문인 것으로 생각된다.From the comparison of Example 1 and Comparative Example 1, it turns out that it is excellent in surface roughness by making the content rate of the purple pigment in a coloring agent 50 mass % or more. Since a purple pigment has high dispersibility and is disperse|distributed uniformly in a cured film, it is thought that it is because solubility at the time of image development becomes uniform by containing a lot of purple pigments.

또한, 실시예 1 과 비교예 2 의 비교로부터, 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중 20 질량% 이하이면, 기계적 특성이 양호해지는 것을 알 수 있다. 이것은, 착색제의 함유 비율이 지나치게 높아지지 않게 함으로써, 알칼리 가용성 수지나 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율을 상대적으로 높게 설정할 수 있고, 얻어지는 착색 스페이서의 가교 밀도가 높아졌기 때문인 것으로 생각된다.Moreover, from the comparison of Example 1 and Comparative Example 2, it turns out that a mechanical characteristic becomes favorable as the content rate of a coloring agent is 20 mass % or less in the total solid of the photosensitive coloring composition. It is thought that this is because the content rate of alkali-soluble resin and an ethylenically unsaturated compound can be set relatively high by preventing the content rate of a coloring agent from becoming high too much, and the crosslinking density of the colored spacer obtained became high.

또한, 비교예 3 및 4 와의 비교로부터 분명한 바와 같이, 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 2 질량% 미만인 경우에는, 광학 농도가 불충분하고, 또한, 착색제 중의 보라색 안료의 함유 비율에 관계없이 표면 조도가 양호해져 있다. 따라서, 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 2 질량% 이상으로 함으로써 광학 농도가 양호해지고, 그리고 착색제 중의 안료의 종류 및 비율에 따라서는 표면 조도가 불충분해지는 경우가 있는 것을 알 수 있다.In addition, as is clear from the comparison with Comparative Examples 3 and 4, when the content rate of the colorant is less than 2 mass % in the total solid content of the photosensitive coloring composition, the optical density is insufficient, and the content rate of the purple pigment in the colorant is Regardless, the surface roughness is good. Therefore, when the content ratio of the colorant is 2% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition, the optical density becomes good, and it can be seen that the surface roughness may become insufficient depending on the type and ratio of the pigment in the colorant. .

표 5 에 나타낸 실시예 1 및 5 와 비교예 5 의 비교로부터, 착색제 중의 보라색 안료의 함유 비율을 50 질량% 이상으로 함으로써, 내광성이 우수한 것을 알 수 있다. 보라색 안료는, 파장 450 ㎚ 부근의 흡광도가 낮아, 보라색 안료를 많이 함유함으로써, 파장 450 ㎚ 의 조사 광에 대한 영향을 잘 받지 않기 때문인 것으로 생각된다.From the comparison of Examples 1 and 5 and Comparative Example 5 shown in Table 5, it turns out that it is excellent in light resistance by making the content rate of the purple pigment in a coloring agent 50 mass % or more. The purple pigment has low absorbance in the vicinity of wavelength 450 nm, and it is considered that it is because it is not easily influenced by the irradiation light of wavelength 450 nm by containing a lot of purple pigments.

Claims (9)

(a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, 및 (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유하는 감광성 착색 조성물로서,
상기 (a) 착색제의 함유 비율이, 감광성 착색 조성물의 전고형분 중에 2 ∼ 20 질량% 이고,
상기 (a) 착색제가 보라색 안료를 포함하고, 또한,
상기 (a) 착색제 중의 상기 보라색 안료의 함유 비율이 50 질량% 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.
A photosensitive coloring composition comprising (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photoinitiator, and (d) an ethylenically unsaturated compound,
The content rate of the said (a) coloring agent is 2-20 mass % in the total solid of the photosensitive coloring composition,
(a) the colorant comprises a purple pigment, and
The content rate of the said purple pigment in the said (a) coloring agent is 50 mass % or more, The photosensitive coloring composition characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서,
상기 보라색 안료가, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 및 C. I. 피그먼트 바이올렛 23 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 감광성 착색 조성물.
The method of claim 1,
The photosensitive coloring composition in which the said purple pigment contains at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of CI pigment violet 29 and CI pigment violet 23.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 (a) 착색제가, 추가로 등색 안료를 포함하는, 감광성 착색 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
The photosensitive coloring composition in which the said (a) coloring agent contains an orange pigment further.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (d) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대한 상기 (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율이 150 질량부 이하인, 감광성 착색 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The photosensitive coloring composition whose content rate of the said (b) alkali-soluble resin with respect to 100 mass parts of said (d) ethylenically unsaturated compounds is 150 mass parts or less.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (c) 광 중합 개시제가, 헥사아릴비이미다졸 화합물을 함유하는, 감광성 착색 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The photosensitive coloring composition in which said (c) photoinitiator contains the hexaarylbiimidazole compound.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
착색 스페이서 형성용인, 감광성 착색 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The photosensitive coloring composition for formation of a colored spacer.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.Hardened|cured material obtained by hardening|curing the photosensitive coloring composition in any one of Claims 1-6. 제 7 항에 기재된 경화물로 구성되는 착색 스페이서.A colored spacer comprising the cured product according to claim 7. 제 8 항에 기재된 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치.The image display apparatus provided with the colored spacer of Claim 8.
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