KR102491215B1 - Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device - Google Patents
Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device Download PDFInfo
- Publication number
- KR102491215B1 KR102491215B1 KR1020177025400A KR20177025400A KR102491215B1 KR 102491215 B1 KR102491215 B1 KR 102491215B1 KR 1020177025400 A KR1020177025400 A KR 1020177025400A KR 20177025400 A KR20177025400 A KR 20177025400A KR 102491215 B1 KR102491215 B1 KR 102491215B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- pigment
- substituent
- mass
- coloring composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 163
- 238000004040 coloring Methods 0.000 title claims abstract description 136
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title claims abstract description 85
- -1 oxime ester Chemical class 0.000 claims abstract description 189
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 89
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 79
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 67
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 134
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 81
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 54
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 51
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 47
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 36
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 35
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 27
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 claims description 25
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 23
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 claims description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 claims description 19
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 19
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 claims description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 13
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 64
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 53
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 47
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 47
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 46
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 38
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 32
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 29
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 29
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 26
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 24
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 23
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 23
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011161 development Methods 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 17
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 16
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 15
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 14
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 14
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 14
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 12
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 12
- 244000172533 Viola sororia Species 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 125000001639 phenylmethylene group Chemical group [H]C(=*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 9
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 9
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 8
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 7
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 7
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 7
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 7
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 6
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 5
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 5
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 5
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N methyl isobutyrate Chemical compound COC(=O)C(C)C BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 4
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N prop-1-enylbenzene Chemical group CC=CC1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 3
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C=NSC2=C1 CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONDSSKDTLGWNOJ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyhexan-2-ol Chemical compound CCCCC(O)COC ONDSSKDTLGWNOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyhexan-3-one Chemical compound CCCC(=O)CCOC LRMMVQKUKLVVFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCCC1 CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-2-amine Chemical compound NC1=NC=CN1 DEPDDPLQZYCHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical group C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]butyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CS)COC(=O)CS KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCOCC1 AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 3-imidazol-1-ylpropan-1-amine Chemical compound NCCCN1C=CN=C1 KDHWOCLBMVSZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical compound NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 241000557626 Corvus corax Species 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000006835 Lamins Human genes 0.000 description 2
- 108010047294 Lamins Proteins 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHJIOAVILUZUIT-UHFFFAOYSA-N O-(1-hydroxybutyl) propanethioate Chemical compound CCCC(O)OC(=S)CC OHJIOAVILUZUIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 2
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N benzo[e]pyrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC4=CC=C1C2=C34 TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N dimethylaminopropylamine Chemical compound CN(C)CCCN IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N furo[3,2-b]furan Chemical group O1C=CC2=C1C=CO2 ZTYYDUBWJTUMHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 2
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N isobutyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OCC(C)C RGFNRWTWDWVHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 210000005053 lamin Anatomy 0.000 description 2
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001005 nitro dye Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005327 perimidinyl group Chemical group N1C(=NC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[2,3-d]imidazole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=N1 MHOZZUICEDXVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical group C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]furan Chemical group S1C=CC2=C1C=CO2 ONCNIMLKGZSAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 2
- DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N (1s,4r,5s,6r)-1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)[C@]2(Cl)[C@H](C(=O)O)[C@H](C(O)=O)[C@@]1(Cl)C2(Cl)Cl DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N 0.000 description 1
- MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N (2-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MAOBFOXLCJIFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N (2r,5s)-1-benzyl-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@@H]1CN[C@@H](C)CN1CC1=CC=CC=C1 WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N 0.000 description 1
- RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N (3,4-diaminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RXCOGDYOZQGGMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPQAFOWBKWKVQQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)methyl-phenyliodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C[I+]C1=CC=CC=C1 VPQAFOWBKWKVQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-(4-propan-2-ylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 QKAIFCSOWIMRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical group C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBCPJIYBPKTHI-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-oxadiazinan-4-one Chemical compound O=C1NCOCN1 LYBCPJIYBPKTHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[2-(3-sulfanylbutoxy)ethyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical class CC(S)CCOCCN1C(=O)N(CCOCCC(C)S)C(=O)N(CCOCCC(C)S)C1=O PAEWNKLGPBBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(methylsulfanyl)benzene Chemical compound CSC1=CC=C(SC)C=C1 CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxypropan-2-yloxy)propan-2-yl acetate Chemical compound COCC(C)OCC(C)OC(C)=O LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQQLOWXQARLAAX-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-3-sulfanylpropanoyl)oxybutyl 2-methyl-3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCC(C)C(=O)OC(CCC)OC(=O)C(C)CS RQQLOWXQARLAAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-sulfanylacetyl)oxybutyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OC(CCC)OC(=O)CS RSZHBVPYGJXEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHXFWEJMQVIWDH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-hydroxy-2-phenoxyanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=C(O)C=2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C=2C(N)=C1OC1=CC=CC=C1 MHXFWEJMQVIWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methylpropane Chemical compound CCOCC(C)C RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)CCCCC1C(O)=O PMUPSYZVABJEKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical class OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(CO)=C(O)C(CO)=C1 KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUKSUBINMNCBNL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methyl-3-sulfanylpropanoyl)oxyethyl 2-methyl-3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCC(C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)CS JUKSUBINMNCBNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVBLPJWQXDCAKU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromo-3-hydroxyquinolin-2-yl)indene-1,3-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=C(O)C(Br)=C2C=CC=CC2=N1 DVBLPJWQXDCAKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOCCOC(C)=O NVSCAPMJFRYMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOCCOC(C)=O SDHQGBWMLCBNSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)phenoxy]ethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC(OCCO)=C1 IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIGKGDPQRWZLU-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2,6-dichloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-methylanilino]ethanol Chemical compound C1=CC(N(CCO)C)=CC=C1N=NC1=C(Cl)C=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl MPIGKGDPQRWZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZXATTMVGZDPHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-chloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-ethylanilino]ethyl-trimethylazanium Chemical compound C1=CC(N(CC[N+](C)(C)C)CC)=CC=C1N=NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl TZXATTMVGZDPHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroacrylic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYGAVZICZNAMTF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyl-3-sulfanylpropanoic acid Chemical compound SCC(C)C(O)=O.SCC(C)C(O)=O.SCC(C)C(O)=O.CCC(CO)(CO)CO IYGAVZICZNAMTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHROTCPZLVPJT-UHFFFAOYSA-N 2-ethyloxetane Chemical compound CCC1CCO1 GDHROTCPZLVPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIRHAGYEUJTFH-UHFFFAOYSA-N 2-imidazol-1-ylethanamine Chemical compound NCCN1C=CN=C1 YCIRHAGYEUJTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHCVSPDKSEROA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-dioxecane-5,10-dione Chemical compound CC1COC(=O)CCCCC(=O)O1 VGHCVSPDKSEROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(C)(CO)CO JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAADQSNKLRZFOQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1h-triazine Chemical compound CN1NC(C(Cl)(Cl)Cl)=CC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 KAADQSNKLRZFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)C#N RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)C=CCCC1C(O)=O ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical class CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-tris(dimethylamino)-2-methylphenol Chemical compound CN(C)C1=CC(O)=C(C)C(N(C)C)=C1N(C)C XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUCABBOUCNJYAH-UHFFFAOYSA-N 3,5-diphenyltriazol-4-amine Chemical compound NC1=C(C=2C=CC=CC=2)N=NN1C1=CC=CC=C1 FUCABBOUCNJYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVHYRUZKSZTEQX-UHFFFAOYSA-N 3-butylphthalic acid Chemical compound CCCCC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O CVHYRUZKSZTEQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanehydrazide Chemical compound COCCC(=O)NN HTNUUDFQRYBJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCCOC HYIRRSOMGIRYKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutane-1,3-diol Chemical compound CC(C)(O)CCO XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBCXRDHKXHADQF-UHFFFAOYSA-N 4,11-diamino-2-(3-methoxypropyl)naphtho[2,3-f]isoindole-1,3,5,10-tetrone Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=C(C(N(CCCOC)C1=O)=O)C1=C2N WBCXRDHKXHADQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIARLPIXVMHZLJ-UHFFFAOYSA-N 4,8-diamino-2-bromo-1,5-dihydroxyanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=C(N)C=C(Br)C(O)=C2C(=O)C2=C1C(O)=CC=C2N AIARLPIXVMHZLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 NLWWHMRHFRTAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 KOECQEGGMWDHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 4-(3-sulfanylbutanoyloxy)butyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCCCCOC(=O)CC(C)S LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3,4-thiadiazol-2-yl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)S1 LGKCTTQKRNEUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound NN1C(=O)NNC1=O BWFMTHGMFVQPSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBFRYSKTTHYWQZ-UHFFFAOYSA-N 4-anilino-3-nitro-n-phenylbenzenesulfonamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(S(=O)(=O)NC=2C=CC=CC=2)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 BBFRYSKTTHYWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVDNECJRVKOPKV-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-(3-phenyl-1h-1,2,4-triazol-5-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=C(Cl)C=C1C1=NNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HVDNECJRVKOPKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][1,2]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=NOC3=CC=CC=C3C2=C1 VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][2,1]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=C3C=CC=CC3=NOC2=C1 RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZJCLNWCJGKJOI-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybutanoic acid Chemical compound CCOCCCC(O)=O VZJCLNWCJGKJOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRRCYIFZBSJBAT-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutanoic acid Chemical compound COCCCC(O)=O VRRCYIFZBSJBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIBBGGADHQDMHI-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CO)=C(O)C(CO)=C1 SIBBGGADHQDMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 5-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-[(e)-2-[4-[(4-ethoxyphenyl)diazenyl]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1N=NC(C=C1S(O)(=O)=O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=NC=2C=CC(OCC)=CC=2)C=C1S(O)(=O)=O AVERNFJXXRIVQN-XSDYUOFFSA-N 0.000 description 1
- PFVOFZIGWQSALT-UHFFFAOYSA-N 5-ethoxypentanoic acid Chemical compound CCOCCCCC(O)=O PFVOFZIGWQSALT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTNSEMBHJXYTES-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1,3-bis(hydroxymethyl)-1,3,5-triazinan-2-one Chemical compound CCN1CN(CO)C(=O)N(CO)C1 PTNSEMBHJXYTES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FECCQKBXUJUGSF-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentanoic acid Chemical compound COCCCCC(O)=O FECCQKBXUJUGSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentyl acetate Chemical compound COCCCCCOC(C)=O JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUOWKZRABKXXBQ-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-dihydro-1,2,4-triazol-2-amine Chemical compound N1N(N)CN=C1C1=CC=CC=C1 DUOWKZRABKXXBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO Chemical compound CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKBFCPLWFWQNFB-UHFFFAOYSA-M CI Acid Orange 3 Chemical compound [Na+].[O-][N+](=O)C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1NC(C=C1S([O-])(=O)=O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 KKBFCPLWFWQNFB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-UHFFFAOYSA-L Congo Red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(N=NC3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)N=NC3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000721047 Danaus plexippus Species 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OVSNDJXCFPSPDZ-UHFFFAOYSA-N Reactive red 120 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC2=CC(S(O)(=O)=O)=CC(NC=3N=C(NC=4C=CC(NC=5N=C(NC=6C7=C(O)C(N=NC=8C(=CC=CC=8)S(O)(=O)=O)=C(C=C7C=C(C=6)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)N=C(Cl)N=5)=CC=4)N=C(Cl)N=3)=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O OVSNDJXCFPSPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N Sudan III Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC(C=C1)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 1
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 1
- 206010048010 Withdrawal syndrome Diseases 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTFVEVTTXDZJHN-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2-(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S YTFVEVTTXDZJHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IURGIPVDZKDLIX-UHFFFAOYSA-M [7-(diethylamino)phenoxazin-3-ylidene]-diethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC3=CC(N(CC)CC)=CC=C3N=C21 IURGIPVDZKDLIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N [SiH4].N=C=O Chemical class [SiH4].N=C=O NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound OCN(CO)C1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHECAORXOROLKA-UHFFFAOYSA-N [[4-[bis(hydroxymethyl)amino]-6-phenyl-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound OCN(CO)C1=NC(N(CO)CO)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 XHECAORXOROLKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAJVJTWVRAPED-UHFFFAOYSA-N [[4-amino-6-[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 WEAJVJTWVRAPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M acid orange 7 Chemical compound [Na+].OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000003670 adamantan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])C(C2([H])[H])([H])C([H])([H])C3([H])C([*])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])C3([H])[H] 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N bis(3-nitrophenyl)iodanium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([I+]C=2C=C(C=CC=2)[N+]([O-])=O)=C1 MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical class FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OC JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- HFIYIRIMGZMCPC-UHFFFAOYSA-J chembl1326377 Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=C(N=NC=3C=CC(=CC=3)S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)C(O)=C2C(N)=C1N=NC1=CC=C(S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)C=C1 HFIYIRIMGZMCPC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DXRWYIKGBIPGAG-UHFFFAOYSA-M chembl2028375 Chemical compound [Na+].[O-][N+](=O)C1=CC=C2C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 DXRWYIKGBIPGAG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCCCCCC(S)S WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSXOZIYLXSNLQB-UHFFFAOYSA-N didodecyliodanium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[I+]CCCCCCCCCCCC DSXOZIYLXSNLQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWPZYSLMIXIHM-UHFFFAOYSA-L disodium 4-amino-5-hydroxy-3-[(3-nitrophenyl)diazenyl]-6-phenyldiazenylnaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].Nc1c(N=Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(cc2cc(c(N=Nc3ccccc3)c(O)c12)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O QCWPZYSLMIXIHM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L disodium 4-hydroxy-7-[(5-hydroxy-6-phenyldiazenyl-7-sulfonatonaphthalen-2-yl)carbamoylamino]-3-phenyldiazenylnaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(NC(=O)NC=3C=C4C=C(C(N=NC=5C=CC=CC=5)=C(O)C4=CC=3)S([O-])(=O)=O)=CC=C2C(O)=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSARWKALPGYFTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VLFKFKCRUCJVNE-UHFFFAOYSA-L disodium 8-amino-7-[(4-nitrophenyl)diazenyl]-2-[[4-[4-[(4-oxidophenyl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-3,6-disulfonaphthalen-1-olate Chemical compound [Na+].[Na+].NC1=C(C(=CC2=CC(=C(C(=C12)O)N=NC1=CC=C(C=C1)C1=CC=C(C=C1)N=NC1=CC=C(C=C1)O)S(=O)(=O)[O-])S(=O)(=O)[O-])N=NC1=CC=C(C=C1)[N+](=O)[O-] VLFKFKCRUCJVNE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- VQHWSAGRWJWMCJ-UHFFFAOYSA-K disodium;4-chloro-2-methyl-6-[(3-methyl-5-oxo-1-phenylpyrazol-2-id-4-yl)diazenyl]phenolate;chromium(3+);hydron Chemical compound [H+].[Na+].[Na+].[Cr+3].O=C1C(N=NC=2C(=C(C)C=C(Cl)C=2)[O-])=C(C)[N-]N1C1=CC=CC=C1.O=C1C(N=NC=2C(=C(C)C=C(Cl)C=2)[O-])=C(C)[N-]N1C1=CC=CC=C1 VQHWSAGRWJWMCJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FPAYXBWMYIMERV-UHFFFAOYSA-L disodium;5-methyl-2-[[4-(4-methyl-2-sulfonatoanilino)-9,10-dioxoanthracen-1-yl]amino]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(C)=CC=C1NC(C=1C(=O)C2=CC=CC=C2C(=O)C=11)=CC=C1NC1=CC=C(C)C=C1S([O-])(=O)=O FPAYXBWMYIMERV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TUXJTJITXCHUEL-UHFFFAOYSA-N disperse red 11 Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(OC)=CC(N)=C3C(=O)C2=C1 TUXJTJITXCHUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 1
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCC(S)S ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPLXGDGIXIJNQD-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3-diamine Chemical compound CCCC(N)CCN RPLXGDGIXIJNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N iron;(z)-4-oxoniumylidenepent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C(C)C JSLCOZYBKYHZNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- LADVLFVCTCHOAI-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;toluene Chemical compound N=C=O.CC1=CC=CC=C1 LADVLFVCTCHOAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Chemical group [CH2]OC1=CC=CC=C1 HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCCN LDIPAUVCWRHLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCN(CCN)CCCC PWNDYKKNXVKQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYCGURZGBKFEQB-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibutylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCN KYCGURZGBKFEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JILXUIANNUALRZ-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCCN JILXUIANNUALRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCOWZPRIMFGIDQ-UHFFFAOYSA-N n',n'-dimethylbutane-1,4-diamine Chemical compound CN(C)CCCCN GCOWZPRIMFGIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N n',n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CCN DILRJUIACXKSQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDVKMPSACNWFV-UHFFFAOYSA-N n',n'-dipropylbutane-1,4-diamine Chemical compound CCCN(CCC)CCCCN GLDVKMPSACNWFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMDXQHYISPCTGF-UHFFFAOYSA-N n',n'-dipropylethane-1,2-diamine Chemical compound CCCN(CCC)CCN DMDXQHYISPCTGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=CC=CC=N1 SAQPQTKYCWAAMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC=CC=N1 MLNHFFKCCKXSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=N1 QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC=CC=N1 RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-quinolin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=N1 KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEGWLJGBFZBZSC-UHFFFAOYSA-N n-[2-[(2,6-dicyano-4-nitrophenyl)diazenyl]-5-(diethylamino)phenyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1N=NC1=C(C#N)C=C([N+]([O-])=O)C=C1C#N LEGWLJGBFZBZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CC1=CC=CC=C1 ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CTIQLGJVGNGFEW-UHFFFAOYSA-L naphthol yellow S Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C([O-])=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C2=C1 CTIQLGJVGNGFEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- LJDZFAPLPVPTBD-UHFFFAOYSA-N nitroformic acid Chemical class OC(=O)[N+]([O-])=O LJDZFAPLPVPTBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N octanoic acid ethyl ester Natural products CCCCCCCC(=O)OCC YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- QQBDLJCYGRGAKP-UHFFFAOYSA-N olsalazine Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC(N=NC=2C=C(C(O)=CC=2)C(O)=O)=C1 QQBDLJCYGRGAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O phenylsulfanium Chemical compound [SH2+]C1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940099800 pigment red 48 Drugs 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical group N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- FZUOVNMHEAPVBW-UHFFFAOYSA-L quinoline yellow ws Chemical compound [Na+].[Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=NC2=C(S([O-])(=O)=O)C=C(S(=O)(=O)[O-])C=C2C=C1 FZUOVNMHEAPVBW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004060 quinone imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N red 2 Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=2C=3C4=CC=C5C6=CC=C7C8=C(C=9C=CC=CC=9)C9=CC=CC=C9C(C=9C=CC=CC=9)=C8C8=CC=C(C6=C87)C(C=35)=CC=2)C4=C1C1=CC=CC=C1 WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- KUIXZSYWBHSYCN-UHFFFAOYSA-L remazol brilliant blue r Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1NC1=CC=CC(S(=O)(=O)CCOS([O-])(=O)=O)=C1 KUIXZSYWBHSYCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical class NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPSFKBGHBCHTOE-UHFFFAOYSA-M sodium 1-[(3-methyl-5-oxo-1-phenyl-4H-pyrazol-4-yl)diazenyl]-4-sulfonaphthalen-2-olate Chemical compound [Na+].O=C1C(N=NC=2C3=CC=CC=C3C(=CC=2O)S([O-])(=O)=O)C(C)=NN1C1=CC=CC=C1 FPSFKBGHBCHTOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- UDTJJVCMRRCRDB-UHFFFAOYSA-M sodium;4-(3-methyl-5-oxo-4-phenyldiazenyl-4h-pyrazol-1-yl)benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1N=NC1=CC=CC=C1 UDTJJVCMRRCRDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTOOJLUHUFUGQI-UHFFFAOYSA-M sodium;4-(4-acetamidoanilino)-1-amino-9,10-dioxoanthracene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(NC(=O)C)=CC=C1NC1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(N)C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O NTOOJLUHUFUGQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K thiophosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=S RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCVWVXRLJHYZLF-UHFFFAOYSA-K trisodium 5-[[4-[[4-[4-[(4-amino-9,10-dioxo-3-sulfonatoanthracen-1-yl)amino]-2-sulfonatoanilino]-6-anilino-1,3,5-triazin-2-yl]amino]phenyl]diazenyl]-2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC=C(C=C1)NC2=NC(=NC(=N2)NC3=C(C=C(C=C3)NC4=CC(=C(C5=C4C(=O)C6=CC=CC=C6C5=O)N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)[O-])NC7=CC=C(C=C7)N=NC8=CC(=C(C=C8)[O-])C(=O)[O-].[Na+].[Na+].[Na+] UCVWVXRLJHYZLF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZUCXUTRTSQLRCV-UHFFFAOYSA-K trisodium;1-amino-4-[3-[[4-chloro-6-(3-sulfonatoanilino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,4,6-trimethyl-5-sulfonatoanilino]-9,10-dioxoanthracene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CC1=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C(NC=2C=3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C=3C(N)=C(C=2)S([O-])(=O)=O)C(C)=C1NC(N=1)=NC(Cl)=NC=1NC1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 ZUCXUTRTSQLRCV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WTPOYMNMKZIOGO-UHFFFAOYSA-K trisodium;2,5-dichloro-4-[4-[[5-[[4-chloro-6-(4-sulfonatoanilino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-sulfonatophenyl]diazenyl]-3-methyl-5-oxo-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC(C(=CC=1)S([O-])(=O)=O)=CC=1NC(N=1)=NC(Cl)=NC=1NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 WTPOYMNMKZIOGO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N undecan-2-one Chemical class CCCCCCCCCC(C)=O KYWIYKKSMDLRDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/44—Carbon
- C09C1/48—Carbon black
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
본 발명의 과제는, 차광성이 높고, 표면 평활성이 우수한 패턴을 형성하는 것이 가능한, 특히 착색 스페이서의 형성에 바람직하게 사용되는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하고, 상기 (c) 광 중합 개시제가 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유한다.
An object of the present invention is to provide a photosensitive coloring composition that can form a pattern having high light-shielding properties and excellent surface smoothness, particularly preferably used for formation of a colored spacer. The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer of the present invention includes (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant. It contains, and the said (c) photoinitiator contains the oxime ester type compound represented by following formula (I).
Description
본 발명은 감광성 착색 조성물 등에 관한 것이다. 상세하게는, 예를 들어 액정 디스플레이 등의 컬러 필터에 있어서 착색 스페이서 등의 형성에 바람직하게 사용되는 감광성 착색 조성물, 이 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 착색 스페이서, 이 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive coloring composition and the like. In detail, for example, a photosensitive coloring composition suitably used for formation of a colored spacer or the like in a color filter such as a liquid crystal display, a colored spacer obtained by curing the photosensitive colored composition, and an image display device including the colored spacer. it's about
액정 디스플레이 (LCD) 는 액정에 대한 전압의 온·오프에 의해 액정 분자의 나열법이 전환되는 성질을 이용하고 있다. 한편, LCD 의 셀을 구성하는 각 부재는, 포토리소그래피법으로 대표되는 감광성 조성물을 이용한 방법에 의해 형성되는 것이 많다. 이 감광성 조성물은, 미세한 구조를 형성하기 쉽고, 대화면용의 기판에 대한 처리도 하기 쉽다는 이유에서, 향후 더욱 그 적용 범위는 넓어지는 경향이 있다.A liquid crystal display (LCD) utilizes the property that the alignment of liquid crystal molecules is switched by turning on/off the voltage to the liquid crystal. On the other hand, each member which comprises the cell of LCD is formed by the method using the photosensitive composition represented by the photolithography method in many cases. Since this photosensitive composition is easy to form a fine structure and easy to process on a substrate for a large screen, its application range tends to widen further in the future.
그러나, 감광성 조성물을 사용하여 제조한 LCD 는, 감광성 조성물 자체의 전기 특성이나, 감광성 조성물 중에 함유되는 불순물의 영향으로, 액정에 가해지는 전압이 유지되지 않고, 이로써 디스플레이의 표시 불균일 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 특히, 컬러 액정 디스플레이에 있어서의 액정층에 보다 가까운 부재, 예를 들어, 액정 패널에 있어서 2 장의 기판의 간격을 일정하게 유지하기 위해서 사용되고 있는, 소위, 주상 (柱狀) 스페이서, 포토스페이서 등에서는 그 영향은 크다.However, in an LCD manufactured using the photosensitive composition, the voltage applied to the liquid crystal is not maintained due to the electrical properties of the photosensitive composition itself or the influence of impurities contained in the photosensitive composition, thereby causing problems such as uneven display of the display. There are times when In particular, in a member closer to the liquid crystal layer in a color liquid crystal display, for example, a so-called columnar spacer, photo spacer, etc. used to keep the distance between two substrates constant in a liquid crystal panel, Its influence is great.
종래, 차광성을 갖지 않는 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, 스페이서를 투과해 오는 광에 의해 스위칭 소자로서의 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있었다. 이것을 방지하기 위해, 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 차광성을 갖는 스페이서 (착색 스페이서) 를 사용하는 방법이 기재되어 있다.Conventionally, when a spacer having no light-shielding property is used for a TFT-type LCD, a TFT as a switching element may malfunction due to light passing through the spacer. In order to prevent this, for example, Patent Literature 1 describes a method of using a spacer (colored spacer) having light-shielding properties.
한편 최근, 패널의 구조의 변화에 수반하여, 높이가 상이한 착색 스페이서를 포토리소그래피법에 의해 일괄 형성하는 방법이 제안되어 있다. 예를 들어 특허문헌 2 에는, 광 흡수 특성이 상이한 특정한 안료종을 복수 조합하여, 자외 영역과 가시 영역의 광 흡수의 밸런스를 확보함으로써, 차광성과 액정의 전압 유지율을 유지하면서, 형상이나 단차의 컨트롤, 기판과의 밀착성을 실현할 수 있는 것이 개시되어 있다. 또, 특허문헌 3 에는, 안료에 복수종의 유기 착색 안료를 사용한 것이 개시되고, 특허문헌 4 에는 유기 흑색 안료를 사용한 것이 개시되어 있다.On the other hand, in recent years, with a change in the structure of a panel, a method of collectively forming colored spacers having different heights by a photolithography method has been proposed. For example, in Patent Document 2, a plurality of specific pigment species having different light absorption characteristics are combined to ensure a balance between light absorption in the ultraviolet region and visible region, thereby controlling the shape and level difference while maintaining the light-shielding property and the voltage retention of the liquid crystal. , it is disclosed that adhesion to a substrate can be realized. Further, Patent Literature 3 discloses that a plurality of types of organic color pigments are used for the pigment, and Patent Literature 4 discloses that organic black pigments are used.
한편, 특허문헌 5 에는, 컬러 필터 레지스트 용도에 있어서 경화성을 높일 목적으로, 고감도의 광 중합 개시제로서 특정한 옥심에스테르 화합물을 사용하는 것이 기재되어 있다.On the other hand, Patent Document 5 describes that a specific oxime ester compound is used as a highly sensitive photopolymerization initiator for the purpose of enhancing curability in color filter resist applications.
최근, 패널 구조의 변화에 수반하여, 착색 스페이서의 차광성을 더욱 높게 하는 요구가 있다. 차광성을 높게 하는 방법으로는, 차광성이 높은 안료를 사용하는 방법이나, 감광성 착색 조성물 중의 안료 함유 비율을 높게 하는 방법 등을 들 수 있다. 본 발명자들이 검토한 결과, 특허문헌 2 ∼ 4 에 기재되어 있는 감광성 착색 조성물에 있어서, 차광성이 높은 안료를 병용하는 등을 하여 착색 스페이서의 차광성을 더욱 높게 한 결과, 막표면 근방과 막저부 근방에서 가교 밀도차가 커져, 열경화 과정의 열수축에 의해 도막 표면에 주름이 발생하여 표면 평활성이 불충분해지는 것을 알아내었다.In recent years, there has been a demand for further enhancing the light-shielding properties of colored spacers with changes in panel structures. As a method of making light-shielding property high, the method of using a pigment with high light-shielding property, the method of making the pigment content ratio high in a photosensitive coloring composition, etc. are mentioned. As a result of investigation by the present inventors, in the photosensitive coloring compositions described in Patent Literatures 2 to 4, the light-shielding properties of the colored spacers were further increased by using a pigment with high light-shielding properties in combination, etc. As a result, the film surface vicinity and the film bottom were It was found that the crosslinking density difference increased in the vicinity, and wrinkles were generated on the surface of the coating film due to heat shrinkage in the heat curing process, resulting in insufficient surface smoothness.
한편, 특허문헌 5 에는, 컬러 레지스트의 광 중합 개시제로서 특정한 옥심에스테르 화합물을 사용하는 것이 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 5 에는, 이 옥심에스테르 화합물을, 착색 스페이서를 형성하기 위한 감광성 착색 조성물의 광 중합 개시제로서 사용하는 것은 기재도 시사도 되어 있지 않다. 그 때문에, 이 옥심에스테르 화합물을 착색 스페이서 형성용의 감광성 착색 조성물의 광 중합 개시제로서 사용한 경우에 어떠한 작용을 하는지는 분명하지 않다.On the other hand, Patent Document 5 describes using a specific oxime ester compound as a photopolymerization initiator for a color resist. However, in Patent Document 5, it is neither described nor suggested to use this oxime ester compound as a photopolymerization initiator for a photosensitive coloring composition for forming a colored spacer. Therefore, when this oxime ester compound is used as a photopolymerization initiator for a photosensitive coloring composition for forming a colored spacer, it is not clear what kind of effect it has.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명은, 차광성이 높고, 표면 평활성이 우수한 패턴을 형성할 수 있는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a photosensitive coloring composition capable of forming a pattern having high light-shielding properties and excellent surface smoothness.
본 발명자들이 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 실시한 결과, 감광성 착색 조성물에 있어서, 광 중합 개시제로서 특정한 옥심에스테르계 화합물을 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.As a result of the present inventors earnestly examining in order to solve the said subject, in the photosensitive coloring composition, by using a specific oxime ester type compound as a photoinitiator, it discovered that the said subject was solvable, and reached this invention.
즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [14] 의 구성을 갖는다.That is, the present invention has the constitutions of the following [1] to [14].
[1] (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물로서,[1] A photosensitive coloring composition for forming a colored spacer containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant as,
상기 (c) 광 중합 개시제가 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는, 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.The said (c) photoinitiator contains the oxime ester type compound represented by following formula (I), The photosensitive coloring composition for colored spacer formation characterized by the above-mentioned.
[화학식 1][Formula 1]
(상기 일반식 (I) 중,(In the above general formula (I),
R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.R 1 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.R 2 represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.
R3 은 수소 원자, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다.R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.R 4 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R5 및 R6 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리를 나타낸다. 단, R5 및 R6 중 적어도 어느 하나는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이다.R 5 and R 6 each independently represent a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent. However, at least any one of R5 and R6 is a naphthalene ring which may have a substituent.
R1 및 R4 중 적어도 어느 하나는, 치환기로서 -OR7 기를 갖는다. 단 R7 은 할로게노알킬기를 나타낸다.At least one of R 1 and R 4 has an -OR 7 group as a substituent. provided that R 7 represents a halogenoalkyl group.
X 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.X represents a direct bond or a carbonyl group.
Z 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.)Z represents a direct bond or a carbonyl group.)
[2] 상기 (a) 착색제가, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, [1] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[2] The coloring according to [1], wherein the coloring agent (a) contains at least one selected from the group consisting of red pigments and orange pigments, and at least one selected from the group consisting of blue pigments and purple pigments. A photosensitive coloring composition for spacer formation.
[3] 상기 적색 안료가 이하의 (1) 이고, 상기 등색 안료가 이하의 (2) 이고, 상기 청색 안료가 이하의 (3) 이고, 상기 자색 안료가 이하의 (4) 인, [2] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[3] The red pigment is the following (1), the orange pigment is the following (2), the blue pigment is the following (3), and the purple pigment is the following (4), [2] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer described in .
(1) C. I. 피그먼트 레드 177, 254 에서 선택되는 적어도 1 종(1) C. I. At least one selected from Pigment Red 177 and 254
(2) C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64 에서 선택되는 적어도 1 종(2) C. I. At least one selected from Pigment Orange 43 and 64
(3) C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60 에서 선택되는 적어도 1 종(3) At least one selected from C. I. Pigment Blue 15: 6, 60
(4) C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 에서 선택되는 적어도 1 종(4) C. I. At least one selected from Pigment Violet 23 and 29
[4] 상기 (a) 착색제 100 질량부에 대한 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료의 함유 비율이, 1 질량부 이상 30 질량부 이하인, [2] 또는 [3] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[4] The content ratio of at least one pigment selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment relative to 100 parts by mass of the colorant (a) is 1 part by mass or more and 30 parts by mass or less, [2] or [3] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer described in .
[5] 상기 (a) 착색제 100 질량부에 대한 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료의 함유 비율이, 20 질량부 이상 90 질량부 이하인, [2] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[5] The content ratio of at least one pigment selected from the group consisting of a blue pigment and a purple pigment relative to 100 parts by mass of the colorant (a) is 20 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, [2] to [4] The photosensitive colored composition for forming a colored spacer according to any one of the above.
[6] 상기 (a) 착색제가 유기 흑색 안료를 함유하는, [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[6] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to any one of [1] to [5], wherein the coloring agent (a) contains an organic black pigment.
[7] 상기 유기 흑색 안료가, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염을 함유하는, [6] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[7] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to [6], wherein the organic black pigment contains a compound represented by formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a salt of a geometric isomer thereof.
[화학식 2][Formula 2]
(상기 식 (1) 중, R11 및 R16 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;(In the above formula (1), R 11 and R 16 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R12, R13, R14, R15, R17, R18, R19 및 R20 은 다른 전부에서 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, COCR21, OOCNH2, OOCNHR21, OOCNR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR22, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22 이다 ;R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21 , CONR 21 R 22 , CN, OH, OR 21 , COCR 21 , OOCNH 2 , OOCNHR 21 , OOCNR 21 R 22 , NO 2 , NH 2 , NHR 21 , NR 21 R 22 , NHCOR 22 , NR 21 COR 22 , N=CH 2 , N=CHR 21 , N=CR 21 R 22 , SH, SR 21 , SOR 21 , SO 2 R 21 , SO 3 R 21 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ;
또한, R12 와 R13, R13 과 R14, R14 와 R15, R17 과 R18, R18 과 R19, 및 R19 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR21 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;In addition, at least one combination selected from the group consisting of R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , and R 19 and R 20 , They may be directly bonded to each other or bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 21 bridge;
R21 및 R22 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다)R 21 and R 22 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms)
[8] 상기 (a) 착색제가 카본 블랙을 함유하는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[8] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to any one of [1] to [7], wherein the coloring agent (a) contains carbon black.
[9] 상기 (a) 착색제가 유기 안료 및 카본 블랙을 함유하는, [1] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[9] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to [1], wherein the coloring agent (a) contains an organic pigment and carbon black.
[10] 상기 유기 안료가, 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, [9] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[10] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to [9], wherein the organic pigment contains at least one selected from the group consisting of a red pigment, an orange pigment, a blue pigment, and a purple pigment.
[11] 상기 유기 안료가 이하의 (1) ∼ (4) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, [9] 또는 [10] 에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[11] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to [9] or [10], wherein the organic pigment contains at least one selected from the group consisting of (1) to (4) below.
(1) C. I. 피그먼트 레드 177, 254 에서 선택되는 적어도 1 종(1) C. I. At least one selected from Pigment Red 177 and 254
(2) C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64 에서 선택되는 적어도 1 종(2) C. I. At least one selected from Pigment Orange 43 and 64
(3) C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60 에서 선택되는 적어도 1 종(3) At least one selected from C. I. Pigment Blue 15: 6, 60
(4) C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 에서 선택되는 적어도 1 종(4) C. I. At least one selected from Pigment Violet 23 and 29
[12] 상기 유기 안료가 청색 안료 및 자색 안료를 함유하는, [9] ∼ [11] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[12] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to any one of [9] to [11], wherein the organic pigment contains a blue pigment and a purple pigment.
[13] 상기 (a) 착색제 100 질량부에 대한 카본 블랙의 함유 비율이 5 질량부 이상 50 질량부 이하인, [9] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[13] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to any one of [9] to [12], wherein the carbon black content ratio with respect to 100 parts by mass of the colorant (a) is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less.
[14] 경화된 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도가 1.0 이상인, [1] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[14] The photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to any one of [1] to [13], wherein the cured coating film has an optical density per 1 µm of film thickness of 1.0 or more.
[15] 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 착색 스페이서를 일괄 형성하기 위해서 사용하는, [1] ∼ [14] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물.[15] The photosensitive coloring composition for forming colored spacers according to any one of [1] to [14], which is used to collectively form colored spacers having different heights by a photolithography method.
[16] [1] ∼ [15] 중 어느 하나에 기재된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[16] A cured product obtained by curing the photosensitive colored composition for forming a colored spacer according to any one of [1] to [15].
[17] [16] 에 기재된 경화물로 형성되는 착색 스페이서.[17] A colored spacer formed from the cured product according to [16].
[18] [17] 에 기재된 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치.[18] An image display device provided with the colored spacer according to [17].
본 발명에 의하면, 차광성이 높고, 표면 평활성이 우수한 패턴을 형성하는 것이 가능한 감광성 착색 조성물을 제공할 수 있다. 또, 차광성이 우수하고, 표면 평활성이 우수한 경화물 및 착색 스페이서를 제공할 수 있고, 또한 이와 같은 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photosensitive coloring composition which can form a pattern with high light-shielding property and excellent surface smoothness can be provided. In addition, it is possible to provide a cured product and a colored spacer having excellent light-shielding properties and excellent surface smoothness, and an image display device having such a colored spacer can be provided.
이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, although embodiments of the present invention will be described in detail, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with various changes within the scope of the gist.
또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」 이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」 을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」 에 대해서도 동일하다.In the present invention, "(meth)acryl" means "acryl and/or methacryl", and the same applies to "(meth)acrylate" and "(meth)acryloyl".
「(공)중합체」 란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 함유하는 것을 의미하고, 「산 (무수물)」, 「(무수) … 산」 이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 함유하는 것을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」 란, (메트)아크릴산을 함유하는 (공)중합체, 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 함유하는 (공)중합체를 의미한다."(Co)polymer" means containing both a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and includes "acid (anhydride)", "(anhydride)... "Acid" means containing both an acid and its anhydride. In the present invention, "acrylic resin" means a (co)polymer containing (meth)acrylic acid and a (co)polymer containing (meth)acrylic acid ester having a carboxyl group.
또, 본 발명에 있어서 「모노머」 란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 대립되는 용어이고, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 2 량체, 3 량체, 올리고머 등도 포함하는 의미이다.In the present invention, "monomer" is a term opposed to so-called high molecular substance (polymer), and is meant to include dimers, trimers, oligomers, and the like in addition to monomers in a narrow sense.
본 발명에 있어서 「전체 고형분」 이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 후술하는 잉크 중에 함유되는 용제 이외의 전체 성분을 의미하는 것으로 한다.In the present invention, "total solid content" shall mean all components other than the solvent contained in the photosensitive coloring composition or in the ink described later.
본 발명에 있어서, 「중량 평균 분자량」 이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.In this invention, "weight average molecular weight" refers to the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion by GPC (gel permeation chromatography).
또, 본 발명에 있어서, 「아민가」 란, 특별히 언급이 없는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 한편, 「산가」 란, 특별히 언급이 없는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.In addition, in this invention, "amine value" represents the amine value in terms of effective solid content, and is a value expressed by the mass of the base amount and equivalent KOH per 1g of solid content of a dispersing agent, unless there is particular notice. In addition, the measuring method is mentioned later. On the other hand, "acid value" shows an acid value in terms of effective solid content unless otherwise specified, and is calculated by neutralization titration.
또, 본 명세서에 있어서, 「질량」 으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」 으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.In addition, in this specification, the percentage or part expressed by "mass" has the same meaning as the percentage or part expressed by "weight".
[감광성 착색 조성물][Photosensitive Coloring Composition]
본 발명의 감광성 착색 조성물은,The photosensitive coloring composition of the present invention,
(a) 착색제(a) colorant
(b) 알칼리 가용성 수지(b) Alkali-soluble resin
(c) 광 중합 개시제(c) photopolymerization initiator
(d) 에틸렌성 불포화 화합물(d) ethylenically unsaturated compounds
(e) 용제(e) solvent
(f) 분산제(f) dispersant
를 필수 성분으로서 함유한다. 또, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 필요에 따라, 추가로 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등, 그 밖의 배합 성분을 함유하는 것이고, 통상적으로 각 배합 성분이 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.contains as an essential component. In addition, the photosensitive coloring composition of the present invention, if necessary, further contains other compounding components such as adhesion improvers such as silane coupling agents, applicability improvers, development improvers, ultraviolet absorbers, antioxidants, surfactants, pigment derivatives, etc. In general, each compounding component is used in a state in which it is dissolved or dispersed in a solvent.
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 차광성이 높고, 표면 평활성이 우수한 패턴을 형성하는 것이 가능하기 때문에, 착색 스페이서의 형성에 바람직하게 사용할 수 있는, 요컨대, 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.Since the photosensitive coloring composition of the present invention can form patterns with high light-shielding properties and excellent surface smoothness, it can be preferably used for forming colored spacers, in short, as a photosensitive coloring composition for forming colored spacers. can
한편, 차광성이나 표면 평활성 등의 특성은, 예를 들어 유기 EL 표시 장치의 발광부의 격벽, 특히 착색 격벽 (착색 뱅크) 등의 착색 스페이서 이외의 용도에 있어서도 요구되는 것이기 때문에, 착색 스페이서에 한정되지 않고 사용할 수 있다. 이하에 본 발명의 감광성 착색 조성물에 대해 상세히 서술하지만, 특별히 언급이 없는 한은, 착색 스페이서 용도와 착색 스페이서 이외의 용도의 양자를 아울러 설명한다.On the other hand, since characteristics such as light-shielding properties and surface smoothness are also required for applications other than colored spacers, such as barrier ribs of light emitting portions of organic EL display devices, particularly colored barrier ribs (color banks), they are not limited to colored spacers. can be used without Although the photosensitive coloring composition of this invention is explained in full detail below, unless there is particular notice, both the colored spacer use and the use other than a colored spacer are demonstrated together.
본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제가, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하고, 또한 (c) 광 중합 개시제가 후술하는 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유한다.In the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention, (a) the coloring agent comprises at least one selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment, and at least one selected from the group consisting of a blue pigment and a purple pigment. It contains and also contains the oxime ester type compound represented by the formula (I) which (c) photoinitiator mentions later.
또, 본 발명의 제 2 양태에 관련된 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제가 후술하는 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료 (이하, 「일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료」 라고 약기하는 경우가 있다) 를 함유한다.Further, the photosensitive coloring composition according to the second aspect of the present invention comprises: (a) an organic black pigment in which the coloring agent is a compound represented by the later-described general formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a salt of a geometric isomer thereof (hereinafter, It may be abbreviated as "organic black pigment represented by general formula (1)").
또, 본 발명의 제 3 양태에 관련된 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제가 유기 안료 및 카본 블랙을 함유하고, 또한 (c) 광 중합 개시제가 후술하는 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유한다.Moreover, the photosensitive coloring composition which concerns on the 3rd aspect of this invention contains the (a) coloring agent containing an organic pigment and carbon black, and (c) the oxime ester type compound represented by the formula (I) which a photoinitiator mentions later contain
한편, 본 발명의 제 4 양태에 관련된 감광성 착색 조성물은, 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물이고, 또한 (c) 광 중합 개시제가 후술하는 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유한다.On the other hand, the photosensitive coloring composition concerning the 4th aspect of this invention is a photosensitive coloring composition for colored spacer formation, and (c) contains the oxime ester type compound represented by the formula (I) which a photoinitiator mentions later.
이하, 특별히 언급이 없는 한, 「본 발명의 감광성 착색 조성물」 은, 상기 제 1 ∼ 4 양태에 관련된 감광성 착색 조성물 모두를 가리킨다.Hereinafter, unless otherwise specified, "the photosensitive coloring composition of the present invention" refers to all of the photosensitive coloring compositions according to the first to fourth aspects.
<(a) 착색제><(a) colorant>
본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제는, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유한다. 이와 같이 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물은, 특정한 유기 착색 안료를 함유함으로써 고차광성을 달성할 수 있다.(a) The coloring agent used in the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention is at least one selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment, and at least one selected from the group consisting of a blue pigment and a purple pigment contains Thus, the photosensitive coloring composition concerning the 1st aspect of this invention can achieve high light-shielding property by containing a specific organic color pigment.
(a) 착색제로서 안료를 사용하는 것이 바람직하고, 안료로는, 무기 안료를 사용해도 되고, 유기 안료를 사용해도 된다. 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.(a) It is preferable to use a pigment as a coloring agent, and as a pigment, an inorganic pigment may be used and an organic pigment may be used. It is preferable to use an organic pigment from the viewpoint of suppressing a drop in the voltage retention of liquid crystal and suppressing absorption of ultraviolet rays to make it easier to control the shape and level difference.
이들 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계 등의 유기 안료 외에 여러 가지 무기 안료 등도 이용할 수 있다. 이하, 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 이하에 예시하는 「C. I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는, 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다.The chemical structure of these pigments is not particularly limited. For example, in addition to organic pigments such as azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, isoindolinone, dioxazine, indanthrene, and perylene, various inorganic pigments can also be used. Hereinafter, specific examples of pigments that can be used are indicated by pigment numbers. "C. Terms such as "I. Pigment Red 2" mean color index (C.I.).
적색 안료로는, C. I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다.As the red pigment, C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38 , 41, 47, 48, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53, 53:1 , 53:2, 53:3, 57:57:1, 57:2, 58:4, 60, 63, 63:1, 63:2, 64, 64:1, 68, 69, 81, 81:1 , 81:2, 81:3, 81:4, 83, 88, 90:1, 101, 101:1, 104, 108, 108:1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146 , 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202 , 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250 , 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 can
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다.Among these, preferably C. I. Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C. I. Pigment Red 177, 209, 224, 254 can be heard
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable to use C. I. Pigment Red 177, 254, and 272 from a point of dispersibility and light-shielding property. When the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a red pigment having a low ultraviolet absorption rate. From this point of view, it is more preferable to use C. I. Pigment Red 254, 272.
등색 (오렌지) 안료로는, C. I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다.As orange (orange) pigments, C. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79.
이 중에서도, 바람직하게는, C. I. 피그먼트 오렌지 38, 71 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, C. I. Pigment Orange 38 and 71 are preferable. Moreover, it is preferable to use C. I. Pigment Orange 43, 64, and 72 from a point of dispersibility and light-shielding property. When the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use those having a low ultraviolet absorption rate as the orange pigment. From this point of view, it is more preferable to use C. I. Pigment Orange 64 or 72.
청색 안료로는, C. I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다.As the blue pigment, C. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27 , 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 60, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 can be heard
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다.Among these, C. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6 are preferred, and C. I. Pigment Blue 15: 6 is more preferred.
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable to use C. I. Pigment Blue 15:6, 16, 60 from a point of dispersibility or light-shielding property. When the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention is cured with ultraviolet light, it is preferable to use a blue pigment having a low ultraviolet absorbance. From this point of view, it is more preferable to use C. I. Pigment Blue 60.
자색 안료로는, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다.As a purple pigment, C. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27 , 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50.
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다.Among these, C. I. Pigment Violet 19 and 23 are preferable, and C. I. Pigment Violet 23 is more preferable.
또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable to use C. I. Pigment Violet 23 and 29 from a point of dispersibility and light-shielding property. When the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a purple pigment having a low ultraviolet absorption rate. From this point of view, it is more preferable to use C. I. Pigment Violet 29.
적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료 외에 사용할 수 있는 유기 착색 안료로는 예를 들어, 녹색 안료, 황색 안료 등을 들 수 있다.Examples of organic color pigments that can be used other than red pigments, orange pigments, blue pigments, and purple pigments include green pigments and yellow pigments.
녹색 안료로는, C. I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.Examples of the green pigment include C. I. Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, and 55. can Among these, C. I. Pigment Green 7 and 36 are preferable.
황색 안료로는, C. I. 피그먼트 옐로우 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다.As the yellow pigment, C. I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83 1, 128, 129, 133, 134 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170 , 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199 , 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208.
이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.Among these, C. I. Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185 are preferred, and C. I. Pigment Yellow 83, 138, 139, 150, 180 are more preferred. there is.
이들 중에서도, 차광성이나, 형상 및 단차의 컨트롤의 관점에서는, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것임이 바람직하다.Among these, it is preferable to contain at least one or more of the following pigments from the viewpoint of light-shielding properties and control of shape and level difference.
적색 안료 : C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272Red Pigments: C. I. Pigment Red 177, 254, 272
등색 안료 : C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72Orange Pigments: C. I. Pigment Orange 43, 64, 72
청색 안료 : C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60Blue Pigment: C. I. Pigment Blue 15: 6, 60
자색 안료 : C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29Violet Pigments: C. I. Pigment Violet 23, 29
또, 차광성이나, 형상 및 단차의 컨트롤의 관점에서는, 적색 안료가 이하의 (1) 인 것이 바람직하고, 등색 안료가 이하의 (2) 인 것이 바람직하고, 청색 안료가 이하의 (3) 인 것이 바람직하고, 자색 안료가 이하의 (4) 인 것이 바람직하다.Moreover, from the viewpoint of light-shielding properties and control of shape and level difference, it is preferable that the red pigment is the following (1), it is preferable that the orange pigment is the following (2), and the blue pigment is the following (3) It is preferable, and it is preferable that the purple pigment is the following (4).
(1) C. I. 피그먼트 레드 177, 254 에서 선택되는 적어도 1 종(1) C. I. At least one selected from Pigment Red 177 and 254
(2) C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64 에서 선택되는 적어도 1 종(2) C. I. At least one selected from Pigment Orange 43 and 64
(3) C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60 에서 선택되는 적어도 1 종(3) At least one selected from C. I. Pigment Blue 15: 6, 60
(4) C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 에서 선택되는 적어도 1 종(4) C. I. At least one selected from Pigment Violet 23 and 29
또한, 색의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는 예를 들어, 적색 안료와 청색 안료의 조합, 청색 안료와 등색 안료의 조합, 청색 안료와 등색 안료와 자색 안료의 조합 등을 들 수 있다.In addition, the combination of colors is not particularly limited, but from the viewpoint of light-shielding properties, for example, a combination of a red pigment and a blue pigment, a combination of a blue pigment and an orange pigment, a combination of a blue pigment, an orange pigment and a purple pigment, and the like are exemplified. can
또한 이들의 착색 안료에 더하여, 추가로 흑색 색재를 사용할 수 있다.In addition to these color pigments, a black colorant can be further used.
흑색 색재 중에서도, 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 차광성의 관점에서는, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.Among the black colorants, it is preferable to use an organic black pigment from the viewpoint of suppressing the decrease in the voltage retention of the liquid crystal and also suppressing the absorption of ultraviolet rays to make it easy to control the shape and level difference. In particular, from the viewpoint of light-shielding properties, It is preferable to use the organic black pigment which is the salt of the compound represented by following formula (1), its geometric isomer, its salt, or its geometric isomer.
[화학식 3][Formula 3]
식 (1) 중, R11 및 R16 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;In Formula (1), R 11 and R 16 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R12, R13, R14, R15, R17, R18, R19 및 R20 은 다른 전부에서 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, COCR21, OOCNH2, OOCNHR21, OOCNR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR22, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22 이다 ;R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21 , CONR 21 R 22 , CN, OH, OR 21 , COCR 21 , OOCNH 2 , OOCNHR 21 , OOCNR 21 R 22 , NO 2 , NH 2 , NHR 21 , NR 21 R 22 , NHCOR 22 , NR 21 COR 22 , N=CH 2 , N=CHR 21 , N=CR 21 R 22 , SH, SR 21 , SOR 21 , SO 2 R 21 , SO 3 R 21 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ;
또한, R12 와 R13, R13 과 R14, R14 와 R15, R17 과 R18, R18 과 R19, 및 R19 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR21 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ; In addition, at least one combination selected from the group consisting of R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , and R 19 and R 20 , They may be directly bonded to each other or bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 21 bridge;
R21 및 R22 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.R 21 and R 22 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms.
일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략되어 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 아마 가장 안정적일 것이다.The geometric isomer of the compound represented by the general formula (1) has the following core structure (however, substituents in the structural formula are omitted), and the trans-trans isomer is probably the most stable.
[화학식 4][Formula 4]
일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When the compound represented by the general formula (1) is anionic, its charge can be transferred to any known suitable cation, for example, a metal, organic, inorganic or metal-organic cation, specifically an alkali metal, an alkaline earth metal, or a transition metal. , primary ammonium, secondary ammonium, tertiary ammonium such as trialkyl ammonium, quaternary ammonium such as tetraalkyl ammonium, or salts compensated with organometallic complexes are preferred. Moreover, when the geometric isomer of the compound represented by General formula (1) is anionic, it is preferable that it is the same salt.
일반식 (1) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있으므로, 이하가 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없고, 안료의 색상에 영향을 미치지 않는 것으로 생각되기 때문이다.Since there exists a tendency for a shielding rate to become high in the substituent of General formula (1) and their definition, the following is preferable. This is because the following substituents do not absorb and are considered to have no effect on the hue of the pigment.
R12, R14, R15, R17, R19 및 R20 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 12 , R 14 , R 15 , R 17 , R 19 and R 20 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom.
R13 및 R18 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.R 13 and R 18 are each independently preferably a hydrogen atom, NO 2 , OCH 3 , OC 2 H 5 , a bromine atom, a chlorine atom, CH 3 , C 2 H 5 , N(CH 3 ) 2 , N(CH 3 )(C 2 H 5 ), N(C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl, β-naphthyl, SO 3 H or SO 3 — , more preferably hydrogen atom or SO 3 H.
R11 및 R16 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 11 and R 16 are each independently preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , more preferably a hydrogen atom.
바람직하게는, R11 과 R16, R12 와 R17, R13 과 R18, R14 와 R19, 및 R15 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는, R11 은 R16 과 동일하고, R12 는 R17 과 동일하고, R13 은 R18 과 동일하고, R14 는 R19 와 동일하고, 또한 R15 는 R20 과 동일하다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 11 and R 16 , R 12 and R 17 , R 13 and R 18 , R 14 and R 19 , and R 15 and R 20 is the same, more preferably Specifically, R 11 is the same as R 16 , R 12 is the same as R 17 , R 13 is the same as R 18 , R 14 is the same as R 19 , and R 15 is the same as R 20 .
탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.Examples of the C1-C12 alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, 2-methylbutyl, n-pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, heptyl group, n-octyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 2 -Ethylhexyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group or dodecyl group.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 투일기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.The cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, a cyclopropyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a trimethylcyclohexyl group, a cyclopropyl group, a norbornyl group, a bor A yl group, a norcaryl group, a caryl group, a menthyl group, a norphinyl group, a phynyl group, a 1-adamantyl group or a 2-adamantyl group.
탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐 1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, a vinyl group, an allyl group, a 2-propen-2-yl group, a 2-buten-1-yl group, a 3-buten-1-yl group, a 1,3-butadiene- 2-yl group, 2-pentene 1-yl group, 3-penten-2-yl group, 2-menthyl-1-buten-3-yl group, 2-methyl-3-buten-2-yl group, 3-methyl-2-butene -1-yl group, 1,4-pentadien-3-yl group, hexenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group or dodecenyl group.
탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투옌-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.Examples of the cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms include 2-cyclobuten-1-yl group, 2-cyclopenten-1-yl group, 2-cyclohexen-1-yl group, 3-cyclohexen-1-yl group, 2,4-cyclohexadien-1-yl group, 1-p-menthen-8-yl group, 4(10)-thuyen-10-yl group, 2-norbornen-1-yl group, 2,5-norbornadiene an en-1-yl group, a 7,7-dimethyl-2,4-norcaradien-3-yl group or a camphenyl group.
탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.An alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, for example, 1-propyn-3-yl group, 1-butyn-4-yl group, 1-pentyn-5-yl group, 2-methyl-3-butyn-2-yl group, 1,4-pentadiin-3-yl group, 1,3-pentadiin-5-yl group, 1-hexyn-6-yl group, cis-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, Trans-3-methyl-2-penten-4-yn-1-yl group, 1,3-hexadin-5-yl group, 1-octyn-8-yl group, 1-nonin-9-yl group, 1-decyne- 10-yl group or 1-dodecyn-12-yl group.
할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.A halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
상기 일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물이다.The organic black pigment represented by the above general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (2).
[화학식 5][Formula 5]
이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.As a specific example of such an organic black pigment, Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (manufactured by BASF) is exemplified as a trade name.
이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 분산제, 용제, 방법에 의해 분산시켜 사용된다. 또, 분산시에 상기 일반식 (2) 의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.This organic black pigment is preferably used after being dispersed by a dispersant, solvent and method described later. In addition, when the sulfonic acid derivative of the general formula (2) is present at the time of dispersion, the dispersibility and storage properties may be improved.
상기 일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료 이외의 흑색 색재로는, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 페릴렌 블랙 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 차광성, 화상 특성의 관점에서 카본 블랙을 바람직하게 사용할 수 있다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.Examples of black color materials other than the organic black pigment represented by the general formula (1) include carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, titanium black, and perylene black. there is. Among these, carbon black can be preferably used from the viewpoint of light-shielding properties and image characteristics. As an example of carbon black, the following carbon blacks are mentioned.
미츠비시 화학사 제조 : MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31BMade by Mitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200 , #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31B
데구사사 제조 : Printex (등록상표, 이하 동일) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170Made by Degussa: Printex (registered trademark, hereinafter the same) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170
캐봇사 제조 : Monarch (등록상표, 이하 동일) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (등록상표, 이하 동일) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (등록상표, 이하 동일) XC72R, ELFTEX (등록상표)-8Manufactured by Cabot: Monarch (registered trademark, hereinafter the same) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (registered trademark, hereinafter the same) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (registered trademark, hereinafter the same) XC72R, ELFTEX (registered trademark)-8
콜롬비안 카본사 제조 : RAVEN (등록상표, 이하 동일) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000Made by Colombian Carbon Co.: RAVEN (registered trademark, hereinafter the same) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1010N1000, RAVEN RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000
카본 블랙은 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에 대한 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.As the carbon black, one coated with a resin may be used. When carbon black coated with resin is used, there is an effect of improving adhesion to a glass substrate and volume resistance value. As carbon black coated with resin, the carbon black described in Unexamined-Japanese-Patent No. 09-71733 etc. can be used suitably, for example. From the viewpoint of volume resistivity or permittivity, resin-coated carbon black is preferably used.
수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은, 통상적으로 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수 (造粒水), 나아가서는 반응로의 노재 등으로부터 혼입된 Na 나, Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분 (灰分) 이 퍼센트의 오더로 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는 각각 수백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들을 줄임으로써, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에의 침투를 억제하여, 전기적 단락을 방지할 수 있는 경향이 있다.It is preferable that the total content of Na and Ca is 100 ppm or less as the carbon black subjected to the coating treatment with the resin. Carbon black is usually produced from raw material oil or combustion oil (or gas), reaction stop water or granulation water, Na, Ca, K, Mg, Al, Ash content with Fe or the like as a composition is contained in the order of percent. Of these, Na and Ca are generally contained at least several hundred ppm each, but reducing them tends to suppress permeation into the transparent electrode (ITO) and other electrodes and prevent electrical short circuits.
이들의 Na 나 Ca 를 함유하는 회분의 함유량을 저감시키는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들의 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것 및 스트럭처를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 최대한 줄임으로써 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 제출 (製出)된 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻어 Na 나 Ca 를 용해시켜 제거하는 방법을 들 수 있다.As a method of reducing the content of these ash containing Na or Ca, as raw material oil or fuel oil (or gas) and reaction stop water at the time of producing carbon black, carefully selecting those with the lowest content of these as possible, and structure It is possible by reducing the addition amount of the alkali substance that adjusts as much as possible. As another method, a method of dissolving and removing Na or Ca by washing the carbon black discharged from the furnace with water, hydrochloric acid, or the like is exemplified.
구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용의 용매를 첨가해 가면 카본 블랙은 용매측으로 이행하여, 물과 완전히 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감시키기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독 혹은 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더욱 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.Specifically, after mixing and dispersing carbon black in water, hydrochloric acid, or hydrogen peroxide, when a poorly soluble solvent is added to water, the carbon black migrates to the solvent side and is completely separated from the water, and most of the Na present in the carbon black or Ca dissolves in water or acid and is removed. In order to reduce the total amount of Na and Ca to 100 ppm or less, there are cases where it is possible to use only the carbon black production process in which the raw materials are carefully selected, or the method of dissolving water or acid alone. may be 100 ppm or less.
또 수지 피복 카본 블랙은, pH6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중에서의 분산 직경 (어글로머레이트 직경) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 바람직하다. 또한 평균 입자경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 ㎖/100 g 이하인 것이 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써, 차광성이 양호한 도막이 얻어지는 경향이 있다. 평균 입자경은 수평균 입자경을 의미하고, 전자 현미경 관찰에 의해 수만배로 촬영된 사진을 여러 시야 촬영하고, 이들 사진의 입자를 화상 처리 장치에 의해 2000 ∼ 3000 개 정도 계측하는 입자 화상 해석에 의해 구해지는 원 상당 직경을 의미한다.Moreover, it is preferable that resin-coated carbon black is so-called acidic carbon black of pH 6 or less. Since the dispersion diameter in water (agglomerate diameter) becomes small, it is possible to coat even microscopic units, which is preferable. It is also preferable that the average particle size is 40 nm or less and the amount of dibutyl phthalate (DBP) absorbed is 140 ml/100 g or less. By setting it within the above range, there is a tendency for a coating film having good light-shielding properties to be obtained. The average particle diameter means the number average particle diameter, and is obtained by particle image analysis in which photographs taken at tens of thousands of times by electron microscopy are taken at various fields of view, and about 2000 to 3000 particles of these photographs are measured by an image processing device. means the equivalent diameter of a circle.
수지로 피복된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정이 없지만, 예를 들어 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합하여 가열 용해시킨 수지 용액과, 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하여 가열 혼련하여 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하고, 분쇄한 후, 건조시키는 방법 ; 2. 상기와 동일하게 하여 조제한 수지 용액과 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열하여 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법 ; 3. 상기 예시한 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거하여 카르복실산 첨착 (添着) 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가하여 드라이 블렌드하는 방법 ; 4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각시켜 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가하여 혼련하여, 카본 블랙과 반응성기를 반응시키고 (카본 블랙을 그래프트시키고), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.The method for preparing the carbon black coated with the resin is not particularly limited. For example, after appropriately adjusting the blending amount of the carbon black and the resin, 1. Mixing the resin with a solvent such as cyclohexanone, toluene, or xylene, and heating A mixture of the dissolved resin solution and a suspension of carbon black and water is mixed and stirred, the carbon black and water are separated, the water is removed, and the resulting composition is heated and kneaded to form a sheet, pulverized, and then dried. Way ; 2. A method in which the resin solution and suspension prepared in the same manner as above are mixed and stirred to granulate carbon black and resin, and then the obtained granular material is separated and heated to remove residual solvent and water; 3. A carboxylic acid such as maleic acid or fumaric acid is dissolved in the above-exemplified solvent, carbon black is added, mixed, and dried, and the solvent is removed to obtain a carboxylic acid impregnated carbon black. a method of adding and dry blending; 4. A suspension is prepared by high-speed stirring of a reactive group-containing monomer component constituting the resin to be coated and water, cooling after polymerization to obtain a reactive group-containing resin from the polymer suspension, carbon black is added thereto, kneaded, and carbon A method of reacting black with a reactive group (grafting carbon black), cooling and grinding, and the like can be employed.
피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한 구조 중에 벤젠 고리를 갖는 수지쪽이 양쪽성계 계면 활성제적인 기능이 보다 강하기 때문에 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다.The type of resin to be coated is not particularly limited, but synthetic resins are common, and resins having a benzene ring in the structure have a stronger amphoteric surfactant function, so they are preferable in terms of dispersibility and dispersion stability.
구체적인 합성 수지로는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다.Specific synthetic resins include thermosetting resins such as phenol resins, melamine resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, glyptal resins, epoxy resins, and alkylbenzene resins, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polybutylene tere Thermoplastics such as phthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyethersulfopolyphenylenesulfone, polyarylate, and polyetheretherketone resin can be used.
카본 블랙에 대한 수지의 피복량은, 카본 블랙과 수지의 합계량에 대하여 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 상기 하한값 이상으로 함으로써 피복을 충분한 것으로 할 수 있는 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써, 수지끼리의 점착을 막아, 분산성이 양호한 것으로 할 수 있는 경향이 있다.The coating amount of the resin relative to the carbon black is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total amount of the carbon black and the resin, and when the amount is equal to or more than the lower limit, the coating tends to be sufficient. On the other hand, there is a tendency that adhesion between resins is prevented and dispersibility can be made good by setting it below the said upper limit.
이와 같이 하여 수지로 피복 처리하여 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라 착색 스페이서의 차광재로서 사용할 수 있고, 이 착색 스페이서를 구성 요소로 하는 컬러 필터를 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광률로 또한 표면 반사율이 낮은 착색 스페이서를 저비용으로 달성할 수 있는 경향이 있다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복함으로써, Ca 나 Na 를 카본 블랙 중에 가두어두는 기능도 있는 것도 추측된다.Carbon black coated with resin in this way can be used as a light-shielding material for a colored spacer by a conventional method, and a color filter containing the colored spacer as a component can be produced by a conventional method. If such carbon black is used, it tends to be able to achieve a colored spacer with a high light-shielding factor and a low surface reflectance at low cost. It is also presumed that by coating the carbon black surface with a resin, there is also a function of trapping Ca or Na in the carbon black.
또, 상기 서술한 유기 착색 안료, 흑색 색재 외에, 염료를 사용해도 된다. 색재로서 사용할 수 있는 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.Moreover, you may use dye other than the above-mentioned organic color pigment and black color material. Examples of dyes usable as a colorant include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.
아조계 염료로는, 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 11, C. I. 애시드 오렌지 7, C. I. 애시드 레드 37, C. I. 애시드 레드 180, C. I. 애시드 블루 29, C. I. 다이렉트 레드 28, C. I. 다이렉트 레드 83, C. I. 다이렉트 옐로우 12, C. I. 다이렉트 오렌지 26, C. I. 다이렉트 그린 28, C. I. 다이렉트 그린 59, C. I. 리액티브 옐로우 2, C. I. 리액티브 레드 17, C. I. 리액티브 레드 120, C. I. 리액티브 블랙 5, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 디스퍼스 레드 58, C. I. 디스퍼스 블루 165, C. I. 베이직 블루 41, C. I. 베이직 레드 18, C. I. 모르단트 레드 7, C. I. 모르단트 옐로우 5, C. I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.Azo dyes include, for example, C. I. Acid Yellow 11, C. I. Acid Orange 7, C. I. Acid Red 37, C. I. Acid Red 180, C. I. Acid Blue 29, C. I. Direct Red 28, C. I. Direct Red 83, C. I. Direct Yellow 12, C. I. Direct Orange 26, C. I. Direct Green 28, C. I. Direct Green 59, C. I. Reactive Yellow 2, C. I. Reactive Red 17, C. I. Reactive Red 120, C. I. Reactive Black 5, C. I. Disperse Orange 5, C. I. Disperse Red 58 , C. I. Disperse Blue 165, C. I. Basic Blue 41, C. I. Basic Red 18, C. I. Mordant Red 7, C. I. Mordant Yellow 5, C. I. Mordant Black 7, and the like.
안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어, C. I. 배트 블루 4, C. I. 애시드 블루 40, C. I. 애시드 그린 25, C. I. 리액티브 블루 19, C. I. 리액티브 블루 49, C. I. 디스퍼스 레드 60, C. I. 디스퍼스 블루 56, C. I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.Examples of anthraquinone-based dyes include C. I. Vat Blue 4, C. I. Acid Blue 40, C. I. Acid Green 25, C. I. Reactive Blue 19, C. I. Reactive Blue 49, C. I. Disperse Red 60, C. I. Disperse Blue 56, C. I. Disperse Blue 60 etc. are mentioned.
이 밖에, 프탈로시아닌계 염료로서 예를 들어, C. I. 패드 블루 5 등을, 퀴논이민계 염료로서 예를 들어, C. I. 베이직 블루 3, C. I. 베이직 블루 9 등을, 퀴놀린계 염료로서 예를 들어, C. I. 솔벤트 옐로우 33, C. I. 애시드 옐로우 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 64 등을, 니트로계 염료로서 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 1, C. I. 애시드 오렌지 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 42 등을 들 수 있다.In addition, as phthalocyanine-based dyes, for example, C. I. Pad Blue 5, etc., as quinoneimine-based dyes, for example, C. I. Basic Blue 3, C. I. Basic Blue 9, etc., as quinoline-based dyes, for example, C. I. Solvent Yellow 33, C. I. Acid Yellow 3, C. I. Disperse Yellow 64, etc. as nitro dyes, for example, C. I. Acid Yellow 1, C. I. Acid Orange 3, C. I. Disperse Yellow 42 and the like.
이들 안료는, 평균 입자경이 통상적으로 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입자경의 기준은 안료 입자의 수이다.These pigments are preferably used after being dispersed so that the average particle size is usually 1 µm or less, preferably 0.5 µm or less, and more preferably 0.25 µm or less. Here, the standard for the average particle diameter is the number of pigment particles.
또한, 본 발명의 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에 있어서, 안료의 평균 입자경은, 동적 광산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입자경으로부터 구한 값이다. 입자경 측정은, 충분히 희석된 감광성 착색 조성물 (통상은 희석시켜, 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다) 에 대해 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.In the photosensitive coloring composition according to the first aspect of the present invention, the average particle diameter of the pigment is a value obtained from the pigment particle diameter measured by dynamic light scattering (DLS). Particle diameter measurement is performed on a sufficiently diluted photosensitive coloring composition (usually diluted and prepared at a pigment concentration of about 0.005 to 0.2% by mass. However, if there is a concentration recommended by a measuring instrument, it is followed by that concentration), and at 25 ° C. Measure.
한편, 본 발명의 제 2 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 함유한다. 이와 같이, 특정한 유기 흑색 안료를 함유함으로써, 저유전율 또한 고차광률을 실현할 수 있는 것으로 생각된다.On the other hand, (a) the coloring agent used in the photosensitive coloring composition according to the second aspect of the present invention contains an organic black pigment which is a compound represented by the above general formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a salt of a geometric isomer thereof do. Thus, it is thought that a low dielectric constant and a high light blocking factor can be realized by containing a specific organic black pigment.
본 발명의 제 2 양태에서 사용하는 (a) 착색제는, 상기 유기 흑색 안료 이외에 그 밖의 착색제를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 착색제로는, 안료를 사용하는 것이 바람직하고, 안료는 유기 안료이어도 되고 무기 안료이어도 되지만, 액정의 전압 유지율 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 유기 안료를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 유기 안료로는 제 1 양태에서 든 것을 사용할 수 있다.(a) The coloring agent used in the 2nd aspect of this invention may contain other coloring agents other than the said organic black pigment. As the other colorant, it is preferable to use a pigment, and the pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment, but it suppresses a decrease in the voltage retention of liquid crystal and suppresses absorption of ultraviolet rays to facilitate control of shape and level difference. From a viewpoint, it is more preferable to use an organic pigment. As the organic pigment, those listed in the first aspect can be used.
또한 이들 안료에 더하여, 추가로 그 밖의 흑색 색재를 사용할 수 있다.In addition to these pigments, other black colorants can be further used.
그 밖의 흑색 색재 중에서도, 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 것 이외의, 그 밖의 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. 그 밖의 유기 흑색 안료로는, 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 시아닌 블랙 등을 들 수 있다.Among other black colorants, from the viewpoint of suppressing the drop in the voltage retention of liquid crystal and suppressing the absorption of ultraviolet rays to make it easier to control the shape and level difference, other than those represented by the general formula (1), other organic Preference is given to using a black pigment. Other organic black pigments include aniline black, perylene black, and cyanine black.
또, 본 발명의 제 2 양태에서는, 무기 흑색 안료를 사용할 수 있다. 무기 흑색 안료로는, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 티탄 블랙 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 차광성, 화상 특성의 관점에서 카본 블랙을 바람직하게 사용할 수 있다. 카본 블랙의 예로는, 제 1 양태에서 든 것을 사용할 수 있다. 또, 제 1 양태에서 든 염료 등의 그 밖의 색재를 사용할 수도 있다.Moreover, in the 2nd aspect of this invention, an inorganic black pigment can be used. Carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, titanium black etc. are mentioned as an inorganic black pigment. Among these, carbon black can be preferably used from the viewpoint of light-shielding properties and image characteristics. As an example of carbon black, what was mentioned in the 1st aspect can be used. Moreover, other coloring materials, such as the dye mentioned in the 1st aspect, can also be used.
또, 본 발명의 제 3 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제는, 유기 안료 및 카본 블랙을 함유한다. 이와 같이, 자외선의 흡수가 적은 유기 안료를 사용함으로써 형상이나 단차의 컨트롤을 하기 쉽고, 또, 유기 안료에 더하여 카본 블랙을 사용함으로써 고차광성을 달성할 수 있다.In addition, the coloring agent (a) used in the photosensitive coloring composition according to the third aspect of the present invention contains an organic pigment and carbon black. In this way, by using organic pigments with little absorption of ultraviolet rays, it is easy to control the shape and level difference, and high light-shielding properties can be achieved by using carbon black in addition to organic pigments.
유기 안료의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 밀착성의 관점에서, 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다. 적색 안료, 등색 안료, 청색 안료 및 자색 안료로는, 제 1 양태에서 든 것을 사용할 수 있다.Although the kind of organic pigment is not specifically limited, From an adhesive viewpoint, it is preferable to contain at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a red pigment, an orange pigment, a blue pigment, and a purple pigment. As a red pigment, an orange pigment, a blue pigment, and a purple pigment, what was mentioned in the 1st aspect can be used.
이들 중에서도, 차광성이나, 형상 및 단차의 컨트롤의 관점에서, 이하의 (1) ∼ (4) 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것임이 바람직하다.Among these, it is preferable that it contains at least 1 or more types of the following (1)-(4) from a viewpoint of light-shielding property and control of a shape and level difference.
(1) C. I. 피그먼트 레드 177, 254 에서 선택되는 적어도 1 종(1) C. I. At least one selected from Pigment Red 177 and 254
(2) C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64 에서 선택되는 적어도 1 종(2) C. I. At least one selected from Pigment Orange 43 and 64
(3) C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 60 에서 선택되는 적어도 1 종(3) At least one selected from C. I. Pigment Blue 15: 6, 60
(4) C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 에서 선택되는 적어도 1 종(4) C. I. At least one selected from Pigment Violet 23 and 29
이들 중에서도, 가시 영역의 특히 장파장 영역에 있어서의 차광성의 관점에서, 청색 안료 및/또는 자색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 카본 블랙의 흡수 스펙트럼은, 단파장으로부터 장파장에 걸쳐 흡광도가 줄어들고 있고, 또, 유기 안료보다 자외 영역의 흡광도가 높아져 있기 때문에, 차광성과 제판성을 양립한다는 관점에서, 청색 안료 및/또는 자색 안료와 카본 블랙을 병용하는 것이 바람직하고, 청색 안료 및 자색 안료와 카본 블랙을 병용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable to use a blue pigment and/or a purple pigment from the viewpoint of light-shielding properties in the visible region, particularly in the long wavelength region. In particular, in the absorption spectrum of carbon black, the absorbance decreases from a short wavelength to a long wavelength, and the absorbance in the ultraviolet region is higher than that of organic pigments, so from the viewpoint of achieving both light-shielding properties and platemaking properties, a blue pigment and/or a purple pigment It is preferable to use together with carbon black, and it is more preferable to use together a blue pigment and a purple pigment and carbon black.
또, 차광성의 관점에서, 유기 안료가 유기 흑색 안료를 함유하는 것이 바람직하다. 유기 흑색 안료로는, 제 1 양태에서 든 것을 사용할 수 있다. 또, 제 1 양태에서 든 그 밖의 유기 착색 안료나, 그 밖의 흑색 색재, 염료 등을 사용할 수도 있다.Moreover, it is preferable that an organic pigment contains an organic black pigment from a light-shielding viewpoint. As an organic black pigment, what was mentioned in the 1st aspect can be used. Moreover, other organic color pigments mentioned in the first aspect, other black color materials, dyes, and the like can also be used.
또, 본 발명의 제 4 양태에 관련된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제는, 원하는 착색 스페이서를 형성할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 제 1 양태로서 전술한, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하다.In addition, the (a) coloring agent used in the photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to the fourth aspect of the present invention is not particularly limited as long as it can form a desired colored spacer. For example, from the viewpoint of suppressing absorption of ultraviolet rays and making it easy to control the shape and level difference, as a first aspect, at least one selected from the group consisting of red pigments and orange pigments, blue pigments and purple pigments described above. It is preferable to set it as containing at least 1 sort(s) selected from the group which consists of.
이와 같이, 제 4 양태에 관련된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제로서, 제 1 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제로서 기재한 것을 적용할 수 있고, 또, 제 2 또는 제 3 양태에 관련된 감광성 착색 조성물에서 사용하는 (a) 착색제로서 기재한 것을 적용할 수도 있다.Thus, as the (a) coloring agent used in the photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to the fourth aspect, the one described as the (a) coloring agent used in the photosensitive coloring composition according to the first aspect can be applied, and What was described as the (a) coloring agent used in the photosensitive coloring composition concerning the 2nd or 3rd aspect can also be applied.
한편, 제 4 양태에 관련된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물에 있어서, 차광성의 관점에서는, 적어도 흑색 색재를 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하고, 적어도 카본 블랙을 함유하는 것으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또, 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 적어도 상기 유기 흑색 안료를 함유하는 것이 보다 바람직하다. 차광성과, 액정의 전압 유지율의 저하의 억제 및 형상이나 단차의 컨트롤성의 양립의 관점에서는, 카본 블랙과 유기 흑색 안료를 병용해도 된다.On the other hand, in the photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to the fourth aspect, from the viewpoint of light-shielding properties, it is preferable to contain at least a black colorant, and more preferably to contain at least carbon black. Moreover, it is more preferable to contain at least the said organic black pigment from a viewpoint of suppressing the fall of the voltage retention of a liquid crystal, and suppressing absorption of an ultraviolet-ray, and making it easy to control a shape and a level difference. Carbon black and organic black pigment may be used together from the viewpoint of coexistence of light-shielding properties, suppression of a drop in voltage retention of liquid crystals, and controllability of shapes and levels.
제 4 양태에 관련된 착색 스페이서 형성용 감광성 착색 조성물에 있어서, 이들 착색제의 배합량으로는, 후술하는 본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 바람직한 값을 채용할 수 있다. 또, 요구되는 광학 농도에 따라 적절히 조정할 수도 있고, 국제 공개 제2013/062011호, 국제 공개 제2013/115268호, 일본 공표특허공보 2014-534460호, 일본 공표특허공보 2014-529652호, 일본 공개특허공보 2014-146029호, 국제 공개 제2013/179237호, 일본 공개특허공보 2011-107707호 등에 기재된 값을 채용할 수도 있다.In the photosensitive coloring composition for forming a colored spacer according to the fourth aspect, as the blending amount of these coloring agents, a preferable value in the photosensitive coloring composition of the present invention described later can be employed. Moreover, it can also be adjusted suitably according to the required optical density, International Publication No. 2013/062011, International Publication No. 2013/115268, Japanese Patent Publication No. 2014-534460, Japanese Patent Publication No. 2014-529652, Japanese Unexamined Patent The values described in Publication No. 2014-146029, International Publication No. 2013/179237, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-107707 can also be employed.
<(b) 알칼리 가용성 수지><(b) alkali-soluble resin>
본 발명에서 사용하는 (b) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복실기 또는 수산기를 함유하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다.The (b) alkali-soluble resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, and examples thereof include epoxy (meth)acrylate-based resins, acrylic resins, carboxyl-containing epoxy resins, and carboxyl-containing urethanes. resins, novolak-based resins, polyvinylphenol-based resins, and the like, but among these, epoxy (meth)acrylate-based resins and acrylic resins are preferable. These can be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
본 발명에서 사용하는 (b) 알칼리 가용성 수지로는, 특히 하기 알칼리 가용성 수지 (b1) 및/또는 알칼리 가용성 수지 (b2) (이하 「카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지」 라고 칭하는 경우가 있다) 가 우수한 제판성이라는 관점에서 바람직하게 사용된다.As the (b) alkali-soluble resin used in the present invention, in particular, the following alkali-soluble resin (b1) and/or alkali-soluble resin (b2) (hereinafter sometimes referred to as “carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin”) is preferably used from the viewpoint of excellent platemaking properties.
<알칼리 가용성 수지 (b1)><Alkali-soluble resin (b1)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 또한 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, and further reacting a polybasic acid and/or an anhydride thereof.
<알칼리 가용성 수지 (b2)><Alkali-soluble resin (b2)>
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 또한 다가 알코올, 및 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, and further reacting with a polyhydric alcohol, and a polybasic acid and/or an anhydride thereof.
원료가 되는 에폭시 수지로서 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 (등록상표. 이하 동일) 828」, 「에피코트 1001」, 「에피코트 1002」, 「에피코트 1004」 등), 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르히드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-1302」 (에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃)), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 807」, 「EP-4001」, 「EP-4002」, 「EP-4004 등」), 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르히드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-7406」 (에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃)), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「YX-4000」), 페놀 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 화학사 제조의 「EP-152」, 「EP-154」, 다우 케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o, m, p-) 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EOCN (등록상표. 이하 동일)-102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN (등록상표. 이하 동일)-501」, 「EPPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀 화학 공업사 제조의 「셀록사이드 2021P」, 「셀록사이드 (등록상표. 이하 동일) EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰 화약사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (B1) ∼ (B4) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다.As the raw material epoxy resin, for example, bisphenol A type epoxy resin (e.g., Mitsubishi Chemical Corporation "Epicoat (registered trademark) 828", "Epicoat 1001", "Epicoat 1002", "Epicoat 1002") Epicoat 1004", etc.), epoxy obtained by the reaction of the alcoholic hydroxyl group of a bisphenol A type epoxy resin and epichlorhydrin (eg, "NER-1302" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. (epoxy equivalent 323, softening point 76 ° C.) ), bisphenol F-type resin (eg, "Epicoat 807" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "EP-4001", "EP-4002", "EP-4004, etc."), alcoholic hydroxyl group of bisphenol F-type epoxy resin Epoxy resin obtained by the reaction of epichlorhydrin (for example, "NER-7406" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (epoxy equivalent 350, softening point 66 ° C.)), bisphenol S-type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether ( For example, “YX-4000” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), phenol novolac type epoxy resins (eg “EPPN-201” manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd., “EP-152” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “EP- 154", "DEN-438" manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), (o, m, p-) cresol novolak type epoxy resin (e.g., "EOCN (registered trademark) -102S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ", "EOCN-1020", "EOCN-104S"), triglycidyl isocyanurate (eg, "TEPIC (registered trademark)" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), trisphenolmethane type epoxy resin (eg , "EPPN (registered trademark. The same below) -501", "EPPN-502", "EPPN-503") manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.), an alicyclic epoxy resin ("Celloxide 2021P" manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), " Celloxide (registered trademark, hereinafter the same) EHPE"), epoxy resin obtained by glycidylating a phenolic resin by reaction between dicyclopentadiene and phenol (for example, "EXA-7200" manufactured by DIC, Nippon Chemical Co., Ltd.) of manufacturing NC-7300”), epoxy resins represented by the following general formulas (B1) to (B4), and the like can be preferably used.
구체적으로는, 하기 일반식 (B1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (B2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (B4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 스미킨 화학사 제조의 「ESF-300」 등을 들 수 있다.Specifically, "XD-1000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B1), "NC-3000" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B2), and the following general formula As an epoxy resin represented by Formula (B4), "ESF-300" by Nippon Steel Sumikin Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned.
[화학식 6][Formula 6]
상기 일반식 (B1) 에 있어서, a 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R111 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 것을 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the above general formula (B1), a represents an average value and represents a number from 0 to 10. R 111 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. In addition, a plurality of R 111 present in one molecule may be the same or different.
[화학식 7][Formula 7]
상기 일반식 (B2) 에 있어서, b 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R121 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 것을 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the above general formula (B2), b represents an average value and represents a number from 0 to 10. R 121 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. In addition, a plurality of R 121 present in one molecule may be the same or different.
[화학식 8][Formula 8]
상기 일반식 (B3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (B3-1) 또는 (B3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 함유한다. c 는 2 또는 3 의 정수를 나타낸다.In the above general formula (B3), X represents a linking group represented by the following general formula (B3-1) or (B3-2). However, one or more adamantane structures are contained in the molecular structure. c represents an integer of 2 or 3;
[화학식 9][Formula 9]
[화학식 10][Formula 10]
상기 일반식 (B3-1) 및 (B3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.In the general formulas (B3-1) and (B3-2), R 131 to R 134 and R 135 to R 137 each independently represent an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, or a carbon number which may have a substituent An alkyl group of 1 to 12 or a phenyl group which may have a substituent is shown. * represents a bonding hand.
[화학식 11][Formula 11]
상기 일반식 (B4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.In the general formula (B4), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. R 143 and R 144 each independently represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. x and y each independently represent an integer greater than or equal to 0;
이들 중에서, 일반식 (B1) ∼ (B4) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use an epoxy resin represented by any of general formulas (B1) to (B4).
α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산(메트), 아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트에 (무수) 숙신산, (무수) 프탈산, (무수) 말레산 등의 산 (무수물) 을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다.Examples of the α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group include (meth)acrylic acid, crotonic acid, o-, m- or p-vinylbenzoic acid, and (meth)acrylic acid. α-position haloalkyl, alkoxyl, halogen, nitro, monocarboxylic acids such as cyano substituents, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyladipic acid, 2- (meth)acryloyloxyethylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylmaleic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylsuccinic acid, 2 -(meth)acryloyloxypropyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylmale Acid, 2-(meth)acryloyloxybutylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxybutyladipic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylhydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxy Lactones such as ε-caprolactone, β-propiolactone, γ-butyrolactone, and δ-valerolactone are added to butylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxybutylmaleic acid (meth), and acrylic acid. a monomer obtained by adding an acid (anhydride) such as (anhydride) succinic acid, (anhydride) phthalic acid, or (anhydride) maleic acid to a monomer or hydroxyalkyl (meth)acrylate or pentaerythritol tri(meth)acrylate; (meth)acrylic acid dimer etc. are mentioned.
이들 중, 감도의 점에서, 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.Among these, (meth)acrylic acid is particularly preferred in terms of sensitivity.
에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다.As a method for adding an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin, a known method can be used. For example, an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group and an epoxy resin can be reacted at a temperature of 50 to 150° C. in the presence of an esterification catalyst. .
여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.Examples of the esterification catalyst used herein include tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, and dodecyltrimethylammonium chloride. etc. can be used.
또한, 에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매는, 모두 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.In addition, the epoxy resin, the α,β-unsaturated monocarboxylic acid or the α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, and the esterification catalyst may be used alone or in combination of two or more. You can do it.
α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대하여 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다.The amount of α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably 0.7 to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. to 1.1 equivalents.
α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량이 적으면 불포화기의 도입량이 부족하고, 계속되는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 불충분해진다. 또, 다량의 에폭시기가 잔존하는 것도 유리하지 않다. 한편, 그 사용량이 많으면 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르가 미반응물로서 잔존한다. 어느 경우도 경화 특성이 악화되는 경향이 확인된다.When the amount of α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is small, the amount of unsaturated group introduced becomes insufficient, and the subsequent reaction with the polybasic acid and/or its anhydride becomes insufficient. It is also not advantageous that a large amount of epoxy groups remain. On the other hand, when the amount used is large, α,β-unsaturated monocarboxylic acid or α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group remains as an unreacted substance. In either case, the tendency for hardening characteristics to deteriorate is confirmed.
다염기산 및/또는 그 무수물로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물 등에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of polybasic acids and/or their anhydrides include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, and endomethylenetetra. One or two or more selected from hydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and anhydrides thereof.
바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 2 무수물이다.Preferably, it is maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or an anhydride thereof. Particularly preferred are tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, tetrahydrophthalic anhydride, or biphenyltetracarboxylic dianhydride.
다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지된 수법을 사용할 수 있고, 에폭시 수지에 대한 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다.A known method can also be used for the addition reaction of a polybasic acid and/or its anhydride, and an addition reaction of an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group to an epoxy resin Under the same conditions, the reaction can be continued to obtain the desired product.
다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성하는 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가가 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎎KOH/g 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상이다. 또, 바람직하게는 150 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 140 ㎎KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 120 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 경화성능이 양호해지는 경향이 있다.The added amount of the polybasic acid and/or its anhydride component is such that the acid value of the resulting carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 20 mgKOH/g or more, still more preferably is greater than or equal to 50 mgKOH/g. Further, the range is preferably 150 mgKOH/g or less, more preferably 140 mgKOH/g or less, and still more preferably 120 mgKOH/g. Alkali developability tends to be good when it is set to the above lower limit or more, and curing performance tends to be good when it is set to the above upper limit or less.
또한, 이 다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 다관능 알코올을 첨가하여, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다.In the addition reaction of this polybasic acid and/or its anhydride, polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane, pentaerythritol, and dipentaerythritol may be added to introduce a multibranched structure.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 통상적으로 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물을 혼합한 후, 혹은 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물 및 다관능 알코올을 혼합한 후에, 가온함으로써 얻어진다.A carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin is usually prepared by adding a polybasic acid and/or an anhydride thereof to a reaction product of an epoxy resin and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group. After mixing, or after mixing a polybasic acid and/or its anhydride and a polyfunctional alcohol with a reactant of an epoxy resin and an α,β-unsaturated monocarboxylic acid or an α,β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group, It is obtained by heating.
이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다관능 알코올의 혼합 순서에 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다관능 알코올의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대해 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.In this case, the order of mixing the polybasic acid and/or its anhydride with the polyfunctional alcohol is not particularly limited. By heating, polybasic acids and/or polybasic acids and/or polybasic acids and/or polybasic acids and/or their Anhydride reacts with addition.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상이고, 보다 바람직하게는 2000 이상, 더욱 바람직하게는 3000 이상, 특히 바람직하게는 4000 이상이다. 또, 통상적으로 10000 이하, 바람직하게는 8000 이하, 보다 바람직하게는 6000 이하이다. 이 중량 평균 분자량이 작으면, 현상액에 대한 용해성이 높고, 지나치게 크면 현상액에 대한 용해성이 낮다.The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin is usually 1000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more, It is more preferably 3000 or more, and particularly preferably 4000 or more. Moreover, it is 10000 or less normally, Preferably it is 8000 or less, More preferably, it is 6000 or less. When this weight average molecular weight is small, solubility in a developing solution is high, and when it is too large, solubility in a developing solution is low.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 수지를 혼합하여 사용해도 된다.A carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types of resin.
또, 전술한 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일부를, 다른 바인더 수지로 치환하여 사용해도 된다. 즉, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 다른 바인더 수지를 병용해도 된다. 이 경우에 있어서, (b) 알칼리 가용성 수지에 있어서의 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 비율을, 50 질량% 이상, 특히 80 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.Moreover, you may use it, replacing some of the above-mentioned carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin with another binder resin. That is, you may use together the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin and another binder resin. In this case, the ratio of the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin in the (b) alkali-soluble resin is preferably 50% by mass or more, particularly 80% by mass or more.
카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 병용할 수 있는 다른 바인더 수지에 제한은 없고, 감광성 착색 조성물에 통상적으로 사용되는 수지에서 선택하면 된다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-271727호, 일본 공개특허공보 2007-316620호, 일본 공개특허공보 2007-334290호 등에 기재된 바인더 수지 등을 들 수 있다. 또한, 다른 바인더 수지는 모두 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Other binder resins that can be used in combination with the carboxyl group-containing epoxy (meth)acrylate resin are not limited, and may be selected from resins commonly used in photosensitive coloring compositions. For example, the binder resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-271727, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-316620, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-334290 etc. are mentioned. In addition, all other binder resins may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
또, (b) 알칼리 가용성 수지로서, 안료나 분산제 등과의 상용성의 관점에서, 아크릴계 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 것을 바람직하게 사용할 수 있다.Moreover, as (b) alkali-soluble resin, it is preferable to use acrylic resin from a compatible viewpoint with a pigment, a dispersing agent, etc., and what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466 can be used suitably.
아크릴계 수지로는, 예를 들어, 1 개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b1)」 이라고 한다) 와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b2)」 라고 한다) 의 공중합체를 들 수 있다.As the acrylic resin, for example, an ethylenically unsaturated monomer having at least one carboxyl group (hereinafter referred to as "unsaturated monomer (b1)") and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as "unsaturated monomer (b2)" referred to as) can be mentioned.
불포화 단량체 (b1) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로르아크릴산, 계피산과 같은 불포화 모노카르복실산 ; 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산과 같은 불포화 디카르복실산 또는 그 무수물 ; 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 과 같은 2 가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르 ; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트와 같은 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메트)아크릴레이트 ; p-비닐벤조산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monomer (b1) include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; Mono[(meth)acryloyloxyalkyl] of divalent or higher polyhydric carboxylic acids such as succinate mono[2-(meth)acryloyloxyethyl] and phthalate mono[2-(meth)acryloyloxyethyl] ester; mono(meth)acrylates of polymers having carboxyl groups and hydroxyl groups at both terminals such as ω-carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate; p-vinyl benzoic acid etc. are mentioned.
이들 불포화 단량체 (b1) 은, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b1) can be used individually or in mixture of 2 or more types.
또, 불포화 단량체 (b2) 로는, 예를 들어, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 N- 위치 치환 말레이미드 ; 스티렌, α-메틸스티렌, p-하이드록시스티렌, p-하이드록시-α-메틸스티렌, p-비닐벤질글리시딜에테르, 아세나프틸렌과 같은 방향족 비닐 화합물 ; Moreover, as an unsaturated monomer (b2), N-position substituted maleimide like N-phenyl maleimide and N-cyclohexyl maleimide, for example; aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, p-vinylbenzyl glycidyl ether, and acenaphthylene;
메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글루콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글루콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시페닐(메트)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]옥세탄, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]-3-에틸옥세탄과 같은 (메트)아크릴산에스테르 ;Methyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate , polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth)acrylate, polypropylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth)acrylate, polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) mono(meth)acrylate , Polypropylene glycol (degree of polymerization 2-10) mono (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl ( meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, glycerol mono(meth)acrylate, 4-hydroxyphenyl (meth)acrylate, ethylene oxide modified (meth)acrylate of paracumylphenol, glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, 3-[(meth)acryloyloxymethyl]oxetane, 3-[(meth)acryloyloxymethyl]-3- (meth)acrylic acid esters such as ethyl oxetane;
시클로헥실비닐에테르, 이소보르닐비닐에테르, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일비닐에테르, 펜타시클로펜타데카닐비닐에테르, 3-(비닐옥시메틸)-3-에틸옥세탄과 같은 비닐에테르 ; 폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산과 같은 중합체 분자 사슬의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 매크로모노머 등을 들 수 있다.Cyclohexyl vinyl ether, isobornyl vinyl ether, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl vinyl ether, pentacyclopentadecanyl vinyl ether, 3-(vinyloxymethyl)-3-ethyloxetane vinyl ethers such as; and macromonomers having mono(meth)acryloyl groups at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl(meth)acrylate, poly-n-butyl(meth)acrylate, and polysiloxane.
이들 불포화 단량체 (b2) 는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2) can be used individually or in mixture of 2 or more types.
불포화 단량체 (b1) 과 불포화 단량체 (b2) 의 공중합체에 있어서, 그 공중합체 중의 불포화 단량체 (b1) 의 공중합 비율은, 바람직하게는 5 ∼ 50 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 질량% 이다. 이와 같은 범위에서 불포화 단량체 (b1) 을 공중합시킴으로써, 알칼리 현상성 및 보존 안정성이 우수한 감광성 착색 조성물을 얻을 수 있는 경향이 있다.In the copolymer of the unsaturated monomer (b1) and the unsaturated monomer (b2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (b1) in the copolymer is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass. . By copolymerizing the unsaturated monomer (b1) within such a range, a photosensitive coloring composition excellent in alkali developability and storage stability tends to be obtained.
불포화 단량체 (b1) 과 불포화 단량체 (b2) 의 공중합체의 구체예로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-140654호, 일본 공개특허공보 평8-259876호, 일본 공개특허공보 평10-31308호, 일본 공개특허공보 평10-300922호, 일본 공개특허공보 평11-174224호, 일본 공개특허공보 평11-258415호, 일본 공개특허공보 2000-56118호, 일본 공개특허공보 2004-101728호 등에 개시되어 있는 공중합체를 들 수 있다.As a specific example of the copolymer of an unsaturated monomer (b1) and an unsaturated monomer (b2), For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 7-140654, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-259876, Unexamined-Japanese-Patent No. 10 -31308, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-300922, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 11-174224, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 11-258415, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-56118, Japanese Unexamined Patent Publication 2004-101728 and copolymers disclosed in Ho et al.
불포화 단량체 (b1) 과 불포화 단량체 (b2) 의 공중합체는, 공지된 방법에 의해 제조할 수 있지만, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2003-222717호, 일본 공개특허공보 2006-259680호, 국제 공개 제2007/029871호 등에 개시되어 있는 방법에 의해, 그 구조나 Mw, Mw/Mn 을 제어할 수도 있다.Although the copolymer of an unsaturated monomer (b1) and an unsaturated monomer (b2) can be manufactured by a well-known method, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-222717, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-259680, International Publication The structure, Mw, and Mw/Mn can also be controlled by a method disclosed in Japanese Patent No. 2007/029871 or the like.
<(c) 광 중합 개시제><(c) photopolymerization initiator>
(c) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수하여, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생시키는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.(c) The photopolymerization initiator is a component having a function of directly absorbing light to cause a decomposition reaction or a hydrogen withdrawal reaction to generate polymerization active radicals. You may add and use additives, such as a polymerization accelerator (chain transfer agent) and a sensitizing dye, as needed.
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (c) 광 중합 개시제는, 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유한다. 이와 같이, 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유함으로써, 그 카르바졸 골격 중에 함유되는 나프탈렌 고리에 의해 장파장광에 대한 흡광성이 높아져, 도막 내부의 가교 밀도를 높일 수 있고, 또, 구조 중에 할로겐 원자를 가지고 있기 때문에 도막 표면에 당해 화합물이 분포하기 쉽고, 산소 저해의 영향에 의해 막표면의 가교 밀도가 과도하게 높아지는 것을 억제할 수 있는 것으로 생각된다.The (c) photoinitiator in the photosensitive coloring composition of this invention contains the oxime ester type compound represented by following formula (I). In this way, by containing the oxime ester compound represented by the following formula (I), the light absorbency to long wavelength light is increased by the naphthalene ring contained in the carbazole skeleton, and the crosslinking density inside the coating film can be increased, and Since it has a halogen atom in its structure, it is considered that the compound is easily distributed on the surface of the coating film, and the excessive increase in crosslinking density on the surface of the film due to the influence of oxygen inhibition can be suppressed.
[화학식 12][Formula 12]
상기 일반식 (I) 중,In the general formula (I),
R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.R 1 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.R 2 represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.
R3 은 수소 원자, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다.R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.R 4 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R5 및 R6 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리를 나타낸다. 단, R5 및 R6 중 적어도 어느 하나는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이다.R 5 and R 6 each independently represent a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent. However, at least any one of R5 and R6 is a naphthalene ring which may have a substituent.
R1 및 R4 중 적어도 어느 하나는, 치환기로서 -OR7 기를 갖는다. 단 R7 은 할로게노알킬기를 나타낸다.At least one of R 1 and R 4 has an -OR 7 group as a substituent. provided that R 7 represents a halogenoalkyl group.
X 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.X represents a direct bond or a carbonyl group.
Z 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.Z represents a direct bond or a carbonyl group.
R1 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 30 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 통상적으로 4 이상이고, 6 이상인 것이 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 용해성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도와 용해성의 양립이 용이해지는 경향이 있다.As an aromatic ring group in R< 1 >, an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group are mentioned. The number of carbon atoms is preferably 30 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less. Moreover, it is 4 or more normally, and it is preferable that it is 6 or more. By setting it below the said upper limit, solubility tends to become favorable, and when setting it below the said lower limit, both sensitivity and solubility tend to become easy.
방향족 탄화수소 고리기는, 1 개의 유리 원자가를 갖는 방향족 탄화수소 고리를 의미한다. 방향족 탄화수소 고리기의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 되고, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다.An aromatic hydrocarbon ring group means an aromatic hydrocarbon ring having one free valence. The aromatic hydrocarbon ring of the aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, and a benzpyrene ring. , chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, fluorene ring and the like.
또, 방향족 복소 고리기는, 1 개의 유리 원자가를 갖는 방향족 복소 고리를 의미한다. 방향족 복소 고리기의 방향족 복소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 되고, 예를 들어, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등을 들 수 있다.In addition, an aromatic heterocyclic group means an aromatic heterocyclic ring having one free valence. The aromatic heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, Oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring , phenanthridine ring, benzoimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring and the like.
방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 알킬기, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자, 할로게노알킬기 (수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환된 알킬기), 할로게노알콕시기 (수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환된 알콕시기) 등을 들 수 있고, 표면 경화성의 관점에서는 할로겐 원자, 할로게노알킬기 또는 할로게노알콕시기가 바람직하고, 또, 합성 용이성의 관점에서는 무치환인 것이 바람직하다.As the substituent which an aromatic ring group may have, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenoalkyl group (an alkyl group in which part or all of hydrogen atoms are substituted with halogen atoms), a halogenoalkoxy group (some or all of hydrogen atoms are alkoxy group substituted with a halogen atom), etc., and a halogen atom, a halogenoalkyl group, or a halogenoalkoxy group is preferable from the viewpoint of surface curability, and unsubstituted is preferable from the viewpoint of ease of synthesis.
이들 중에서도, 감도의 관점에서는, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소 고리기인 것이 바람직하고, 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of sensitivity, an aromatic hydrocarbon ring group which may have a substituent is preferable, and a benzene ring group which may have a substituent is more preferable.
R2 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감도의 관점에서 2 이상인 것이 바람직하다. 또, 감도의 관점에서 20 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 7 이하인 것이 더욱 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 3 이하인 것이 특히 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkanoyl group in R 2 is not particularly limited, but is preferably 2 or more from the viewpoint of sensitivity. Also, from the viewpoint of sensitivity, it is preferably 20 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 7 or less, still more preferably 5 or less, and particularly preferably 3 or less.
알카노일기의 구체예로는, 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 감도의 관점에서, 아세틸기 또는 프로파노일기가 바람직하고, 아세틸기가 보다 바람직하다.As a specific example of an alkanoyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a butanoyl group, etc. are mentioned, Among these, from a viewpoint of a sensitivity, an acetyl group or a propanoyl group is preferable, and an acetyl group is more preferable.
알카노일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자 등을 들 수 있고, 감도의 관점에서 무치환인 것이 바람직하다.As the substituent that the alkanoyl group may have, a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are exemplified, and unsubstituted is preferable from the viewpoint of sensitivity.
R2 에 있어서의 아릴로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감도의 관점에서 7 이상인 것이 바람직하다. 또, 감도의 관점에서 20 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하고, 8 이하인 것이 특히 바람직하다.The number of carbon atoms in the aryloyl group in R 2 is not particularly limited, but is preferably 7 or more from the viewpoint of sensitivity. Moreover, from a viewpoint of a sensitivity, it is preferable that it is 20 or less, it is more preferable that it is 12 or less, it is still more preferable that it is 10 or less, and it is especially preferable that it is 8 or less.
아릴로일기의 구체예로는, 벤조일기, 메틸벤조일기, 나프토일기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 감도의 관점에서, 벤조일기가 보다 바람직하다.A benzoyl group, a methylbenzoyl group, a naphthoyl group etc. are mentioned as a specific example of an aryloyl group, Among these, from a viewpoint of a sensitivity, a benzoyl group is more preferable.
아릴로일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자 등을 들 수 있고, 감도의 관점에서 무치환인 것이 바람직하다.A hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom etc. are mentioned as a substituent which an aryloyl group may have, and it is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of a sensitivity.
이들 중에서도, 감도의 관점에서 R2 를, 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기로 하는 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기로 하는 것이 보다 바람직하고, 아세틸기로 하는 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of sensitivity, R 2 is preferably an alkanoyl group which may have a substituent, more preferably an unsubstituted alkanoyl group, and still more preferably an acetyl group.
R3 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용해성의 관점에서 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 5 이상인 것이 더욱 바람직하고, 7 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 상용성의 관점에서 20 이하인 것이 바람직하고, 15 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkyl group in R 3 is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, still more preferably 5 or more, and particularly preferably 7 or more from the viewpoint of solubility. Moreover, from a compatible viewpoint, it is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and still more preferably 10 or less.
알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 용해성의 관점에서, 옥틸기 또는 2-에틸헥실기가 바람직하고, 2-에틸헥실기가 보다 바람직하다.Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a 2-ethylhexyl group. Among these, from the viewpoint of solubility, an octyl group or A 2-ethylhexyl group is preferred, and a 2-ethylhexyl group is more preferred.
알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자, 인산기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서 무치환인 것이 더욱 바람직하다.Examples of the substituent that the alkyl group may have include a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and a phosphoric acid group, and from the viewpoint of ease of synthesis, unsubstituted ones are more preferred.
이들 중에서도, 용해성의 관점에서 R3 을, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기로 하는 것이 바람직하고, 무치환의 알킬기로 하는 것이 보다 바람직하고, 2-에틸헥실기로 하는 것이 더욱 바람직하다.Among these, from a solubility viewpoint, R 3 is preferably an alkyl group which may have a substituent, more preferably an unsubstituted alkyl group, and still more preferably a 2-ethylhexyl group.
R4 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 30 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 통상적으로 4 이상이고, 6 이상인 것이 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 용해성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도와 용해성의 양립이 용이해지는 경향이 있다.Examples of the aromatic ring group for R 4 include aromatic hydrocarbon ring groups and aromatic heterocyclic groups. The number of carbon atoms is preferably 30 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less. Moreover, it is 4 or more normally, and it is preferable that it is 6 or more. By setting it below the said upper limit, solubility tends to become favorable, and when setting it below the said lower limit, both sensitivity and solubility tend to become easy.
방향족 탄화수소 고리기는, 1 개의 유리 원자가를 갖는 방향족 탄화수소 고리를 의미한다. 방향족 탄화수소 고리기의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 되고, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다.An aromatic hydrocarbon ring group means an aromatic hydrocarbon ring having one free valence. The aromatic hydrocarbon ring of the aromatic hydrocarbon ring group may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, and a benzpyrene ring. , chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, fluorene ring and the like.
또, 방향족 복소 고리기는, 1 개의 유리 원자가를 갖는 방향족 복소 고리를 의미한다. 방향족 복소 고리기의 방향족 복소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 된다. 예를 들어, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등을 들 수 있다.In addition, an aromatic heterocyclic group means an aromatic heterocyclic ring having one free valency. The aromatic heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring. For example, furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, p Rolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzoimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, A quinazolinone ring, an azulene ring, etc. are mentioned.
방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 알킬기, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자 등을 들 수 있고, 용해성의 관점에서 알킬기, 또는 알콕시기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 더욱 바람직하다.Examples of the substituent that the aromatic ring group may have include an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and the like, and from the viewpoint of solubility, an alkyl group or an alkoxy group is preferable, an alkyl group is more preferable, and a methyl group is still more preferable.
치환기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 용해성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 3 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 상용성의 관점에서, 10 이하가 바람직하고, 5 이하가 보다 바람직하고, 4 이하가 더욱 바람직하다.The number of substituents is not particularly limited, but from the viewpoint of solubility, it is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, still more preferably 3 or more. Moreover, from a compatibility viewpoint, 10 or less is preferable, 5 or less is more preferable, and 4 or less is still more preferable.
이들 중에서도, 용해성의 관점에서 R4 를, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소 고리기로 하는 것이 바람직하고, 2 이상의 메틸기를 갖는 방향족 탄화수소 고리기로 하는 것이 보다 바람직하고, 메시틸기로 하는 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of solubility, R 4 is preferably an aromatic hydrocarbon ring group which may have a substituent, more preferably an aromatic hydrocarbon ring group having two or more methyl groups, and still more preferably a mesityl group.
R5 및 R6 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리, 또는 나프탈렌 고리를 나타낸다. 단, R5 및 R6 중 적어도 어느 하나는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이다. 구체적인 조합으로는, R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리이고, R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리인 조합, R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이고, R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리인 조합, R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이고, R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리인 조합을 들 수 있다.R 5 and R 6 each independently represent a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring. However, at least any one of R5 and R6 is a naphthalene ring which may have a substituent. Specific combinations include a combination in which R 5 is a benzene ring which may have a substituent, and R 6 is a naphthalene ring which may have a substituent; R 5 is a naphthalene ring which may have a substituent; and R 6 is a naphthalene ring which may have a substituent. A combination of a benzene ring, a combination in which R 5 is a naphthalene ring which may have a substituent, and R 6 is a naphthalene ring which may have a substituent are exemplified.
이들 중에서도, 흡광성의 관점에서는, R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이고, 또한 R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리인 조합을 들 수 있다.Among these, combinations in which R 5 is a naphthalene ring which may have a substituent and R 6 is a benzene ring which may have a substituent are exemplified from the viewpoint of light absorption.
R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리인 경우, 벤젠 고리의 1 위치에 N 원자가 결합하고, 2 위치에 R6 이 결합하고, 4 위치에 X 가 결합하는 양태를 들 수 있다. 동일하게, R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리인 경우, 벤젠 고리의 1 위치에 N 원자가 결합하고, 2 위치에 R5 가 결합하고, 4 위치에 Z 가 결합하는 양태를 들 수 있다.When R 5 is a benzene ring which may have a substituent, an N atom bonds to the 1-position of the benzene ring, R 6 bonds to the 2-position, and X bonds to the 4-position of the benzene ring. Similarly, when R 6 is a benzene ring which may have a substituent, an N atom is bonded to the 1st position of the benzene ring, R 5 is bonded to the 2nd position, and Z is bonded to the 4th position of the benzene ring.
한편, R5 가 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리인 경우, 식 (I) 에 있어서 R5 에 결합하는 X, N 원자, R6 은, 그 나프탈렌 고리의 어느 위치에 결합하고 있어도 된다. 예를 들어, 나프탈렌 고리의 1 위치에 N 원자가 결합하고, 2 위치에 R6 이 결합하고, 4 위치에 X 가 결합한 양태나, 나프탈렌 고리의 1 위치에 R6 이 결합하고, 2 위치에 N 원자가 결합하고, 6 위치에 X 가 결합한 양태 등을 들 수 있다.On the other hand, when R 5 is a naphthalene ring which may have a substituent, the X, N atom and R 6 bonded to R 5 in formula (I) may be bonded to any position of the naphthalene ring. For example, an N atom is bonded to the 1-position of the naphthalene ring, R 6 is bonded to the 2-position, and X is bonded to the 4-position, or R 6 is bonded to the 1-position of the naphthalene ring and the N atom is bonded to the 2-position. and an embodiment in which X is bonded to the 6-position.
동일하게, R6 이 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리인 경우, 식 (I) 에 있어서 R6 에 결합하는 Z, N 원자, R5 는, 그 나프탈렌 고리의 어느 위치에 결합하고 있어도 된다. 예를 들어, 나프탈렌 고리의 1 위치에 N 원자가 결합하고, 2 위치에 R5 가 결합하고, 4 위치에 Z 가 결합한 양태나, 나프탈렌 고리의 1 위치에 R5 가 결합하고, 2 위치에 N 원자가 결합하고, 6 위치에 Z 가 결합한 양태 등을 들 수 있다.Similarly, when R 6 is a naphthalene ring which may have a substituent, the Z, N atom and R 5 bonded to R 6 in formula (I) may be bonded to any position of the naphthalene ring. For example, an N atom is bonded to the 1-position of the naphthalene ring, R 5 is bonded to the 2-position, and Z is bonded to the 4-position, or R 5 is bonded to the 1-position of the naphthalene ring and the N atom is bonded to the 2-position. and an embodiment in which Z is bonded to the 6-position.
R5 및 R6 에 있어서의 벤젠 고리나 나프탈렌 고리가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 알콕시기, 할로겐 원자 등을 들 수 있고, 감도의 관점에서, 무치환인 것이 더욱 바람직하다.Examples of the substituents that the benzene ring or naphthalene ring may have in R 5 and R 6 include hydroxyl groups, alkoxy groups, halogen atoms, and the like, and unsubstituted ones are more preferred from the viewpoint of sensitivity.
R1 및 R4 중 적어도 어느 하나는, 치환기로서 -OR7 기를 갖는다. R1 이 -OR7 기를 가지고 있어도 되고, R4 가 -OR7 기를 가지고 있어도 되고, R1 및 R4 가 각각 독립적으로 -OR7 기를 가지고 있어도 된다. 이들 중에서도 감도의 관점에서는, R1 이 -OR7 기를 가지고 있는 것이 바람직하다.At least one of R 1 and R 4 has an -OR 7 group as a substituent. R 1 may have an -OR 7 group, R 4 may have an -OR 7 group, and R 1 and R 4 may each independently have an -OR 7 group. Among these, from the viewpoint of sensitivity, it is preferable that R 1 has a -OR 7 group.
R7 은 할로게노알킬기를 나타내지만, R7 에 있어서의 할로게노알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용해성의 관점에서 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 3 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 상용성의 관점에서 10 이하인 것이 바람직하고, 7 이하인 것이 보다 바람직하고, 5 이하인 것이 더욱 바람직하다.Although R 7 represents a halogenoalkyl group, the number of carbon atoms of the halogenoalkyl group in R 7 is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and still more preferably 3 or more from the viewpoint of solubility. Moreover, from a compatible viewpoint, it is preferably 10 or less, more preferably 7 or less, and still more preferably 5 or less.
할로게노알킬기에 있어서의 탄소 사슬은, 직사슬이어도 되고, 분기 사슬이어도 되고, 고리형이어도 되지만, 제조 용이성의 관점에서는 직사슬인 것이 바람직하다.The carbon chain in the halogenoalkyl group may be straight, branched, or cyclic, but from the viewpoint of ease of manufacture, a straight chain is preferable.
할로게노알킬기가 갖는 할로겐 원자의 수는 특별히 한정되지 않지만, 용해성의 관점에서 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 3 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 상용성의 관점에서 7 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하고, 5 이하인 것이 더욱 바람직하다.The number of halogen atoms in the halogenoalkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, still more preferably 3 or more, from the viewpoint of solubility. Moreover, from a compatible viewpoint, it is preferably 7 or less, more preferably 6 or less, and still more preferably 5 or less.
할로게노알킬기의 구체예로는, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로펜틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 제조 용이성의 관점에서 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기가 보다 바람직하다.Specific examples of the halogenoalkyl group include a 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a 2,2,3,3,4,4,5,5- An octafluoropentyl group etc. are mentioned, Among these, a 2,2,3,3- tetrafluoropropyl group is more preferable from a viewpoint of manufacture ease.
할로게노알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 알콕시기 등을 들 수 있고, 제조 용이성의 관점에서는 무치환인 것이 바람직하다.As the substituent which the halogenoalkyl group may have, a hydroxyl group, an alkoxy group, etc. are mentioned, and unsubstituted is preferable from a viewpoint of manufacture ease.
X 는 직접 결합 또는 카르보닐기를 나타내지만, 밀착성의 관점에서는 직접 결합인 것이 바람직하고, 감도의 관점에서는 카르보닐기인 것이 바람직하다.X represents a direct bond or a carbonyl group, but is preferably a direct bond from the viewpoint of adhesiveness, and preferably a carbonyl group from the viewpoint of sensitivity.
또, Z 는 직접 결합 또는 카르보닐기를 나타내지만, 밀착성의 관점에서는 직접 결합인 것이 바람직하고, 감도의 관점에서는 카르보닐기인 것이 바람직하다.Moreover, although Z represents a direct bond or a carbonyl group, it is preferable that it is a direct bond from a viewpoint of adhesiveness, and it is preferable that it is a carbonyl group from a viewpoint of sensitivity.
상기 일반식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물의 구체예로는, 이하의 것을 들 수 있다.The following are mentioned as a specific example of the oxime ester type compound represented by the said general formula (I).
[화학식 13][Formula 13]
[화학식 14][Formula 14]
[화학식 15][Formula 15]
[화학식 16][Formula 16]
[화학식 17][Formula 17]
[화학식 18][Formula 18]
[화학식 19][Formula 19]
[화학식 20][Formula 20]
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (c) 광 중합 개시제는, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유하는 것이지만, 그 밖의 광 중합 개시제를 추가로 함유하는 것이어도 된다.(c) The photoinitiator in the photosensitive coloring composition of this invention contains the oxime ester type compound represented by the said General formula (I), but may further contain another photoinitiator.
그 밖의 광 중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 함유하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호, 국제 공개 제2008/075564호, 국제 공개 제2009/131189호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있다.Examples of other photopolymerization initiators include metallocene compounds containing titanocene compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-152396 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-151197; Hexaarylbiimidazole derivatives described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-56118; N-aryl-α-amino acids and N-aryl-α-amino acids, such as halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives, and N-phenylglycine described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-39503 , radical activators such as N-aryl-α-amino acid esters, and α-aminoalkylphenone derivatives; The oxime ester derivative described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-80068, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-36750, International Publication No. 2008/075564, International Publication No. 2009/131189, etc. are mentioned.
광 중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
광 중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 잔텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 밖에, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.To the photopolymerization initiator, if necessary, a sensitizing dye corresponding to the wavelength of the image exposure light source and a polymerization accelerator can be blended for the purpose of increasing the sensitivity. As the sensitizing dye, the xanthene dye described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 4-221958 and Japanese Unexamined Patent Publication Hei 4-219756, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 3-239703, and Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 5-289335 A coumarin dye having a heterocyclic ring, a 3-ketocoumarin compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 3-239703 and Japanese Unexamined Patent Publication Hei 5-289335, a pyrromethene dye described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 6-19240, In addition, Japanese Unexamined Patent Publication No. 47-2528, Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-155292, Japanese Unexamined Patent Publication No. 45-37377, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-84183, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52-112681 No., Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-15503, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-88005, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-56403, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-69, Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-168088 No., Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-107761, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-210240, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-288818, etc. which have a dialkylaminobenzene skeleton are mentioned.
이들 증감 색소 중 바람직한 것은, 아미노기 함유 증감 색소이고, 더욱 바람직한 것은, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히, 바람직한 것은, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다.Among these sensitizing dyes, amino group-containing sensitizing dyes are preferred, and compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule are more preferred. Particularly preferred are, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzo benzophenone compounds such as phenone, 3,3'-diaminobenzophenone, and 3,4-diaminobenzophenone; 2-(p-dimethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzo[4,5]benzooxazole, 2-(p -Dimethylaminophenyl)benzo[6,7]benzoxazole, 2,5-bis(p-diethylaminophenyl)-1,3,4-oxazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzothiazole , 2-(p-diethylaminophenyl)benzothiazole, 2-(p-dimethylaminophenyl)benzimidazole, 2-(p-diethylaminophenyl)benzimidazole, 2,5-bis(p- Diethylaminophenyl)-1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl)pyridine, (p-diethylaminophenyl)pyridine, (p-dimethylaminophenyl)quinoline, (p-diethylamino and p-dialkylaminophenyl group-containing compounds such as phenyl)quinoline, (p-dimethylaminophenyl)pyrimidine, and (p-diethylaminophenyl)pyrimidine. Most preferable among these is 4,4'-dialkylamino benzophenone.
증감 색소도 또 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.A sensitizing dye may also be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
중합 촉진제로는, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polymerization accelerator include aromatic amines such as p-dimethylaminobenzoate and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, and mercapto compounds described later. used A polymerization accelerator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
<(d) 에틸렌성 불포화 화합물><(d) ethylenically unsaturated compound>
본 발명의 감광성 착색 조성물은, (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유함으로써, 감도가 향상된다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (d) an ethylenically unsaturated compound. (d) Sensitivity is improved by containing an ethylenically unsaturated compound.
본 발명에 사용되는 에틸렌성 불포화 화합물은, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르 등을 들 수 있다.The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated group in its molecule. Specifically, examples thereof include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid alkyl esters, acrylonitrile, styrene, and monoesters of a carboxylic acid having one ethylenically unsaturated bond and a polyhydric or monohydric alcohol. there is.
본 발명에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 2 이상이고, 바람직하게는 4 이상이고, 보다 바람직하게는 5 이상이고, 또, 바람직하게는 8 이하이고, 보다 바람직하게는 7 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용매에 대한 용해성이 향상되는 경향이 있다.In this invention, it is especially preferable to use the polyfunctional ethylenic monomer which has 2 or more ethylenically unsaturated groups in 1 molecule. The number of ethylenically unsaturated groups of the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and more preferably 8 or less. Preferably it is 7 or less. When the value is equal to or higher than the lower limit, the sensitivity tends to be high, and when the value is equal to or lower than the upper limit, the solubility in the solvent tends to be improved.
다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional ethylenic monomers include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; Esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; and esters obtained by esterification of polyhydric hydroxy compounds such as aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids and polybasic carboxylic acids.
상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르, 동일하게 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르, 크로네이트로 대신한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 대신한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.Esters of the aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Acrylic acid of aliphatic polyhydroxy compounds such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate Esters, methacrylic acid esters in which acrylates in these exemplary compounds are replaced with methacrylates, itaconic acid esters in which itaconate is replaced, crotonic acid esters in which cronate is replaced, or maleic acid esters in which maleate is replaced, etc. can be heard
방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include aromatic polyphenols such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinone diacrylate, resorcinone dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. Acrylic acid ester and methacrylic acid ester of a hydroxy compound, etc. are mentioned.
다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.Esters obtained by the esterification reaction of polybasic carboxylic acids and unsaturated carboxylic acids with polyvalent hydroxy compounds are not necessarily single substances, but typical examples include condensates of acrylic acid, phthalic acid, and ethylene glycol, acrylic acid, and maleic acid. A condensate of an acid and diethylene glycol, a condensate of methacrylic acid, terephthalic acid, and pentaerythritol, a condensate of acrylic acid, adipic acid, butanediol, and glycerin, and the like are exemplified.
그 밖에, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.In addition, examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include urethane (meth) obtained by reacting a polyisocyanate compound with a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester or a polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester Acrylates; Epoxy acrylates like addition reaction products of a polyhydric epoxy compound and hydroxy (meth)acrylate or (meth)acrylic acid; acrylamides such as ethylenebisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; Vinyl group-containing compounds, such as divinyl phthalate, etc. are useful.
상기 우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the urethane (meth)acrylates include DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.), U-2PPA, and U-6LPA. , U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B , UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), and the like.
이들 중에서도, 경화성의 관점에서 (d) 에틸렌성 불포화 화합물로서, (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable to use a (meth)acrylic acid alkyl ester as (d) an ethylenically unsaturated compound from a curable viewpoint, and it is more preferable to use dipentaerythritol hexaacrylate.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
<(e) 용제><(e) Solvent>
본 발명의 감광성 착색 조성물은 (e) 용제를 함유한다. (e) 용제를 함유함으로써, 안료를 용제 중에 분산시킬 수 있고, 또 도포가 용이해진다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (e) a solvent. (e) By containing a solvent, the pigment can be dispersed in the solvent and application becomes easy.
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상적으로 (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (f) 분산제, 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 각종 재료가 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 용제 중에서도, 분산성이나 도포성의 관점에서 유기 용제가 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention usually contains (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (f) a dispersant, and others used as needed. Various materials are used in a dissolved or dispersed state in a solvent. Among the solvents, organic solvents are preferred from the viewpoint of dispersibility and coating properties.
유기 용제 중에서도, 도포성의 관점에서 비점이 100 ∼ 300 ℃ 의 범위인 것을 선택하는 것이 바람직하고, 비점이 120 ∼ 280 ℃ 의 범위인 것을 선택하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 비점은, 압력 1013.25 h㎩ 에 있어서의 비점을 의미한다.Among the organic solvents, it is preferable to select those having a boiling point in the range of 100 to 300°C, and more preferably to select those having a boiling point in the range of 120 to 280°C, from the viewpoint of coatability. In addition, the boiling point here means the boiling point in pressure 1013.25 hPa.
이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 다음과 같은 것을 들 수 있다.As such an organic solvent, the following are mentioned, for example.
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol-t- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethyl pentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl -glycol monoalkyl ethers such as 3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, and tripropylene glycol methyl ether;
에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether ;
에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether Acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;
에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ;glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanol diacetate;
시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ;Alkyl acetates, such as cyclohexanol acetate;
아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether and dihexyl ether;
아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ;Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketones such as ketones, methyl nonyl ketones, and methoxymethylpentanone;
에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;Monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, and benzyl alcohol Ryu ;
n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, and dodecane;
시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ;alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, and bicyclohexyl;
벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ;aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and cumene;
아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부틸레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, Ethyl caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-methoxypropylpropionate, 3- chain or cyclic esters such as butyl methoxypropionate and γ-butyrolactone;
3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;
부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화탄화수소류 ;halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;
메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;ether ketones such as methoxymethylpentanone;
아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; and the like.
상기에 해당하는 시판되는 유기 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」 는 등록상표. 이하 동일), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다.Commercially available organic solvents that correspond to the above include mineral spirits, Barsol #2, Afco #18 solvent, Afco thinner, SoCal solvent No.1 and No.2, Solvesso #150, Shell TS28 solvent, Carbitol , Ethyl Carbitol, Butyl Carbitol, Methyl Cellosolve (“Cellosolve” is a registered trademark. The same applies hereinafter), Ethyl Cellosolve, Ethyl Cellosolve Acetate, Methyl Cellosolve Acetate, Diglyme (all trade names), etc. can be heard
이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These organic solvents may be used independently or may use 2 or more types together.
포토리소그래피법으로 착색 스페이서를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ (압력 1013.25 h㎩ 조건하. 이하, 비점에 관해서는 모두 동일.) 인 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.In the case of forming the colored spacer by photolithography, it is preferable to select an organic solvent having a boiling point in the range of 100 to 200 deg. It has a boiling point of 120-170 degreeC more preferably.
상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the above organic solvents, glycolalkyl ether acetates are preferred in terms of good balance in coating properties, surface tension, and the like, and relatively high solubility of constituent components in the composition.
또, 글리콜알킬에테르아세테이트류는, 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서, 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다.Moreover, although glycol alkyl ether acetates may be used independently, you may use other organic solvents together. As the organic solvent used in combination, glycol monoalkyl ethers are particularly preferred.
그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집되기 쉽고, 이후에 얻어지는 착색 수지 조성물의 점도가 높아지는 등의 보존 안정성이 저하되는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.Among them, propylene glycol monomethyl ether is particularly preferred in view of the solubility of constituent components in the composition. In addition, glycol monoalkyl ethers have high polarity, and when the amount of addition is too large, the pigment tends to aggregate, and the storage stability such as the viscosity of the colored resin composition obtained thereafter increases, so there is a tendency for glycol monoalkyl ethers in solvents 5 mass % - 30 mass % are preferable, and, as for the ratio, 5 mass % - 20 mass % are more preferable.
또, 150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」 라고 칭하는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비점 용제를 병용함으로써, 감광성 착색 조성물은 잘 건조되지 않지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다.Moreover, it is also preferable to use together the organic solvent which has a boiling point of 150 degreeC or more (it may be called a "high boiling point solvent" hereafter). By using such a high boiling point solvent together, the photosensitive coloring composition does not dry well, but there is an effect of preventing the uniform dispersion of the pigment in the composition from being destroyed by rapid drying.
즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의 색재 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도, 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.That is, there is an effect of preventing the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of a coloring material or the like at the tip of the slit nozzle, for example. From the viewpoint of such a high effect, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferred among the various solvents described above.
유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 색재 등이 석출·고화되어 이물질 결함을 일으키는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또 상기 상한값 이하로 함으로써 조성물의 건조 온도가 느려지는 것을 억제하여, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 자국과 같은 문제를 억제할 수 있는 경향이 있다.The content of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably from 3% by mass to 50% by mass, more preferably from 5% by mass to 40% by mass, particularly preferably from 5% by mass to 30% by mass. By setting it above the lower limit, for example, there is a tendency to suppress the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of colorants or the like at the tip of the slit nozzle, and by setting it below the above upper limit, the drying temperature of the composition is suppressed from slowing down, It tends to be able to suppress problems such as tact defects in the vacuum drying process and pin marks in prebaking.
또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가 글리콜알킬에테르아세테이트류이어도 되고, 또 글리콜알킬에테르류이어도 되고, 이 경우에는, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도로 함유시키지 않아도 상관없다.The high boiling point solvent having a boiling point of 150°C or higher may be glycol alkyl ether acetates or glycol alkyl ethers.
바람직한 고비점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.As a preferable high boiling point solvent, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol diacetate among the above-mentioned various solvents. , 1,6-hexanol diacetate, triacetin, and the like.
<(f) 분산제><(f) Dispersant>
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, (a) 착색제를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질의 안정성 확보에는 중요하기 때문에, (f) 분산제를 함유한다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, finely dispersing (a) the colorant and stabilizing the dispersed state are important for securing the stability of quality, and therefore (f) contains a dispersing agent.
(f) 분산제로는, 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하고, 또한 분산 안정성 면에서 카르복실기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.(f) As the dispersing agent, a polymeric dispersing agent having a functional group is preferable, and from the viewpoint of dispersion stability, it is a carboxyl group; a phosphoric acid group; sulfonic acid group; or bases thereof; primary, secondary or tertiary amino groups; quaternary ammonium base; A polymeric dispersant having a functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine is preferable.
그 중에서도 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 특히 바람직하다.Among them, a primary, secondary or tertiary amino group; quaternary ammonium base; A polymeric dispersant having a basic functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine is particularly preferable from the viewpoint that a small amount of the dispersant can be dispersed when dispersing the pigment.
또, 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.In addition, as the polymer dispersing agent, for example, a urethane-based dispersing agent, an acrylic-based dispersing agent, a polyethyleneimine-based dispersing agent, a polyallylamine-based dispersing agent, a dispersing agent composed of a monomer and a macromonomer having an amino group, a polyoxyethylene alkyl ether-based dispersing agent, polyoxyethylenedi Ester dispersants, polyether phosphoric acid dispersants, polyester phosphoric acid dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, aliphatic modified polyester dispersants, and the like are exemplified.
이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로, EFKA (등록상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록상표. 빅케미사 제조.), 디스파론 (등록상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다.Specific examples of such a dispersant include, as trade names, EFKA (registered trademark. manufactured by BASF), DISPERBYK (registered trademark. manufactured by Big Chemie Co., Ltd.), Disparon (registered trademark. manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.), SOLSPERSE (registered trademark. manufactured by Lubrizol Corporation.), KP (produced by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (produced by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Ajispur (registered trademark. manufactured by Ajinomoto Corporation.), and the like.
이들 고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.These polymer dispersants may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또 통상적으로 100,000 이하, 바람직하게는 50,000 이하이다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymeric dispersant is usually 700 or more, preferably 1000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 50,000 or less.
이들 중, 안료의 분산성의 관점에서, (f) 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및/또는 아크릴계 고분자 분산제를 함유하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 함유하는 것이 특히 바람직하다.Among these, from the viewpoint of the dispersibility of the pigment, the dispersant (f) preferably contains a functional group-containing urethane polymer dispersant and/or an acrylic polymer dispersant, and particularly preferably contains an acrylic polymer dispersant.
또 분산성, 보존성 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.In view of dispersibility and storage stability, a polymeric dispersant having a basic functional group and a polyester bond and/or a polyether bond is preferable.
우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, LPN21116 등 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.Examples of the urethane-based and acrylic polymer dispersants include DISPERBYK160 to 166 and 182 series (all urethane-based), DISPERBYK2000, 2001, and LPN21116 (all acrylic-based) (all of which are manufactured by Big Chemie Co., Ltd.).
우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시한다면, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1,000 ∼ 200,000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.If a specific chemical structure is exemplified as a urethane-based polymer dispersant, for example, a polyisocyanate compound, a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the molecule, and an active hydrogen and a tertiary compound in the same molecule A dispersion resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000 obtained by reacting a compound having an amino group, and the like are exemplified. By treating these with a quaternizing agent such as benzyl chloride, all or part of the tertiary amino groups can be converted to a quaternary ammonium base.
상기의 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 수소 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the above polyisocyanate compounds include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as tolidine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4' -Methylene bis(cyclohexyl isocyanate), ω,ω'-diisocyanate, alicyclic diisocyanate such as dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α,α,α',α'-tetramethylxylylene diisocyanate, etc. direction Cyclic aliphatic diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanates such as triisocyanate, tris(isocyanate phenylmethane) and tris(isocyanate phenyl)thiophosphate, trimers thereof, hydrogen adducts, and polyol adducts thereof; and the like.
폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As the polyisocyanate, a trimer of organic diisocyanate is preferred, and a trimer of tolylene diisocyanate and isophorone diisocyanate are most preferred. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕사이드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 사용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거하여 목적으로 하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.As a method for producing a trimer of isocyanate, the polyisocyanate is partially formed from an isocyanate group using an appropriate trimerization catalyst, for example, tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylates, etc. After performing trimerization and stopping the trimerization by adding a catalyst poison, unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction and thin-film distillation to obtain the target isocyanurate group-containing polyisocyanate. can
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of compounds having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol, and the like, and the hydroxyl group at one end of these compounds having 1 to 25 carbon atoms. and those alkoxylated with an alkyl group of , and mixtures of two or more of these.
폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the polyether glycol include polyether diols, polyether ester diols, and mixtures of two or more of these. As the polyetherdiol, those obtained by singly or copolymerizing alkylene oxides, for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol, and Mixtures of two or more of them are exemplified.
폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다.The polyether ester diol is obtained by reacting an ether group-containing diol or a mixture with another glycol with a dicarboxylic acid or an anhydride thereof, or by reacting an alkylene oxide with polyester glycol, for example, poly(poly Oxytetramethylene) adipate etc. are mentioned.
폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.Polyether glycol is most preferably polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, or a compound in which the hydroxyl group at one terminal of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.
폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알칸올아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.As polyester glycol, dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or their anhydrides and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentylglycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1, 6-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2, Aliphatic glycols such as 5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol, and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, and xylylene glycol, aromatic glycols such as bishydroxyethoxybenzene, N-alkyl dialkanolamines such as N-methyldiethanolamine, etc.) obtained by polycondensation, for example, polyethylene adipate, polybutylene adipate, poly Hexamethylene adipate, polyethylene/propylene adipate, etc., or a polylactone diol or polylactone monool obtained by using the diols or a monohydric alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator, such as polycaprolactone glycol and polymethyl valerolactone and mixtures of two or more thereof. Most preferable as the polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone using an alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator.
폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다.Examples of polycarbonate glycol include poly(1,6-hexylene)carbonate and poly(3-methyl-1,5-pentylene)carbonate, and examples of polyolefin glycol include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, and hydrogenated polyolefin glycol. Isoprene glycol etc. are mentioned.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 통상적으로 300 ∼ 10,000, 바람직하게는 500 ∼ 6,000, 더욱 바람직하게는 1,000 ∼ 4,000 이다.The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is usually 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, and more preferably 1,000 to 4,000.
본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.Compounds having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention are described.
활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급의 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.Examples of the hydrogen atom directly bonded to an active hydrogen, that is, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. Atoms are preferred.
3 급 아미노기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리 등을 들 수 있다.Although the tertiary amino group is not particularly limited, examples thereof include an amino group having an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms or a heterocyclic structure, more specifically an imidazole ring or a triazole ring.
이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시한다면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.Examples of such compounds having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule include N,N-dimethyl-1,3-propanediamine, N,N-diethyl-1,3-propanediamine, and N,N-diamine. Propyl-1,3-propanediamine, N,N-dibutyl-1,3-propanediamine, N,N-dimethylethylenediamine, N,N-diethylethylenediamine, N,N-dipropylethylenediamine, N ,N-dibutylethylenediamine, N,N-dimethyl-1,4-butanediamine, N,N-diethyl-1,4-butanediamine, N,N-dipropyl-1,4-butanediamine, N ,N-dibutyl-1,4-butanediamine, etc. are mentioned.
또, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원자 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원자 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.In addition, examples of the nitrogen-containing heterocycle in the case where the tertiary amino group has a nitrogen-containing heterocyclic structure include a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, and a benzene ring. Imidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, nitrogen-containing hetero 5-membered ring such as benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring , nitrogen-containing hetero 6-membered rings such as an acridine ring and an isoquinoline ring. Among these nitrogen-containing heterocycles, an imidazole ring or a triazole ring is preferable.
이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다.Specific examples of compounds having an imidazole ring and an amino group include 1-(3-aminopropyl)imidazole, histidine, 2-aminoimidazole, and 1-(2-aminoethyl)imidazole.
또, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다.In addition, if a compound having a triazole ring and an amino group is specifically exemplified, 3-amino-1,2,4-triazole, 5-(2-amino-5-chlorophenyl)-3-phenyl-1H-1, 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino -1,4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole, etc. are mentioned.
그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.Among them, N,N-dimethyl-1,3-propanediamine, N,N-diethyl-1,3-propanediamine, 1-(3-aminopropyl)imidazole, 3-amino-1,2,4 -Triazoles are preferred.
이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대하여, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.A preferable blending ratio of raw materials when producing a urethane-based polymer dispersant is 10 to 200 parts by mass of a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to 100 parts by mass of the polyisocyanate compound. It is preferably 20 to 190 parts by mass, more preferably 30 to 180 parts by mass, and 0.2 to 25 parts by mass, preferably 0.3 to 24 parts by mass of a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule.
우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 통상적으로 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제 2 부탄올, 제 3 부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The preparation of the urethane-based polymer dispersant is carried out according to a known method for the preparation of polyurethane resins. As the solvent for production, usually ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, Hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and hexane, some alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, secondary butanol and tertiary butanol, chlorides such as methylene chloride and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether aprotic polar solvents such as sulfur, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, and dimethyl sulfoxide are used. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
상기 제조시에, 통상적으로 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어, 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스태너스옥토에이트 등의 주석계, 철 아세틸아세토네이트, 염화 제 2 철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.In the above preparation, a urethanization reaction catalyst is usually used. Examples of the catalyst include tin-based catalysts such as dibutyltindilaurate, dioctyltindilaurate, dibutyltindioctoate and stannous octoate, iron-based catalysts such as iron acetylacetonate and ferric chloride, tri and tertiary amines such as ethylamine and triethylenediamine. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위에서 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는, 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 아민가가 상기 범위보다 낮으면 분산 능력이 저하되는 경향이 있고, 또, 상기 범위를 초과하면 현상성이 저하되기 쉬워진다.The introduced amount of the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled within the range of 1 to 100 mgKOH/g based on the amine titer after the reaction. More preferably, it is the range of 5-95 mgKOH/g. The amine value is a value obtained by titrating neutralization of a basic amino group with an acid and expressing it in mg number of KOH corresponding to the acid value. When the amine value is lower than the above range, the dispersibility tends to decrease, and when the amine value exceeds the above range, developability tends to decrease.
또한, 이상의 반응에서 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 또한, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 부수면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.In addition, in the case where isocyanate groups remain in the polymer dispersant in the above reaction, it is also preferable to break the isocyanate groups with an alcohol or an amino compound because the stability over time of the product is increased.
우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 1,000 ∼ 200,000, 바람직하게는 2,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 3,000 ∼ 50,000 의 범위이다. 이 분자량이 1,000 미만에서는 분산성 및 분산 안정성이 떨어지고, 200,000 을 초과하면 용해성이 저하되어 분산성이 떨어짐과 동시에 반응의 제어가 곤란해진다.The weight average molecular weight (Mw) of the urethane-based polymer dispersant is usually in the range of 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, and more preferably 3,000 to 50,000. If the molecular weight is less than 1,000, dispersibility and dispersion stability are poor, and if it exceeds 200,000, solubility is lowered, dispersibility is poor, and reaction control becomes difficult.
아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산 제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.As the acrylic polymer dispersant, random copolymers and graft copolymers of an unsaturated group-containing monomer having a functional group (the functional group referred to herein is a functional group described above as a functional group contained in the polymer dispersant) and an unsaturated group-containing monomer having no functional group , it is preferred to use a block copolymer. These copolymers can be prepared by known methods.
관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As the monomer containing an unsaturated group having a functional group, (meth)acrylic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylphthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexane Unsaturated monomers having a carboxyl group such as hydrophthalic acid and acrylic acid dimer, tertiary amino groups such as dimethylaminoethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate and quaternary products thereof, and unsaturated monomers having a quaternary ammonium base can be mentioned as a specific example. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로모노머, 폴리카프로락톤 매크로모노머 등의 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having no functional group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, iso Butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxymethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, tricyclodecane (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, N-vinylpyrrolidone , styrene and its derivatives, α-methylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-substituted maleimides such as N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate and polymethyl(meth)acryl and macromonomers such as late macromonomers, polystyrene macromonomers, poly 2-hydroxyethyl (meth)acrylate macromonomers, polyethylene glycol macromonomers, polypropylene glycol macromonomers, and polycaprolactone macromonomers. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
아크릴계 고분자 분산제는, 특히 바람직하게는, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체이지만, 이 경우, A 블록 중에는 상기 관능기를 함유하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 함유하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 함유하지 않는 부분 구조의 A 블록 중의 함유량은, 통상적으로 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다.The acrylic polymer dispersant is particularly preferably an A-B or B-A-B block copolymer composed of an A block having a functional group and a B block having no functional group, but in this case, the portion derived from the unsaturated group-containing monomer containing the functional group in the A block In addition to the structure, partial structures derived from unsaturated group-containing monomers that do not contain the above functional groups may be contained, and these may be contained in either random copolymerization or block copolymerization in the A block. Further, the content in the A block of the partial structure not containing a functional group is usually 80% by mass or less, preferably 50% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less.
B 블록은, 상기 관능기를 함유하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어지는 것이지만, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은, 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.Although the B block consists of a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer containing no functional group, one B block may contain partial structures derived from two or more types of monomers, and these are random copolymerized in the B block. Or you may contain in any aspect of block copolymerization.
그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어, 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.The AB or B-A-B block copolymer is prepared, for example, by a living polymerization method shown below.
리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있고, 이 중, 아니온 리빙 중합법은, 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.The living polymerization method includes an anionic living polymerization method, a cationic living polymerization method, and a radical living polymerization method. Among them, the anionic living polymerization method is an anionic polymerization active species, and is represented by, for example, the following scheme.
[화학식 21][Formula 21]
상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , M is a metal atom, and s and t are each an integer of 1 or greater.
라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.In the radical living polymerization method, the polymerization active species are radicals, and are represented, for example, by the following scheme.
[화학식 22][Formula 22]
상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이고, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이고, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , j and k are each an integer greater than or equal to 1, R a is a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R b is a hydrogen atom different from R a or a monovalent organic group.
이 아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코우이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조우, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43,300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.When synthesizing this acrylic polymer dispersant, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-62002, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), Koichi Ute, Kouichi Hatada, Polymer Processing, 36, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Polymer Journal, 46, 189 (1989) , M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43,300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) and the like. there is.
본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체이어도 되고, B-A-B 블록 공중합체이어도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 분산성과 보존 안정성의 밸런스의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.The acrylic polymer dispersant that can be used in the present invention may be an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer, and the A block/B block ratio constituting the copolymer is 1/99 to 80/20, particularly 5/95 to It is preferable that it is 60/40 (mass ratio), and there is a tendency that a balance between dispersibility and storage stability can be secured by setting it within this range.
또, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양은, 통상적으로 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.In addition, the amount of the quaternary ammonium base in 1 g of the A-B block copolymer and the B-A-B block copolymer that can be used in the present invention is usually preferably 0.1 to 10 mmol, and good dispersibility can be secured by keeping it within this range. tend to have
또한, 이와 같은 블록 공중합체 중에는, 통상적으로 제조 과정에서 생긴 아미노기가 함유되는 경우가 있지만, 그 아민가는 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 정도이고, 분산성의 관점에서, 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎎KOH/g 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상, 또, 바람직하게는 90 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎎KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 75 ㎎KOH/g 이하이다.In addition, in such a block copolymer, there are cases where amino groups generated during the production process are usually contained, but the amine value is about 1 to 100 mgKOH/g, and from the viewpoint of dispersibility, preferably 10 mgKOH/g or more , More preferably 30 mgKOH/g or more, still more preferably 50 mgKOH/g or more, and also preferably 90 mgKOH/g or less, more preferably 80 mgKOH/g or less, still more preferably It is 75 mgKOH/g or less.
여기서, 이들 블록 공중합체 등의 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.Here, the amine value of dispersants such as these block copolymers is expressed by the amount of base per 1 g of the solid content in the dispersant sample excluding the solvent and the mass of equivalent KOH, and is measured by the following method.
100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해시킨다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하여 다음 식에 의해 아민가를 구한다.0.5 to 1.5 g of the dispersant sample is precisely weighed in a 100 ml beaker, and dissolved in 50 ml of acetic acid. Using an automatic titrator equipped with a pH electrode, this solution was subjected to neutralization titration with a 0.1 mol/L HClO 4 acetic acid solution. The inflection point of the titration pH curve is used as the end point of the titration, and the amine titer is determined by the following equation.
아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S)Amine value [mgKOH/g] = (561 × V)/(W × S)
[단, W : 분산제 시료 칭취량 (秤取量) [g], V : 적정 종점에서의 적정량 [㎖], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다][However, W: Weighing amount of dispersant sample [g], V: titration amount at titration end point [ml], S: solid content concentration [mass%] of dispersant sample]
또, 이 블록 공중합체의 산가는, 그 산가의 기초가 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 편이 바람직하고, 통상적으로 10 ㎎KOH/g 이하이고, 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1000 ∼ 100,000 의 범위가 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.In addition, the acid value of this block copolymer varies depending on the presence or absence and type of the acidic group that is the basis of the acid value, but generally the lower one is preferable, and is usually 10 mgKOH / g or less, and its weight average molecular weight ( Mw) is preferably in the range of 1000 to 100,000. There exists a tendency that favorable dispersibility can be ensured by setting it within the said range.
4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 경우, 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (i)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.When it has a quaternary ammonium salt group as a functional group, although it does not specifically limit about the specific structure of a polymer dispersing agent, From a dispersible viewpoint, the repeating unit represented by the following formula (i) (Hereinafter, it may be called "repeating unit (i)". ) is preferred.
[화학식 23][Formula 23]
상기 식 (i) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R34 는 수소 원자 또는 메틸기이다. X 는 2 가의 연결기이고, Y- 는 카운터 아니온이다.In the formula (i), R 31 to R 33 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted aralkyl group, and among R 31 to R 33 Two or more may be bonded to each other to form a cyclic structure. R 34 is a hydrogen atom or a methyl group. X is a divalent linking group, and Y - is a counter anion.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 in the formula (i) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 10 or less, and more preferably 6 or less.
알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and the like. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Or it is preferable that it is a hexyl group, and it is more preferable that it is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. Moreover, either a linear form or a branched form may be sufficient. Moreover, you may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexylmethyl group.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms in the aryl group which may have a substituent in R 31 to R 33 in the formula (i) is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less.
아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and the like, and among these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, or a di It is preferable that it is an ethylphenyl group, and it is more preferable that it is a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 in the formula (i) is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less.
아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenylbutylene group, and a phenyl isopropylene group. Among these, a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, or It is preferably a phenylbutylene group, and more preferably a phenylmethylene group or a phenylethylene group.
이들 중에서도, 분산성의 관점에서, R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는, R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of dispersibility, it is preferable that R 31 to R 33 are each independently an alkyl group or an aralkyl group, and specifically, R 31 and R 33 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 32 is It is preferably a phenylmethylene group or a phenylethylene group, more preferably R 31 and R 33 are methyl groups, and R 32 is a phenylmethylene group.
또, 상기 고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (ii)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, when the said polymeric dispersing agent has a tertiary amine as a functional group, it is preferable to have a repeating unit represented by the following formula (ii) from a dispersible viewpoint (it may be referred to as "repeating unit (ii)" hereinafter). .
[화학식 24][Formula 24]
상기 식 (ii) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R37 은 수소 원자 또는 메틸기이다. Z 는 2 가의 연결기이다.In the above formula (ii), R 35 and R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 35 and R 36 are They may be bonded to each other to form a cyclic structure. R 37 is a hydrogen atom or a methyl group. Z is a divalent linking group.
또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Moreover, as an alkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the formula (i) can be preferably employed.
동일하게, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Similarly, as the aryl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the formula (i) can be preferably employed. Moreover, as an aralkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the formula (i) can be preferably employed.
이들 중에서도, R35 및 R36 이 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, R 35 and R 36 are each independently preferably an alkyl group which may have a substituent, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.Examples of substituents that the alkyl, aralkyl or aryl groups in R 31 to R 33 in the formula (i) and R 35 and R 36 in the formula (ii) may have include a halogen atom, an alkoxy group, a benzoyl group, and a hydroxyl group. etc. can be mentioned.
상기 식 (i) 및 (ii) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43- 기, -COOR44- 기 [단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다] 등을 들 수 있고, 바람직하게는 -COO-R44- 기이다.In the formulas (i) and (ii), examples of the divalent linking group X and Z include an alkylene group of 1 to 10 carbon atoms, an arylene group of 6 to 12 carbon atoms, a -CONH-R 43 - group, and -COOR. 44 -group [provided that R 43 and R 44 are a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an ether group (alkyloxyalkyl group) having 2 to 10 carbon atoms]; and the like, preferably -COO- R 44 - group.
또, 상기 식 (i) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.Moreover, in the said formula (i), as Y< - > of a counter anion, Cl- , Br- , I- , ClO4- , BF4- , CH3COO- , PF6- etc. are mentioned.
상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않는다. 분산성의 관점에서, 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대해 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이다. 또, 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다.The content ratio of the repeating unit represented by the formula (i) is not particularly limited. From the viewpoint of dispersibility, the total of the content of the repeating unit represented by the formula (i) and the content of the repeating unit represented by the formula (ii) is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol%. or less, more preferably 40 mol% or less, and particularly preferably 35 mol% or less. Moreover, it is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, and particularly preferably 30 mol% or more.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (i) in all the repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, it is preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, It is more preferable that it is 10 mol% or more. Moreover, it is preferable that it is 50 mol% or less, it is more preferable that it is 30 mol% or less, it is still more preferable that it is 20 mol% or less, and it is especially preferable that it is 15 mol% or less.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (ii) in all the repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, it is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, It is more preferable that it is 15 mol% or more, and it is especially preferable that it is 20 mol% or more. Moreover, it is preferable that it is 60 mol% or less, it is more preferable that it is 40 mol% or less, it is still more preferable that it is 30 mol% or less, and it is especially preferable that it is 25 mol% or less.
또, 고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iii)」 이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the polymeric dispersant is a repeating unit represented by the following formula (iii) from the viewpoint of enhancing compatibility with binder components such as solvents and improving dispersion stability (hereinafter sometimes referred to as "repeating unit (iii)") ) is preferred.
[화학식 25][Formula 25]
상기 식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.In the formula (iii), R 40 is an ethylene group or a propylene group, R 41 is an optionally substituted alkyl group, and R 42 is a hydrogen atom or a methyl group. n is an integer from 1 to 20;
상기 식 (iii) 의 R41 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하다. 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다.Although the number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 41 of the formula (iii) is not particularly limited, it is usually 1 or more, preferably 2 or more. Moreover, it is preferable that it is 10 or less, and it is more preferable that it is 6 or less.
알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.A methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group etc. are mentioned as a specific example of an alkyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or a hexyl group is preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group is more preferable. Moreover, either a linear form or a branched form may be sufficient. Moreover, you may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexylmethyl group.
또, 상기 식 (iii) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is 1 or more, and, as for n in the said formula (iii), it is more preferable that it is 2 or more from a viewpoint of compatibility and dispersibility with respect to binder components, such as a solvent. Moreover, it is preferable that it is 10 or less, and it is more preferable that it is 5 or less.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위 내의 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (iii) in all the repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mol% or more, more preferably 2 mol% or more, and 4 mol% or more. more preferable Moreover, it is preferable that it is 30 mol% or less, it is more preferable that it is 20 mol% or less, and it is still more preferable that it is 10 mol% or less. In the case within the above range, compatibility with binder components such as solvents and dispersion stability tend to be compatible.
또, 고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iv)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the polymer dispersant is a repeating unit represented by the following formula (iv) from the viewpoint of enhancing the compatibility of the dispersant with a binder component such as a solvent and improving dispersion stability (hereinafter referred to as "repeating unit (iv)") It is preferable to have).
[화학식 26][Formula 26]
상기 식 (iv) 중, R38 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이다. R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.In the formula (iv), R 38 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent. R 39 is a hydrogen atom or a methyl group.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다.Although the number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, it is usually 1 or more, preferably 2 or more, and more preferably 4 or more. Moreover, it is preferable that it is 10 or less, and it is more preferable that it is 8 or less.
알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.A methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group etc. are mentioned as a specific example of an alkyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, or a hexyl group is preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group is more preferable. Moreover, either a linear form or a branched form may be sufficient. Moreover, you may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexylmethyl group.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이다. 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다.Although the number of carbon atoms of the aryl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, it is usually 6 or more. Moreover, it is preferable that it is 16 or less, it is more preferable that it is 12 or less, and it is still more preferable that it is 8 or less.
아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and the like, and among these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, or a di It is preferable that it is an ethylphenyl group, and it is more preferable that it is a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.
상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms in the aralkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 7 or more and preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and 10 or less. more preferable
아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenylbutylene group, and a phenyl isopropylene group. Among these, a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, or It is preferably a phenylbutylene group, and more preferably a phenylmethylene group or a phenylethylene group.
이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 페닐메틸렌기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of solvent compatibility and dispersion stability, R 38 is preferably an alkyl group or an aralkyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenylmethylene group.
R38 에 있어서의 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, 아릴기 또는 아르알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기에는, 직사슬형 및 분기 사슬형 모두 포함된다.As a substituent which the alkyl group in R38 may have, a halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned. Moreover, as a substituent which an aryl group or an aralkyl group may have, a chain-like alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned. In addition, both linear and branched chain alkyl groups represented by R 38 are included.
또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서, 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, the content ratio of the repeating unit represented by the formula (iv) in all the repeating units of the polymer dispersant is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and 50 mol% or more, from the viewpoint of dispersibility. it is more preferable Moreover, it is preferable that it is 80 mol% or less, and it is more preferable that it is 70 mol% or less.
고분자 분산제는, 반복 단위 (i), 반복 단위 (ii), 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위를 가지고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.The polymeric dispersant may have repeating units other than repeating unit (i), repeating unit (ii), repeating unit (iii), and repeating unit (iv). Examples of such repeating units include styrenic monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth)acrylate type monomers such as (meth)acrylic acid chloride; (meth)acrylamide monomers such as (meth)acrylamide and N-methylolacrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; and repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine.
고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는 블록 공중합체인 것이 바람직하다.The polymeric dispersing agent is a block copolymer having an A block having repeating units (i) and repeating units (ii) and a B block having no repeating units (i) and repeating units (ii), from the viewpoint of further enhancing the dispersibility. chain is preferred.
그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (iii) 을 갖는 것이 바람직하고, 또한 반복 단위 (iv) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.The block copolymer is preferably an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer. By introducing not only a quaternary ammonium base into the A block but also a tertiary amino group, the dispersing ability of the dispersant unexpectedly tends to be significantly improved. Moreover, it is preferable that B block has a repeating unit (iii), and it is more preferable that it also has a repeating unit (iv).
A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.In the A block, the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in any mode of random copolymerization or block copolymerization. In addition, two or more types of repeating unit (i) and repeating unit (ii) may be contained in one A block, respectively, and in that case, each repeating unit is selected from random copolymerization and block copolymerization in the A block. You may contain in an aspect.
또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위가, A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위의 A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.Further, repeating units other than repeating unit (i) and repeating unit (ii) may be contained in the A block, and examples of such repeating units include repeating units derived from the above-mentioned (meth)acrylic acid ester monomers. can The content of repeating units other than repeating unit (i) and repeating unit (ii) in A block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but these repeating units are contained in A block It is best not to.
반복 단위 (iii) 및 (iv) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.Repeating units other than repeating units (iii) and (iv) may be contained in the B block, and examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth)acrylate type monomers such as (meth)acrylic acid chloride; (meth)acrylamide monomers such as (meth)acrylamide and N-methylolacrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; and repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine.
반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위의 B 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.The content of repeating units other than repeating unit (iii) and repeating unit (iv) in the B block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but these repeating units are contained in the B block It is best not to.
또 분산 안정성 향상의 점에서, (f) 분산제는, 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.Further, from the viewpoint of improving dispersion stability, the (f) dispersant is preferably used in combination with a pigment derivative described later.
<감광성 착색 조성물의 그 밖의 배합 성분><Other ingredients of photosensitive coloring composition>
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등을 적절히 배합할 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, in addition to the components described above, an adhesion improver such as a silane coupling agent, a coating property improver, a developing improver, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a surfactant, a pigment derivative, and the like can be suitably blended.
(1) 밀착 향상제(1) adhesion improver
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain an adhesion improver in order to improve adhesion with a substrate. As the adhesion improver, a silane coupling agent, a phosphoric acid group-containing compound, and the like are preferable.
실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지 것을 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a kind of silane coupling agent, various things, such as an epoxy type, a (meth)acrylic type, and an amino type, can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
바람직한 실란 커플링제로서 예를 들어, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는, 에폭시실란류의 실란 커플링제이다.As a preferable silane coupling agent, For example, (meth)acryloxysilanes, such as 3-methacryloxypropyl methyl dimethoxysilane and 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl) ) Epoxysilanes such as ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyl Although isocyanate silanes, such as ureidosilanes, such as triethoxysilane, and 3-isocyanate propyl triethoxysilane, are mentioned, Especially preferably, they are silane coupling agents of epoxysilanes.
인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.As the phosphoric acid group-containing compound, (meth)acryloyl group-containing phosphates are preferable, and those represented by the following general formula (g1), (g2) or (g3) are preferable.
[화학식 27][Formula 27]
상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수, m 은 1, 2 또는 3 이다.In the general formulas (g1), (g2) and (g3), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and l' are integers of 1 to 10, and m is 1, 2 or 3.
이들 인산기 함유 화합물도 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These phosphoric acid group-containing compounds may also be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
(2) 계면 활성제(2) surfactant
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 도포성 향상을 위해, 계면 활성제를 함유시켜도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a surfactant in order to improve coating properties.
계면 활성제로는, 예를 들어, 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성 면에서 효과적이다.As surfactant, various things, such as anionic, cationic, nonionic, and amphoteric surfactants, can be used, for example. Among them, it is preferable to use nonionic surfactants because of the low possibility of adversely affecting various properties, and among them, fluorine-based or silicone-based surfactants are effective in terms of coating properties.
이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들어, TSF4460 (GE 토시바 실리콘사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), F-470, F-475, F-478, F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (토레 실리콘사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (스미토모 3M 사 제조) 등을 들 수 있다.As such a surfactant, for example, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), DFX-18 (manufactured by Neos Co., Ltd.), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Big Chemie Co.), KP340 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) company), F-470, F-475, F-478, F-559 (manufactured by DIC), SH7PA (manufactured by Toray Silicon Co., Ltd.), DS-401 (manufactured by Daikin Co.), L-77 (manufactured by Nippon Unika Co., Ltd.) ), FC4430 (manufactured by Sumitomo 3M), and the like.
또한, 계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.In addition, surfactant may use 1 type, and may use 2 or more types together in arbitrary combinations and ratios.
(3) 안료 유도체(3) pigment derivatives
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a pigment derivative as a dispersing aid in order to improve dispersibility and storage stability.
안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.Pigment derivatives include azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazolone-based, quinophthalone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, anthraquinone-based, indanthrene-based, perylene-based, perinone-based, diketopyrrolo Although derivatives, such as a pyrrole type and a dioxazine type, are mentioned, Among them, the phthalocyanine type and a quinophthalone type are preferable.
안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또 이들 치환기는 하나의 안료 골격에 복수 치환되어 있어도 된다.Substituents of pigment derivatives include sulfonic acid groups, sulfonamide groups and quaternary salts thereof, phthalimidemethyl groups, dialkylaminoalkyl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, amide groups, etc. directly on the pigment skeleton, or alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, etc. What was bonded via , Preferably it is a sulfonic acid group. In addition, these substituents may be substituted in multiple numbers on one pigment skeleton.
안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the pigment derivative include sulfonic acid derivatives of phthalocyanine, sulfonic acid derivatives of quinophthalone, sulfonic acid derivatives of anthraquinone, sulfonic acid derivatives of quinacridone, sulfonic acid derivatives of diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of dioxazine. . These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
(4) 광산 발생제(4) Mineral generator
광산 발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이고, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다.A photoacid generator is a compound capable of generating an acid by ultraviolet rays, and a crosslinking reaction is promoted by the presence of a crosslinking agent such as a melamine compound by the action of an acid generated when exposed to light.
이러한 광산 발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직하다. 예를 들어, 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.Among these photoacid generators, those with high solubility in solvents, particularly those with high solubility in solvents used for photosensitive coloring compositions, are preferred. For example, diphenyliodonium, ditolyliodonium, phenyl (p-anisyl) iodonium, bis (m-nitrophenyl) iodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p- diaryl iodonium such as chlorophenyl)iodonium, bis(n-dodecyl)iodonium, p-isobutylphenyl(p-tolyl)iodonium, p-isopropylphenyl(p-tolyl)iodonium, or tri Chloride, bromide, or boric fluoride salt, hexafluorophosphate salt, hexafluoroarsenate salt, aromatic sulfonate salt, tetrakis (pentafluorophenyl) borate salt, etc. of triarylsulfonium such as phenylsulfonium, di Sulfonium organoboron complexes such as phenylphenacylsulfonium (n-butyl)triphenylborate, or 2-methyl-4,6-bistrichloromethyltriazine, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6 - Although triazine compounds, such as bistrichloromethyltriazine, etc. are mentioned, It is not limited to this.
(5) 가교제(5) cross-linking agent
본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 추가로 가교제를 첨가할 수 있고, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어, 하기 일반식 (6) 으로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.A crosslinking agent may be further added to the photosensitive coloring composition of the present invention, and for example, a melamine or guanamine-based compound may be used. Examples of these crosslinking agents include melamine or guanamine-based compounds represented by the following general formula (6).
[화학식 28][Formula 28]
식 (6) 중, R61 은 -NR66R67 기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고, R61 이 -NR66R67 기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나, 그리고 R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, 여기에 R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In formula (6), R 61 represents a group -NR 66 R 67 or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and when R 61 is a group -NR 66 R 67 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 , and when R 61 is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 represents a —CH 2 OR 68 group, R 62 , R 63 , R 64 , The rest of R 65 , R 66 and R 67 independently represent hydrogen or a -CH 2 OR 68 group, wherein R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합되어 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는, 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도, 메틸기 또는 에틸기, 특히 메틸기인 것이 바람직하다.Here, the C6-C12 aryl group is typically a phenyl group, 1-naphthyl group, or 2-naphthyl group, and substituents such as alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms may be bonded to these phenyl groups and naphthyl groups. The alkyl group and the alkoxy group may each have about 1 to 6 carbon atoms. Among the above, the alkyl group represented by R 68 is preferably a methyl group or an ethyl group, particularly a methyl group.
일반식 (6) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (6-1) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올X라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸X라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.In the melamine-based compound corresponding to the general formula (6), that is, the compound of the following general formula (6-1), hexamethylolmelamine, pentamethylol X lamin, tetramethylolmelamine, hexamethoxymethylmelamine, pentamene ToxymethylX lamin, tetramethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, etc. are included.
[화학식 29][Formula 29]
식 (6-1) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, 여기에 R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.In formula (6-1), when one of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 is an aryl group, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 is -CH 2 OR 68 group, and the remainder of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 independently represent a hydrogen atom or a -CH 2 OR 68 group, wherein R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
또, 일반식 (6) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (6) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.In addition, tetramethylolbenzoguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, trimethoxymethylbenzo in the guanamine-type compound corresponding to general formula (6), ie, the compound in which R61 is aryl in general formula (6) Guanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine and the like are included.
또한 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.A crosslinking agent having a methylol group or a methylolalkyl ether group can also be used. An example is given below.
2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올우론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디우레인 또는 그 테트라메틸에테르체.2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenol, 4-tert-butyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol, 5-ethyl-1,3-bis(hydroxymethyl)perhydro -1,3,5-triazin-2-one (commonly known as N-ethyldimethyloltriazone) or its dimethyl ether form, dimethyloltrimethylene urea or its dimethyl ether form, 3,5-bis(hydroxymethyl) Perhydro-1,3,5-oxadiazin-4-one (commonly known as dimethyloluron) or its dimethyl ether form, tetramethylolglyoxaldiurane or its tetramethyl ether form.
또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.In addition, these crosslinking agents may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. As for the quantity at the time of using a crosslinking agent, 0.1-15 mass % is preferable with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition, More preferably, it is 0.5-10 mass %.
(6) 메르캅토 화합물(6) Mercapto compounds
중합 촉진제로서 또, 기판에 대한 밀착성의 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가할 수도 있다.A mercapto compound may also be added as a polymerization accelerator and to improve the adhesion to the substrate.
메르캅토 화합물의 종류로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소 고리를 갖는 메르캅토 화합물 또는 지방족 다관능 메르캅토 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 여러 가지 것을 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Types of mercapto compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol Bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane trithioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane trithiopropionate, trimethylolpropane trithioglycolate , Pentaerythritol tetrakithiopropionate, pentaerythritol tetrakithioglycolate, trishydroxyethyl trithiopropionate, ethylene glycol bis (3-mercaptobutylate), butanediol bis (3-mercaptobutyl rate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropanetris (3-mercaptobutylate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptoisobutyrate) , mercapto having a heterocyclic ring such as 1,3,5-tris(3-mercaptobutyloxyethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione compounds or aliphatic polyfunctional mercapto compounds; and the like. These can use various things individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
<감광성 착색 조성물 중의 성분 배합량><Component blending amount in photosensitive coloring composition>
본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (a) 착색제의 함유량은, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분량에 대하여 통상적으로 10 질량% 이상이고, 20 질량% 이상인 것이 바람직하고, 또한 30 질량% 이상인 것이 바람직하다. 또, 통상적으로 60 질량% 이하인 것이 바람직하고, 또한 50 질량% 이하인 것이 바람직하다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the content of the (a) colorant is usually 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more with respect to the total solid content in the photosensitive coloring composition. . Moreover, it is preferable that it is 60 mass % or less normally, and it is more preferable that it is 50 mass % or less.
(a) 착색제의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 충분한 제판 특성을 얻기 쉬운 경향이 있다.(a) Sufficient optical density (OD) tends to be obtained when the content of the colorant is set at or above the lower limit, and sufficient plate making properties tend to be easily obtained when set at or below the upper limit.
또 제 1 양태 및 제 4 양태에 있어서는, (a) 착색제 100 질량부에 대한 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료는 1 질량부 이상인 것이 바람직하고, 2 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 3 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 30 질량부 이하인 것이 바람직하고, 20 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 15 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 10 질량부 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 7 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.Further, in the first aspect and the fourth aspect, (a) at least one pigment selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 1 part by mass or more, and preferably 2 parts by mass or more More preferably, it is more preferably 3 parts by mass or more. It is also preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, still more preferably 15 parts by mass or less, even more preferably 10 parts by mass or less, and particularly preferably 7 parts by mass or less. A sufficient optical density (OD) tends to be obtained when the value is equal to or greater than the lower limit, and plate making characteristics tend to be ensured when the value is equal to or less than the upper limit.
제 1 양태 및 제 4 양태에 있어서는 또, (a) 착색제 100 질량부에 대한 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료는 20 질량부 이상인 것이 바람직하고, 30 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 50 질량부 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 60 질량부 이상인 것이 특히 바람직하고, 65 질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 또, 90 질량부 이하인 것이 바람직하고, 80 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 75 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 70 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성을 확보할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.In the first aspect and the fourth aspect, (a) at least one pigment selected from the group consisting of a blue pigment and a purple pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 20 parts by mass or more, and preferably 30 parts by mass or more It is more preferably 40 parts by mass or more, still more preferably 50 parts by mass or more, particularly preferably 60 parts by mass or more, and most preferably 65 parts by mass or more. Moreover, it is preferably 90 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or less, still more preferably 75 parts by mass or less, and particularly preferably 70 parts by mass or less. There is a tendency that the light-shielding property can be ensured by setting the value to be equal to or greater than the lower limit, and the plate making property tends to be ensured by setting the value to be equal to or less than the upper limit.
또 제 2 양태에 있어서는, (a) 착색제 100 질량부에 대한 상기 일반식 (1) 로 나타내는 유기 흑색 안료의 함유량은, 5 질량부 이상인 것이 바람직하고, 10 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 20 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 40 질량부 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 60 질량부 이상인 것이 특히 바람직하고, 70 질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 또, 95 질량부 이하인 것이 바람직하고, 90 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 85 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 80 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성을 향상시킬 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 신뢰성 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.Further, in the second aspect, (a) the content of the organic black pigment represented by the general formula (1) relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, and 20 parts by mass It is more preferably 40 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, particularly preferably 60 parts by mass or more, and most preferably 70 parts by mass or more. Moreover, it is preferably 95 parts by mass or less, more preferably 90 parts by mass or less, still more preferably 85 parts by mass or less, and particularly preferably 80 parts by mass or less. There is a tendency that light-shielding properties can be improved by setting the value to be equal to or more than the lower limit, and a decrease in reliability tends to be suppressed by setting to the value equal to or less than the upper limit.
또 제 3 양태에 있어서는, (a) 착색제 100 질량부에 대한 유기 안료는 30 질량부 이상인 것이 바람직하고, 50 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 60 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 70 질량부 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 99 질량부 이하인 것이 바람직하고, 95 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 90 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 85 질량부 이하인 것이 특히 바람직하고, 80 질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 제판 특성의 확보를 할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있다.In the third aspect, (a) the amount of organic pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 30 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, still more preferably 60 parts by mass or more, and 70 parts by mass or more particularly preferred. Moreover, it is preferably 99 parts by mass or less, more preferably 95 parts by mass or less, still more preferably 90 parts by mass or less, particularly preferably 85 parts by mass or less, and most preferably 80 parts by mass or less. When the value is equal to or greater than the lower limit, the plate making properties tend to be ensured, and when the value is equal to or less than the upper limit, a sufficient optical density (OD) tends to be obtained.
또 제 3 양태에 있어서는, (a) 착색제 100 질량부에 대한 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료는 0 질량부 이상인 것이 바람직하고, 1 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 2 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 30 질량부 이하인 것이 바람직하고, 20 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 15 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 10 질량부 이하인 것이 특히 바람직하고, 0 질량부인 것이 가장 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.Further, in the third aspect, (a) at least one pigment selected from the group consisting of a red pigment and an orange pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 0 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, It is more preferable that it is 2 mass parts or more. Moreover, it is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, still more preferably 15 parts by mass or less, particularly preferably 10 parts by mass or less, and most preferably 0 parts by mass. A sufficient optical density (OD) tends to be obtained when the value is equal to or greater than the lower limit, and plate making characteristics tend to be ensured when the value is equal to or less than the upper limit.
제 3 양태에 있어서는 또, (a) 착색제 100 질량부에 대한 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료는 20 질량부 이상인 것이 바람직하고, 30 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 50 질량부 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 60 질량부 이상인 것이 특히 바람직하고, 65 질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 또, 90 질량부 이하인 것이 바람직하고, 85 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 80 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 차광성을 확보할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.In the third aspect, (a) at least one pigment selected from the group consisting of a blue pigment and a purple pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, It is more preferably 40 parts by mass or more, even more preferably 50 parts by mass or more, particularly preferably 60 parts by mass or more, and most preferably 65 parts by mass or more. Moreover, it is preferably 90 parts by mass or less, more preferably 85 parts by mass or less, and still more preferably 80 parts by mass or less. There is a tendency that the light-shielding property can be ensured by setting the value to be equal to or greater than the lower limit, and the plate making property tends to be ensured by setting the value to be equal to or less than the upper limit.
(a) 착색제가 유기 흑색 안료를 함유하는 경우, (a) 착색제 100 질량부에 대한 유기 흑색 안료는 5 질량부 이상인 것이 바람직하고, 10 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 20 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 50 질량부 이하인 것이 바람직하고, 40 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 20 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성을 확보할 수 있는 경향이 있다.(a) When the colorant contains an organic black pigment, (a) the amount of the organic black pigment relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 20 parts by mass or more Do. Moreover, it is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 40 parts by mass or less, still more preferably 30 parts by mass or less, and particularly preferably 20 parts by mass or less. A sufficient optical density (OD) tends to be obtained when the value is equal to or greater than the lower limit, and plate making characteristics tend to be secured when the value is equal to or less than the upper limit.
(a) 착색제가 카본 블랙을 함유하는 경우, (a) 착색제 100 질량부에 대한 카본 블랙은 5 질량부 이상인 것이 바람직하고, 10 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 20 질량부 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 50 질량부 이하인 것이 바람직하고, 40 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 35 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 30 질량부 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 제판 특성을 확보할 수 있는 경향이 있다.(a) When the colorant contains carbon black, (a) the amount of carbon black relative to 100 parts by mass of the colorant is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, and still more preferably 15 parts by mass or more, It is especially preferable that it is 20 mass parts or more. Further, it is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 40 parts by mass or less, still more preferably 35 parts by mass or less, and still more preferably 30 parts by mass or less. A sufficient optical density (OD) tends to be obtained when the value is equal to or greater than the lower limit, and plate making characteristics tend to be secured when the value is equal to or less than the upper limit.
(b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 25 질량% 이상, 특히 바람직하게는 30 질량% 이상이다. 통상적으로 85 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 50 질량% 이하, 특히 바람직하게는 40 질량% 이하이다.(b) The content ratio of the alkali-soluble resin is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention, still more preferably It is 25 mass % or more, Especially preferably, it is 30 mass % or more. Usually 85% by mass or less, preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, still more preferably 50% by mass or less, particularly preferably 40% by mass below
(b) 알칼리 가용성 수지의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다. 또 상기 상한값 이하로 함으로써, 노광부에 대한 현상액의 침투성이 높아지는 것을 억제할 수 있고, 화소의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다.(b) By making the content of the alkali-soluble resin more than the above lower limit, there is a tendency that a decrease in the solubility of the unexposed portion in the developing solution can be suppressed, and development defects can be suppressed. Moreover, by setting it below the said upper limit, it tends to be able to suppress the penetration|permeability of the developing solution to an exposed area from becoming high, and to suppress the fall of the sharpness and adhesiveness of a pixel.
(c) 광 중합 개시제의 함유 비율은 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량% 이상, 특히 바람직하게는 4 질량% 이상이다. 통상적으로 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7 질량% 이하이다.(c) The content of the photopolymerization initiator is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, still more preferably 2% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. % by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and particularly preferably 4% by mass or more. It is usually 15 mass% or less, preferably 10 mass% or less, more preferably 8 mass% or less, still more preferably 7 mass% or less.
(c) 광 중합 개시제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.(c) When the content ratio of the photopolymerization initiator is equal to or greater than the lower limit above, a decrease in sensitivity tends to be suppressed, and when the content ratio of the photopolymerization initiator is equal to or less than the upper limit, a decrease in the solubility of the unexposed portion in the developing solution is suppressed and defective development is suppressed. tend to be able to
(c) 광 중합 개시제 중에 함유되는 상기 일반식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이상, 특히 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 통상적으로 100 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 얻어지는 경화물의 표면 평활성이 양호해지는 경향이 있다.(c) The content ratio of the oxime ester-based compound represented by the general formula (I) contained in the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is usually 10% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more. % by mass or more, more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, and usually 100% by mass or less. By setting it to more than the said lower limit, the surface smoothness of the hardened|cured material obtained tends to become favorable.
(c) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유 비율은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 바람직하게는 0.05 질량% 이상이고, 통상적으로 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이고, 중합 촉진제는, (c) 광 중합 개시제 100 질량부에 대하여 통상적으로 0.1 ∼ 50 질량부, 특히 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용하는 것이 바람직하다.(c) When using a polymerization accelerator together with a photopolymerization initiator, the content ratio of the polymerization accelerator is preferably 0.05% by mass or more, and usually 10% by mass or less, relative to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention; It is preferably 5% by mass or less, and the polymerization accelerator is usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (c) photopolymerization initiator.
중합 촉진제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 노광 광선에 대한 감도의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.When the content ratio of the polymerization accelerator is equal to or greater than the lower limit above, a decrease in the sensitivity to exposure light tends to be suppressed, and when the content ratio of the polymerization accelerator is equal to or less than the upper limit, the decrease in solubility of the unexposed portion in the developing solution is suppressed, and development defects are reduced. It tends to be suppressed.
또, 본 발명의 감광성 착색 조성물 중에서 차지하는 증감 색소의 배합 비율은 감도의 관점에서 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분 중, 통상적으로 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이다.In addition, the blending ratio of the sensitizing dye in the photosensitive coloring composition of the present invention is usually 20% by mass or less, preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass of the total solid content in the photosensitive coloring composition from the viewpoint of sensitivity. below
(d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 30 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이하이다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율을 상기 상한값 이하로 함으로써, 노광부에 대한 현상액의 침투성이 높아지는 것을 억제하여, 양호한 화상을 얻는 것이 용이해지는 경향이 있다. 또한, (d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율의 하한값은, 통상적으로 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상이다.(d) The content of the ethylenically unsaturated compound is usually 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention. (d) By setting the content ratio of the ethylenically unsaturated compound to the above upper limit or less, it tends to suppress the increase in permeability of the developing solution to the exposed area and to obtain a good image. Further, (d) the lower limit of the content of the ethylenically unsaturated compound is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more.
또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 사용함으로써, 그 고형분 농도가 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 30 질량% 이하가 되도록 조액된다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, by using (e) a solvent, the solid concentration is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and usually 50% by mass or less, preferably 30% by mass. It is liquefied so that it may become % or less.
(f) 분산제의 함유 비율은 감광성 착색 조성물의 고형분 중 통상적으로 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하다. 또 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다.(f) The content of the dispersing agent is usually 1% by mass or more in the solid content of the photosensitive coloring composition, preferably 3% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more. Moreover, usually 30 mass % or less and 20 mass % or less are preferable, 15 mass % or less is more preferable, and 10 mass % or less is still more preferable.
또, (a) 착색제 100 질량부에 대한 (f) 분산제의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 15 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 통상적으로 50 질량부 이하, 특히 30 질량부 이하인 것이 바람직하다.The content ratio of (f) dispersant to 100 parts by mass of (a) colorant is usually 5 parts by mass or more and more preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 15 parts by mass or more, and usually 50 parts by mass. It is preferably less than or equal to 30 parts by mass or less.
(f) 분산제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성을 얻기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 상대적으로 다른 성분의 비율이 줄어듦으로써 감도, 제판성 등이 저하되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.(f) When the content ratio of the dispersant is equal to or greater than the lower limit above, sufficient dispersibility tends to be obtained, and when the ratio of the dispersant is equal to or less than the above upper limit, a decrease in sensitivity, platemaking properties, etc., due to a relatively reduced ratio of other components can be suppressed. tend to have
밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량% 이다. 밀착 향상제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 밀착성의 향상 효과를 충분히 얻을 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도가 저하되거나, 현상 후에 잔류물이 남아 결함이 되거나 하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.When using an adhesion improver, its content is usually 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, more preferably 0.4 to 2% by mass with respect to the total solid content in the photosensitive coloring composition. When the content ratio of the adhesion improver is set to the above lower limit or more, there is a tendency that the effect of improving adhesion can be sufficiently improved, and when the content is set to the above upper limit or less, the sensitivity is lowered or the remaining residue after development tends to become a defect. there is
또, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유량을 상기 하한값 이상으로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉽고, 다른 특성의 악화도 억제할 수 있는 경향이 있다.In the case of using a surfactant, its content is usually 0.001 to 10% by mass, preferably 0.005 to 1% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% by mass, most preferably 0.01 to 0.5% by mass, based on the total solid content in the photosensitive coloring composition. Preferably it is 0.03-0.3 mass %. The smoothness and uniformity of the coating film tend to be easily expressed when the content of the surfactant is set to be equal to or more than the lower limit above, and the smoothness and uniformity of the coating film are easily expressed when the content of the surfactant is set to be equal to or less than the upper limit value, and the deterioration of other characteristics can be suppressed. there is
<감광성 착색 조성물의 물성><Physical properties of photosensitive coloring composition>
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 착색 스페이서 형성용에 바람직하게 사용할 수 있고, 착색 스페이서로서 사용한다는 관점에서는 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하다. 또, 그 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도 (OD) 가 1.0 이상인 것이 바람직하고, 1.2 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.5 이상인 것이 더욱 바람직하고, 1.8 이상인 것이 특히 바람직하다. 통상적으로 4.0 이하이고, 3.0 이하인 것이 바람직하고, 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention can be preferably used for forming a colored spacer, and from the viewpoint of being used as a colored spacer, it is preferable to exhibit a black color. Further, the optical density (OD) per 1 μm of film thickness of the coating film is preferably 1.0 or more, more preferably 1.2 or more, still more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 1.8 or more. It is usually 4.0 or less, preferably 3.0 or less, and more preferably 2.5 or less.
<감광성 착색 조성물의 제조 방법><Method for producing photosensitive coloring composition>
본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「레지스트」 라고 칭하는 경우가 있다) 은, 통상적인 방법에 따라 제조된다.The photosensitive coloring composition (hereinafter sometimes referred to as "resist") of the present invention is produced by a conventional method.
통상적으로 (a) 착색제는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (a) 착색제가 미립자화되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.Usually, it is preferable to carry out dispersion treatment of (a) the colorant in advance using a paint conditioner, sand grinder, ball mill, roll mill, stone mill, jet mill, homogenizer or the like. By the dispersion treatment (a), since the colorant is finely divided, the coating properties of the resist are improved.
분산 처리는, 통상적으로 (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제, 그리고 (b) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리에서 얻어진 조성물을 「잉크」 또는 「안료 분산액」 이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (f) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 레지스트의 시간 경과적 증점이 억제되 (분산 안정성이 우수하) 므로 바람직하다.Dispersion treatment is usually preferably carried out in a system in which a part or all of (a) colorant, (e) solvent, (f) dispersant, and (b) alkali-soluble resin are used in combination (hereinafter referred to as dispersion treatment). The mixture and the composition obtained by the treatment are sometimes referred to as "ink" or "pigment dispersion"). Particularly (f) the use of a polymeric dispersant as the dispersant is preferred because the obtained ink and resist are suppressed in thickening over time (dispersion stability is excellent).
이와 같이, 레지스트를 제조하는 공정에 있어서, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다. 안료 분산액에 사용할 수 있는 (a) 착색제, (e) 유기 용제, 및 (f) 분산제로는, 각각 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Thus, in the process of manufacturing a resist, it is preferable to prepare a pigment dispersion liquid containing at least (a) a colorant, (e) a solvent, and (f) a dispersant. As the colorant (a), the organic solvent (e), and the dispersant (f) that can be used for the pigment dispersion, those described as those that can be used for the photosensitive coloring composition can be preferably employed.
또한, 감광성 착색 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대해 분산 처리를 실시했을 경우, 분산 처리시에 발생하는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 함유하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.Further, when a dispersion treatment is performed on a liquid containing all components to be blended in the photosensitive coloring composition, highly reactive components may be denatured due to heat generated during the dispersion treatment. Therefore, it is preferable to carry out the dispersion treatment in a system containing a polymeric dispersant.
샌드 그라인더로 (a) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 입자경의 유리 비즈 또는 지르코니아 비즈가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상적으로 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이하기 때문에 적절히 조절한다. 레지스트의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다.When dispersing (a) the coloring agent with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a particle diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. As for the dispersion treatment conditions, the temperature is usually in the range of 0°C to 100°C, preferably room temperature to 80°C. The dispersing time is appropriately adjusted because the appropriate time differs depending on the composition of the liquid and the size of the dispersing treatment device. Controlling the gloss of the ink so that the 20-degree specular gloss of the resist (JIS Z8741) is in the range of 50 to 300 is a criterion for dispersion.
레지스트의 광택도가 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않아 거친 안료 (색재) 입자가 남아 있는 경우가 많고, 현상성, 밀착성, 해상성 등이 불충분해질 가능성이 있다. 또, 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 실시하면, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 생기기 때문에, 오히려 분산 안정성이 저해되는 경향이 있다.When the gloss of the resist is low, the dispersion treatment is not sufficient, and coarse pigment (coloring material) particles often remain, and developability, adhesion, resolution, and the like may be insufficient. In addition, if the dispersion treatment is performed until the gloss value exceeds the above range, the pigment is crushed and a large number of ultrafine particles are generated, so the dispersion stability tends to be rather impaired.
또, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상적으로 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다.In addition, the dispersion particle size of the pigment dispersed in the ink is usually 0.03 to 0.3 µm, and is measured by a dynamic light scattering method or the like.
다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 레지스트 중에 함유되는 상기의 다른 성분을 혼합하여, 균일한 용액으로 한다. 레지스트의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 많기 때문에, 얻어진 레지스트는 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the ink obtained by the dispersion treatment and the other components contained in the resist are mixed to form a uniform solution. In the resist manufacturing process, since fine dust is often mixed into the liquid, it is preferable to filter the resulting resist with a filter or the like.
[경화물][cured material]
본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 감광성 착색 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물은, 착색 스페이서로서 바람직하게 사용할 수 있다.A cured product can be obtained by curing the photosensitive coloring composition of the present invention. A cured product formed by curing the photosensitive coloring composition can be suitably used as a colored spacer.
[착색 스페이서][Colored Spacer]
다음으로, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 착색 스페이서에 대해, 그 제조 방법에 따라 설명한다.Next, the colored spacer using the photosensitive coloring composition of the present invention will be described according to its manufacturing method.
(1) 지지체(1) support
착색 스페이서를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면, 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다.As a support for forming the colored spacer, the material is not particularly limited as long as it has appropriate strength. Although a transparent substrate is mainly used, as the material, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polypropylene and polyethylene, and thermoplastic resins such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, and polysulfone. Sheets of thermosetting resins such as epoxy resins, unsaturated polyester resins, poly(meth)acrylic resins, and various types of glass.
이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 막형성되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에서는, TFT 어레이 상에 형성할 수도 있다.Among these, from a viewpoint of heat resistance, glass and heat-resistant resin are preferable. In some cases, a transparent electrode such as ITO or IZO is formed on the surface of the substrate. Other than the transparent substrate, it can also be formed on a TFT array.
지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.The support may be subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, silane coupling agent, thin film formation treatment of various resins such as urethane-based resin, etc., as necessary, in order to improve surface properties such as adhesiveness.
투명 기판의 두께는, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위가 된다. 또 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는, 통상적으로 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of the transparent substrate is usually in the range of 0.05 to 10 mm, and preferably in the range of 0.1 to 7 mm. Further, when performing thin film formation treatment of various resins, the film thickness is usually in the range of 0.01 to 10 µm, preferably 0.05 to 5 µm.
(2) 착색 스페이서(2) colored spacer
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 공지된 컬러 필터용 감광성 착색 조성물과 동일한 용도로 사용된다. 이하, 착색 스페이서 (블랙 포토스페이서) 로서 사용되는 경우에 대해, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 블랙 포토스페이서의 형성 방법의 구체예에 따라 설명한다.The photosensitive coloring composition of the present invention is used for the same purpose as a known photosensitive coloring composition for color filters. Hereinafter, the case of being used as a colored spacer (black photo-spacer) will be described according to a specific example of a method for forming a black photo-spacer using the photosensitive coloring composition of the present invention.
통상적으로 블랙 포토스페이서가 형성되어야 할 기판 상에, 감광성 착색 조성물을, 도포 등의 방법에 의해 막상 혹은 패턴상으로 공급하고, 용제를 건조시킨다. 계속해서, 노광-현상을 실시하는 포토리소그래피법 등의 방법에 의해 패턴 형성을 실시한다. 그 후, 필요에 의해 추가 노광이나 열경화 처리를 실시함으로써, 그 기판 상에 블랙 포토스페이서가 형성된다.Usually, a photosensitive coloring composition is supplied in a film form or pattern form by a method such as coating on a substrate on which a black photo-spacer is to be formed, and the solvent is dried. Subsequently, pattern formation is performed by a method such as a photolithography method in which exposure-development is performed. Thereafter, a black photo-spacer is formed on the substrate by performing additional exposure or thermal curing if necessary.
(3) 착색 스페이서의 형성(3) Formation of colored spacers
[1] 기판에의 공급 방법[1] Supply method to substrate
본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상적으로 용제에 용해 혹은 분산된 상태로, 기판 상에 공급된다. 그 공급 방법으로는, 종래 공지된 방법, 예를 들어, 스피너법, 와이어 바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 또, 잉크젯법이나 인쇄법 등에 의해, 패턴상으로 공급되어도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention is usually supplied onto a substrate in a state of being dissolved or dispersed in a solvent. As the supply method, it can be carried out by a conventionally known method, for example, a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, or the like. Moreover, you may supply in the form of a pattern by an inkjet method, a printing method, etc.
그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액의 사용량이 대폭 삭감되고, 또한 스핀 코트법에 의했을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없는, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.Among them, the die coating method is preferable from a comprehensive viewpoint, in that the amount of the coating liquid used is significantly reduced, and there is no influence of mist or the like that adheres when the spin coating method is used, and generation of foreign substances is suppressed.
도포량은 용도에 따라 상이하지만, 예를 들어 블랙 포토스페이서의 경우에는, 건조 막두께로서, 통상적으로 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 9 ㎛, 특히 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 7 ㎛ 의 범위이다. 또, 건조 막두께 혹은 최종적으로 형성된 스페이서의 높이가 기판 전역에 걸쳐 균일한 것이 중요하다. 편차가 큰 경우에는, 액정 패널에 불균일 결함을 발생시키게 된다.The application amount varies depending on the application, but, for example, in the case of a black photo spacer, the dry film thickness is usually 0.5 μm to 10 μm, preferably 1 μm to 9 μm, particularly preferably 1 μm to 7 μm. is the range In addition, it is important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer be uniform over the entire substrate. If the deviation is large, non-uniform defects are generated in the liquid crystal panel.
단, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용하여, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 일괄 형성하는 경우에는, 최종적으로 형성된 블랙 포토스페이서의 높이는 상이한 것이 된다.However, when black photo-spacers having different heights are collectively formed by the photolithography method using the photosensitive coloring composition of the present invention, the finally formed black photo-spacers have different heights.
또한, 기판으로는 유리 기판 등, 공지된 기판을 사용할 수 있다. 또, 기판 표면은 평면인 것이 바람직하다.In addition, as a board|substrate, a well-known board|substrate, such as a glass substrate, can be used. In addition, it is preferable that the surface of the substrate is flat.
[2] 건조 방법[2] Drying method
기판 상에 감광성 착색 조성물 용액을 공급한 후의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의한 것이 바람직하다. 또, 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는 감압 건조법을 조합해도 된다.Drying after supplying the photosensitive coloring composition solution onto the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, IR oven, or convection oven. Moreover, you may combine the reduced-pressure drying method which performs drying in a reduced-pressure chamber, without raising temperature.
건조의 조건은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상은 40 ℃ ∼ 130 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ℃ ∼ 110 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.Drying conditions can be appropriately selected according to the type of solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. The drying time is usually selected from the range of 15 seconds to 5 minutes at a temperature of 40 ° C. to 130 ° C., preferably 30 seconds at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. It is selected from the range of seconds to 3 minutes.
[3] 노광 방법[3] Exposure method
노광은, 감광성 착색 조성물의 도포막 상에, 네거티브의 마스크 패턴을 중첩하고, 이 마스크 패턴을 개재하여 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사하여 실시한다. 노광 마스크를 사용하여 노광을 실시하는 경우에는, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막에 근접시키는 방법이나, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막으로부터 떨어진 위치에 배치하고, 그 노광 마스크를 개재한 노광광을 투영하는 방법에 의한 것이어도 좋다. 또, 마스크 패턴을 사용하지 않는 레이저 광에 의한 주사 노광 방식에 의한 것이어도 좋다.Exposure is performed by superposing a negative mask pattern on the coating film of the photosensitive coloring composition and irradiating a light source of ultraviolet rays or visible rays through the mask pattern. In the case of exposure using an exposure mask, a method of bringing the exposure mask close to the coating film of the photosensitive coloring composition, or disposing the exposure mask at a position away from the coating film of the photosensitive coloring composition, and passing the exposure mask through the exposure mask It may be based on the method of projecting light light. Moreover, it may be based on the scanning exposure system by the laser beam which does not use a mask pattern.
이 때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도의 저하를 방지하기 위해, 탈산소 분위기하에서 실시하거나, 광 중합성층 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시하거나 해도 된다.At this time, if necessary, in order to prevent a decrease in the sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen, exposure is performed in a deoxygenated atmosphere or after forming an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable layer. you can do or do
본 발명의 바람직한 양태로서, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 동시에 형성하는 경우에는, 예를 들어, 차광부 (광 투과율 0 %) 와, 복수의 개구부로서, 평균 광 투과율이 가장 높은 개구부 (완전 투과 개구부) 에 대해 평균 광 투과율이 작은 개구부 (중간 투과 개구부) 를 갖는 노광 마스크를 사용한다. 이 방법에 의해, 중간 투과 개구부와 완전 투과 개구부의 평균 광 투과율의 차, 즉 노광량의 차에 의해, 잔막률의 차이를 발생시킨다.As a preferred aspect of the present invention, when black photo-spacers having different heights are formed simultaneously by a photolithography method, for example, a light-shielding portion (light transmittance: 0%) and a plurality of openings, the highest average light transmittance An exposure mask having an opening having a small average light transmittance (intermediate transmission opening) relative to the opening (completely transmitting opening) is used. With this method, a difference in remaining film rate is generated by the difference in average light transmittance between the intermediate transmission opening and the full transmission opening, that is, the difference in exposure amount.
중간 투과 개구부는, 예를 들어, 미소한 다각형의 차광 유닛을 갖는 매트릭스상 차광 패턴에 의해 제조하는 방법 등이 알려져 있다. 또 흡수체로서, 크롬계, 몰리브덴계, 텅스텐계, 실리콘계 등의 재료의 막에 의해, 광 투과율을 제어하여 제조하는 방법 등이 알려져 있다.A method of manufacturing the intermediate transmission opening by, for example, a matrix light-shielding pattern having minute polygonal light-shielding units is known. In addition, as an absorber, a method of producing a film of a material such as chromium, molybdenum, tungsten, or silicon by controlling the light transmittance is known.
상기의 노광에 사용되는 광원은, 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 청자색 반도체 레이저, 근적외 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정한 파장의 광을 조사하여 사용하는 경우에는, 광학 필터를 이용할 수도 있다.The light source used for said exposure is not specifically limited. As the light source, for example, a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a fluorescent lamp, an argon ion laser, a YAG laser , laser light sources such as excimer lasers, nitrogen lasers, helium cadmium lasers, blue-violet semiconductor lasers, and near-infrared semiconductor lasers. In the case of irradiating and using light of a specific wavelength, an optical filter may be used.
광학 필터로는, 예를 들어 박막이고 노광 파장에 있어서의 광 투과율을 제어 가능한 타입이어도 되고, 그 경우의 재질로는, 예를 들어 Cr 화합물 (Cr 의 산화물, 질화물, 산질화물, 불화물 등), MoSi, Si, W, Al 등을 들 수 있다.The optical filter may be, for example, a thin film and of a type capable of controlling the light transmittance at the exposure wavelength, and the material in that case is, for example, a Cr compound (oxide, nitride, oxynitride, fluoride, etc. of Cr), MoSi, Si, W, Al, etc. are mentioned.
노광량으로는, 통상적으로 1 mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 5 mJ/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 10 mJ/㎠ 이상이고, 통상적으로 300 mJ/㎠ 이하, 바람직하게는 200 mJ/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 150 mJ/㎠ 이하이다.The exposure amount is usually 1 mJ/cm 2 or more, preferably 5 mJ/cm 2 or more, more preferably 10 mJ/cm 2 or more, and usually 300 mJ/cm 2 or less, preferably 200 mJ/cm 2 or less, more Preferably it is 150 mJ/cm<2> or less.
또, 근접 노광 방식의 경우에는, 노광 대상과 마스크 패턴의 거리로는, 통상적으로 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 75 ㎛ 이상이다. 또, 통상적으로 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 400 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎛ 이하이다.Further, in the case of the proximity exposure method, the distance between the exposure target and the mask pattern is usually 10 μm or more, preferably 50 μm or more, and more preferably 75 μm or more. Moreover, it is normally 500 micrometers or less, Preferably it is 400 micrometers or less, More preferably, it is 300 micrometers or less.
[4] 현상 방법[4] Development method
상기의 노광을 실시한 후, 알칼리성 화합물의 수용액, 또는 유기 용제를 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상 패턴을 형성할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 계면 활성제, 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 함유시킬 수 있다.After performing the above exposure, an image pattern can be formed on the substrate by development using an aqueous solution of an alkaline compound or an organic solvent. This aqueous solution may further contain surfactants, organic solvents, buffers, complexing agents, dyes or pigments.
알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산이수소나트륨, 인산이수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-·디- 또는 트리에탄올아민, 모노-·디- 또는 트리메틸아민, 모노-·디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-·디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은, 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.As the alkaline compound, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate , inorganic alkaline compounds such as sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and ammonium hydroxide, mono-di- or triethanolamine, mono-di- or trimethylamine, mono-di- or triethylamine, mono- or organic alkaline compounds such as diisopropylamine, n-butylamine, mono-di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and choline. 2 or more types of mixtures may be sufficient as these alkaline compounds.
상기 계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세라이드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제 ; 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제 ; 알킬베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic interfaces such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters. activator; anionic surfactants such as alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkyl sulfates, alkylsulfonic acid salts, and sulfosuccinic acid ester salts; Amphoteric surfactants, such as alkyl betaines and amino acids, are mentioned.
유기 용제로는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는, 단독으로도 수용액과 병용하여 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, and diacetone alcohol. The organic solvent can be used alone or in combination with an aqueous solution.
현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상적으로 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 에서, 현상 방법은, 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러쉬 현상법, 초음파 현상법 등 중 어느 방법에 의한 것일 수 있다.The conditions of the development treatment are not particularly limited, and the development temperature is usually in the range of 10 to 50 ° C., especially 15 to 45 ° C., particularly preferably 20 to 40 ° C., and the development method is immersion development method or spray development method. , It may be by any method of a brush development method, an ultrasonic development method, and the like.
[5] 추가 노광 및 열경화 처리[5] Additional exposure and heat curing treatment
현상 후의 기판에는, 필요에 의해 상기의 노광 방법과 동일한 방법에 의해 추가 노광을 실시해도 되고, 또 열경화 처리를 실시해도 된다. 이 때의 열경화 처리 조건은, 온도는 100 ℃ ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ℃ ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 분간 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.The board|substrate after development may be additionally exposed by the same method as the said exposure method, and may also be subjected to thermal curing treatment, if necessary. Regarding the thermal curing treatment conditions at this time, the temperature is selected from the range of 100 ° C. to 280 ° C., preferably from the range of 150 ° C. to 250 ° C., and the time is selected from the range of 5 minutes to 60 minutes.
본 발명의 착색 스페이서의 크기나 형상 등은, 이것을 적용하는 컬러 필터의 사양 등에 따라 적절히 조정되지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특히, 포토리소그래피법에 의해 스페이서와 서브 스페이서의 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 동시에 형성하는 데에 유용하고, 그 경우, 스페이서의 높이는 통상적으로 2 ∼ 7 ㎛ 정도이고, 서브 스페이서는, 스페이서보다 통상적으로 0.2 ∼ 1.5 ㎛ 정도 낮은 높이를 갖는다.The size, shape, etc. of the colored spacer of the present invention are appropriately adjusted according to the specifications of the color filter to which it is applied, but the photosensitive colored composition of the present invention is, in particular, a black photo in which the height of the spacer and the sub-spacer are different by the photolithography method. It is useful for simultaneously forming a spacer, and in that case, the height of the spacer is usually about 2 to 7 μm, and the sub-spacer has a height that is usually about 0.2 to 1.5 μm lower than that of the spacer.
또, 본 발명의 착색 스페이서의 1 ㎛ 당의 광학 농도 (OD) 는, 차광성의 관점에서, 1.2 이상이 바람직하고, 1.5 이상이 보다 바람직하고, 1.8 이상이 더욱 바람직하다. 또, 통상적으로 4.0 이하이고, 3.0 이하인 것이 바람직하다. 여기서 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다.Moreover, the optical density (OD) per 1 μm of the colored spacer of the present invention is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and even more preferably 1.8 or more from the viewpoint of light-shielding properties. Moreover, it is 4.0 or less normally, and it is preferable that it is 3.0 or less. Here, the optical density (OD) is a value measured by the method described later.
[컬러 필터][Color Filter]
본 발명의 컬러 필터는, 상기 서술한 바와 같은 본 발명의 착색 스페이서를 구비하는 것이고, 예를 들어 투명 기판으로서의 유리 기판 상에, 블랙 매트릭스와, 적색, 녹색, 청색의 화소 착색층과, 오버코트층이 적층되고, 착색 스페이서를 형성한 후 배향막을 형성하여 제조된다.The color filter of the present invention is provided with the colored spacer of the present invention as described above, and, for example, on a glass substrate as a transparent substrate, a black matrix, red, green, and blue pixel colored layers, and an overcoat layer These are stacked, and after forming the colored spacers, an alignment film is formed to manufacture the fabric.
이와 같은 본 발명의 착색 스페이서를 갖는 컬러 필터와 액정 구동측 기판을 첩합 (貼合) 하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입함으로써, 본 발명의 착색 스페이서를 구비한 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제조할 수 있다.A liquid crystal display device provided with the colored spacer of the present invention by bonding the color filter having the colored spacer of the present invention and the substrate on the liquid crystal driving side to form a liquid crystal cell, and injecting liquid crystal into the formed liquid crystal cell. An image display device such as this can be manufactured.
실시예Example
다음으로, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Next, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples unless departing from the gist thereof.
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.Components of the photosensitive coloring composition used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.
<유기 흑색 안료><Organic black pigment>
BASF 사 제조, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (하기 식 (2) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다)Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF manufactured by BASF (has a chemical structure represented by the following formula (2))
[화학식 30][Formula 30]
<알칼리 가용성 수지-I><Alkali Soluble Resin-I>
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온시켰다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85.2 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노아크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 및 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.47 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기 치환으로 바꾸고, 아크릴산 43.2 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로 무수 프탈산 (THPA) 56.2 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가하고, 100 ℃ 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 중량 평균 분자량 Mw 는 약 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g 이었다.145 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was stirred while substituting with nitrogen, and the temperature was raised to 120°C. To this, 10 parts by mass of styrene, 85.2 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 66 parts by mass of monoacrylate (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) having a tricyclodecane skeleton were added dropwise thereto, and 2,2'-azobis- 8.47 parts by mass of 2-methylbutyronitrile was added dropwise over 3 hours, and further stirring was continued at 90°C for 2 hours. Next, the inside of the reaction vessel was replaced with air substitution, 0.7 mass part of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 mass part of hydroquinone were introduced to 43.2 mass parts of acrylic acid, and reaction was continued at 100 degreeC for 12 hours. Then, 56.2 mass parts of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) and 0.7 mass part of triethylamine were added, and it was made to react at 100 degreeC for 3.5 hours. The weight average molecular weight Mw of alkali-soluble resin-I obtained in this way measured by GPC was about 8400, and the acid value was 80 mgKOH/g.
<알칼리 가용성 수지-II><Alkali Soluble Resin-II>
닛폰 화약 (주) 제조 「ZCR-1642H」 (MW = 6500, 산가 = 98 ㎎-KOH/g)"ZCR-1642H" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (MW = 6500, acid value = 98 mg-KOH/g)
<분산제-I><Dispersant-I>
빅케미사 제조 「DISPERBYK-LPN21116」 (측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.)"DISPERBYK-LPN21116" manufactured by Big Chemie Co., Ltd. (an acrylic A-B block copolymer consisting of an A block having a quaternary ammonium base and a tertiary amino group in the side chain, and a B block having no quaternary ammonium base and amino group. The amine value is 70 mgKOH /g. The acid value is 1 mgKOH/g or less.)
분산제-I 의 A 블록 중에는, 하기 식 (1a) 및 (2a) 의 반복 단위가 함유되고, B 블록 중에는 하기 식 (3a) 의 반복 단위가 함유된다. 분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.In the A block of dispersant-I, repeating units of the following formulas (1a) and (2a) are contained, and in the B block, repeating units of the following formula (3a) are contained. The content ratios of the repeating units of the following formulas (1a), (2a), and (3a) in all the repeating units of the dispersant-I are 11.1 mol%, 22.2 mol%, and 6.7 mol%, respectively.
[화학식 31][Formula 31]
<분산제-II><Dispersant-II>
빅케미사 제조 「DISPERBYK-167」 (우레탄계 고분자 분산제)"DISPERBYK-167" manufactured by Big Chemie (urethane polymer dispersant)
<안료 유도체><Pigment derivative>
루브리졸사 제조 「Solsperse12000」"Solsperse12000" made by Lubrizol
<용제-I><Solvent-I>
PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate
<용제-II><Solvent-II>
MB : 3-메톡시부탄올MB: 3-methoxybutanol
<광 중합 개시제-I><Photoinitiator-I>
Irgacure OXE03 (BASF 사 제조)Irgacure OXE03 (manufactured by BASF)
[화학식 32][Formula 32]
<광 중합 개시제-II><Photoinitiator-II>
[화학식 33][Formula 33]
<광 중합 개시제-III><Photoinitiator-III>
[화학식 34][Formula 34]
<광 중합성 모노머><Photopolymerizable monomer>
DPHA : 닛폰 화약 (주) 제조 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
<첨가제><Additives>
닛폰 화약 (주) 제조, KAYAMER PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트)Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYAMER PM-21 (methacryloyl group-containing phosphate)
<계면 활성제><Surfactant>
DIC (주) 제조 메가팍 F-559Megafac F-559 manufactured by DIC Co., Ltd.
<광학 농도 (OD) 의 평가><Evaluation of Optical Density (OD)>
광학 농도 (OD) 를 투과 농도계 (그레택맥베스사 제조 「D200-II」) 로 측정하였다. 또한 측정 지점의 막두께도 측정하고, 단위 막두께 (1 ㎛) 당의 광학 농도 (단위 OD) 를 산출하였다.The optical density (OD) was measured with a transmission densitometer (“D200-II” manufactured by Gretac Macbeth). Further, the film thickness at the measuring point was also measured, and the optical density (unit OD) per unit film thickness (1 μm) was calculated.
<기판 밀착성의 평가><Evaluation of substrate adhesion>
대상이 되는 패턴에 대해, 양호한 해상성으로 패턴이 기판 상에 남아 있는 것 중, 개구 직경이 최소인 것의 개구 직경 (㎛) 의 값을 최소 밀착으로 하였다. 이 값이 작을수록 기판 밀착성이 우수하다.Regarding the target pattern, the value of the aperture diameter (μm) of the one having the smallest aperture diameter among the patterns remaining on the substrate with good resolution was set as the minimum adhesion. It is excellent in board|substrate adhesiveness, so that this value is small.
<표면 평활성의 평가><Evaluation of surface smoothness>
대상이 되는 패턴에 대해, 가열 후의 표면에 있어서의 주름의 발생 유무를 광학 현미경으로 70 ㎛ × 70 ㎛ 의 시야로 관찰하였다. 또한 평가 기준은 이하와 같다.With respect to the target pattern, the presence or absence of wrinkles on the surface after heating was observed with a visual field of 70 µm x 70 µm using an optical microscope. In addition, the evaluation criteria are as follows.
○ : 패턴의 표면에 미크론 오더의 주름이 관찰되지 않는다○: Wrinkles of micron order are not observed on the surface of the pattern
× : 패턴의 표면에 미크론 오더의 주름이 현저하게 눈에 띈다×: Wrinkles of micron order are conspicuous on the surface of the pattern
<표면 조도의 평가><Evaluation of surface roughness>
대상이 되는 패턴에 대해, (주) 료카 시스템의 삼차원 비접촉 표면 형상 계측 시스템 Micromap 으로, 50 배의 광학 렌즈를 사용하여, Focus 모드로 70 ㎛ × 70 ㎛ 의 시야에 있어서 표면 조도 Sa (산술 평균 조도, ㎚) 를 측정하였다.For the target pattern, the surface roughness Sa (arithmetic average roughness , nm) was measured.
<안료 분산액 1 의 조제><Preparation of Pigment Dispersion 1>
표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리하여, 안료 분산액 1 을 조제하였다.The pigments, dispersants, dispersing aids, alkali-soluble resins, and solvents shown in Table 1 were mixed in a mass ratio shown in Table 1. This solution was subjected to dispersion treatment in the range of 25 to 45°C for 3 hours with a paint shaker. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and 2.5 times the mass of the dispersion liquid was added. After completion of the dispersion, the beads and the dispersion liquid were separated by a filter to prepare a pigment dispersion liquid 1.
<안료 분산액 2 및 3 의 조제><Preparation of Pigment Dispersions 2 and 3>
표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합한 것 이외에는, 안료 분산액 1 과 동일하게 하여 안료 분산액 2 및 3 을 조제하였다.Pigment dispersions 2 and 3 were prepared in the same manner as in Pigment Dispersion 1, except that the pigments, dispersants, dispersing aids, alkali-soluble resins, and solvents shown in Table 1 were mixed so as to have the mass ratios shown in Table 1.
<안료 분산액 4 (피복 카본 블랙 분산액)><Pigment Dispersion 4 (Coated Carbon Black Dispersion)>
카본 블랙은, 통상적인 오일 퍼니스법으로 제조하였다. 단, 원료유로는, Na, Ca, S 분량이 적은 에틸렌 보텀유를 사용하고, 연소용으로는 코크스로 가스를 사용하였다. 또한, 반응 정지수로는, 이온 교환 수지로 처리한 순수를 사용하였다. 얻어진 카본 블랙 540 g 을 순수 14500 g 과 함께 호모믹서를 사용하여 5,000 ∼ 6,000 rpm 으로 30 분 교반하여 슬러리를 얻었다. 이 슬러리를 스크루형 교반기가 부착된 용기로 옮겨 약 1,000 rpm 으로 혼합하면서 에폭시 수지 「에피코트 828」 (미츠비시 화학 (주) 제조) 60 g 을 용해시킨 톨루엔 600 g 을 소량씩 첨가해 갔다. 약 15 분 동안, 물에 분산되어 있던 카본 블랙은 전체량 톨루엔측으로 이행하여, 약 1 ㎜ 의 입자가 되었다.Carbon black was manufactured by a conventional oil furnace method. However, as raw material oil, ethylene bottom oil with a small amount of Na, Ca, and S was used, and coke oven gas was used for combustion. In addition, as the reaction stop water, pure water treated with an ion exchange resin was used. 540 g of the obtained carbon black was stirred at 5,000 to 6,000 rpm for 30 minutes using a homomixer together with 14500 g of pure water to obtain a slurry. This slurry was transferred to a container equipped with a screw stirrer, and 600 g of toluene in which 60 g of epoxy resin "Epicoat 828" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was dissolved was added in small portions while mixing at about 1,000 rpm. During about 15 minutes, the carbon black dispersed in water migrated to the toluene side in the total amount, and became particles of about 1 mm.
다음으로, 60 메시 철망으로 물기 제거를 실시한 후, 진공 건조기에 넣고, 70 ℃ 에서 7 시간 건조시켜, 톨루엔과 물을 완전히 제거하였다.Next, after draining water with a 60-mesh wire mesh, it was placed in a vacuum dryer and dried at 70°C for 7 hours to completely remove toluene and water.
얻어진 피복 카본 블랙, 분산제, 안료 유도체 및 용제를, 표 2 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다.The obtained coated carbon black, dispersant, pigment derivative, and solvent were mixed in mass ratios shown in Table 2.
이것을 교반기에 의해 충분히 교반하여, 프리믹싱을 실시하였다. 다음으로, 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 6 시간 분산 처리를 실시하였다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 사용하여, 분산액과 동일한 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리하여 조제하였다.This was sufficiently stirred with a stirrer to perform premixing. Next, dispersion treatment was performed in the range of 25 to 45°C for 6 hours with a paint shaker. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and the same mass as the dispersion liquid was added. After completion of the dispersion, the beads and the dispersion were separated by a filter and prepared.
[실시예 1 및 2, 비교예 1 ∼ 3][Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 to 3]
상기 조제한 안료 분산액 1 ∼ 4 를 사용하여, 표 2 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 또한 고형분이 22 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제하였다. 얻어진 감광성 착색 조성물을 사용하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시하였다. 또한, 표 2 중의 상단의 값은 각 성분의 사용량을 나타내고 있다. 한편, 하단의 값은 각 성분의 고형분량을, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대한 함유 비율로 나타내고 있다.Using the above-prepared pigment dispersions 1 to 4, each component was added so as to have a blending ratio of Table 2, and PGMEA was added so that the solid content was 22% by mass, stirred and dissolved to prepare a photosensitive coloring composition. Evaluation was performed by the method mentioned later using the obtained photosensitive coloring composition. In addition, the value of the upper stage in Table 2 shows the usage-amount of each component. On the other hand, the value of the lower stage represents the solid content of each component as a content ratio with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition.
<높이가 상이한 경화물의 일괄 형성 방법><Method of collectively forming cured products having different heights>
유리 기판 (AGC 사 제조 「AN100」) 상에 스피너를 사용하여 각 감광성 착색 조성물을 도포하였다. 이어서, 100 ℃ 에서 70 초간, 핫 플레이트 상에서 가열 건조시켜 도포막을 형성하였다.Each photosensitive coloring composition was applied onto a glass substrate (“AN100” manufactured by AGC) using a spinner. Then, it was heat-dried on a hot plate at 100 degreeC for 70 second, and the coating film was formed.
얻어진 도포막에 대해, 직경 5 ∼ 50 ㎛ (5 ∼ 20 ㎛ : 1 ㎛ 간격, 25 ㎛ ∼ 50 ㎛ : 5 ㎛ 간격) 의 각종 직경의 원형 패턴의 완전 투과 개구부 및 직경 5 ∼ 50 ㎛ (5 ∼ 20 ㎛ : 1 ㎛ 간격, 25 ㎛ ∼ 50 ㎛ : 5 ㎛ 간격) 의 각종 직경의 원형 패턴의 중간 투과 개구부, 나아가서는 폭 100 ㎛ 의 직선 개구부 (완전 투과) 를 갖는 노광 마스크를 사용하여 노광 처리를 실시하였다. 중간 투과 개구부는, Cr 산화물의 박막이고 파장 365 ㎚ 에 있어서의 광 투과율을 10 ± 2 % 로 한 것이다. 노광 갭 (마스크와 도포면간의 거리) 은 220 ㎛ 이었다. 조사광으로는, 파장 365 ㎚ 에서의 강도가 32 ㎽/㎠ 인 자외선을 사용하고, 노광량은 100 mJ/㎠ 로 하였다. 또, 자외선 조사는 공기하에서 실시하였다.For the obtained coating film, completely permeable openings in circular patterns of various diameters with a diameter of 5 to 50 μm (5 to 20 μm: 1 μm intervals, 25 μm to 50 μm: 5 μm intervals) and diameters of 5 to 50 μm (5 to 5 μm intervals) 20 μm: 1 μm intervals, 25 μm to 50 μm: 5 μm intervals) of intermediate transmission openings in circular patterns of various diameters, and further, an exposure mask having straight openings (complete transmission) with a width of 100 μm. conducted. The intermediate transmission opening is a thin film of Cr oxide and has a light transmittance of 10 ± 2% at a wavelength of 365 nm. The exposure gap (distance between the mask and the coated surface) was 220 µm. As the irradiation light, an ultraviolet ray having an intensity of 32 mW/cm 2 at a wavelength of 365 nm was used, and the exposure amount was 100 mJ/cm 2 . In addition, ultraviolet irradiation was performed under air.
계속해서, 0.05 질량% 의 수산화칼륨과 0.08 질량% 의 논이온성 계면 활성제 (카오사 제조 「A-60」) 를 함유하는 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하여, 25 ℃ 에 있어서 수압 0.15 ㎫ 의 샤워 현상을 실시한 후, 순수로 현상을 정지시키고, 수세 스프레이로 세정하였다. 샤워 현상 시간은, 10 ∼ 120 초간의 사이에서 조정하고, 미노광의 도막이 용해 제거되는 시간의 1.5 배로 하였다.Subsequently, shower development at a water pressure of 0.15 MPa at 25°C using a developing solution composed of an aqueous solution containing 0.05% by mass of potassium hydroxide and 0.08% by mass of a nonionic surfactant ("A-60" manufactured by Kao Corporation). After carrying out, the development was stopped with pure water and washed with water washing spray. The shower developing time was adjusted between 10 and 120 seconds, and it was set as 1.5 times the time for dissolving and removing the unexposed coating film.
이러한 조작에 의해, 필요하지 않은 부분을 제거한 패턴을 얻었다. 당해 패턴이 형성된 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 20 분간 가열하여 패턴을 경화시켜, 대략 원주상의 스페이서 패턴을 얻었다.By this operation, a pattern was obtained from which unnecessary parts were removed. The board|substrate on which the said pattern was formed was heated in oven at 230 degreeC for 20 minutes, and the pattern was hardened, and the substantially cylindrical spacer pattern was obtained.
상기 직선 개구부에 대응하는 패턴의 단위 막두께 (1 ㎛) 당의 광학 농도 (OD) 를 전술한 방법으로 측정하였다. 또, 5 ∼ 50 ㎛ 의 원형 패턴의 완전 투과 개구부와, 동일하게 5 ∼ 50 ㎛ 의 중간 투과 개구부에 대응하는 패턴에 있어서, 전술한 방법으로 기판 밀착성의 평가를 실시하였다. 또한 상기 직선 개구부에 대응하는 패턴에 대해, 전술한 방법으로 표면 평활성의 평가를 실시하였다. 또, 상기 직선 개구부에 대응하는 패턴에 대해, 전술한 방법으로 표면 조도의 평가를 실시하였다. 각각 결과를 표 2 에 나타냈다.The optical density (OD) per unit film thickness (1 μm) of the pattern corresponding to the straight opening was measured by the method described above. In addition, the substrate adhesion was evaluated by the method described above for patterns corresponding to full transmission apertures of a circular pattern of 5 to 50 µm and intermediate transmission apertures of 5 to 50 µm in the same way. In addition, surface smoothness was evaluated by the method described above for the patterns corresponding to the linear openings. In addition, the surface roughness of the patterns corresponding to the straight openings was evaluated by the method described above. Each result was shown in Table 2.
실시예 1 및 2 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은, 단위 OD 가 높고 차광성이 우수하고, 표면 평활성이 우수한 것이 확인되었다. 또, 중간 투과 개구부의 기판 밀착성도 양호하였다.It was confirmed that the coated substrates using the photosensitive coloring compositions of Examples 1 and 2 had a high unit OD, excellent light-shielding properties, and excellent surface smoothness. In addition, the substrate adhesion of the middle transmission opening was also good.
한편, 비교예 1 ∼ 3 은 실시예 1 및 2 와 단위 OD 의 값은 동일하지만, 표면 평활성이 나쁘고, 또한 중간 투과 개구부의 기판 밀착성이 나쁜 것이 확인되었다.On the other hand, it was confirmed that Comparative Examples 1 to 3 had the same unit OD value as Examples 1 and 2, but had poor surface smoothness and poor substrate adhesion of the intermediate transmission opening.
일반적으로, 착색 스페이서의 차광성을 향상시키기 위해서 안료 농도를 높게 하는 방법이나, 차광성이 높은 안료를 병용하는 방법이 알려져 있다. 그러나 그러한 방법을 적용하면, 자외 투과율이 낮아지고, 막두께 방향으로 가교 밀도의 차가 발생하여, 막의 저부에 비해 막 표면의 가교 밀도가 높아지고, 열경화 과정의 열수축에 의해 막 표면에 주름이 발생하여, 표면 평활성이 나빠지는 것으로 생각된다.In general, in order to improve the light-shielding properties of a colored spacer, a method of increasing the concentration of a pigment or a method of using a pigment having high light-shielding properties in combination is known. However, when such a method is applied, the ultraviolet transmittance is lowered, and a difference in crosslinking density occurs in the film thickness direction, so that the crosslinking density of the film surface is higher than that of the bottom of the film, and wrinkles are generated on the film surface due to heat shrinkage during the thermal curing process. , it is considered that the surface smoothness deteriorates.
본 발명의 감광성 착색 조성물에서는, 광 중합 개시제로서, 상기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 사용하고 있기 때문에, 그 화합물의 화학 구조 중의 할로겐 원자에 의해, 그 화합물이 막 표면 근방에 개시제가 분포하기 쉽고, 산소 저해의 영향을 받음으로써, 막 표면의 가교 밀도가 과도하게 높아지는 것을 억제하고, 열경화 과정의 열수축에 의한 막 표면의 주름 발생을 저감시키고 있는 것으로 생각된다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, since the oxime ester compound represented by the formula (I) is used as the photopolymerization initiator, the halogen atom in the chemical structure of the compound causes the compound to have an initiator in the vicinity of the film surface. It is thought that it is easy to distribute and, by being affected by oxygen inhibition, suppresses excessive increase in crosslinking density on the membrane surface and reduces wrinkles on the membrane surface due to heat shrinkage in the thermal curing process.
또, 그 화합물의 카르바졸 골격 중에 나프탈렌 고리에 의해, 장파장광의 흡수성이 높아지고, 자외선 램프에 함유되는 장파장광도 이용하여, 막의 저부 근방에 있어서의 가교 밀도를 높게 할 수 있기 때문에, 중간 투과 개구부와 같이 투과율이 낮은 개구부에서 형성한 패턴에서도, 기판 밀착성이 양호해지는 것으로 생각된다.In addition, the absorption of long-wavelength light is increased by the naphthalene ring in the carbazole skeleton of the compound, and the long-wavelength light contained in the ultraviolet lamp can be used to increase the crosslinking density in the vicinity of the bottom of the film. Even in a pattern formed in an opening having a low transmittance, it is considered that the adhesion to the substrate becomes good.
[실시예 3 및 비교예 4][Example 3 and Comparative Example 4]
상기 조제한 안료 분산액 3 및 4 를 사용하여, 고형분 중의 비율이 표 3 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 또한 고형분이 22 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제하였다. 얻어진 감광성 착색 조성물을 사용하여, 노광 처리에 있어서의 노광량을 40 mJ/㎠ 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 순서로 평가를 실시하였다. 또한, 표 3 중의 상단의 값은 각 성분의 사용량을 나타내고 있다. 한편, 하단의 값은 각 성분의 고형분량을, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분량에 대한 함유 비율로 나타내고 있다. 또, 표면 평활성의 평가의 시야는 5 ㎝ × 5 ㎝ 로 하였다.Using the above-prepared pigment dispersions 3 and 4, each component was added so that the ratio in the solid content was the blending ratio shown in Table 3, and PGMEA was added so that the solid content was 22% by mass, stirred and dissolved to obtain a photosensitive coloring composition. prepared. Using the obtained photosensitive coloring composition, evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the exposure amount in the exposure treatment was 40 mJ/cm 2 . In addition, the value of the upper stage in Table 3 shows the usage-amount of each component. On the other hand, the value of the lower stage represents the solid content of each component as a content ratio with respect to the total solid content of the photosensitive coloring composition. In addition, the visual field for evaluation of surface smoothness was 5 cm x 5 cm.
실시예 3 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은, 단위 OD 가 높고 차광성이 우수하고, 표면 평활성이 우수한 것이 확인되었다. 또, 중간 투과 개구부의 기판 밀착성도 양호하였다.It was confirmed that the coated substrate using the photosensitive coloring composition of Example 3 had a high unit OD, excellent light-shielding properties, and excellent surface smoothness. In addition, the substrate adhesion of the middle transmission opening was also good.
한편, 비교예 4 는 실시예 3 과 단위 OD 의 값은 동일하지만, 표면 평활성이 나쁘고, 표면 조도의 값도 크고, 또한 중간 투과 개구부의 기판 밀착성이 나쁜 것이 확인되었다.On the other hand, Comparative Example 4 had the same unit OD value as Example 3, but it was confirmed that the surface smoothness was poor, the surface roughness value was large, and the substrate adhesion of the intermediate transmission opening was poor.
본 발명을 특정한 양태를 사용하여 상세하게 설명했지만, 본 발명의 의도와 범위를 벗어나지 않고 여러 가지 변경 및 변형이 가능한 것은 당업자에게 있어 분명하다. 또한 본 출원은, 2015년 3월 11일자로 출원된 일본 특허출원 (일본 특허출원 2015-048577), 2015년 3월 11일자로 출원된 일본 특허출원 (일본 특허출원 2015-048578), 및 2015년 8월 7일자로 출원된 일본 특허출원 (일본 특허출원 2015-157456) 에 기초하고 있으며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.Although this invention was demonstrated in detail using the specific aspect, it is clear for those skilled in the art that various changes and modifications are possible, without leaving|separating the intent and range of this invention. In addition, this application is a Japanese patent application filed on March 11, 2015 (Japanese Patent Application No. 2015-048577), a Japanese patent application filed on March 11, 2015 (Japanese Patent Application No. 2015-048578), and 2015 It is based on the Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 2015-157456) filed on August 7, the entirety of which is incorporated by reference.
본 발명의 감광성 착색 조성물에 의하면, 차광성이 높고, 표면 평활성이 우수한 경화물 및 착색 스페이서를 제공할 수 있고, 또한 이와 같은 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서 및 화상 표시 장치의 각 분야에 있어서, 산업상 이용 가능성은 매우 높다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the photosensitive coloring composition of this invention, the hardened|cured material and colored spacer with high light-shielding property and excellent surface smoothness can be provided, and also the image display apparatus provided with such a colored spacer can be provided. Therefore, the present invention has very high industrial applicability in each field of a photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device.
Claims (18)
상기 (a) 착색제가, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하고, 또한
상기 (c) 광 중합 개시제가 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는, 감광성 착색 조성물.
[화학식 1]
(상기 일반식 (I) 중,
R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.
R3 은 수소 원자, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다.
R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R5 및 R6 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리를 나타낸다. 단, R5 및 R6 중 적어도 어느 하나는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이다.
R1 및 R4 중 적어도 어느 하나는, 치환기로서 -OR7 기를 갖는다. 단 R7 은 할로게노알킬기를 나타낸다.
X 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.
Z 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.)A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,
The (a) coloring agent contains at least one selected from the group consisting of red pigments and orange pigments, and at least one selected from the group consisting of blue pigments and purple pigments, and
The photosensitive coloring composition characterized by the said (c) photoinitiator containing the oxime ester type compound represented by following formula (I).
[Formula 1]
(In the above general formula (I),
R 1 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R 2 represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.
R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
R 4 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R 5 and R 6 each independently represent a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent. However, at least any one of R5 and R6 is a naphthalene ring which may have a substituent.
At least one of R 1 and R 4 has an -OR 7 group as a substituent. provided that R 7 represents a halogenoalkyl group.
X represents a direct bond or a carbonyl group.
Z represents a direct bond or a carbonyl group.)
상기 (a) 착색제 100 질량부에 대한 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료의 함유 비율이, 1 질량부 이상 30 질량부 이하인, 감광성 착색 조성물.According to claim 1,
The photosensitive coloring composition whose content ratio of at least 1 sort(s) of pigment selected from the group which consists of a red pigment and an orange pigment with respect to 100 mass parts of said (a) coloring agents is 1 mass part or more and 30 mass parts or less.
상기 (a) 착색제 100 질량부에 대한 청색 안료 및 자색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 안료의 함유 비율이, 20 질량부 이상 90 질량부 이하인, 감광성 착색 조성물.According to claim 1,
The photosensitive coloring composition whose content ratio of at least 1 sort(s) of pigment selected from the group which consists of a blue pigment and a purple pigment with respect to 100 mass parts of said (a) coloring agents is 20 mass parts or more and 90 mass parts or less.
상기 (a) 착색제가 유기 흑색 안료를 함유하는, 감광성 착색 조성물.According to claim 1,
The photosensitive coloring composition in which the said (a) coloring agent contains an organic black pigment.
상기 (a) 착색제가, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염을 함유하고, 또한
상기 (c) 광 중합 개시제가 하기 식 (I) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는, 감광성 착색 조성물.
[화학식 2]
(상기 식 (1) 중, R11 및 R16 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ;
R12, R13, R14, R15, R17, R18, R19 및 R20 은 다른 전부에서 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, COCR21, OOCNH2, OOCNHR21, OOCNR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR22, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22 이다 ;
또한, R12 와 R13, R13 과 R14, R14 와 R15, R17 과 R18, R18 과 R19, 및 R19 와 R20 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR21 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;
R21 및 R22 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다)
[화학식 3]
(상기 일반식 (I) 중,
R1 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R2 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.
R3 은 수소 원자, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기를 나타낸다.
R4 는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타낸다.
R5 및 R6 은 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠 고리, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리를 나타낸다. 단, R5 및 R6 중 적어도 어느 하나는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌 고리이다.
R1 및 R4 중 적어도 어느 하나는, 치환기로서 -OR7 기를 갖는다. 단 R7 은 할로게노알킬기를 나타낸다.
X 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.
Z 는 직접 결합, 또는 카르보닐기를 나타낸다.)A photosensitive coloring composition containing (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f) a dispersant,
The (a) coloring agent contains a compound represented by the following formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a salt of a geometric isomer thereof, and
The photosensitive coloring composition characterized by the said (c) photoinitiator containing the oxime ester type compound represented by following formula (I).
[Formula 2]
(In the above formula (1), R 11 and R 16 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are independently of each other a hydrogen atom, a halogen atom, R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21 , CONR 21 R 22 , CN, OH, OR 21 , COCR 21 , OOCNH 2 , OOCNHR 21 , OOCNR 21 R 22 , NO 2 , NH 2 , NHR 21 , NR 21 R 22 , NHCOR 22 , NR 21 COR 22 , N=CH 2 , N=CHR 21 , N=CR 21 R 22 , SH, SR 21 , SOR 21 , SO 2 R 21 , SO 3 R 21 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ;
In addition, at least one combination selected from the group consisting of R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , and R 19 and R 20 , They may be directly bonded to each other or bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR 21 bridge;
R 21 and R 22 are each independently an alkyl group of 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group of 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group of 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group of 2 to 12 carbon atoms)
[Formula 3]
(In the above general formula (I),
R 1 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R 2 represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.
R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
R 4 represents an aromatic ring group which may have a substituent.
R 5 and R 6 each independently represent a benzene ring which may have a substituent or a naphthalene ring which may have a substituent. However, at least any one of R5 and R6 is a naphthalene ring which may have a substituent.
At least one of R 1 and R 4 has an -OR 7 group as a substituent. provided that R 7 represents a halogenoalkyl group.
X represents a direct bond or a carbonyl group.
Z represents a direct bond or a carbonyl group.)
상기 (a) 착색제가 카본 블랙을 함유하는, 감광성 착색 조성물.According to claim 1 or 7,
The photosensitive coloring composition in which the said (a) coloring agent contains carbon black.
상기 (a) 착색제가, 추가로 유기 안료를 함유하는, 감광성 착색 조성물.According to claim 7,
The photosensitive coloring composition in which said (a) coloring agent contains an organic pigment further.
경화된 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도가 1.0 이상인, 감광성 착색 조성물.According to claim 1 or 7,
The photosensitive coloring composition whose optical density per 1 micrometer of film thickness of a hardened coating film is 1.0 or more.
포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 착색 스페이서를 일괄 형성하기 위해서 사용하는, 감광성 착색 조성물.According to claim 1 or 7,
A photosensitive coloring composition used to collectively form colored spacers having different heights by a photolithography method.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2015-048578 | 2015-03-11 | ||
JP2015048577 | 2015-03-11 | ||
JP2015048578 | 2015-03-11 | ||
JPJP-P-2015-048577 | 2015-03-11 | ||
JP2015157456 | 2015-08-07 | ||
JPJP-P-2015-157456 | 2015-08-07 | ||
PCT/JP2016/057678 WO2016143878A1 (en) | 2015-03-11 | 2016-03-10 | Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170126912A KR20170126912A (en) | 2017-11-20 |
KR102491215B1 true KR102491215B1 (en) | 2023-01-20 |
Family
ID=56879478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177025400A KR102491215B1 (en) | 2015-03-11 | 2016-03-10 | Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP7131907B2 (en) |
KR (1) | KR102491215B1 (en) |
CN (2) | CN107407881A (en) |
TW (2) | TWI763625B (en) |
WO (1) | WO2016143878A1 (en) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI763186B (en) * | 2015-03-30 | 2022-05-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | Colored photosensitive composition, cured film, pattern forming method, infrared cut filter with light shielding film, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor |
WO2017038708A1 (en) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | Coloring photosensitive composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state imaging element, image display device, and method for manufacturing cured film |
WO2018070477A1 (en) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive colored composition, cured product, colored spacer, and image display device |
KR102080235B1 (en) * | 2016-10-28 | 2020-02-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | Photosensitive resin composition, black photosensitive resin layer using the same and color filter |
KR20190109383A (en) * | 2017-02-15 | 2019-09-25 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device |
JP7396786B2 (en) * | 2017-02-24 | 2023-12-12 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Photosensitive resin composition for light-shielding film, light-shielding film, liquid crystal display device, method for producing light-shielding film having spacer function, and method for producing liquid crystal display device |
KR102300328B1 (en) * | 2017-03-29 | 2021-09-09 | 동우 화인켐 주식회사 | A black colored photosensitive resin composition and display device produced using the same |
JP2018205605A (en) * | 2017-06-07 | 2018-12-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Coloring photosensitive resin composition, cured product, organic electroluminescent element, image display device and illumination |
JP7351221B2 (en) * | 2017-06-30 | 2023-09-27 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive colored composition, cured product, colored spacer, and image display device |
JP7051321B2 (en) * | 2017-07-21 | 2022-04-11 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device |
JP7079581B2 (en) * | 2017-08-31 | 2022-06-02 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, cured product forming method, cured product, panel for image display device, and image display device |
JP6374595B1 (en) * | 2017-09-26 | 2018-08-15 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition, cured film, display device, and pattern forming method |
KR101923832B1 (en) * | 2017-11-20 | 2019-02-27 | 동우 화인켐 주식회사 | Photosensitive resin composition, and pattern formed therefrom, color filter comprising thereof and liquid crystal display device comprigin the color filter |
JP7095989B2 (en) * | 2017-12-28 | 2022-07-05 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, cured product, cured product forming method, color filter, and image display device |
KR102509789B1 (en) | 2018-03-29 | 2023-03-20 | 동우 화인켐 주식회사 | Colored photosensitive resin composition, color filter, and image display apparatus comprising the same |
JP7360798B2 (en) * | 2019-02-21 | 2023-10-13 | サカタインクス株式会社 | Colored composition and colored resist composition containing the same |
JP7263153B2 (en) * | 2019-06-27 | 2023-04-24 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, cured product, black matrix, black bank, color filter, image display device, and method for producing patterned cured film |
WO2021045193A1 (en) * | 2019-09-06 | 2021-03-11 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive coloring composition, cured product, image display device and pigment dispersion liquid for image display devices |
JP7439530B2 (en) * | 2020-01-23 | 2024-02-28 | Toppanホールディングス株式会社 | Optical module and display device |
KR20220095288A (en) | 2020-12-29 | 2022-07-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device and tiled display device including the same |
CN113372757A (en) * | 2021-07-29 | 2021-09-10 | 业成科技(成都)有限公司 | Ultraviolet light curing printing ink |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013147483A (en) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Hunet Plus Co Ltd | New high sensitive alpha-keto oxime ester photopolymerization initiator and photopolymerization composition containing the compound |
JP2014052470A (en) | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Photosensitive coloring composition, colored film, and color filter |
WO2014103628A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | Composition for color filter, infrared transmission filter and method for manufacturing infrared transmission filter, and infrared sensor |
JP2014237809A (en) | 2013-05-10 | 2014-12-18 | 富士フイルム株式会社 | Colored composition, colored cured film, color filter, solid-state image sensor and image display device |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08234212A (en) | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Casio Comput Co Ltd | Liquid crystal display element |
JP4493487B2 (en) | 2004-12-03 | 2010-06-30 | 凸版印刷株式会社 | Photosensitive coloring composition and color filter using the same |
JP2006162874A (en) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Fujikura Ltd | Optical fiber cable with connector |
KR101266295B1 (en) | 2009-09-09 | 2013-05-23 | 제일모직주식회사 | Black photosensitive resin composition and black matrix manufactured by using the same |
JP4914972B2 (en) * | 2010-06-04 | 2012-04-11 | ダイトーケミックス株式会社 | Oxime ester compound, method for producing oxime ester compound, photopolymerization initiator, and photosensitive composition |
KR101831912B1 (en) | 2010-10-05 | 2018-02-26 | 바스프 에스이 | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
JP2012181509A (en) * | 2011-02-08 | 2012-09-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | Photosensitive coloring composition, colored spacer, color filter and liquid crystal display device |
KR101349622B1 (en) * | 2011-08-26 | 2014-01-10 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | Photopolymerizable unsaturated resin, photosensitive resin composition comprising the same, and light shielding spacer and liquid crystal display device formed therefrom |
CN110262189A (en) * | 2011-10-25 | 2019-09-20 | 三菱化学株式会社 | Coloring photosensitive combination, coloring spacer, colour filter and liquid crystal display device |
EP2788325B1 (en) * | 2011-12-07 | 2016-08-10 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
CN110244513B (en) | 2012-01-31 | 2022-10-14 | 三菱化学株式会社 | Colored photosensitive composition, black photo spacer and color filter |
JP6157602B2 (en) | 2012-06-01 | 2017-07-05 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | Black colorant mixture |
JP6021473B2 (en) * | 2012-07-02 | 2016-11-09 | 株式会社日本化学工業所 | Novel photopolymerization initiator and photosensitive resin composition using them |
JP2014139668A (en) * | 2012-12-20 | 2014-07-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | Colored cured object and its manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device |
KR101658374B1 (en) * | 2013-01-25 | 2016-09-22 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | Colored photosensitive resin composition with dual property for column spacer and black matrix |
WO2014208348A1 (en) * | 2013-06-24 | 2014-12-31 | 東レ株式会社 | Black resin composition for touch panels |
SG11201608040VA (en) * | 2014-05-01 | 2016-11-29 | Fujifilm Corp | Coloring composition, film, color filter, pattern forming method, method of manufacturing color filter, solid image pickup element, and infrared sensor |
-
2016
- 2016-03-10 CN CN201680014325.2A patent/CN107407881A/en active Pending
- 2016-03-10 CN CN202110817357.9A patent/CN113608408A/en active Pending
- 2016-03-10 KR KR1020177025400A patent/KR102491215B1/en active IP Right Grant
- 2016-03-10 WO PCT/JP2016/057678 patent/WO2016143878A1/en active Application Filing
- 2016-03-10 JP JP2017505412A patent/JP7131907B2/en active Active
- 2016-03-11 TW TW105107542A patent/TWI763625B/en active
- 2016-03-11 TW TW109127386A patent/TWI776205B/en active
-
2021
- 2021-07-30 JP JP2021125886A patent/JP7268700B2/en active Active
-
2023
- 2023-04-21 JP JP2023070296A patent/JP7485147B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013147483A (en) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Hunet Plus Co Ltd | New high sensitive alpha-keto oxime ester photopolymerization initiator and photopolymerization composition containing the compound |
JP2014052470A (en) | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Photosensitive coloring composition, colored film, and color filter |
WO2014103628A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | Composition for color filter, infrared transmission filter and method for manufacturing infrared transmission filter, and infrared sensor |
JP2014237809A (en) | 2013-05-10 | 2014-12-18 | 富士フイルム株式会社 | Colored composition, colored cured film, color filter, solid-state image sensor and image display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7268700B2 (en) | 2023-05-08 |
TW201634591A (en) | 2016-10-01 |
JP2021182150A (en) | 2021-11-25 |
CN113608408A (en) | 2021-11-05 |
JPWO2016143878A1 (en) | 2017-12-28 |
JP2023106388A (en) | 2023-08-01 |
CN107407881A (en) | 2017-11-28 |
WO2016143878A1 (en) | 2016-09-15 |
TWI776205B (en) | 2022-09-01 |
TW202100665A (en) | 2021-01-01 |
TWI763625B (en) | 2022-05-11 |
JP7131907B2 (en) | 2022-09-06 |
KR20170126912A (en) | 2017-11-20 |
JP7485147B2 (en) | 2024-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102491215B1 (en) | Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device | |
KR102540423B1 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, image display device | |
JP6380723B1 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, image display device | |
TWI794156B (en) | Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, image display device | |
JP6543968B2 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, and image display device | |
JP2016177190A (en) | Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device | |
JP6528475B2 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, and image display device | |
JP2022078139A (en) | Photosensitive coloring composition, cured material, coloring spacer, image display device | |
JP6561533B2 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, image display device | |
JP7302262B2 (en) | Photosensitive colored resin composition, cured product, and image display device | |
JP7351221B2 (en) | Photosensitive colored composition, cured product, colored spacer, and image display device | |
JP7230559B2 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device | |
JP7006358B2 (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, and image display device | |
KR20210105876A (en) | Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |