KR20230066756A - 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치 - Google Patents

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KR20230066756A
KR20230066756A KR1020210152087A KR20210152087A KR20230066756A KR 20230066756 A KR20230066756 A KR 20230066756A KR 1020210152087 A KR1020210152087 A KR 1020210152087A KR 20210152087 A KR20210152087 A KR 20210152087A KR 20230066756 A KR20230066756 A KR 20230066756A
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윤주영
김민중
맹선정
소종호
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한국표준과학연구원
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Abstract

본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하고 분석하기 위한 장치에 관한 것으로, 플라즈마 처리 장치용 공정챔버의 일측에 결합되며, 일측에 투시창이 형성된 도킹챔버와, 상기 도킹챔버 내부에 배치되며 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자가 포집되는 포집플레이트와, 상기 공정챔버와 상기 도킹챔버를 결합 또는 분리시키는 도킹수단과, 상기 도킹챔버에 형성되며 상기 도킹챔버를 개폐시키는 개폐수단과, 상기 도킹챔버 일측에 형성되며, 상기 투시창을 통해 상기 포집플레이트 상에 포집된 오염입자를 분석하는 분석모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 공정챔버에 결합 및 분리가 가능한 도킹챔버를 구비하여 플라즈마 처리 공정 중 인시츄(in-situ) 또는 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있는 이점이 있다.

Description

도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치{Docking type apparatus for collection and analysis of contamination particle}
본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하고 분석하기 위한 장치에 관한 것으로, 공정챔버에 결합 및 분리가 가능한 도킹챔버를 구비하여 플라즈마 처리 공정 중 인시츄(in-situ) 또는 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치에 관한 것이다.
최근 전기, 전자 부품의 소형화, 고집적화에 따라 반도체 웨이퍼 또는 액정 기판 등을 포함한 각종 기판 상층에 반도체, 금속, 산화물 등의 박막을 증착하고, 에칭하는 등의 공정을 반복적으로 수행하여 고집적 소자를 제조하는 기술이 활발하게 연구되고 있다.
특히 고밀도, 고집적화가 요구되는 반도체 소자를 제조하기 위해서는 증착, 에칭 등의 공정을 반복적으로 수행하게 되는데, 이러한 증착 공정과 에칭 공정의 반복 구현을 용이하게 수행하기 위한 것으로 플라즈마 처리 장치가 널리 이용되고 있다.
이러한 플라즈마 처리 장치를 이용한 증착 공정 또는 에칭 공정 수행 시 발생하는 반응 생성물 또는 에칭 부산물이 공정 챔버 내부에 부유하거나 공정 챔버 내측 벽면 또는 RF 투시창 영역에 퇴적되어, 이후 공정에서 소자를 오염시키거나, RF 인가 효율을 저하시키게 된다.
또한, 이러한 플라즈마 처리 장치를 이루는 부품은 열, 이온, 고부식성 화학 가스 등에 의한 물리, 화학적 부식 환경에 지속적으로 노출됨에 따라 부품의 부식이 진행되고 이로 인해 공정 중 파티클이 발생되어 부품의 성능 저하 및 공정 수율을 떨어뜨리는 요인으로 작용하고 있다.
상술한 공정 부산물로의 반응 생성물, 에칭 부산물 그리고 부품의 부식에 따라 발생되는 파티클을 총칭하여 편의상 '오염입자'라고 하며, 고품질의 박막 또는 소자 형성, 플라즈마 처리 장치를 이루는 부품 관리를 위해서는 오염입자에 대한 정확한 측정이 필요하다.
기존의 오염입자를 측정하는 방식으로는 공정 챔버 일측에 포집플레이트를 배치하고, 이에 오염입자가 포집되면, 이를 공정 챔버 외부로 꺼내어 포집플레이트 상에 코팅되거나 안착된 오염입자를 분석하고 있다.
이러한 과정에서 포집플레이트를 공정 챔버 외부로 노출시키는 순간 주변의 먼지나 습기 등에 의해 포집플레이트의 오염을 초래하게 되고, 이에 정확한 오염입자의 분석이 어려운 단점이 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 공정챔버에 결합 및 분리가 가능한 도킹챔버를 구비하여 플라즈마 처리 공정 중 인시츄(in-situ) 또는 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치의 제공을 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 플라즈마 처리 장치용 공정챔버의 일측에 결합되며, 일측에 투시창이 형성된 도킹챔버와, 상기 도킹챔버 내부에 배치되며 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자가 포집되는 포집플레이트와, 상기 공정챔버와 상기 도킹챔버를 결합 또는 분리시키는 도킹수단과, 상기 도킹챔버에 형성되며 상기 도킹챔버를 개폐시키는 개폐수단과, 상기 도킹챔버 일측에 형성되며, 상기 투시창을 통해 상기 포집플레이트 상에 포집된 오염입자를 분석하는 분석모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치를 기술적 요지로 한다.
또한, 상기 도킹수단은, 상기 도킹챔버에 형성되며, 상기 공정챔버에 형성된 공정챔버포트와 결합되는 도킹챔버포트와, 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트를 결합시키는 클램프를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트 사이에 진공씰링가스켓이 삽입되어 상기 클램프에 의해 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트를 기밀결합시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 클램프는, 한쌍으로 형성되며, 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트 양측에서 볼팅되어 결합되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 포집플레이트는, 플레이트 홀더 상에 안착되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 플레이트 홀더는, 링 형상으로 형성되며, 상기 도킹챔버 바닥면에 고정되는 것이 바람직하며, 세라믹 재질로 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 플레이트 홀더의 링 내측에 위치되며, 상기 도킹챔버 바닥면에 고정되고, 상기 플레이트 홀더의 링 내부로 상하 또는 회전되도록 홀더조절부가 형성된 것이 바람직하다.
또한, 상기 도킹챔버 일측에는, 상기 포집플레이트를 이송하기 위한 이송암이 형성된 것이 바람직하다.
또한, 상기 개폐수단은, 게이트밸브 및 셔터를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 도킹챔버에는, 내부 진공도 조절을 위한 펌핑포트가 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 분석모듈은, 상기 도킹챔버 외측에 배치되며, 상기 투시창을 통해 레이저를 상기 포집플레이트 상으로 조사하는 레이저발생기와, 상기 포집플레이트로부터 산란된 빛을 감지하는 디텍터와, 상기 레이저발생기 및 디텍터의 초점 조절 또는 상기 포집플레이트 상에서의 오염입자 분석 구역을 조절하기 위한 포커싱부를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 도킹챔버포트에 기밀결합되는 것으로, 상기 공정챔버포트의 형상 및 크기에 맞춤결합될 수 있도록 어댑터포트가 더 포함되는 것이 바람직하다.
본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하고 분석하기 위한 것으로, 공정챔버에 결합 및 분리가 가능한 도킹챔버를 구비하여 플라즈마 처리 공정 중 인시츄(in-situ) 또는 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 도킹챔버 내부에서 포집플레이트 상에 포집하게 되므로, 오염입자의 포집효율을 향상시키게 되며, 포집플레이트의 외부 노출을 차단하고, 진공유지를 통해 먼지 등에 의한 포집플레이트의 오염을 차단할 수 있어 오염입자 분석에 대한 신뢰성을 제고할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 일실시예로 개폐수단에 클램프를 도입함으로써, 공정챔버와 도킹챔버의 정렬을 용이하게 함과 동시에 단단하게 고정시켜 진공 환경의 형성이 용이하며, 볼팅을 해제함으로써 클램프가 분리되어 도킹챔버의 분리 및 이동이 용이한 효과가 있다.
도 1 - 본 발명의 일실시예에 따른 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치에 대한 분해모식도.
도 2 - 본 발명이 일실시예에 따른 분석모듈에 대한 모식도.
도 3 - 본 발명의 일실시예에 따른 어댑터포트에 대한 모식도.
본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하고 분석하기 위한 것으로, 공정챔버에 결합 및 분리가 가능한 도킹챔버를 구비하여 플라즈마 처리 공정 중 인시츄(in-situ) 또는 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있는 것이다.
즉, 플라즈마 처리 공정 중에 공정챔버에 도킹챔버를 결합한 상태에서 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하여 인시츄(in-situ)로 오염입자를 분석하거나, 플라즈마 처리 공정과는 별개로 또는 필요시에 공정챔버로부터 도킹챔버를 분리한 후 익스시츄(ex-situ)로 오염입자를 분석할 수 있다.
또한 본 발명은 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 도킹챔버 내부에서 포집플레이트 상에 포집하게 되므로, 오염입자의 포집효율을 향상시키게 되며, 포집플레이트의 외부 노출을 차단하고, 진공유지를 통해 먼지 등에 의한 포집플레이트의 오염을 차단할 수 있어 오염입자 분석에 대한 신뢰성을 제고할 수 있다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명하고자 한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치에 대한 분해모식도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 분석모듈에 대한 모식도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 어댑터포트에 대한 모식도이다.
도시된 바와 같이 본 발명에 따른 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치는, 플라즈마 처리 장치용 공정챔버의 일측에 결합되며, 일측에 투시창(110)이 형성된 도킹챔버(100)와, 상기 도킹챔버(100) 내부에 배치되며 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자가 포집되는 포집플레이트(200)와, 상기 공정챔버와 상기 도킹챔버(100)를 결합 또는 분리시키는 도킹수단(300)과, 상기 도킹챔버(100)에 형성되며 상기 도킹챔버(100)를 개폐시키는 개폐수단(400)과, 상기 도킹챔버(100) 일측에 형성되며, 상기 투시창(110)을 통해 상기 포집플레이트(200) 상에 포집된 오염입자를 분석하는 분석모듈(500)을 포함한다.
이와 같이 본 발명에 따른 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치는 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 도킹챔버(100) 내부에서 효율적으로 포집하고, 필요시 인시츄 또는 익스시츄로 오염입자를 분석할 수 있도록 하는 것이다.
본 발명은 도 1에 도시한 바와 같이 도킹챔버(100), 포집플레이트(200), 도킹수단(300), 개폐수단(400)과 분석모듈(500)로 크게 구성된다.
먼저 본 발명의 일실시예에 따른 도킹챔버(100)는 플라즈마 처리 장치용 공정챔버의 일측에 착탈식으로 결합되는 것으로, 내부에 오염입자의 포집을 위한 소정의 공간이 형성되며, 일측에 투시창(110)에 형성된다.
상기 투시창(110)은 쿼츠(Quartz)와 같은 열적, 화학적으로 안정적인 투명한 재료로 형성될 수 있으며, 외부에서 도킹챔버(100) 내부를 관찰하거나 투시창(110)을 통해 후술할 분석모듈(500)의 레이저를 조사하여 오염입자의 발생량 등을 체크할 수 있도록 한다.
상기 도킹챔버(100)는 공정챔버와 비슷하거나 필요한 진공도를 조절하기 위한 진공펌프와 연결된 펌핑포트(700)가 형성될 수 있으며, 상기 도킹챔버(100)는 개폐될 수도 있다.
그리고 본 발명의 일실시예에 따른 포집플레이트(200)는 상기 도킹챔버(100) 내부에 배치되며 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 포집하는 것이다. 상기 포집플레이트(200)는 특별히 재료에 제한이 있는 것은 아니며, 오염입자 분석에 영향을 미치지 않고 효율적으로 포집하기 위한 형상을 갖는다.
상기 포집플레이트(200)는 플레이트 홀더(210) 상에 안착되며, 효율적인 포집 및 분석을 위해 도킹챔버(100) 내부에서 위치 이동이 가능하도록 형성될 수 있다.
상기 플레이트 홀더(210)는 링 형상으로 형성되며, 상기 도킹챔버(100) 바닥면에 고정되어 형성된다. 일실시예로 상기 플레이트 홀더(210)는 세라믹 재질 예컨대 AlN 또는 Al2O3로 형성될 수 있으며, 도킹챔버(100) 바닥면에 4개의 지지부를 통해 고정되어 형성될 수 있다.
상기 포집플레이트(200)의 높이나 각도 조절을 위해 홀더조절부(220)가 구비될 수 있으며, 상기 홀더조절부(220)는 상기 플레이트 홀더(210)의 링 내측에 위치되며, 상기 도킹챔버(100) 바닥면에 고정되고, 상기 플레이트 홀더(210)의 링 내부로 상하 또는 회전되도록 형성된다.
즉, 상기 포집플레이트(200)는 상기 플레이트 홀더(210) 상에 안착되거나, 상기 플레이트 홀더(210)의 링 상측으로 홀더조절부(220)가 위치 이동이 된 경우에는 홀더조절부(220) 상에 안착될 수도 있다. 상기 홀더조절부(220)는 유압식 또는 기계식으로 상하 이동 또는 회전 구동할 수 있다.
또한 상기 도킹챔버(100) 일측에는, 상기 포집플레이트(200)를 이송하기 위한 이송암(600)이 형성될 수 있다. 상기 이송암(600)은 포집플레이트(200)를 특정 영역으로 이송하기 위한 것으로, 이송암(600)은 접철식 또는 자바라식 등으로 구현되어 길이 조절이 가능하도록 하며, 사용하지 않을 경우에는 장치의 소형화를 위해 완전히 접어 놓을 수 있도록 설계될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 도킹수단(300)은 상기 공정챔버와 상기 도킹챔버(100)를 결합 또는 분리시키게 된다. 상기 도킹수단(300)은 공정 환경을 해치지 않도록 하면서 도킹챔버(100)가 무단 분리되지 않도록 안정적으로 공정챔버와 도킹챔버(100)를 고정시켜야 하며, 필요시 도킹챔버(100)를 분리시키고자 하는 경우 편리하게 이루어져야 한다.
이를 위해 본 발명에 따른 도킹수단(300)은 상기 도킹챔버(100)에 형성되며, 상기 공정챔버에 형성된 공정챔버포트(310)와 결합되는 도킹챔버포트(320)와, 상기 도킹챔버포트(320)와 상기 공정챔버포트(310)를 결합시키는 클램프(330)를 포함하여 형성된다.
상기 공정챔버포트(310) 및 도킹챔버포트(320)는 클램프(330)에 안정적으로 고정되도록 대향되는 단부가 확장되어 플랜지 형상으로 형성될 수 있으며, 클램프(330)는 상기 플랜지에 결합되어 공정챔버포트(310) 및 도킹챔버포트(320)가 무단 분리되지 않도록 한다.
여기에서 상기 도킹챔버포트(320)와 공정챔버포트(310) 사이에는 진공씰링가스켓(340)이 삽입되어 상기 클램프(330)에 의해 상기 도킹챔버포트(320)와 상기 공정챔버포트(310)를 기밀결합시키도록 한다. 즉, 상기 클램프(330)에 의해 도킹챔버포트(320), 진공실링가스켓 및 공정챔버포트(310)가 동시에 결합되게 된다.
상기 진공씰링가스켓(340)은 도킹챔버포트(320) 및 공정챔버포트(310)와 기밀결합될 수 있도록 링 형상으로 형성되며, 내구성을 위해 합금 외부를 고무가 감싸고 있는 구조, 예컨대 합금으로는 SUS, Al 합금 등이 사용될 수 있으며, 고무로는 바이톤(Viton), KALREZ 등이 사용될 수 있다.
또한 본 발명에 따른 일실시예로 클램프(330)는 한쌍으로 형성되며, 상기 도킹챔버포트(320)와 상기 공정챔버포트(310) 양측에서 볼팅(볼트와 너트의 나사결합)되어 결합되도록 하여, 공정챔버와 도킹챔버(100)의 정렬을 용이하게 함과 동시에 단단하게 고정시켜주어 진공 환경의 형성이 용이하다. 또한 볼팅을 해제함으로써 한쌍의 클램프(330)가 분리되어 도킹챔버의 분리 및 이동이 용이하도록 한다.
그리고 본 발명에 따른 개폐수단(400)은 상기 도킹챔버(100), 바람직하게는 도킹챔버포트(320)에 인접하여 형성되며 상기 도킹챔버(100)를 개폐시키는 것이다. 즉, 오염입자를 포집하는 경우에는 도킹챔버(100)를 개방시켜놓고, 도킹챔버(100)의 내부 영역의 항상성을 유지하거나 도킹챔버(100)를 공정챔버로부터 분리시키고자 하는 경우 도킹챔버(100)를 폐쇄시키게 된다.
본 발명의 일실시예에 따른 개폐수단(400)은 게이트밸브 및 셔터를 포함하여 형성되며 상술한 바와 같이 도킹챔버(100)를 공정챔버와 공간적으로 분리시키거나 도킹챔버(100)를 공정챔버로부터 완전히 분리시키고자 할 때 진공도를 유지하고 오염을 차단할 수 있도록 하는 것이다.
본 발명에 따른 분석모듈(500)은 상기 도킹챔버(100) 일측에 형성되며, 상기 투시창(110)을 통해 상기 포집플레이트(200) 상에 포집된 오염입자를 분석하게 된다. 즉 본 발명은 도킹챔버(100) 내부에 오염입자가 포집된 포집플레이트(200)가 위치하며, 공정 환경 또는 테스트 환경을 유지한 채로 오염입자의 분석이 가능하도록 한 것이다.
본 발명의 일실시예에 따른 분석모듈(500)은, 도 2에 도시한 바와 같이 상기 도킹챔버(100) 외측에 배치되며, 상기 투시창(110)을 통해 레이저를 상기 포집플레이트(200) 상으로 조사하는 레이저발생기(510)와, 상기 포집플레이트(200)로부터 산란된 빛을 감지하는 디텍터(520)와, 상기 레이저발생기(510) 및 디텍터(520)의 초점 조절 또는 상기 포집플레이트(200) 상에서의 오염입자 분석 구역을 조절하기 위한 포커싱부(530)를 포함할 수 있다.
즉, 상기 레이저발생기(510)에 의해 발생된 레이저를 도킹챔버(100)의 투시창(110)으로 통해 포집플레이트(200) 상으로 조사하면, 상기 포집플레이트(200)로부터 산란된 빛을 감지하여 신호해석을 통해 오염입자의 개수 또는 오염입자의 두께, 크기 등과 같은 오염입자의 발생량을 측정할 수 있다.
이때 포커싱부(530)는 상기 레이저발생기(510) 및 디텍터(520)의 초점 조절 또는 상기 포집플레이트(200) 상에서의 오염입자 분석 구역을 조절할 수 있도록 하는 것으로, 레이저광을 확장하거나, 초점을 맞추거나 초점을 조절할 수 있는 광학계 등으로 구현된 것이다.
이에 의해 상기 디텍터(520)는 오염입자에 의해 산란되는 빛을 검출하며, 디텍터(520)에 도달하는 빛의 위치에 따라 오염입자의 크기를 알 수 있으며, 디텍터(520)에 도달하는 빛의 상대적인 세기의 차이에 따라 특정한 크기의 오염입자들의 전체 부피의 비를 알 수도 있다.
또한 본 발명은, 레이저에 의해 도킹챔버(100) 내부 영역에서 측정된 오염입자의 광산란 이미지를 측정하는 이미지 센서가 더 구비될 수도 있으며, 오염입자에 의한 광산란되는 이미지를 측정하여, 오염입자를 시각화하기 위한 것이다.
즉, 플라즈마 공정 중 nm ~ ㎛ 크기의 오염입자가 생성되게 되면 조사된 레이저광이 산란되고, 이러한 산란을 CMOS 또는 CCD 등의 이미지 센서를 통해 이미지화시키면, 공정 중 오염입자의 생성 유무, 발생시점, 오염입자의 농도 등 오염입자의 거동을 실시간으로 측정할 수도 있다.
한편 본 발명에 따른 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치는 상기 도킹챔버포트(320)에 기밀결합되는 것으로, 상기 공정챔버포트(310)의 형상 및 크기에 맞춤결합될 수 있도록 어댑터포트(800)를 더 포함할 수 있다.
즉, 기존의 공정챔버포트(310)가 규격화되어 있지 않는 경우, 이에 맞춤결합될 수 있도록 어댑터포트(800)를 매개로 하여 공정챔버포트(310) 및 도킹챔버포트(320)가 결합될 수 있도록 한다. 여기에서 어댑터포트(800)와 공정챔버포트(310) 및 도킹챔버포트(320)는 각각 기밀결합될 수 있도록 결합면에 오링 또는 가스켓이 포함될 수 있다.
도 3은 어댑터포트(800)에 대한 실시예를 나타낸 것으로, 도 3(a)는 공정챔버포트(310)의 크기가 작은 경우 유용하게 사용될 수 있는 크기 전환 어댑터포트(800)이며, 도 3(b)는 공정챔버포트(310)의 형상이 다른 경우 유용하게 사용될 수 있는 규격 전환 어댑터포트(800)를 도시한 것이다.
100 : 도킹챔버 110 : 투시창
200 : 포집플레이트 210 : 플레이트 홀더
220 : 홀더조절부 300 : 도킹수단
310 : 공정챔버포트 320 : 도킹챔버포트
330 : 클램프 340 : 진공씰링가스켓
400 : 개폐수단 500 : 분석모듈
510 : 레이저발생기 520 : 디텍터
530 : 포커싱부 600 : 이송암
700 : 펌핑포트 800 : 어댑터포트

Claims (13)

  1. 플라즈마 처리 장치용 공정챔버의 일측에 결합되며, 일측에 투시창이 형성된 도킹챔버;
    상기 도킹챔버 내부에 배치되며 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자가 포집되는 포집플레이트;
    상기 공정챔버와 상기 도킹챔버를 결합 또는 분리시키는 도킹수단;
    상기 도킹챔버에 형성되며 상기 도킹챔버를 개폐시키는 개폐수단;
    상기 도킹챔버 일측에 형성되며, 상기 투시창을 통해 상기 포집플레이트 상에 포집된 오염입자를 분석하는 분석모듈;을 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 도킹수단은,
    상기 도킹챔버에 형성되며, 상기 공정챔버에 형성된 공정챔버포트와 결합되는 도킹챔버포트;
    상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트를 결합시키는 클램프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트 사이에 진공씰링가스켓이 삽입되어 상기 클램프에 의해 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트를 기밀결합시키는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 클램프는,
    한쌍으로 형성되며, 상기 도킹챔버포트와 상기 공정챔버포트 양측에서 볼팅되어 결합되는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 포집플레이트는,
    플레이트 홀더 상에 안착되는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 플레이트 홀더는,
    링 형상으로 형성되며, 상기 도킹챔버 바닥면에 고정되는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 플레이트 홀더는,
    세라믹 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  8. 제 6항에 있어서, 상기 플레이트 홀더의 링 내측에 위치되며, 상기 도킹챔버 바닥면에 고정되고, 상기 플레이트 홀더의 링 내부로 상하 또는 회전되도록 홀더조절부가 형성된 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  9. 제 1항에 있어서, 상기 도킹챔버 일측에는,
    상기 포집플레이트를 이송하기 위한 이송암이 형성된 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  10. 제 1항에 있어서, 상기 개폐수단은,
    게이트밸브 및 셔터를 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석 장치.
  11. 제 1항에 있어서, 상기 도킹챔버에는,
    내부 진공도 조절을 위한 펌핑포트가 형성된 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  12. 제 1항에 있어서, 상기 분석모듈은,
    상기 도킹챔버 외측에 배치되며,
    상기 투시창을 통해 레이저를 상기 포집플레이트 상으로 조사하는 레이저발생기;
    상기 포집플레이트로부터 산란된 빛을 감지하는 디텍터;
    상기 레이저발생기 및 디텍터의 초점 조절 또는 상기 포집플레이트 상에서의 오염입자 분석 구역을 조절하기 위한 포커싱부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.
  13. 제 1항 내지 제 12항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 도킹챔버포트에 기밀결합되는 것으로, 상기 공정챔버포트의 형상 및 크기에 맞춤결합될 수 있도록 어댑터포트가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 도킹형 오염입자 포집 및 분석장치.

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