KR20230051243A - 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 - Google Patents
액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230051243A KR20230051243A KR1020237008575A KR20237008575A KR20230051243A KR 20230051243 A KR20230051243 A KR 20230051243A KR 1020237008575 A KR1020237008575 A KR 1020237008575A KR 20237008575 A KR20237008575 A KR 20237008575A KR 20230051243 A KR20230051243 A KR 20230051243A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- substituent
- formula
- liquid crystal
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 217
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 152
- 239000010408 film Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 103
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 80
- -1 pentafluorosulfuranyl group Chemical group 0.000 claims description 70
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 56
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 55
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 50
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 32
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 19
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 13
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 10
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 10
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052755 nonmetal Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002843 nonmetals Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 claims description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 32
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 19
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 8
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C(O)=C1CCCC SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005268 rod-like liquid crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 2,6-dimethyl-n-[[(2s)-pyrrolidin-2-yl]methyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1NC[C@H]1NCCC1 UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004294 cyclic thioethers Chemical group 0.000 description 2
- DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N cyclododecane Chemical group C1CCCCCCCCCCC1 DDTBPAQBQHZRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000002092 orthoester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidin-4-one Chemical compound CN1CN(C)C(=O)C1 YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UZXIJHSJEKWJHP-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxycyclohexyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound C1CC(C(=O)O)CCC1C1CCC(C(O)=O)CC1 UZXIJHSJEKWJHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000005571 adamantylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001447 compensatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- COZWXTZNDSMXKZ-UHFFFAOYSA-N cyclodocosane Chemical group C1CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1 COZWXTZNDSMXKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003678 cyclohexadienyl group Chemical group C1(=CC=CCC1)* 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000005574 norbornylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical group 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical group C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
- C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/02—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C229/04—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C229/06—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton
- C07C229/10—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton the nitrogen atom of the amino group being further bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
- C07C229/12—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton the nitrogen atom of the amino group being further bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings to carbon atoms of acyclic carbon skeletons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D277/82—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/02—Five-membered rings
- C07D339/06—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
- C09K19/3001—Cyclohexane rings
- C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
- C09K19/3068—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers chain containing -COO- or -OCO- groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
Description
본 발명은, 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물은, 넓은 파장 범위에서의 정확한 광선 파장의 변환이 가능해지는 것, 및, 높은 굴절률을 갖기 때문에 위상차 필름(광학 이방성막)을 박막화할 수 있는 것 등의 특징을 갖고 있기 때문에, 활발히 연구되고 있다.
또, 역파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물로서는, 일반적으로 T형의 분자 설계 지침이 채택되고 있으며, 분자 장축의 파장을 단파장화하고, 분자 중앙에 위치하는 단축의 파장을 장파장화할 것이 요구되고 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 하기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물이 기재되어 있다([청구항 1]).
본 발명자들은, 특허문헌 1에 기재된 중합성 액정 화합물에 대하여 검토한 결과, 이 중합성 액정 화합물을 함유하는 중합성 액정 조성물의 다른 성분에 따라서는, 형성되는 광학 이방성막에 배향 결함이 발생하는 경우가 있는 것을 밝혀냈다.
따라서, 본 발명은, 광학 이방성막에 있어서의 배향 결함의 발생을 억제할 수 있는 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 액정 화합물과 함께, 후술하는 식 (II)로 나타나는 화합물을 배합한 액정 조성물을 이용하면, 형성되는 광학 이방성막의 배향 결함을 억제할 수 있는 것을 알아내, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 달성할 수 있는 것을 알아냈다.
[1]
액정 화합물과, 후술하는 식 (II)로 나타나는 화합물을 함유하는, 액정 조성물.
[2]
후술하는 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는, [1]에 기재된 액정 조성물.
[3]
후술하는 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 후술하는 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는, [1] 또는 [2]에 기재된 액정 조성물.
[4]
후술하는 식 (II) 중의 T가, 중합성기를 나타내는, [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물.
[5]
후술하는 식 (II) 중의 T가, 후술하는 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 나타내는, [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물.
[6]
액정 화합물이, 역파장 분산성을 갖는, [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물.
[7]
액정 화합물이, 후술하는 식 (Ar-1)~(Ar-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 갖는 화합물인, [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물.
[8]
액정 화합물이, 중합성기를 갖는, [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물.
[9]
중합성기가, 후술하는 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 나타내는, [8]에 기재된 액정 조성물.
[10]
후술하는 식 (II)로 나타나는 화합물.
[11]
후술하는 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는, [10]에 기재된 화합물.
[12]
후술하는 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 후술하는 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는, [10] 또는 [11]에 기재된 화합물.
[13]
후술하는 식 (II) 중의 T가, 중합성기를 나타내는, [10] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 화합물.
[14]
후술하는 식 (II) 중의 T가, 후술하는 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 나타내는, [10] 내지 [13] 중 어느 하나에 기재된 화합물.
[15]
[1] 내지 [9] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 이방성막.
[16]
후술하는 식 (III)을 충족시키는, [15]에 기재된 광학 이방성막.
[17]
[15] 또는 [16]에 기재된 광학 이방성막을 갖는 광학 필름.
[18]
[17]에 기재된 광학 필름과, 편광자를 갖는, 편광판.
[19]
[17]에 기재된 광학 필름, 또는, [18]에 기재된 편광판을 갖는, 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 광학 이방성막에 있어서의 배향 결함의 발생을 억제할 수 있는 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1a는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1b는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1c는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1b는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1c는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
또, 본 명세서에 있어서, 각 성분은, 각 성분에 해당하는 물질을 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 여기에서, 각 성분에 대하여 2종 이상의 물질을 병용하는 경우, 그 성분에 대한 함유량이란, 특별한 설명이 없는 한, 병용한 물질의 합계의 함유량을 가리킨다.
또, 본 명세서에 있어서, 표기되는 2가의 기(예를 들면, -CO-NR-)의 결합 방향은, 결합 위치를 명기하고 있는 경우를 제외하고, 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 후술하는 식 (I) 중의 D1이 -CO-NR-인 경우, G1 측에 결합되어 있는 위치를 *1, Ar1 측에 결합되어 있는 위치를 *2로 하면, D1은, *1-CO-NR-*2여도 되고, *1-NR-CO-*2여도 된다.
[중합성 액정 조성물]
본 발명의 액정 조성물은, 액정 화합물과, 후술하는 식 (II)로 나타나는 화합물(이하, "특정 화합물"이라고도 약기한다.)을 함유하는, 액정 조성물이다.
본 발명에 있어서는, 상술한 바와 같이, 액정 화합물과 함께 특정 화합물을 배합한 액정 조성물을 이용함으로써, 형성되는 광학 이방성막의 배향 결함을 억제할 수 있다.
이것은, 상세하게는 명확하지 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 추측하고 있다.
즉, 특정 화합물에 포함되는 아미노기의 존재에 의하여, 액정 화합물에 포함되는 결합(에스터 결합 등)이 절단되고, 액정 화합물의 결정성이 저하되었기 때문에, 액정 화합물의 결정화에 기인한 배향 결함의 발생을 억제할 수 있었다고 생각된다. 또, 특정 화합물을 배합함으로써, 액정 조성물의 상전이 온도가 저하됨으로써, 액정 화합물의 결정화에 기인한 배향 결함의 발생을 억제할 수 있었다고도 생각된다.
이하, 본 발명의 액정 조성물의 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.
〔특정 화합물〕
본 발명의 액정 조성물이 함유하는 특정 화합물은, 하기 식 (II)로 나타나는 화합물이다.
[화학식 1]
상기 식 (II) 중, R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는, 알킬기를 나타낸다.
또, 상기 식 (II) 중, R23은, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는, 트라이플루오로메틸기를 나타낸다.
또, 상기 식 (II) 중, SP21 및 SP22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, 알킬렌기를 나타낸다. 단, 알킬렌기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자, 펜타플루오로설퓨란일기, 사이아노기, 나이트로기, 아이소사이아노기, 싸이오아이소사이아노기, 또는, 탄소수 1~20의 알킬기로 치환되어 있어도 된다. 또, 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중, 1개 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -CO-NR24-, -NH-CO-, -NR25-CO-, -NH-, -NR26-, 또는, -C≡C-로 치환되어 있어도 되며, R24~R26은, 치환기를 나타낸다.
또, 상기 식 (II) 중, D21 및 D22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR27R28-, -CR29=CR30-, -NH-, -NR31-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R27~R31은, 치환기를 나타낸다.
또, 상기 식 (II) 중, M은, 치환기를 갖고 있어도 되는, 방향환, 지환, 또는, 복소환을 나타낸다.
또, 상기 식 (II) 중, m은, 3 이상의 정수를 나타내며, 복수의 M은, 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수의 D22는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
또, 상기 식 (II) 중, T는, 수소 원자, 알킬기, 또는, 중합성기를 나타낸다.
여기에서, R24~R31이 나타내는 치환기(이하, "치환기 X"라고도 약기한다.)로서는, 예를 들면, 알킬기, 알콕시기, 알킬카보닐기, 알콕시카보닐기, 알킬카보닐옥시기, 알킬아미노기, 다이알킬아미노기, 알킬아마이드기, 알켄일기, 알카인일기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, 알킬싸이올기, 및, N-알킬카바메이트기 등을 들 수 있고, 그중에서도, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 알킬카보닐옥시기, 또는, 할로젠 원자가 바람직하다.
알킬기로서는, 탄소수 1~18의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, t-뷰틸기 및 사이클로헥실기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알킬기가 더 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 특히 바람직하다.
알콕시기로서는, 탄소수 1~18의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-뷰톡시기 및 메톡시에톡시기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알콕시기가 더 바람직하고, 메톡시기 또는 에톡시기가 특히 바람직하다.
알콕시카보닐기로서는, 상기에서 예시한 알킬기에 옥시카보닐기(-O-CO-기)가 결합된 기를 들 수 있으며, 그중에서도, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, n-프로폭시카보닐기 또는 아이소프로폭시카보닐기가 바람직하고, 메톡시카보닐기가 보다 바람직하다.
알킬카보닐옥시기로서는, 상기에서 예시한 알킬기에 카보닐옥시기(-CO-O-기)가 결합된 기를 들 수 있으며, 그중에서도, 메틸카보닐옥시기, 에틸카보닐옥시기, n-프로필카보닐옥시기 또는 아이소프로필카보닐옥시기가 바람직하고, 메틸카보닐옥시기가 보다 바람직하다.
할로젠 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자 및 아이오딘 원자 등을 들 수 있으며, 그중에서도, 불소 원자 또는 염소 원자가 바람직하다.
상기 식 (II) 중, R21 및 R22의 일 양태가 나타내는 알킬기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X에 있어서 예시한 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
또, R21 및 R22로서는, 메틸기를 나타내는 것이 바람직하다.
상기 식 (II) 중, R23은, 상술한 바와 같이, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는, 트라이플루오로메틸기를 나타내지만, 수소 원자를 나타내는 것이 바람직하다.
상기 식 (II) 중, SP21 및 SP22의 일 양태가 나타내는 알킬렌기로서는, 예를 들면, 탄소수 1~12의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기를 들 수 있고, 구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 메틸헥실렌기, 헵틸렌기 등을 들 수 있다.
여기에서, SP21 및 SP22의 일 양태가 나타내는 알킬렌기는, 상술한 바와 같이, 알킬렌기에 포함되는 수소 원자가, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자, 펜타플루오로설퓨란일기, 사이아노기, 나이트로기, 아이소사이아노기, 싸이오아이소사이아노기, 또는, 탄소수 1~20의 알킬기로 치환되어 있어도 된다.
또, SP21 및 SP22의 일 양태가 나타내는 알킬렌기는, 상술한 바와 같이, 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중, 1개 또는 인접하고 있지 않는 2개 이상의 -CH2-가, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -CO-NR24-, -NH-CO-, -NR25-CO-, -NH-, -NR26-, 또는, -C≡C-로 치환되어 있어도 된다.
또, SP21 및 SP22로서는, 탄소수 2~10의 직쇄상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 2~12의 직쇄상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 또는 인접하고 있지 않는 2개 이상의 -CH2-가 -O-, -COO- 혹은 -OCO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내는 것이 바람직하고, 탄소수 2~8의 직쇄상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 2~8의 직쇄상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 또는 인접하고 있지 않는 2개 이상의-CH2-가 -O-로 치환된 2가의 연결기를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (II) 중, D21 및 D22의 일 양태가 나타내는 2가의 연결기로서는, 예를 들면, -CO-, -O-, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR1R2-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR1R2-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR1R2-, -CR1R2-CO-O-CR1R2-, -NR5-CR1R2-, 및, -CO-NR5- 등을 들 수 있다. R1, R2 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
또, D21 및 D22로서는, 단결합, -CO-, -O-, 또는, -CO-O-를 나타내는 것이 바람직하다.
상기 식 (II) 중, M의 일 양태가 나타내는 방향환으로서는, 예를 들면, 탄소수 6~20의 방향환을 들 수 있고, 구체적으로는, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 페난트롤린환 등의 방향족 탄화 수소환; 퓨란환, 피롤환, 싸이오펜환, 피리딘환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환 등의 방향족 복소환; 후술하는 식 (M-1)~(M-8)로 나타나는 기를 들 수 있다.
또, M의 일 양태가 나타내는 지환으로서는, 예를 들면, 사이클로알케인환을 들 수 있고, 구체적으로는, 사이클로헥세인환, 사이클로펩테인환, 사이클로옥테인환, 사이클로도데케인환, 사이클로도코세인환 등을 들 수 있다.
또, M의 일 양태가 나타내는 복소환으로서는, 상술한 방향족 복소환 이외의 복소환을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면, 테트라하이드로퓨란환, 테트라하이드로피란환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 테트라하이드로싸이오펜환 등을 들 수 있다.
M이 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 형성되는 광학 이방성막의 내광성이 보다 양호해지는 이유에서, 상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는 것이 바람직하다. 특히, M을 홀수 개(예를 들면, 3개 또는 5개) 갖고 있는 경우는, 중심에 위치하는 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 액정 화합물과의 상용성이 양호해지는 이유에서, 상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 하기 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는 것이 바람직하다. 특히, M을 홀수 개(예를 들면, 3개 또는 5개) 갖고 있는 경우는, 중심에 위치하는 M이, 하기 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는 것이 바람직하다.
[화학식 2]
상기 식 (M-1)~(M-7) 중, *는, D21 또는 D22와의 결합 위치를 나타낸다.
또, 상기 식 (M-1) 중, Q1은, N 또는 CH를 나타내고, Q2는, -S-, -O-, 또는, -N(R6)-을 나타내며, R6은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, Y1은, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기, 또는, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~20의 지환식 탄화 수소기를 나타내며, 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
여기에서, R6이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및, n-헥실기 등을 들 수 있다.
또, Y1이 나타내는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기로서는, 예를 들면, 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기 등의 아릴기를 들 수 있다.
Y1이 나타내는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기로서는, 예를 들면, 싸이엔일기, 싸이아졸일기, 퓨릴기, 피리딜기 등의 헤테로아릴기를 들 수 있다.
Y1이 나타내는 탄소수 6~20의 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면, 사이클로헥실렌기, 사이클로펜틸렌기, 노보닐렌기, 아다만틸렌기 등을 들 수 있다.
Y1이 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (M-1)~(M-7) 중, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 복소환기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR7, -NR8R9, 또는, -SR10, -COOR11, 또는, -COR12를 나타내고, R7~R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
여기에서, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기로서는, 탄소수 1~15의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기, tert-펜틸기(1,1-다이메틸프로필기), tert-뷰틸기, 1,1-다이메틸-3,3-다이메틸-뷰틸기가 더 바람직하고, 메틸기, 에틸기, tert-뷰틸기가 특히 바람직하다.
탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면, 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 사이클로데실기, 메틸사이클로헥실기, 에틸사이클로헥실기 등의 단환식 포화 탄화 수소기; 사이클로뷰텐일기, 사이클로펜텐일기, 사이클로헥센일기, 사이클로헵텐일기, 사이클로옥텐일기, 사이클로데센일기, 사이클로펜타다이엔일기, 사이클로헥사다이엔일기, 사이클로옥타다이엔일기, 사이클로데카다이엔 등의 단환식 불포화 탄화 수소기; 바이사이클로[2.2.1]헵틸기, 바이사이클로[2.2.2]옥틸기, 트라이사이클로[5.2.1.02,6]데실기, 트라이사이클로[3.3.1.13,7]데실기, 테트라사이클로[6.2.1.13,6.02,7]도데실기, 아다만틸기 등의 다환식 포화 탄화 수소기 등을 들 수 있다.
탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기, 바이페닐기 등을 들 수 있으며, 탄소수 6~12의 아릴기(특히 페닐기)가 바람직하다.
탄소수 6~20의 1가의 방향족 복소환기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 4-피리딜기, 2-퓨릴기, 2-싸이엔일기, 2-피리미딘일기, 2-벤조싸이아졸일기 등을 들 수 있다.
할로젠 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있으며, 그중에서도, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자인 것이 바람직하다.
한편, R7~R10이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및, n-헥실기 등을 들 수 있다.
또, Z1 및 Z2는, 상술한 바와 같이, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 되고, 예를 들면, 상기 식 (M-1) 중의 Z1 및 Z2가 서로 결합하여 방향환을 형성한 경우의 구조로서는, 예를 들면, 하기 식 (M-1a)로 나타나는 기를 들 수 있다. 또한, 하기 식 (M-1a) 중, *는, 결합 위치를 나타내고, Q1, Q2 및 Y1은, 상기 식 (M-1)에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
[화학식 3]
또, 상기 식 (M-2) 및 (M-3) 중, A3 및 A4는, 각각 독립적으로, -O-, -N(R13)-, -S-, 및, -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
R13이 나타내는 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (M-2) 중, X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합하고 있어도 되는, 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
또, X가 나타내는 제14~16족의 비금속 원자로서는, 예를 들면, 산소 원자, 황 원자, 수소 원자 또는 치환기가 결합한 질소 원자〔=N-RN1, RN1은 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.〕, 수소 원자 또는 치환기가 결합한 탄소 원자〔=C-(RC1)2, RC1은 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.〕를 들 수 있다.
치환기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 알킬기, 알콕시기, 알킬 치환 알콕시기, 환상 알킬기, 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프틸기 등), 사이아노기, 아미노기, 나이트로기, 알킬카보닐기, 설포기, 수산기 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (M-3) 중, D7 및 D8은, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR1R2-, -CR3=CR4-, -NR5-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
여기에서, D7 및 D8의 일 양태가 나타내는 2가의 연결기로서는, 예를 들면, -CO-, -O-, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR1R2-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR1R2-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR1R2-, -CR1R2-CO-O-CR1R2-, -NR5-CR1R2-, 및, -CO-NR5- 등을 들 수 있다. R1, R2 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
이들 중, -CO-, -O-, 및, -CO-O- 중 어느 하나인 것이 바람직하다.
또, 상기 식 (M-3) 중, SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
여기에서, SP3 및 SP4의 일 양태가 나타내는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기로서는, 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 메틸헥실렌기, 헵틸렌기 등을 적합하게 들 수 있다. 또한, SP1 및 SP2는, 상술한 바와 같이, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기여도 되고, Q로 나타나는 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (M-3) 중, L3 및 L4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다.
1가의 유기기로서는, 예를 들면, 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등을 들 수 있다.
알킬기는, 직쇄상, 분기상 또는 환상이어도 되지만, 직쇄상이 바람직하다. 알킬기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다.
또, 아릴기는, 단환이어도 되고 다환이어도 되지만 단환이 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~25가 바람직하고, 6~10이 보다 바람직하다.
또, 헤테로아릴기는, 단환이어도 되고 다환이어도 된다. 헤테로아릴기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 헤테로아릴기를 구성하는 헤테로 원자는, 질소 원자, 황 원자, 산소 원자가 바람직하다. 헤테로아릴기의 탄소수는 6~18이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다.
또, 알킬기, 아릴기 및 헤테로아릴기는, 무치환이어도 되고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (M-4)~(M-7) 중, Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
또, 상기 식 (M-4)~(M-7) 중, Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 또는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
여기에서, Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
또, Q3은, 수소 원자, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
Ax 및 Ay로서는, 국제 공개공보 제2014/010325호의 [0039]~[0095]단락에 기재된 것을 들 수 있다.
또, Q3이 나타내는 탄소수 1~20의 알킬기로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및, n-헥실기 등을 들 수 있으며, 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서는, 액정의 배향성이 향상되어, 형성되는 광학 이방성막의 내습성도 향상되는 이유에서, 상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 사이클로헥세인환을 나타내는 것이 바람직하고, 1,4-사이클로헥실렌기를 나타내는 것이 보다 바람직하며, 트랜스-1,4-사이클로헥실렌기를 나타내는 것이 더 바람직하다. 특히, M을 홀수 개(예를 들면, 3개 또는 5개) 갖고 있는 경우는, 중심 이외에 위치하는 M이, 사이클로헥세인환을 나타내는 것이 바람직하다.
상기 식 (II) 중, m은, 3 이상의 정수를 나타내지만, 3~6의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, 3~6의 정수 중, 홀수를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
또한, 복수의 M은, 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수의 D22는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
이하에, 상기 식 (II) 중의-(M-D22)m-으로 나타나는 부분 구조의 구체예를 나타낸다. 또한, 이하에 나타내는 구체예 중, *는, 결합 위치를 나타내며, 벤젠환 및 사이클로헥세인환은, 축환 또는 치환기로 치환되어 있어도 되고, 일부 탄소 원자는 헤테로 원자로 치환되어도 된다.
[화학식 4]
상기 식 (II) 중, T의 일 양태가 나타내는 알킬기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X에 있어서 예시한 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 형성되는 광학 이방성막의 강도가 향상되는 이유에서, 상기 식 (II) 중의 T가 중합성기를 나타내는 것이 바람직하다.
중합성기로서는, 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기가 바람직하다.
라디칼 중합성기로서는, 공지의 라디칼 중합성기를 이용할 수 있으며, 적합한 것으로서, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 들 수 있다. 이 경우, 중합 속도는 아크릴로일옥시기가 일반적으로 빠른 것이 알려져 있으며, 생산성 향상의 관점에서 아크릴로일옥시기가 바람직하지만, 메타크릴로일옥시기도 중합성기로서 동일하게 사용할 수 있다.
양이온 중합성기로서는, 공지의 양이온 중합성기를 이용할 수 있으며, 구체적으로는, 지환식 에터기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 싸이오에터기, 스파이로오쏘에스터기, 및, 바이닐옥시기 등을 들 수 있다. 그중에서도, 지환식 에터기, 또는, 바이닐옥시기가 적합하고, 에폭시기, 옥세탄일기, 또는, 바이닐옥시기가 특히 바람직하다.
특히 바람직한 중합성기의 예로서는, 하기 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 들 수 있다. 그중에서도, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 보다 바람직하다. 또한, 하기 식 (P-1)~(P-20) 중, *는, SP22와의 결합 위치를 나타낸다.
[화학식 5]
이하에, 상기 식 (II) 중의 -SP21-D21-로 나타나는 부분 구조의 구체예를 나타낸다. 또한, 이하에 나타내는 구체예 중, *는, M과의 결합 위치를 나타내고, **는, 산소 원자와의 결합 위치를 나타낸다.
[화학식 6]
이하에, 상기 식 (II) 중의 -D22-SP22-로 나타나는 부분 구조의 구체예를 나타낸다. 또한, 이하에 나타내는 구체예 중, *는, M과의 결합 위치를 나타내고, **는, T와의 결합 위치를 나타낸다.
[화학식 7]
특정 화합물로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 하기 식 (2-1-1)~(2-1-12) 및 (2-1)~(2-5)에 나타내는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 8]
본 발명에 있어서는, 액정 화합물의 배향 저해를 방지하는 관점에서, 특정 화합물의 함유량은, 후술하는 액정 화합물 및 특정 화합물의 합계 질량에 대하여 0.05~20질량%인 것이 바람직하고, 0.1~10질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.2~5질량%인 것이 더 바람직하다.
〔액정 화합물〕
본 발명의 액정 조성물이 함유하는 액정 화합물은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 액정 화합물을 이용할 수 있다.
일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입과 원반상 타입으로 분류할 수 있다. 또한 각각 저분자와 고분자 타입이 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 것을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오 저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992).
본 발명에 있어서는, 어느 액정 화합물을 이용할 수도 있지만, 봉상 액정성 화합물 또는 디스코틱 액정성 화합물을 이용하는 것이 바람직하고, 봉상 액정성 화합물을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
액정 화합물은, 액정 화합물의 배향을 고정화하는 관점에서, 중합성기를 갖고 있는 것이 바람직하다.
중합성기로서는, 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기가 바람직하다.
라디칼 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 라디칼 중합성기를 이용할 수 있으며, 적합한 것으로서, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 들 수 있다. 이 경우, 중합 속도는 아크릴로일옥시기가 일반적으로 빠른 것이 알려져 있으며, 생산성 향상의 관점에서 아크릴로일옥시기가 바람직하지만, 메타크릴로일옥시기도 중합성기로서 동일하게 사용할 수 있다.
양이온 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 양이온 중합성을 이용할 수 있으며, 구체적으로는, 지환식 에터기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 싸이오에터기, 스파이로오쏘에스터기, 및, 바이닐옥시기 등을 들 수 있다. 그중에서도, 지환식 에터기, 또는, 바이닐옥시기가 적합하고, 에폭시기, 옥세탄일기, 또는, 바이닐옥시기가 특히 바람직하다.
특히 바람직한 중합성기의 예로서는, 상술한 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 들 수 있다. 그중에서도, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 넓은 파장 범위에서의 정확한 광선 파장의 변환이 가능해진다는 이유에서, 상기 액정 화합물이, 역파장 분산성을 갖는 액정 화합물인 것이 바람직하다.
여기에서, 본 명세서에 있어서 "역파장 분산성"을 갖는 액정 화합물이란, 이것을 이용하여 제작된 위상차 필름의 특정 파장(가시광 범위)에 있어서의 면내의 리타데이션(Re)값을 측정했을 때에, 측정 파장이 커짐에 따라 Re값이 동등하거나 또는 높아지는 것을 말한다.
또한, 본 발명에 있어서는, 역파장 분산성과 내광성을 양립시킨다는 이유에서, 상기 액정 화합물이, 하기 식 (Ar-1)~(Ar-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 갖는 화합물인 것이 바람직하다.
[화학식 9]
상기 식 (Ar-1)~(Ar-7) 중, *는, 결합 위치, 즉, 액정 화합물에 포함되는 상기 방향환 이외의 부분과의 결합 위치를 나타낸다.
또, 상기 식 (Ar-1)~(Ar-7) 중의 Y1, Q1, Q2, Q3, Z1, Z2, Z3, A3, A4, D7, D8, SP3, SP4, L3, L4, Ax, 및, Ay는, 각각, 상술한 특정 화합물에 있어서 설명한 상기 식 (M-1)~(M-7) 중의 Y1, Q1, Q2, Q3, Z1, Z2, Z3, A3, A4, D7, D8, SP3, SP4, L3, L4, Ax, 및, Ay와 동일하다.
본 발명에 있어서는, 높은 굴절률 이방성을 갖기 때문에 광학 이방성막을 박막화할 수 있다는 이유에서, 액정 화합물이, 하기 식 (I)로 나타나는 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 하기 식 (I) 중, Ar은, 상술한 식 (Ar-1)~(Ar-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타낸다. 단, 하기 식 (I) 중의 q1이 2인 경우, 복수의 Ar은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
L1-SP1-D5-(A1)a1-D3-(G1)g1-D1-〔Ar-D2〕 q1-(G2)g2-D4-(A2)a2-D6-SP2-L2 …(I)
상기 식 (I) 중, a1, a2, g1 및 g2는, 각각 독립적으로, 0 또는 1을 나타낸다. 단, a1 및 g1 중 적어도 일방은 1을 나타내고, a2 및 g2 중 적어도 일방은 1을 나타낸다.
또, 상기 식 (I) 중, q1은, 1 또는 2를 나타낸다.
또, 상기 식 (I) 중, D1, D2, D3, D4, D5 및 D6은, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR1R2-, -CR3=CR4-, -NR5-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. 단, q1이 2인 경우, 복수의 D2는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
또, 상기 식 (I) 중, G1 및 G2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향환, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기를 나타내고, 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
또, 상기 식 (I) 중, A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향환, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기를 나타내고, 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
또, 상기 식 (I) 중, SP1 및 SP2는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
또, 상기 식 (I) 중, L1 및 L2는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 일방은 중합성기를 나타낸다. 단, Ar이, 상술한 식 (Ar-3)으로 나타나는 방향환인 경우는, L1 및 L2 및 상술한 식 (Ar-3) 중의 L3 및 L4 중 적어도 하나가 중합성기를 나타낸다.
상기 식 (I) 중, a1, a2, g1 및 g2는, 모두 1인 것이 바람직하다.
또, 상기 식 (I) 중, q1은, 1인 것이 바람직하다.
상기 식 (I) 중, D1, D2, D3, D4, D5 및 D6의 일 양태가 나타내는 2가의 연결기로서는, 상기 식 (M-3) 중의 D7 및 D8에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
이들 중, -CO-, -O-, 및, -CO-O- 중 어느 하나인 것이 바람직하다.
상기 식 (I) 중, G1 및 G2의 일 양태가 나타내는 탄소수 6~20의 방향환으로서는, 예를 들면, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 페난트롤린환 등의 방향족 탄화 수소환; 퓨란환, 피롤환, 싸이오펜환, 피리딘환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환 등의 방향족 복소환;을 들 수 있고, 그중에서도, 벤젠환(예를 들면, 1,4-페닐기 등)이 바람직하다.
상기 식 (I) 중, G1 및 G2의 일 양태가 나타내는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기로서는, 5원환 또는 6원환인 것이 바람직하다. 또, 지환식 탄화 수소기는, 포화여도 되고 불포화여도 되지만 포화 지환식 탄화 수소기가 바람직하다. G1 및 G2로 나타나는 2가의 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-21068호의 [0078]단락의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
본 발명에 있어서는, 상기 식 (I) 중의 G1 및 G2는, 사이클로알케인환인 것이 바람직하다.
사이클로알케인환으로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 사이클로헥세인환, 사이클로펩테인환, 사이클로옥테인환, 사이클로도데케인환, 사이클로도코세인환 등을 들 수 있다.
이들 중, 사이클로헥세인환이 바람직하고, 1,4-사이클로헥실렌기가 보다 바람직하며, 트랜스-1,4-사이클로헥실렌기가 더 바람직하다.
또, 상기 식 (I) 중, G1 및 G2에 대하여, 탄소수 6~20의 방향환 또는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 상기 식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
상기 식 (I) 중, A1 및 A2의 일 양태가 나타내는 탄소수 6~20 이상의 방향환으로서는, 상기 식 (I) 중의 G1 및 G2에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (I) 중, A1 및 A2의 일 양태가 나타내는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기로서는, 상기 식 (I) 중의 G1 및 G2에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
또한, A1 및 A2에 대하여, 탄소수 6~20의 방향환 또는 탄소수 5~20의 2가의 지환식 탄화 수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면, 상술한 치환기 X와 동일한 것을 들 수 있다.
상기 식 (I) 중, SP1 및 SP2의 일 양태가 나타내는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기로서는, 상기 식 (M-3) 중의 SP3 및 SP4에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
상기 식 (I) 중, L1 및 L2가 나타내는 1가의 유기기로서는, 상기 식 (M-3) 중의 L3 및 L4에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
상기 식 (I) 중, L1 및 L2 중 적어도 일방이 나타내는 중합성기로서는, 상술한 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기를 들 수 있다.
특히 바람직한 중합성기의 예로서는, 상술한 식 (P-1)~(P-20)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기를 들 수 있다. 그중에서도, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (I) 중, 내구성이 양호해지는 이유에서, 상기 식 (I) 중의 L1 및 L2가, 모두 중합성기인 것이 바람직하고, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 보다 바람직하다.
상기 식 (I)로 나타나는 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2010-084032호에 기재된 일반식 (1)로 나타나는 화합물(특히, 단락 번호 [0067]~[0073]에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2016-053709호에 기재된 일반식 (II)로 나타나는 화합물(특히, 단락 번호 [0036]~[0043]에 기재된 화합물), 및, 일본 공개특허공보 2016-081035호에 기재된 일반식 (1)로 나타나는 화합물(특히, 단락 번호 [0043]~[0055]에 기재된 화합물) 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (I)로 나타나는 화합물로서는, 하기 식 (1)~(22)로 나타나는 화합물을 적합하게 들 수 있고, 구체적으로는, 하기 식 (1)~(22) 중의 K(측쇄 구조)로서, 하기 K-1-1~K-8-9로 나타내는 측쇄 구조를 갖는 화합물을 각각 들 수 있다.
또한, 하기 K-1-1~K-8-9로 나타나는 측쇄 구조에 나타나는 "*"는, 방향환과의 결합 위치를 나타낸다.
또, 하기 K-1-12 등으로 나타나는 측쇄 구조에 있어서, 각각 아크릴로일옥시기 및 메타크릴로일기에 인접하는 기는, 프로필렌기(메틸기가 에틸렌기로 치환된 기)를 나타내고, 메틸기의 위치가 상이한 위치 이성체의 혼합물을 나타낸다.
[화학식 10]
[화학식 11]
[화학식 12]
[화학식 13]
[화학식 14]
[화학식 15]
[화학식 16]
[화학식 17]
[화학식 18]
〔다른 중합성 화합물〕
본 발명의 액정 조성물은, 상술한 특정 화합물 및 액정 화합물 이외에, 중합성기를 1개 이상 갖는 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 된다.
여기에서, 다른 중합성 화합물이 갖는 중합성기는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그중에서도, 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 갖고 있는 것이 바람직하다.
다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2016-053709호의 [0073]~[0074]단락에 기재된 화합물을 들 수 있다.
또, 다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2014-077068호의 [0030]~[0033]단락에 기재된 식 (M1), (M2), (M3)으로 나타나는 화합물을 들 수 있으며, 보다 구체적으로는, 동 공보의 [0046]~[0055]단락에 기재된 구체예를 들 수 있다.
또, 다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2014-198814호에 기재된 식 (1)~(3)의 구조의 것도 바람직하게 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는, 동 공보의 [0020]~[0035], [0042]~[0050], [0056]~[0057]단락에 기재된 구체예를 들 수 있다.
이와 같은 다른 중합성 화합물을 함유하는 경우의 함유량은, 상술한 액정 화합물의 질량에 대하여, 50질량% 미만인 것이 바람직하고, 40질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 2~30질량%인 것이 더 바람직하다.
〔중합 개시제〕
본 발명의 액정 조성물은, 중합 개시제를 함유하고 있는 것이 바람직하다.
사용하는 중합 개시제는, 자외선 조사에 의하여 중합 반응을 개시 가능한 광중합 개시제인 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 예를 들면, α-카보닐 화합물(미국 특허공보 제2367661호, 동 2367670호의 각 기재), 아실로인에터(미국 특허공보 제2448828호 기재), α-탄화 수소 치환 방향족 아실로인 화합물(미국 특허공보 제2722512호 기재), 다핵 퀴논 화합물(미국 특허공보 제3046127호, 동 2951758호의 각 기재), 트라이아릴이미다졸 다이머와 p-아미노페닐케톤의 조합(미국 특허공보 제3549367호 기재), 아크리딘 및 페나진 화합물(일본 공개특허공보 소60-105667호, 미국 특허공보 제4239850호 기재) 및 옥사다이아졸 화합물(미국 특허공보 제4212970호 기재), 아실포스핀옥사이드 화합물(일본 공고특허공보 소63-40799호, 일본 공고특허공보 평5-29234호, 일본 공개특허공보 평10-95788호, 일본 공개특허공보 평10-29997호 기재) 등을 들 수 있다.
또, 본 발명에 있어서는, 중합 개시제가 옥심형의 중합 개시제인 것도 바람직하고, 그 구체예로서는, 국제 공개공보 제2017/170443호의 [0049]~[0052]단락에 기재된 개시제를 들 수 있다.
〔용매〕
본 발명의 액정 조성물은, 광학 이방성막을 형성하는 작업성 등의 관점에서, 용매를 함유하는 것이 바람직하다.
용매로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 케톤계 용매(예를 들면, 아세톤, 2-뷰탄온, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온 등), 에터계 용매(예를 들면, 다이옥세인, 테트라하이드로퓨란 등), 환상 아마이드계 용매(예를 들면, N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N,N'-다이메틸이미다졸린온 등), 지방족 탄화 수소계 용매(예를 들면, 헥세인 등), 지환식 탄화 수소계 용매(예를 들면, 사이클로헥세인 등), 방향족 탄화 수소계 용매(예를 들면, 톨루엔, 자일렌, 트라이메틸벤젠 등), 할로젠화 탄소계 용매(예를 들면, 다이클로로메테인, 다이클로로에테인, 다이클로로벤젠, 클로로톨루엔 등), 에스터계 용매(예를 들면, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸 등), 물, 알코올계 용매(예를 들면, 에탄올, 아이소프로판올, 뷰탄올, 사이클로헥산올 등), 셀로솔브계 용매(예를 들면, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브아세테이트계 용매, 설폭사이드계 용매(예를 들면, 다이메틸설폭사이드 등), 쇄상 아마이드계 용매(예를 들면, 다이메틸폼아마이드, 다이메틸아세트아마이드 등) 등을 들 수 있으며, 이들을 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명에 있어서는, 상술한 용매 중, 여과압의 상승을 억제하는 본 발명의 효과가 현저해지는 이유에서, 케톤계 용매, 에터계 용매 및 환상 아마이드계 용매로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 용매인 것이 바람직하다.
〔레벨링제〕
본 발명의 액정 조성물은, 광학 이방성막의 표면을 평활하게 유지하고, 배향 제어를 용이하게 하는 관점에서, 레벨링제를 함유하는 것이 바람직하다.
이와 같은 레벨링제로서는, 첨가량에 대한 레벨링 효과가 높은 이유에서, 불소계 레벨링제 또는 규소계 레벨링제인 것이 바람직하고, 삼출(블룸, 블리드)을 일으키기 어려운 관점에서, 불소계 레벨링제인 것이 보다 바람직하다.
레벨링제로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2007-069471호의 [0079]~[0102]단락의 기재에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-047204호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 [0020]~[0032]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2012-211306호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 [0022]~[0029]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2002-129162호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 액정 배향 촉진제(특히 [0076]~[0078] 및 [0082]~[0084]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2005-099248호에 기재된 일반식 (I), (II) 및 (III)으로 나타나는 화합물(특히 [0092]~[0096]단락에 기재된 화합물) 등을 들 수 있다. 또한, 후술하는 배향 제어제로서의 기능을 겸비해도 된다.
〔배향 제어제〕
본 발명의 액정 조성물은, 필요에 따라, 배향 제어제를 함유할 수 있다.
배향 제어제에 의하여, 호모지니어스 배향 외에, 호메오트로픽 배향(수직 배향), 경사 배향, 하이브리드 배향, 콜레스테릭 배향 등의 다양한 배향 상태를 형성할 수 있고, 또, 특정 배향 상태를 보다 균일하고 또한 보다 정밀하게 제어하여 실현할 수 있다.
호모지니어스 배향을 촉진하는 배향 제어제로서는, 예를 들면, 저분자의 배향 제어제나, 고분자의 배향 제어제를 이용할 수 있다.
저분자의 배향 제어제로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2002-20363호의 [0009]~[0083]단락, 일본 공개특허공보 2006-106662호의 [0111]~[0120]단락, 및, 일본 공개특허공보 2012-211306호의 [0021]~[0029]단락의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
또, 고분자의 배향 제어제로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2004-198511호의 [0021]~[0057]단락, 및, 일본 공개특허공보 2006-106662호의 [0121]~[0167]단락을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
또, 호메오트로픽 배향을 형성 또는 촉진하는 배향 제어제로서는, 예를 들면, 보론산 화합물, 오늄염 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2008-225281호의 [0023]~[0032]단락, 일본 공개특허공보 2012-208397호의 [0052]~[0058]단락, 일본 공개특허공보 2008-026730호의 [0024]~[0055]단락, 일본 공개특허공보 2016-193869호의 [0043]~[0055]단락 등에 기재된 화합물을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
한편, 콜레스테릭 배향은, 본 발명의 액정 조성물에 카이랄제를 더함으로써 실현할 수 있고, 그 카이랄성의 방향에 의하여 콜레스테릭 배향의 선회 방향을 제어할 수 있다. 또한, 카이랄제의 배향 규제력에 따라 콜레스테릭 배향의 피치를 제어할 수 있다.
배향 제어제를 함유하는 경우의 함유량은, 액정 조성물 중의 전고형분 질량에 대하여 0.01~10질량%인 것이 바람직하고, 0.05~5질량%인 것이 보다 바람직하다. 함유량이 이 범위이면, 원하는 배향 상태를 실현하면서, 석출이나 상분리(相分離), 배향 결함 등이 없으며, 균일하고 투명성이 높은 광학 이방성막을 얻을 수 있다.
이들 배향 제어제는, 중합성 관능기, 특히, 본 발명의 액정 조성물을 구성하는 중합성 액정 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기를 더 부여할 수 있다.
〔그 외의 성분〕
본 발명의 액정 조성물은, 상술한 성분 이외의 성분을 함유해도 되고, 예를 들면, 상술한 중합성 액정 화합물 이외의 액정 화합물, 계면활성제, 틸트각 제어제, 배향 조제(助劑), 가소제, 및, 가교제 등을 들 수 있다.
[화합물]
본 발명의 화합물은, 상술한 식 (II)로 나타나는 화합물이며, 상술한 본 발명의 액정 조성물에 있어서 특정 화합물로서 설명한 것과 동일하다.
[광학 이방성막]
본 발명의 광학 이방성막은, 상술한 본 발명의 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 이방성막이다.
광학 이방성막의 형성 방법으로서는, 예를 들면, 상술한 본 발명의 액정 조성물을 이용하여, 원하는 배향 상태로 한 후에, 중합에 의하여 고정화하는 방법 등을 들 수 있다. 특히, 본 발명에 있어서는, 상술한 본 발명의 액정 조성물을 조제한 후에, 보관하는 공정을 거친 후에, 광학 이방성막을 형성하는 양태가 바람직하다.
여기에서, 중합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 광조사에 의한 중합에 있어서는, 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 조사량은, 10mJ/cm2~50J/cm2인 것이 바람직하고, 20mJ/cm2~5J/cm2인 것이 보다 바람직하며, 30mJ/cm2~3J/cm2인 것이 더 바람직하고, 50~1000mJ/cm2인 것이 특히 바람직하다. 또, 중합 반응을 촉진하기 위하여, 가열 조건하에서 실시해도 된다.
또한, 본 발명에 있어서는, 광학 이방성막은, 후술하는 본 발명의 광학 필름에 있어서의 임의의 지지체 상이나, 후술하는 본 발명의 편광판에 있어서의 편광자 상에 형성할 수 있다.
본 발명의 광학 이방성막은, 하기 식 (III)을 충족시키고 있는 것이 바람직하다.
0.50<Re(450)/Re(550)<1.00 …(III)
여기에서, 상기 식 (III) 중, Re(450)은, 광학 이방성막의 파장 450nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타내고, Re(550)은, 광학 이방성막의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타낸다. 또한, 본 명세서에 있어서, 리타데이션의 측정 파장을 명기하고 있지 않은 경우는, 측정 파장은 550nm로 한다.
또, 면내 리타데이션의 값은, AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)을 이용하고, 측정 파장의 광을 이용하여 측정한 값을 말한다.
구체적으로는, AxoScan OPMF-1에서, 평균 굴절률((Nx+Ny+Nz)/3)과 막두께(d(μm))를 입력함으로써,
지상축(遲相軸) 방향(°)
Re(λ)=R0(λ)
Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d
가 산출된다.
또한, R0(λ)는, AxoScan OPMF-1에서 산출되는 수치로서 표시되는 것이지만, Re(λ)를 의미하고 있다.
본 발명의 광학 이방성막은, 포지티브 A 플레이트 또는 포지티브 C 플레이트인 것이 바람직하고, 포지티브 A 플레이트인 것이 보다 바람직하다.
여기에서, 포지티브 A 플레이트(양의 A 플레이트)와 포지티브 C 플레이트(양의 C 플레이트)는 이하와 같이 정의된다.
필름면 내의 지상축 방향(면내에서의 굴절률이 최대가 되는 방향)의 굴절률을 nx, 면내의 지상축과 면내에서 직교하는 방향의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때, 포지티브 A 플레이트는 식 (A1)의 관계를 충족시키는 것이며, 포지티브 C 플레이트는 식 (C1)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 A 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타내고, 포지티브 C 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타낸다.
식 (A1) nx>ny≒nz
식 (C1) nz>nx≒ny
또한, 상기 "≒"이란, 양자(兩者)가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다.
"실질적으로 동일"이란, 포지티브 A 플레이트에서는, 예를 들면, (ny-nz)×d(단, d는 필름의 두께이다)가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "ny≒nz"에 포함되고, (nx-nz)×d가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "nx≒nz"에 포함된다. 또, 포지티브 C 플레이트에서는, 예를 들면, (nx-ny)×d(단, d는 필름의 두께이다)가, 0~10nm, 바람직하게는 0~5nm인 경우도 "nx≒ny"에 포함된다.
본 발명의 광학 이방성막이 포지티브 A 플레이트인 경우, λ/4판으로서 기능하는 관점에서, Re(550)이 100~180nm인 것이 바람직하고, 120~160nm인 것이 보다 바람직하며, 130~150nm인 것이 더 바람직하고, 130~140nm인 것이 특히 바람직하다.
여기에서, "λ/4판"이란, λ/4 기능을 갖는 판이며, 구체적으로는, 소정 특정 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖는 판이다.
[광학 필름]
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막을 갖는 광학 필름이다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c(이하, 이들 도면을 특별히 구별을 필요로 하지 않는 경우는 "도 1"이라고 약기한다.)는, 각각 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
또한, 도 1은 모식도이고, 각층(各層)의 두께의 관계나 위치 관계 등은 반드시 실제의 것과는 일치하는 것은 아니며, 도 1에 나타내는 지지체, 배향막 및 하드 코트층은, 모두 임의의 구성 부재이다.
도 1에 나타내는 광학 필름(10)은, 지지체(16)와, 배향막(14)과, 광학 이방성막(12)을 이 순서로 갖는다.
또, 광학 필름(10)은, 도 1b에 나타내는 바와 같이, 지지체(16)의 배향막(14)이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층(18)을 갖고 있어도 되고, 도 1c에 나타내는 바와 같이, 광학 이방성막(12)의 배향막(14)이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층(18)을 갖고 있어도 된다.
이하, 본 발명의 광학 필름에 이용되는 다양한 부재에 대하여 상세하게 설명한다.
〔광학 이방성막〕
본 발명의 광학 필름이 갖는 광학 이방성막은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이다.
본 발명의 광학 필름에 있어서는, 상기 광학 이방성막의 두께에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 0.1~10μm인 것이 바람직하고, 0.5~5μm인 것이 보다 바람직하다.
〔지지체〕
본 발명의 광학 필름은, 상술한 바와 같이, 광학 이방성막을 형성하기 위한 기재로서 지지체를 갖고 있어도 된다.
이와 같은 지지체는, 투명한 것이 바람직하고, 구체적으로는, 광투과율이 80% 이상인 것이 바람직하다.
이와 같은 지지체로서는, 예를 들면, 유리 기판이나 폴리머 필름을 들 수 있으며, 폴리머 필름의 재료로서는, 셀룰로스계 폴리머; 폴리메틸메타크릴레이트, 락톤환 함유 중합체 등의 아크릴산 에스터 중합체를 갖는 아크릴계 폴리머; 열가소성 노보넨계 폴리머; 폴리카보네이트계 폴리머; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터계 폴리머; 폴리스타이렌, 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체(AS 수지) 등의 스타이렌계 폴리머; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 폴리머; 염화 바이닐계 폴리머; 나일론, 방향족 폴리아마이드 등의 아마이드계 폴리머; 이미드계 폴리머; 설폰계 폴리머; 폴리에터설폰계 폴리머; 폴리에터에터케톤계 폴리머; 폴리페닐렌설파이드계 폴리머; 염화 바이닐리덴계 폴리머; 바이닐알코올계 폴리머; 바이닐뷰티랄계 폴리머; 아릴레이트계 폴리머; 폴리옥시메틸렌계 폴리머; 에폭시계 폴리머; 또는 이들 폴리머를 혼합한 폴리머를 들 수 있다.
또, 후술하는 편광자가 이와 같은 지지체를 겸하는 양태여도 된다.
본 발명에 있어서는, 상기 지지체의 두께에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 5~60μm인 것이 바람직하고, 5~30μm인 것이 보다 바람직하다.
〔배향막〕
본 발명의 광학 필름은, 상술한 임의의 지지체를 갖는 경우, 지지체와 광학 이방성막의 사이에, 배향막을 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상술한 지지체가 배향막을 겸하는 양태여도 된다.
배향막은, 일반적으로는 폴리머를 주성분으로 한다. 배향막용 폴리머 재료로서는, 다수의 문헌에 기재가 있으며, 다수의 시판품을 입수할 수 있다.
본 발명에 있어서 이용되는 폴리머 재료는, 폴리바이닐알코올 또는 폴리이미드, 및 그 유도체가 바람직하다. 특히 변성 또는 미변성의 폴리바이닐알코올이 바람직하다.
본 발명에 사용 가능한 배향막에 대해서는, 예를 들면, 국제 공개공보 제01/88574호의 43페이지 24행~49페이지 8행에 기재된 배향막; 일본 특허공보 제3907735호의 단락 [0071]~[0095]에 기재된 변성 폴리바이닐알코올; 일본 공개특허공보 2012-155308호에 기재된 액정 배향제에 의하여 형성되는 액정 배향막 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 배향막의 형성 시에 배향막 표면에 접촉하지 않음으로써 면 형상 악화를 방지하는 것이 가능해지는 이유에서, 배향막으로서는 광배향막을 이용하는 것도 바람직하다.
광배향막으로서는 특별히 한정은 되지 않지만, 국제 공개공보 제2005/096041호의 단락 [0024]~[0043]에 기재된 폴리아마이드 화합물이나 폴리이미드 화합물 등의 폴리머 재료; 일본 공개특허공보 2012-155308호에 기재된 광배향성기를 갖는 액정 배향제에 의하여 형성되는 액정 배향막; Rolic Technologies사제의 상품명 LPP-JP265CP 등을 이용할 수 있다.
또, 본 발명에 있어서는, 상기 배향막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 지지체에 존재할 수 있는 표면 요철을 완화하여 균일한 막두께의 광학 이방성막을 형성한다는 관점에서, 0.01~10μm인 것이 바람직하고, 0.01~1μm인 것이 보다 바람직하며, 0.01~0.5μm인 것이 더 바람직하다.
〔하드 코트층〕
본 발명의 광학 필름은, 필름의 물리적 강도를 부여하기 위하여, 하드 코트층을 갖고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 지지체의 배향막이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층을 갖고 있어도 되고(도 1b 참조), 광학 이방성막의 배향막이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층을 갖고 있어도 된다(도 1c 참조).
하드 코트층으로서는 일본 공개특허공보 2009-98658호의 단락 [0190]~[0196]에 기재된 것을 사용할 수 있다.
〔다른 광학 이방성막〕
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막과는 별도로, 다른 광학 이방성막을 갖고 있어도 된다.
즉, 본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막과 다른 광학 이방성막의 적층 구조를 갖고 있어도 된다.
이와 같은 다른 광학 이방성막은, 상술한 특정 화합물을 배합하지 않고, 상술한 역파장 분산성 액정 화합물 또는 다른 중합성 화합물(특히, 액정 화합물)을 이용하여 얻어지는 광학 이방성막이면 특별히 한정되지 않는다.
여기에서, 일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입과 원반상 타입으로 분류할 수 있다. 또한 각각 저분자와 고분자 타입이 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 것을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오 저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992). 본 발명에서는, 어느 액정 화합물도 이용할 수 있지만, 봉상 액정 화합물 또는 디스코틱 액정 화합물(원반상 액정 화합물)을 이용하는 것이 바람직하다. 2종 이상의 봉상 액정 화합물, 2종 이상의 원반상 액정 화합물, 또는 봉상 액정 화합물과 원반상 액정 화합물의 혼합물을 이용해도 된다. 상술한 액정 화합물의 고정화를 위하여, 중합성기를 갖는 봉상 액정 화합물 또는 원반상 액정 화합물을 이용하여 형성하는 것이 보다 바람직하며, 액정 화합물이 1분자 중에 중합성기를 2 이상 갖는 것이 더 바람직하다. 액정 화합물이 2종류 이상의 혼합물인 경우에는, 적어도 1종류의 액정 화합물이 1분자 중에 2 이상의 중합성기를 갖고 있는 것이 바람직하다.
봉상 액정 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공표특허공보 평11-513019호의 청구항 1이나 일본 공개특허공보 2005-289980호의 단락 [0026]~[0098]에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있으며, 디스코틱 액정 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2007-108732호의 단락 [0020]~[0067]이나 일본 공개특허공보 2010-244038호의 단락 [0013]~[0108]에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
〔자외선 흡수제〕
본 발명의 광학 필름은, 외광(특히 자외선)의 영향을 고려하여, 자외선(UV) 흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.
자외선 흡수제는, 본 발명의 광학 이방성막에 함유되어 있어도 되고, 본 발명의 광학 필름을 구성하는 광학 이방성막 이외의 부재에 함유되어 있어도 된다. 광학 이방성막 이외의 부재로서는, 예를 들면, 지지체를 적합하게 들 수 있다.
자외선 흡수제로서는, 자외선 흡수성을 발현할 수 있는 종래 공지의 것을 모두 사용할 수 있다. 이와 같은 자외선 흡수제 중, 자외선 흡수성이 높고, 화상 표시 장치에서 이용되는 자외선 흡수능(자외선 차단능)을 얻는 관점에서, 벤조트라이아졸계 또는 하이드록시페닐트라이아진계의 자외선 흡수제를 이용하는 것이 바람직하다.
또, 자외선의 흡수폭을 넓게 하기 위하여, 최대 흡수 파장이 상이한 자외선 흡수제를 2종 이상 병용할 수 있다.
자외선 흡수제로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-18395호의 [0258]~[0259]단락에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2007-72163호의 [0055]~[0105]단락에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
또, 시판품으로서, Tinuvin400, Tinuvin405, Tinuvin460, Tinuvin477, Tinuvin479, 및, Tinuvin1577(모두 BASF사제) 등을 이용할 수 있다.
[편광판]
본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 필름과, 편광자를 갖는 것이다.
또, 본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이 λ/4판(포지티브 A 플레이트)인 경우, 원편광판으로서 이용할 수 있다.
또, 본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이 λ/4판(포지티브 A 플레이트)인 경우, λ/4판의 지상축과 후술하는 편광자의 흡수축이 이루는 각이 30~60°인 것이 바람직하고, 40~50°인 것이 보다 바람직하며, 42~48°인 것이 더 바람직하고, 45°인 것이 특히 바람직하다.
여기에서, λ/4판의 "지상축"은, λ/4판의 면내에 있어서 굴절률이 최대가 되는 방향을 의미하고, 편광자의 "흡수축"은, 흡광도가 가장 높은 방향을 의미한다.
〔편광자〕
본 발명의 편광판이 갖는 편광자는, 광을 특정 직선 편광으로 변환하는 기능을 갖는 부재이면 특별히 한정되지 않으며, 종래 공지의 흡수형 편광자 및 반사형 편광자를 이용할 수 있다.
흡수형 편광자로서는, 아이오딘계 편광자, 이색성(二色性) 염료를 이용한 염료계 편광자, 및 폴리엔계 편광자 등이 이용된다. 아이오딘계 편광자 및 염료계 편광자에는, 도포형 편광자와 연신형 편광자가 있고, 모두 적용할 수 있지만, 폴리바이닐알코올에 아이오딘 또는 이색성 염료를 흡착시켜, 연신하여 제작되는 편광자가 바람직하다.
또, 기재 상에 폴리바이닐알코올층을 형성한 적층 필름의 상태에서 연신 및 염색을 실시함으로써 편광자를 얻는 방법으로서, 일본 특허공보 제5048120호, 일본 특허공보 제5143918호, 일본 특허공보 제4691205호, 일본 특허공보 제4751481호, 일본 특허공보 제4751486호를 들 수 있으며, 이들의 편광자에 관한 공지의 기술도 바람직하게 이용할 수 있다.
반사형 편광자로서는, 복굴절이 상이한 박막을 적층한 편광자, 와이어 그리드형 편광자, 선택 반사역을 갖는 콜레스테릭 액정과 1/4 파장판을 조합한 편광자 등이 이용된다.
그중에서도, 밀착성이 보다 우수한 점에서, 폴리바이닐알코올계 수지(-CH2-CHOH-를 반복 단위로서 포함하는 폴리머, 특히, 폴리바이닐알코올 및 에틸렌-바이닐알코올 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나)를 포함하는 편광자인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 편광자의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 3μm~60μm인 것이 바람직하고, 5μm~30μm인 것이 보다 바람직하며, 5μm~15μm인 것이 더 바람직하다.
〔점착제층〕
본 발명의 편광판은, 본 발명의 광학 필름에 있어서의 광학 이방성막과, 편광자의 사이에, 점착제층이 배치되어 있어도 된다.
광학 이방성막과 편광자의 적층을 위하여 이용되는 점착제층으로서는, 예를 들면, 동적 점탄성 측정 장치로 측정한 저장 탄성률 G'와 손실 탄성률 G"의 비(tanδ=G"/G')가 0.001~1.5인 물질을 나타내고, 이른바, 점착제나 크리프하기 쉬운 물질 등이 포함된다. 본 발명에 이용할 수 있는 점착제로서는, 예를 들면, 폴리바이닐알코올계 점착제를 들 수 있지만, 이것에 한정되지 않는다.
[화상 표시 장치]
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름 또는 본 발명의 편광판을 갖는, 화상 표시 장치이다.
본 발명의 화상 표시 장치에 이용되는 표시 소자는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 액정 셀, 유기 일렉트로 루미네선스(이하, "EL"이라고 약기한다.) 표시 패널, 플라즈마 디스플레이 패널 등을 들 수 있다.
이들 중, 액정 셀, 유기 EL 표시 패널인 것이 바람직하고, 액정 셀인 것이 보다 바람직하다. 즉, 본 발명의 화상 표시 장치로서는, 표시 소자로서 액정 셀을 이용한 액정 표시 장치, 표시 소자로서 유기 EL 표시 패널을 이용한 유기 EL 표시 장치인 것이 바람직하고, 액정 표시 장치인 것이 보다 바람직하다.
〔액정 표시 장치〕
본 발명의 화상 표시 장치의 일례인 액정 표시 장치는, 상술한 본 발명의 편광판과, 액정 셀을 갖는 액정 표시 장치이다.
또한, 본 발명에 있어서는, 액정 셀의 양측에 마련되는 편광판 중, 프런트 측의 편광판으로서 본 발명의 편광판을 이용하는 것이 바람직하고, 프런트 측 및 리어 측의 편광판으로서 본 발명의 편광판을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
이하에, 액정 표시 장치를 구성하는 액정 셀에 대하여 상세하게 설명한다.
<액정 셀>
액정 표시 장치에 이용되는 액정 셀은, VA(Vertical Alignment) 모드, OCB(Optically Compensated Bend) 모드, IPS(In-Plane-Switching) 모드, FFS(Fringe-Field-Switching) 모드, 또는 TN(Twisted Nematic) 모드인 것이 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
TN 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉상 액정성 분자가 실질적으로 수평 배향하고, 또한 60~120°로 비틀림 배향하고 있다. TN 모드의 액정 셀은, 컬러 TFT 액정 표시 장치로서 가장 많이 이용되고 있으며, 다수의 문헌에 기재가 있다.
VA 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉상 액정성 분자가 실질적으로 수직으로 배향하고 있다. VA 모드의 액정 셀에는, (1) 봉상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직으로 배향시키고, 전압 인가 시에 실질적으로 수평으로 배향시키는 좁은 의미의 VA 모드의 액정 셀(일본 공개특허공보 평2-176625호 기재)에 더하여, (2) 시야각 확대를 위하여, VA 모드를 멀티 도메인화한(MVA 모드의) 액정 셀(SID97, Digest of tech. Papers(예고집(豫稿集)) 28(1997) 845 기재), (3) 봉상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직 배향시키고, 전압 인가 시에 비틀림 멀티 도메인 배향시키는 모드(n-ASM 모드)의 액정 셀(일본 액정 토론회의 예고집 58~59(1998) 기재) 및 (4) SURVIVAL 모드의 액정 셀(LCD 인터내셔널 98에서 발표)이 포함된다. 또, PVA(Patterned Vertical Alignment)형, 광배향형(Optical Alignment), 및 PSA(Polymer-Sustained Alignment) 중 어느 것이어도 된다. 이들 모드의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2006-215326호, 및 일본 공표특허공보 2008-538819호에 상세한 기재가 있다.
IPS 모드의 액정 셀은, 봉상 액정 분자가 기판에 대하여 실질적으로 평행하게 배향되어 있고, 기판면에 평행한 전계가 인가됨으로써 액정 분자가 평면적으로 응답한다. IPS 모드는 전계 무인가 상태에서 흑색 표시가 되고, 상하 한 쌍의 편광판의 흡수축은 직교하고 있다. 광학 보상 시트를 이용하여, 경사 방향에서의 흑색 표시 시의 누출광을 저감시켜, 시야각을 개량하는 방법이, 일본 공개특허공보 평10-54982호, 일본 공개특허공보 평11-202323호, 일본 공개특허공보 평9-292522호, 일본 공개특허공보 평11-133408호, 일본 공개특허공보 평11-305217호, 일본 공개특허공보 평10-307291호 등에 개시되어 있다.
〔유기 EL 표시 장치〕
본 발명의 화상 표시 장치의 일례인 유기 EL 표시 장치로서는, 예를 들면, 시인 측으로부터, 편광자와, 본 발명의 광학 이방성막으로 이루어지는 λ/4판(포지티브 A 플레이트)과, 유기 EL 표시 패널을 이 순서로 갖는 양태를 적합하게 들 수 있다.
또, 유기 EL 표시 패널은, 전극 간(음극 및 양극 간)에 유기 발광층(유기 일렉트로 루미네선스층)을 협지하여 이루어지는 유기 EL 소자를 이용하여 구성된 표시 패널이다. 유기 EL 표시 패널의 구성은 특별히 제한되지 않으며, 공지의 구성이 채용된다.
실시예
이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
〔특정 화합물 (2-1)의 합성〕
이하에 나타내는 스킴에 따라, 특정 화합물 (2-1)을 합성했다.
[화학식 19]
<STEP 1>
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물(2-1-a: 4-하이드록시뷰틸아크릴레이트) 60.0g, 트라이에틸아민 49.3g, 및, BHT(다이뷰틸하이드록시톨루엔) 0.9g을, DMAc(다이메틸아세트아마이드) 120.1mL, 및, 톨루엔 114.1mL에 혼합했다.
이어서, 내온 0℃로 냉각하여, 메틸 클로라이드 50.6g을 천천히 적하했다. 적하 종료 후, 내온 0℃에서 1시간 교반했다. 그 후, 실온(23℃)으로 되돌리고, 희염산으로 분액하며, 브라인으로 2회째의 분액을 실시하여, 화합물 (2-1-b)를 얻었다.
상기에서 얻어진 화합물 (2-1-b)의 톨루엔 용액과, 1,1'-바이사이클로헥실-4,4'-다이카복실산 91.40g, 트라이에틸아민 72.73g, 및, 다이뷰틸하이드록시톨루엔 0.8g을, DMAc 274.2mL, 및, 톨루엔 69.7mL에 혼합했다. 이어서, 내온 90℃로 가열하여, 5시간 반응시켰다. 그 후, 실온으로 되돌리고, 희염산을 더하며, 42℃로 가열하여 분액했다. 이어서, TEMPO(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 1-옥실) 0.5g과 톨루엔 164.5mL를 더하고, 그 후, 탄산 수소 나트륨 수용액으로 2회 분액을 실시했다. 얻어진 용액을 헥세인 중에 적하하여 고체를 석출시켜, 백색 고체의 화합물 (2-1-c)를 얻었다.
<STEP 2-1>
상기에서 얻어진 화합물 (2-1-c) 10.0g, 및, 1-뷰틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트 0.6g을, 물 50mL에 혼합했다. 이어서, 다이메틸아민 5.2g을 천천히 적하했다. 적하 종료 후, 실온(23℃)에서 30분 교반했다. 그 후, 아세토나이트릴 50mL를 더하고, 공비 농축으로 물을 제거하며, 석출되어 온 고체를 여과하여, 화합물 (2-1-d)를 얻었다.
<STEP 2-2>
상기에서 얻어진 화합물 (2-1-c) 11.7g, 화합물 (2-1-e) 13.1g, BHT(다이뷰틸하이드록시톨루엔) 0.2g을, 테트라하이드로퓨란 150mL, 및, 클로로폼 50mL에 혼합했다. 이어서, 1-(3-다이메틸아미노프로필)-3-에틸카보다이이미드 염산염 7.6g, 및, N,N-다이메틸-4-아미노피리딘 0.6g을 더하여, 실온(23℃)에서 3시간 교반했다. 그 후, 아세트산 에틸 60mL, 및 희염산을 더하여, 분액했다. 얻어진 유기층의 용액을 농축하여, 칼럼 정제를 행함으로써, 화합물 (2-1-f)를 얻었다.
<STEP 3>
상기에서 얻어진 화합물 (2-1-d) 5.0g, 및, 화합물 (2-1-f) 7.2g을, 클로로폼 50mL에 혼합했다. 이어서, 1-(3-다이메틸아미노프로필)-3-에틸카보다이이미드 염산염 3.4g, 및, N,N-다이메틸-4-아미노피리딘 0.1g을 더하여, 실온(23℃)에서 3시간 교반했다. 그 후, 여과로 고체를 제거하고, 얻어진 용액의 칼럼 정제를 행함으로써, 특정 화합물 (2-1)을 얻었다.
얻어진 화합물 (2-1)의 1H-NMR(Nuclear Magnetic Resonance) 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.92(m, 8H), 1.21-1.29(m, 12H), 1.61(m, 8H), 1.74(m, 8H), 2.21(m, 4H), 2.50(m, 2H), 2.76(m, 8H), 2.86(s, 6H), 3.88-4.17(10H), 5.84(d, 1H), 6.13(q, 1H), 6.42(d, 1H), 7.11(s, 2H)
〔특정 화합물 (2-2)의 합성〕
이하에 나타내는 스킴에 따라, 특정 화합물 (2-2)를 합성했다.
[화학식 20]
특정 화합물 (2-1)의 합성에서 이용한 화합물 (2-1-c) 및 화합물 (2-1-d)를, 상기 스킴 중에 나타내는 화합물 (2-2-a) 및 화합물 (2-2-b)로 변경한 것 이외에는, 상기 스킴에도 나타내는 바와 같이, 특정 화합물 (2-1)의 합성과 동일한 방법으로, 특정 화합물 (2-2)를 얻었다.
얻어진 특정 화합물 (2-2)의 1H-NMR 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.92(m, 4H), 1.21-1.29(m, 8H), 1.51(m, 4H), 1.60(m, 4H), 1.74(m, 4H), 2.21(m, 4H), 2.35(s, 3H), 2.50(m, 2H), 2.56(s,3H), 2.76(m, 8H), 2.86(s, 6H), 3.88-4.17(14H), 5.84(d, 1H), 6.13(q, 1H), 6.42(d, 1H), 6.88(s, 4H), 7.12-7.20(m, 5H)
〔특정 화합물 (2-3)의 합성〕
특정 화합물 (2-2)의 합성에서 이용한 화합물 (2-2-c) 대신에, 이하에 나타내는 화합물 (2-3-c)를 이용한 것 이외에는, 특정 화합물 (2-2)의 합성과 동일한 방법으로, 이하에 나타내는 특정 화합물 (2-3)을 얻었다.
[화학식 21]
〔특정 화합물 (2-4)의 합성〕
특정 화합물 (2-1)의 합성에서 이용한 화합물 (2-1-e) 대신에, 이하에 나타내는 화합물 (2-4-e)를 이용한 것 이외에는, 특정 화합물 (2-1)의 합성과 동일한 방법으로, 이하에 나타내는 특정 화합물 (2-4)를 얻었다.
[화학식 22]
〔특정 화합물 (2-5)의 합성〕
특정 화합물 (2-1)의 합성에서 이용한 화합물 (2-1-e) 대신에, 이하에 나타내는 화합물 (2-5-e)를 이용한 것 이외에는, 특정 화합물 (2-1)의 합성과 동일한 방법으로, 이하에 나타내는 특정 화합물 (2-5)를 얻었다.
[화학식 23]
〔특정 화합물 (2-1-7)의 합성〕
특정 화합물 (2-1)의 합성에서 이용한 화합물 (2-1-d) 대신에 이하에 나타내는 화합물 (2-1-7-a)를 이용하고, 화합물 (2-1-f) 대신에 이하에 나타내는 화합물 (2-1-7-b)를 이용한 것 이외에는, 특정 화합물 (2-1)의 합성과 동일한 방법으로, 이하에 나타내는 특정 화합물 (2-1-7)을 얻었다.
[화학식 24]
〔특정 화합물 (2-1-10)의 합성〕
특정 화합물 (2-1)의 합성에서 이용한 화합물 (2-1-f) 대신에, 이하에 나타내는 화합물 (2-1-10-f)를 이용한 것 이외에는, 특정 화합물 (2-1)의 합성과 동일한 방법으로, 이하에 나타내는 특정 화합물 (2-1-10)을 얻었다.
[화학식 25]
[실시예 1]
〔광학 필름의 제작〕
하기의 조성을 갖는 중합성 액정 조성물을 조제하고, 러빙 처리된 폴리이미드 배향막(닛산 가가쿠 고교(주))제 SE-150) 부착 유리 기판에 스핀 코트에 의하여 도포했다.
도막을 하기 표 1에 나타내는 온도로 배향 처리하여, 액정층을 형성했다.
그 후, 하기 표 1에 기재되어 있는 노광 시 온도까지 냉각하여 1000mJ/cm2의 자외선 조사에 의한 배향 고정화를 행하고, 광학 이방성막을 형성하여, 광학 필름을 제작했다.
------------------------------------------------------------------
중합성 액정 조성물
------------------------------------------------------------------
·하기 역파장 분산성 액정 화합물 (1-1)
14.70질량부
·하기 특정 화합물 (2-1)
0.30질량부
·광중합 개시제(이르가큐어 819, BASF사제)
0.45질량부
·하기 함불소 화합물 A
0.12질량부
·사이클로펜탄온
85.00질량부
------------------------------------------------------------------
역파장 분산성 액정 화합물 (1-1)
[화학식 26]
특정 화합물 (2-1)
[화학식 27]
함불소 화합물 A
[화학식 28]
[실시예 2~6]
역파장 분산성 액정 화합물 또는 특정 화합물을 하기 표 1에 나타내는 화합물로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로, 광학 필름을 제작했다.
또한, 특정 화합물에 대하여, 상기 식 (II) 중의 M으로 나타나는 환 구조 중, 중심의 M이 나타내는 방향환의 극대 흡수 파장에 대해서도 하기 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
역파장 분산성 액정 화합물의 배합량을 하기 표 1에 나타내는 질량부로 변경하고, 특정 화합물을 배합하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로, 광학 필름을 제작했다.
[비교예 2]
역파장 분산성 액정 화합물의 배합량을 하기 표 1에 나타내는 질량부로 변경하고, 특정 화합물을 배합하지 않은 것 이외에는, 실시예 6과 동일한 방법으로, 광학 필름을 제작했다.
<리타데이션>
제작한 광학 필름에 대하여, Axo Scan(OPMF-1, 옵토 사이언스사제)을 이용하여, 파장 450nm의 리타데이션값(Re(450))과, 파장 550nm의 리타데이션값(Re(550))을 측정하여, Re(450)/Re(550)을 산출했다. 이들의 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
<내광성>
제작한 광학 필름에 대하여, 중합성 액정 조성물의 도포막이 조사면이 되도록, 유리 기판을 제논 조사기(스가 시켄키 주식회사제 SX75)에 세팅하고, #275 필터를 이용하여 200시간 조사하는 시험을 행했다.
시험 전의 광학 필름의 Re(550)과, 시험 후의 광학 필름의 Re(550)을 측정하여, 이하의 기준으로 내광성을 평가했다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
A: 시험 전의 Re(550)에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 시험 전의 Re(550)의 5% 미만
B: 시험 전의 Re(550)에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 시험 전의 Re(550)의 5% 이상 15% 미만
C: 시험 전의 Re(550)에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 시험 전의 Re(550)의 15% 이상
<배향 결함>
얻어진 광학 필름을 사방 10cm로 잘라내, 편광 현미경(LEXT, 올림푸스사제)을 이용하여 육안으로 화면 상의 배향 결함의 개수를 확인하여, 다음의 평가 기준에 따라 평가했다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
(배향 결함의 평가 기준)
A: 결함 없음
B: 1~10개
C: 11~100개
D: 전체면에 배향 결함이 발생(>100개)
[표 1]
상기 표 1 중의 역파장 분산성 액정 화합물 등의 구조는, 이하에 나타내는 바와 같다.
역파장 분산성 액정 화합물 (1-1)
[화학식 29]
역파장 분산성 액정 화합물 (1-2)
[화학식 30]
특정 화합물 (2-1)
[화학식 31]
특정 화합물 (2-2)
[화학식 32]
특정 화합물 (2-3)
[화학식 33]
특정 화합물 (2-4)
[화학식 34]
특정 화합물 (2-5)
[화학식 35]
상기 표 1에 나타내는 결과로부터, 특정 화합물을 배합하지 않는 경우, 형성되는 광학 이방성막에 배향 결함이 발생하는 것을 알 수 있었다(비교예 1 및 2).
이에 대하여, 액정 화합물과 함께 특정 화합물을 배합한 경우, 형성되는 광학 이방성막에 있어서의 배향 결함의 발생을 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다(실시예 1~6). 또, 형성된 광학 이방성막은, 내광성도 양호해지는 것을 알 수 있었다.
Claims (19)
- 액정 화합물과, 하기 식 (II)로 나타나는 화합물을 함유하는, 액정 조성물.
[화학식 1]
여기에서, 상기 식 (II) 중,
R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는, 알킬기를 나타낸다.
R23은, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는, 트라이플루오로메틸기를 나타낸다.
SP21 및 SP22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, 알킬렌기를 나타낸다. 단, 상기 알킬렌기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자, 펜타플루오로설퓨란일기, 사이아노기, 나이트로기, 아이소사이아노기, 싸이오아이소사이아노기, 또는, 탄소수 1~20의 알킬기로 치환되어 있어도 된다. 또, 상기 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중, 1개 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -CO-NR24-, -NH-CO-, -NR25-CO-, -NH-, -NR26-, 또는, -C≡C-로 치환되어 있어도 되고, R24~R26은, 치환기를 나타낸다.
D21 및 D22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR27R28-, -CR29=CR30-, -NH-, -NR31-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R27~R31은, 치환기를 나타낸다.
M은, 치환기를 갖고 있어도 되는, 방향환, 지환, 또는, 복소환을 나타낸다.
m은, 3 이상의 정수를 나타내며, 복수의 M은, 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수의 D22는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
T는, 수소 원자, 알킬기, 또는, 중합성기를 나타낸다. - 청구항 1에 있어서,
상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는, 액정 조성물. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 하기 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는, 액정 조성물.
[화학식 2]
여기에서, 상기 식 (M-1)~(M-7) 중,
*는, D21 또는 D22와의 결합 위치를 나타낸다.
Q1은, N 또는 CH를 나타낸다.
Q2는, -S-, -O-, 또는, -N(R6)-을 나타내고, R6은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
Y1은, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기, 또는, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~20의 지환식 탄화 수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 복소환기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR7, -NR8R9, -SR10, -COOR11, 또는, -COR12를 나타내고, R7~R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
A3 및 A4는, 각각 독립적으로, -O-, -N(R13)-, -S-, 및, -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합하고 있어도 되는, 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
D7 및 D8은, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR1R2-, -CR3=CR4-, -NR5-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
L3 및 L4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다.
Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 또는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
Q3은, 수소 원자, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (II) 중의 T가, 중합성기를 나타내는, 액정 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정 화합물이, 역파장 분산성을 갖는, 액정 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정 화합물이, 하기 식 (Ar-1)~(Ar-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 갖는 화합물인, 액정 조성물.
[화학식 4]
여기에서, 상기 식 (Ar-1)~(Ar-7) 중,
*는, 결합 위치를 나타낸다.
Q1은, N 또는 CH를 나타낸다.
Q2는, -S-, -O-, 또는, -N(R6)-을 나타내고, R6은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
Y1은, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기, 또는, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~20의 지환식 탄화 수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 복소환기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR7, -NR8R9, -SR10, -COOR11, 또는, -COR12를 나타내고, R7~R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
A3 및 A4는, 각각 독립적으로, -O-, -N(R13)-, -S-, 및, -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합하고 있어도 되는, 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
D7 및 D8은, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR1R2-, -CR3=CR4-, -NR5-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
L3 및 L4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다.
Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 또는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
Q3은, 수소 원자, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. - 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정 화합물이, 중합성기를 갖는, 액정 조성물. - 하기 식 (II)로 나타나는 화합물.
[화학식 6]
여기에서, 상기 식 (II) 중,
R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는, 알킬기를 나타낸다.
R23은, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는, 트라이플루오로메틸기를 나타낸다.
SP21 및 SP22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, 알킬렌기를 나타낸다. 단, 상기 알킬렌기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자, 펜타플루오로설퓨란일기, 사이아노기, 나이트로기, 아이소사이아노기, 싸이오아이소사이아노기, 또는, 탄소수 1~20의 알킬기로 치환되어 있어도 된다. 또, 상기 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중, 1개 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -CO-NR24-, -NH-CO-, -NR25-CO-, -NH-, -NR26-, 또는, -C≡C-로 치환되어 있어도 되고, R24~R26은, 치환기를 나타낸다.
D21 및 D22는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR27R28-, -CR29=CR30-, -NH-, -NR31-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R27~R31은, 치환기를 나타낸다.
M은, 치환기를 갖고 있어도 되는, 방향환, 지환, 또는, 복소환을 나타낸다.
m은, 3 이상의 정수를 나타내며, 복수의 M은, 각각 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수의 D22는, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
T는, 수소 원자, 알킬기, 또는, 중합성기를 나타낸다. - 청구항 10에 있어서,
상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 280~420nm에 극대 흡수 파장을 갖는 방향환을 나타내는, 화합물. - 청구항 10 또는 청구항 11에 있어서,
상기 식 (II) 중 적어도 하나의 M이, 하기 식 (M-1)~(M-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타내는, 화합물.
[화학식 7]
여기에서, 상기 식 (M-1)~(M-7) 중,
*는, D21 또는 D22와의 결합 위치를 나타낸다.
Q1은, N 또는 CH를 나타낸다.
Q2는, -S-, -O-, 또는, -N(R6)-을 나타내고, R6은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
Y1은, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기, 또는, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~20의 지환식 탄화 수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.
Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 복소환기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR7, -NR8R9, -SR10, -COOR11, 또는, -COR12를 나타내고, R7~R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
A3 및 A4는, 각각 독립적으로, -O-, -N(R13)-, -S-, 및, -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합하고 있어도 되는, 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
D7 및 D8은, 각각 독립적으로, 단결합, 또는, -CO-, -O-, -S-, -C(=S)-, -CR1R2-, -CR3=CR4-, -NR5-, 혹은, 이들 중 2개 이상의 조합으로 이루어지는 2가의 연결기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.
SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 1개 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은, -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
L3 및 L4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다.
Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 또는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
Q3은, 수소 원자, 또는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. - 청구항 10 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (II) 중의 T가, 중합성기를 나타내는, 화합물. - 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 이방성막.
- 청구항 15에 있어서,
하기 식 (III)을 충족시키는, 광학 이방성막.
0.50<Re(450)/Re(550)<1.00 …(III)
여기에서, 식 (III) 중, Re(450)은, 상기 광학 이방성막의 파장 450nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타내고, Re(550)은, 상기 광학 이방성막의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타낸다. - 청구항 15 또는 청구항 16에 기재된 광학 이방성막을 갖는 광학 필름.
- 청구항 17에 기재된 광학 필름과, 편광자를 갖는, 편광판.
- 청구항 17에 기재된 광학 필름, 또는, 청구항 18에 기재된 편광판을 갖는, 화상 표시 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2020-157416 | 2020-09-18 | ||
JP2020157416 | 2020-09-18 | ||
PCT/JP2021/031726 WO2022059470A1 (ja) | 2020-09-18 | 2021-08-30 | 液晶組成物、化合物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230051243A true KR20230051243A (ko) | 2023-04-17 |
Family
ID=80776163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020237008575A KR20230051243A (ko) | 2020-09-18 | 2021-08-30 | 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7538237B2 (ko) |
KR (1) | KR20230051243A (ko) |
CN (1) | CN116249757A (ko) |
WO (1) | WO2022059470A1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019017445A1 (ja) | 2017-07-19 | 2019-01-24 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100532103B1 (ko) * | 2003-05-27 | 2005-11-29 | 삼성전자주식회사 | 내광성 강화 첨가제 및 이를 포함하는 잉크 조성물 |
JP4480602B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2010-06-16 | 富士フイルム株式会社 | セルロースアシレート組成物、セルロースアシレートフイルム、およびアルコキシ安息香酸化合物 |
JP2012207073A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Fujifilm Corp | 高分子フィルム用添加剤、高分子フィルム、位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置、及びオリゴマー |
WO2013089077A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 |
JP6458484B2 (ja) * | 2014-03-24 | 2019-01-30 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子並びに位相差フィルム及びその製造方法 |
WO2015198915A1 (ja) * | 2014-06-23 | 2015-12-30 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物及び該組成物を用いて作製した光学異方体、位相差膜、位相差パターニング膜 |
JP6906309B2 (ja) | 2015-02-09 | 2021-07-21 | Jnc株式会社 | 重合性極性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
JPWO2018025974A1 (ja) * | 2016-08-03 | 2019-06-06 | Jnc株式会社 | 液晶表示素子、表示装置 |
WO2019220673A1 (ja) * | 2018-05-15 | 2019-11-21 | Jnc株式会社 | 化合物、液晶組成物、および液晶表示素子 |
CN112513695B (zh) * | 2018-07-25 | 2023-04-18 | 富士胶片株式会社 | 聚合性液晶组合物、光学各向异性膜、光学膜、偏振片及图像显示装置 |
JP6970828B2 (ja) * | 2018-07-25 | 2021-11-24 | 富士フイルム株式会社 | 液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP7128850B2 (ja) * | 2019-03-05 | 2022-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
-
2021
- 2021-08-30 KR KR1020237008575A patent/KR20230051243A/ko unknown
- 2021-08-30 JP JP2022550441A patent/JP7538237B2/ja active Active
- 2021-08-30 WO PCT/JP2021/031726 patent/WO2022059470A1/ja active Application Filing
- 2021-08-30 CN CN202180063766.2A patent/CN116249757A/zh active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019017445A1 (ja) | 2017-07-19 | 2019-01-24 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN116249757A (zh) | 2023-06-09 |
JP7538237B2 (ja) | 2024-08-21 |
JPWO2022059470A1 (ko) | 2022-03-24 |
WO2022059470A1 (ja) | 2022-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102424752B1 (ko) | 중합성 액정 조성물, 중합성 액정 조성물의 제조 방법, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
WO2021060432A1 (ja) | 液晶組成物、光学異方性層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR102429339B1 (ko) | 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
JP7386256B2 (ja) | 重合性液晶組成物、硬化物、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7382414B2 (ja) | 光学異方性層、光学フィルム、偏光板、画像表示装置 | |
JP7385669B2 (ja) | 光学異方性層、光学フィルム、偏光板、画像表示装置 | |
JP2021054909A (ja) | 液晶組成物、光学異方性層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7118153B2 (ja) | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR102196824B1 (ko) | 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
JP7340617B2 (ja) | 重合性液晶組成物、化合物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7523281B2 (ja) | 重合体、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7335856B2 (ja) | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7285226B2 (ja) | 重合性液晶組成物、化合物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7371110B2 (ja) | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR20230030525A (ko) | 액정 조성물, 액정 경화층, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
JP7285227B2 (ja) | 重合性液晶組成物、化合物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR20230051243A (ko) | 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
KR102426523B1 (ko) | 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
KR20220050161A (ko) | 중합성 액정 조성물, 광학 이방성층, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
JP7440647B2 (ja) | 液晶組成物、液晶硬化層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR102438545B1 (ko) | 혼정, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
WO2024176869A1 (ja) | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および重合性液晶組成物の製造方法 | |
JP7291651B2 (ja) | 順波長分散性液晶化合物、重合性液晶組成物、硬化物、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
WO2023112722A1 (ja) | 化合物、重合性組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP7012622B2 (ja) | 化合物、組成物、硬化物、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |