KR20230066078A - 플루오로부텐의 보관 방법 - Google Patents
플루오로부텐의 보관 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230066078A KR20230066078A KR1020237012165A KR20237012165A KR20230066078A KR 20230066078 A KR20230066078 A KR 20230066078A KR 1020237012165 A KR1020237012165 A KR 1020237012165A KR 20237012165 A KR20237012165 A KR 20237012165A KR 20230066078 A KR20230066078 A KR 20230066078A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- fluorobutene
- chf
- less
- butene
- gas
- Prior art date
Links
- WFOIWBGKCSYBJN-UHFFFAOYSA-N 1-fluorobut-1-ene Chemical compound CCC=CF WFOIWBGKCSYBJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 97
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 26
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims abstract description 25
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N (e)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical group FC(F)(F)\C=C\C(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 10
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- YIFLMZOLKQBEBO-UPHRSURJSA-N (z)-1,1,1,2,4,4,4-heptafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(/F)=C/C(F)(F)F YIFLMZOLKQBEBO-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 5
- FAOACLKUNWKVPH-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,4-hexafluorobut-1-ene Chemical compound FC(=C)C(F)(F)C(F)(F)F FAOACLKUNWKVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 37
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 10
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 229910000617 Mangalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical class FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYZFTXWDXGDNJZ-UHFFFAOYSA-N 1-fluorobut-2-ene Chemical compound CC=CCF JYZFTXWDXGDNJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZHPSCJEIFFRLN-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,4-pentafluorobut-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=C IZHPSCJEIFFRLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pens And Brushes (AREA)
Abstract
보관 중에 중합이 진행되기 어려운 플루오로부텐의 보관 방법을 제공한다. 일반식 C4HxFy으로 나타내어지고 또한 일반식 중의 x가 0 이상 7 이하, y가 1 이상 8 이하, x+y가 8인 플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않는다. 이 플루오로부텐을, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 해서 용기 내에 보관한다.
Description
본 발명은 플루오로부텐의 보관 방법에 관한 것이다.
예를 들면, 특허문헌 1, 2 등에 개시된 불포화 플루오로카본은 드라이 에칭의 에칭 가스로서 사용되는 경우가 있다.
그러나, 불포화 플루오로카본은 불포화 결합의 반응에 의해 중합하기 쉽기 때문에, 장기간에 걸친 보관 중에 중합이 진행되어 순도가 저하될 우려가 있었다.
본 발명은 보관 중에 중합이 진행되기 어려운 플루오로부텐의 보관 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일형태는 이하의 [1]∼[4]와 같다.
[1] 일반식 C4HxFy로 나타내어지고 또한 상기 일반식 중의 x가 0 이상 7 이하, y가 1 이상 8 이하, x+y가 8인 플루오로부텐의 보관 방법으로서,
상기 플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 해서 상기 플루오로부텐을 용기 내에 보관하는 플루오로부텐의 보관 방법.
[2] 상기 플루오로부텐이 망간, 코발트, 니켈, 및 규소 중 적어도 1종을 상기 금속 불순물로서 더 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘, 그리고 망간, 코발트, 니켈, 및 규소의 농도의 총합을 2000질량ppb 이하로 해서 상기 플루오로부텐을 용기 내에 보관하는 [1]에 기재된 플루오로부텐의 보관 방법.
[3] 상기 플루오로부텐이 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐, 3,3,4,4,4-펜타플루오로-1-부텐, 및 2,3,3,4,4,4-헥사플루오로-1-부텐으로부터 선택되는 적어도 1개인 [1] 또는 [2]에 기재된 플루오로부텐의 보관 방법.
[4] -20℃ 이상 50℃ 이하의 온도에서 보관하는 [1]∼[3] 중 어느 한 항에 기재된 플루오로부텐의 보관 방법.
본 발명에 의하면, 보관 중에 플루오로부텐의 중합이 진행되기 어렵다.
본 발명의 일실시형태에 대해서 이하에 설명한다. 또한, 본 실시형태는 본 발명의 일례를 나타낸 것으로서, 본 발명은 본 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시형태에는 다양한 변경 또는 개량을 더하는 것이 가능하고, 그와 같은 변경 또는 개량을 더한 형태도 본 발명에 포함될 수 있다.
본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법은, 일반식 C4HxFy로 나타내어지고 또한 일반식 중의 x가 0 이상 7 이하, y가 1 이상 8 이하, x+y가 8인 플루오로부텐의 보관 방법으로서, 플루오로부텐이 나트륨(Na), 칼륨(K), 마그네슘(Mg), 및 칼슘(Ca) 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 용기 내에 보관하는 방법이다.
플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하고 있으면, 금속 불순물의 촉매 작용에 의해, 플루오로부텐의 탄소-탄소 이중 결합의 중합 반응이 촉진된다. 그 때문에, 금속 불순물을 함유하는 플루오로부텐은 보관 중에 중합이 진행되고, 순도가 저하될 우려가 있다.
본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법에 의해 보관된 플루오로부텐은 금속 불순물을 함유하고 있지 않거나 또는 함유하고 있어도 그 함유량이 적기 때문에, 장기간에 걸친 보관에 있어서도 중합이 진행되기 어려워 순도의 저하가 일어나기 어렵다. 따라서, 플루오로부텐의 중합을 억제하는 중합 금지제를 첨가하지 않아도, 플루오로부텐을 장기간에 걸쳐서 안정하게 보관할 수 있다.
특허문헌 1, 2에 개시된 기술에 있어서는, 불포화 플루오로카본 중의 금속 불순물의 농도가 고려되어 있지 않다. 그 때문에, 특허문헌 1, 2에 개시된 기술에 의해 불포화 플루오로카본을 보관한 경우에는, 불포화 플루오로카본의 탄소-탄소 이중 결합의 중합 반응이 금속 불순물에 의해 촉진되는 경우가 있었다. 그 결과, 보관 중에 불포화 플루오로카본의 중합이 진행되고, 순도가 저하되는 경우가 있었다.
이하, 본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법에 대해서, 더욱 상세하게 설명한다.
[플루오로부텐]
본 실시형태에 따른 플루오로부텐은 일반식 C4HxFy로 나타내어지는 것이며, 또한, 일반식 중의 x가 0 이상 7 이하, y가 1 이상 8 이하, x+y가 8인 3개의 조건을 충족시키는 것이다. 플루오로부텐의 종류는, 상기 요건을 충족시키고 있으면 특별히 한정되는 것이 아니고, 직쇄상의 플루오로부텐이어도 분기쇄상의 플루오로부텐(이소부텐)이어도 되지만, 플루오로-1-부텐과 유사한 것과 플루오로-2-부텐과 유사한 것이 바람직하다.
플루오로-1-부텐의 구체예로서는, CHF2-CF2-CF=CF2, CF3-CF2-CF=CHF, CF3-CHF-CF=CF2, CF3-CF2-CH=CF2, CHF2-CHF-CF=CF2, CHF2-CF2-CF=CHF, CF3-CHF-CF=CHF, CF3-CF2-CH=CHF, CF3-CHF-CH=CF2, CHF2-CF2-CH=CF2, CH3-CF2-CF=CF2, CH2F-CHF-CF=CF2, CH2F-CF2-CH=CF2, CH2F-CF2-CF=CHF, CHF2-CH2-CF=CF2, CHF2-CHF-CH=CF2, CHF2-CHF-CF=CHF, CHF2-CF2-CH=CHF, CHF2-CF2-CF=CH2, CF3-CH2-CH=CF2, CF3-CH2-CF=CHF, CF3-CHF-CH=CHF, CF3-CHF-CF=CH2, CF3-CF2-CH=CH2, CH3-CHF-CF=CF2, CH3-CF2-CH=CF2, CH3-CF2-CF=CHF, CH2F-CH2-CF=CF2, CH2F-CHF-CH=CF2, CH2F-CHF-CF=CHF, CH2F-CF2-CH=CHF, CH2F-CF2-CF=CH2, CHF2-CH2-CH=CF2, CHF2-CH2-CF=CHF, CHF2-CHF-CH=CHF, CHF2-CHF-CF=CH2, CHF2-CF2-CH=CH2, CF3-CH2-CH=CHF, CF3-CH2-CF=CH2, CF3-CHF-CH=CH2, CH3-CH2-CF=CF2, CH3-CHF-CH=CF2, CH3-CHF-CF=CHF, CH3-CF2-CH=CHF, CH3-CF2-CF=CH2, CH2F-CH2-CH=CF2, CH2F-CH2-CF=CHF, CH2F-CHF-CH=CHF, CH2F-CHF-CF=CH2, CH2F-CF2-CH=CH2, CHF2-CH2-CH=CHF, CHF2-CH2-CF=CH2, CHF2-CHF-CH=CH2, CF3-CH2-CH=CH2, CH3-CH2-CH=CF2, CH3-CH2-CF=CHF, CH3-CHF-CH=CHF, CH3-CHF-CF=CH2, CH3-CF2-CH=CH2, CH2F-CH2-CH=CHF, CH2F-CH2-CF=CH2, CH2F-CHF-CH=CH2, CHF2-CH2-CH=CH2, CH3-CH2-CH=CHF, CH3-CH2-CF=CH2, CH3-CHF-CH=CH2, CH2F-CH2-CH=CH2가 열거된다.
플루오로-2-부텐의 구체예로서는, CHF2-CF=CF-CF3, CF3-CH=CF-CF3, CH2F-CF=CF-CF3, CHF2-CH=CF-CF3, CHF2-CF=CF-CHF2, CF3-CH=CH-CF3, CH3-CF=CF-CF3, CH2F-CH=CF-CF3, CH2F-CF=CH-CF3, CH2F-CF=CF-CHF2, CHF2-CH=CH-CF3, CHF2-CF=CH-CHF2, CH3-CH=CF-CF3, CH3-CF=CH-CF3, CH3-CF=CF-CHF2, CH2F-CH=CH-CF3, CH2F-CH=CF-CHF2, CH2F-CF=CH-CHF2, CH2F-CF=CF-CH2F, CHF2-CH=CH-CHF2, CH3-CH=CH-CF3, CH3-CH=CF-CHF2, CH3-CF=CH-CHF2, CH3-CF=CF-CH2F, CH2F-CF=CH-CH2F, CH2F-CH=CH-CHF2, CH3-CH=CH-CHF2, CH3-CH=CF-CH2F, CH3-CF=CH-CH2F, CH3-CF=CF-CH3, CH2F-CH=CH-CH2F, CH3-CH=CH-CH2F, CH3-CH=CF-CH3가 열거된다.
이것들의 플루오로부텐은 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 또한, 상기의 플루오로부텐의 일부에는, 시스-트랜스 이성체가 존재하는 것이 있지만, 시스형, 트랜스형의 어느 쪽의 플루오로부텐도, 본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법에 사용할 수 있다.
플루오로부텐을 용기에 보관할 때에는, 플루오로부텐만으로 이루어지는 가스를 용기에 보관해도 되고, 플루오로부텐과 희석 가스를 함유하는 혼합 가스를 용기에 보관해도 된다. 희석 가스로서는 질소 가스(N2), 헬륨(He), 네온(Ne), 아르곤(Ar), 크립톤(Kr), 및 크세논(Xe)으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 희석 가스의 함유량은 용기에 보관하는 가스의 총량에 대하여 90체적% 이하인 것이 바람직하고, 50체적% 이하인 것이 보다 바람직하다.
[용기]
플루오로부텐을 보관하는 용기에 대해서는, 플루오로부텐을 수용하고 밀봉할 수 있다면, 형상, 크기, 재질 등은 특별히 한정되는 것은 아니다. 용기의 재질에는 금속, 세라믹, 수지 등을 채용할 수 있다. 금속의 예로서는 망간 강, 스테인리스 강, 하스텔로이(등록상표), 인코넬(등록상표) 등이 열거된다.
[금속 불순물]
본 실시형태에 따른 플루오로부텐은 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않지만, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 해서 용기 내에 보관되기 때문에, 전술한 바와 같이 플루오로부텐의 탄소-탄소 이중 결합의 중합 반응이 촉진되기 어렵고, 그 결과, 보관 중에 플루오로부텐의 중합이 진행되기 어렵다. 여기에서, 상기 함유하지 않는다란, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계 (ICP-MS)로 정량할 수 없는 경우를 의미한다.
보관 중에 플루오로부텐의 중합을 진행되기 어렵게 하기 위해서는, 플루오로부텐이 함유하는 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합은 1000질량ppb 이하일 필요가 있지만, 500질량ppb 이하인 것이 바람직하고, 100질량ppb 이하인 것이 보다 바람직하다.
보관 중의 플루오로부텐의 중합의 진행을 보다 억제하기 위해서는, 플루오로부텐이 함유하는 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도는 각각 300질량ppb 이하인 것이 바람직하고, 100질량ppb 이하인 것이 보다 바람직하다.
또한, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합은 1질량ppb 이상이어도 된다.
플루오로부텐 중의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘 등의 금속 불순물의 농도는, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계(ICP-MS)로 정량할 수 있다.
보관 중의 플루오로부텐의 중합의 진행을 보다 억제하기 위해서는 플루오로부텐 중의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도와 아울러, 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 및 규소(Si)의 농도도 저농도로 하는 것이 바람직하다.
즉, 플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 하는 것에 더해서, 망간, 코발트, 니켈, 및 규소 중 적어도 1종을 상기 금속 불순물로서 더 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘, 그리고 망간, 코발트, 니켈, 및 규소의 농도의 총합을 2000질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 바람직하고, 1000질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 보다 바람직하고, 500질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘, 그리고 망간, 코발트, 니켈, 및 규소의 농도의 총합은 2질량ppb 이상이어도 된다.
또한, 보관 중의 플루오로부텐의 중합의 진행을 더욱 억제하기 위해서는, 플루오로부텐 중의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도, 그리고 망간, 코발트, 니켈, 및 규소의 농도와 아울러, 구리(Cu), 아연(Zn), 및 알루미늄(Al)의 농도도 저농도로 하는 것이 바람직하다.
즉, 플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종과, 망간, 코발트, 니켈, 및 규소 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유함과 아울러, 구리, 아연, 및 알루미늄 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 더 함유하는 경우에는, 함유하는 이것들 모두의 금속 불순물의 농도의 합을 3000질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 바람직하고, 1500질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 보다 바람직하고, 1000질량ppb 이하로 해서 플루오로부텐을 보관하는 것이 더욱 바람직하다.
상기한 금속 불순물은 금속 단체, 금속 화합물, 금속 할로겐화물, 금속 착체로서 플루오로부텐 중에 함유되어 있는 경우가 있다. 플루오로부텐 중에 있어서의 금속 불순물의 형태로서는, 미립자, 액적, 기체 등이 열거된다. 또한, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘은 플루오로부텐을 합성할 때에 사용하는 원료, 반응기, 정제 장치 등으로부터 유래되어 플루오로부텐에 혼입된다고 생각된다.
[금속 불순물의 농도가 낮은 플루오로부텐의 제조 방법]
금속 불순물의 농도가 낮은 플루오로부텐을 제조하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 금속 불순물의 농도가 높은 플루오로부텐으로부터 금속 불순물을 제거하는 방법이 열거된다. 플루오로부텐으로부터 금속 불순물을 제거하는 방법은 특별히 한정되는 것이 아니지만, 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 필터를 사용하는 방법, 흡착제를 사용하는 방법, 증류가 열거된다.
플루오로부텐 가스를 선택적으로 통과시키는 필터의 재질은 플루오로부텐에의 금속 성분의 혼입을 피하기 위해서는, 수지가 바람직하고, 폴리테트라플루오로에틸렌이 특히 바람직하다. 필터의 평균 구멍 지름은 0.01㎛ 이상 30㎛ 이하가 바람직하고, 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하가 보다 바람직하다. 평균 구멍 지름이 상기 범위내이면, 금속 불순물을 충분히 제거하는 것 가능함과 아울러, 플루오로부텐 가스의 충분한 유량을 확보해서 높은 생산성을 실현할 수 있다.
필터를 통과시키는 플루오로부텐 가스의 유량은 100mL/min 이상 5000mL/min 이하로 하는 것이 바람직하고, 300mL/min 이상 1000mL/min 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 플루오로부텐 가스의 유량이 상기 범위 내이면, 플루오로부텐 가스가 고압이 되는 것이 억제되어서, 플루오로부텐 가스의 누설 리스크가 낮아짐과 아울러, 높은 생산성을 실현할 수 있다.
[보관 시의 압력 조건]
본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법에 있어서의 보관 시의 압력 조건은 용기 내에 플루오로부텐을 밀폐해서 보관할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.05MPa 이상 5MPa 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.1MPa 이상 3MPa 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 압력 조건이 상기의 범위 내이면, 용기를 드라이 에칭 장치에 접속했을 때에, 가습하지 않고 플루오로부텐을 유통시킬 수 있다.
[보관 시의 온도 조건]
본 실시형태에 따른 플루오로부텐의 보관 방법에 있어서의 보관 시의 온도 조건은 특별히 한정되는 것은 아니지만, -20℃ 이상 50℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 0℃ 이상 40℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 보관 시의 온도가 -20℃ 이상이면, 용기의 변형이 생기기 어려우므로, 용기의 기밀성이 손실되어 산소, 물등이 용기 내에 혼입될 가능성이 낮다. 산소, 물 등이 혼입되면, 플루오로부텐의 중합 반응, 분해 반응이 촉진될 우려가 있다. 한편, 보관 시의 온도가 50℃ 이하이면, 플루오로부텐의 중합 반응, 분해 반응이 억제된다.
[에칭]
본 실시형태에 따른 플루오로부텐은 에칭 가스로서 사용하는 것이 가능하다. 그리고, 본 실시형태에 따른 플루오로부텐을 함유하는 에칭 가스는, 플라즈마를 사용하는 플라즈마 에칭, 플라즈마를 사용하지 않는 플라즈마레스 에칭의 모두에 사용할 수 있다.
플라즈마 에칭으로서는, 예를 들면, 반응성 이온 에칭(RIE: Reactive Ion Etching), 유도 결합형 플라즈마(ICP: Inductively Coupled Plasma) 에칭, 용량 결합형 플라즈마(CCP: Capacitively Coupled Plasma) 에칭, 전자 사이클로트론 공명(ECR: Electron Cyclotron Resonance) 플라즈마 에칭, 마이크로파 플라즈마 에칭이 열거된다.
또한, 플라즈마 에칭에 있어서는 플라즈마는 피에칭 부재가 설치된 챔버 내에서 발생시켜도 되고, 플라즈마 발생실과 피에칭 부재를 설치하는 챔버를 나누어도 된다(즉, 원격 플라즈마를 사용해도 된다).
실시예
이하에 실시예 및 비교예를 나타내고, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 금속 불순물을 다양한 농도로 함유하는 플루오로부텐을 조제했다. 플루오로부텐의 조제예를 이하에 설명한다.
(조제예 1)
망간 강 제작의 용량 10L의 봄베 1개와, 망간 강 제작의 용량 1L의 실린더 4개를 준비했다. 그것들 실린더를 순서대로, 실린더 A, 실린더 B, 실린더 C, 실린더 D라고 부른다. 봄베에는 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐(비점: 9℃) 5000g을 충전하고, 0℃로 냉각함으로써 액화시키고, 거의 100kPa의 상태에서 액상부와 기상부를 형성시켰다. 실린더 A, B, C, D는, 진공 펌프로 내부를 1kPa 이하로 감압한 후에 -78℃로 냉각했다.
봄베의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 500g을 인출하고, 필터를 통과시킨 후에, 감압 상태의 실린더 A에 포집했다. 이 필터는, FLON INDUSTRY 제작의 PTFE 필터이고, 그 외경은 50mm, 두께는 80㎛, 평균 구멍 지름은 0.3㎛이다. 필터를 통과시킬 때의 가스의 유량은 매스 플로우 컨트롤러에 의해 500mL/min으로 제어했다. 실린더 A에 포집된 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐 가스의 양은 492g이었다.
실린더 A에 포집된 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐을 샘플 1-1이라고 한다. 실린더 A에 포집된 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스를 상측 출구로부터 인출하고, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 각종 금속 불순물의 농도를 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
다음에, 실린더 A를 약 0℃로 승온해서 액상부와 기상부를 형성시키고, 실린더 A의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 100g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 B로 이송했다. 또한, 봄베로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 10g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 B로 이송했다. 그리고, 실린더 B를 실온까지 승온해서 24시간 정치했다. 정치 후의 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐을, 샘플 1-2로 한다. 정치 후의 실린더 B의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스를 인출하고, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 각종 금속 불순물의 농도를 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
동일하게, 실린더 A의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 100g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 C로 이송했다. 또한, 봄베로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 100g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 C로 이송했다. 그리고, 실린더 C를 실온까지 승온 해서 24시간 정치했다. 정치 후의 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐을, 샘플 1-3으로 한다. 정치 후의 실린더 C의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스를 인출하고, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 각종 금속 불순물의 농도를 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
동일하게, 실린더 A의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 100g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 D로 이송했다. 또한, 봄베로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스 200g을 인출하고, 감압 상태의 실린더 D로 이송했다. 그리고, 실린더 D를 실온까지 승온 해서 24시간 정치했다. 정치 후의 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐을, 샘플 1-4로 한다. 정치 후의 실린더 D의 기상부가 존재하고 있는 상측 출구로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스를 인출하고, 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 각종 금속 불순물의 농도를 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(조제예 2)
플루오로부텐으로서 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 사용한 점 이외는, 조제예 1과 동일한 조작을 행하고, 샘플 2-1∼2-4를 조제했다. 그리고, 각각의 샘플의 각종 금속 불순물의 농도를 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 측정했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
(조제예 3)
플루오로부텐으로서 3,3,4,4,4-펜타플루오로-1-부텐을 사용한 점 이외는, 조제예 1과 같은 조작을 행하여 샘플 3-1∼3-4를 조제했다. 그리고, 각각의 샘플의 각종 금속 불순물의 농도를 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 측정했다. 결과를 표 3에 나타낸다.
(조제예 4)
플루오로부텐으로서 2,3,3,4,4,4-헥사플루오로-1-부텐을 사용한 점 이외는, 조제예 1과 동일한 조작을 행하여 샘플 4-1∼4-4를 조제했다. 그리고, 각각의 샘플의 각종 금속 불순물의 농도를 유도 결합 플라즈마 질량 분석계로 측정했다. 결과를 표 4에 나타낸다.
(실시예 1)
실린더 A를 20℃에서 30일간 정치한 후에, 실린더 A의 기상부로부터 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 가스를 인출하고, 가스 크로마토그래피에 의해 분석하고, 샘플 1-1 중의 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 이량체의 농도를 정량했다. 그 결과, 이량체는 검출되지 않았다.
또한, 가스 크로마토그래피의 측정 조건은 이하한 바와 같다.
가스 크로마토그래프: Shimadzu Corporation 제작 GC-2014
컬럼: carbopack B_1％ sp-1000
인젝션의 온도: 200℃
컬럼의 온도: 100℃
검출기: FID
검출기의 온도: 200℃
캐리어 가스: 헬륨
검출 한계: 1질량ppm
(실시예 2∼12 및 비교예 1∼4)
실시예 2∼12 및 비교예 1∼4에 있어서의 분석 대상과 분석 결과를, 실시예 1과의 대비로, 표 5에 나타낸다. 즉, 표 5에 나타낸 항목 이외는, 실시예 1과 동일한 조작으로 분석을 행했다.
Claims (4)
- 일반식 C4HxFy로 나타내어지고 또한 상기 일반식 중의 x가 0 이상 7 이하, y가 1 이상 8 이하, x+y가 8인 플루오로부텐의 보관 방법으로서,
상기 플루오로부텐이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘 중 적어도 1종을 금속 불순물로서 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘의 농도의 합을 1000질량ppb 이하로 해서 상기 플루오로부텐을 용기 내에 보관하는 플루오로부텐의 보관 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 플루오로부텐이 망간, 코발트, 니켈, 및 규소 중 적어도 1종을 상기 금속 불순물로서 더 함유하거나 또는 함유하지 않고, 상기 함유하는 경우의 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 및 칼슘, 그리고 망간, 코발트, 니켈, 및 규소의 농도의 총합을 2000질량ppb 이하로 해서 상기 플루오로부텐을 용기 내에 보관하는 플루오로부텐의 보관 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 플루오로부텐이 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐, 3,3,4,4,4-펜타플루오로-1-부텐, 및 2,3,3,4,4,4-헥사플루오로-1-부텐으로부터 선택되는 적어도 1개인 플루오로부텐의 보관 방법. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
-20℃ 이상 50℃ 이하의 온도에서 보관하는 플루오로부텐의 보관 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2020-173916 | 2020-10-15 | ||
| JP2020173916 | 2020-10-15 | ||
| PCT/JP2021/037423 WO2022080269A1 (ja) | 2020-10-15 | 2021-10-08 | フルオロブテンの保管方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230066078A true KR20230066078A (ko) | 2023-05-12 |
Family
ID=81208062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237012165A KR20230066078A (ko) | 2020-10-15 | 2021-10-08 | 플루오로부텐의 보관 방법 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240018075A1 (ko) |
| EP (1) | EP4230605A1 (ko) |
| JP (1) | JPWO2022080269A1 (ko) |
| KR (1) | KR20230066078A (ko) |
| CN (1) | CN116348438A (ko) |
| IL (1) | IL302120A (ko) |
| TW (1) | TWI817211B (ko) |
| WO (1) | WO2022080269A1 (ko) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH034972Y2 (ko) | 1984-03-09 | 1991-02-08 | ||
| JP6451810B2 (ja) | 2012-04-27 | 2019-01-16 | Ａｇｃ株式会社 | テトラフルオロプロペンの保存方法およびテトラフルオロプロペンの保存容器 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994012454A1 (en) * | 1992-11-20 | 1994-06-09 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing 1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene and 1,1,1,4,4,4,-hexafluorobutane |
| JP2945927B1 (ja) * | 1998-07-23 | 1999-09-06 | 工業技術院長 | 含フッ素オレフィン |
| US20050119512A1 (en) * | 2003-04-29 | 2005-06-02 | Central Glass Company, Limited | Fluorobutene derivatives and process for producing same |
| RU2523228C2 (ru) * | 2008-12-18 | 2014-07-20 | ЛУСАЙТ ИНТЕРНЭШНЛ ЮКей ЛИМИТЕД | Способ очистки метилметакрилата |
| WO2012064477A2 (en) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions comprising cis-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene and 2-difluoromethoxy-1,1,1,2-tetrafluoroethane and uses thereof |
| US9039909B2 (en) * | 2011-02-28 | 2015-05-26 | Tokyo Electron Limited | Plasma etching method, semiconductor device manufacturing method and computer-readable storage medium |
| CA2902979A1 (en) * | 2013-03-06 | 2014-09-12 | Honeywell International Inc. | Storage stable foamable compositions containing 1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene |
| JP2018529872A (ja) * | 2015-07-28 | 2018-10-11 | ザ ケマーズ カンパニー エフシー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 動力サイクルにおける１，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロー１−ブテンの使用 |
| CA3068057A1 (en) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | The Chemours Company Fc, Llc | Process for preparing (z)-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene |
-
2021
- 2021-10-08 JP JP2022556927A patent/JPWO2022080269A1/ja active Pending
- 2021-10-08 EP EP21880008.4A patent/EP4230605A1/en active Pending
- 2021-10-08 US US18/031,460 patent/US20240018075A1/en active Pending
- 2021-10-08 CN CN202180069322.XA patent/CN116348438A/zh active Pending
- 2021-10-08 WO PCT/JP2021/037423 patent/WO2022080269A1/ja unknown
- 2021-10-08 KR KR1020237012165A patent/KR20230066078A/ko unknown
- 2021-10-08 IL IL302120A patent/IL302120A/en unknown
- 2021-10-15 TW TW110138268A patent/TWI817211B/zh active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH034972Y2 (ko) | 1984-03-09 | 1991-02-08 | ||
| JP6451810B2 (ja) | 2012-04-27 | 2019-01-16 | Ａｇｃ株式会社 | テトラフルオロプロペンの保存方法およびテトラフルオロプロペンの保存容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4230605A1 (en) | 2023-08-23 |
| WO2022080269A1 (ja) | 2022-04-21 |
| TW202235402A (zh) | 2022-09-16 |
| CN116348438A (zh) | 2023-06-27 |
| JPWO2022080269A1 (ko) | 2022-04-21 |
| US20240018075A1 (en) | 2024-01-18 |
| IL302120A (en) | 2023-06-01 |
| TWI817211B (zh) | 2023-10-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2016163184A1 (ja) | ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法 | |
| KR20230066079A (ko) | 플루오로부텐의 보관 방법 | |
| JP2017092357A (ja) | ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法 | |
| KR20230066078A (ko) | 플루오로부텐의 보관 방법 | |
| Zhang et al. | A gas-phase reactivity study of hydroxyl radicals with 1, 1-dichloroethene and cis-and trans-1, 2-dichloroethene over the temperature range 240-400 K | |
| WO2023176433A1 (ja) | フルオロアルケンの保管方法 | |
| TWI798873B (zh) | 氟－２－丁烯之保管方法 | |
| WO2023176434A1 (ja) | フルオロアルケンの保管方法 | |
| KR20230066432A (ko) | 플루오로-2-부텐의 보관 방법 | |
| TW202400510A (zh) | 含氟之氮化合物的保存方法 | |
| KR20230067642A (ko) | 플루오로-2-부텐의 보관 방법 | |
| TW202400511A (zh) | 含氟之氮化合物的保存方法 | |
| IL302118A (en) | METHOD FOR STORING FLUORO-2-BUTENE |