KR20230046956A - 편광판의 제조 방법 - Google Patents

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KR20230046956A
KR20230046956A KR1020220104598A KR20220104598A KR20230046956A KR 20230046956 A KR20230046956 A KR 20230046956A KR 1020220104598 A KR1020220104598 A KR 1020220104598A KR 20220104598 A KR20220104598 A KR 20220104598A KR 20230046956 A KR20230046956 A KR 20230046956A
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KR1020220104598A
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코 나가타
타다시 코지마
슈사쿠 고토
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는, 효율적이고 외관이 우수한 편광판을 제조하는 것이다.
본 발명의 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 포함하고, 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인 보호 필름의 상기 제1 주면을 표면 개질하는 것과, 기재와 표면 처리층을 포함하는 적층 필름의 상기 표면 처리층에, 상기 보호 필름의 상기 표면 개질면을 첩합하여 적층체를 얻는 것, 및 상기 적층체의 상기 기재 측에 편광자를 적층하는 것을 포함한다.

Description

편광판의 제조 방법{POLARIZATION PLATE PRODUCTION METHOD}
본 발명은 편광판의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치 및 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속히 보급되고 있다. 화상 표시 장치에 탑재되는 화상 표시 패널에는 일반적으로 편광판이 이용되고 있다. 대표적으로는, 편광판과 위상차판을 일체화한 위상차층 부착 편광판이 널리 이용되고 있다(예컨대, 특허문헌 1).
상기 편광판은 대표적으로는 편광 기능을 갖는 편광자와, 이를 보호하는 부재를 적층함으로써 얻을 수 있지만, 이 적층을 양호하게 행하여 편광판의 제조 효율을 향상시키는 것이 요망되고 있다. 또한, 외관이 우수한 편광판을 제조하는 것이 요망되고 있다.
일본 특허공보 제3325560호
상기를 감안하여, 본 발명의 주된 목적은 효율적이고 외관이 우수한 편광판을 제조하는 것에 있다.
본 발명의 실시형태에 따르면, 편광판의 제조 방법이 제공된다. 이 제조 방법은, 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 포함하고, 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인 보호 필름의 상기 제1 주면을 표면 개질 하는 것, 기재와 표면 처리층을 포함하는 적층 필름의 상기 표면 처리층에, 상기 보호 필름의 상기 표면 개질면을 첩합하여 적층체를 얻는 것, 및 상기 적층체의 상기 기재 측에 편광자를 적층하는 것을 포함한다.
하나의 실시형태에서는, 상기 표면 개질은 코로나 처리 또는 플라즈마 처리 중 적어도 하나에 의해 행하여진다.
하나의 실시형태에서는, 상기 표면 개질에 의해 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra를 0.1㎛∼0.4㎛ 감소시킨다.
하나의 실시형태에서는, 상기 표면 개질 후의 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra는 0.15㎛ 이하이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 표면 개질은 코로나 처리에 의해 행하여지고, 상기 코로나 처리의 처리 강도는 10W·min/㎡ 이상, 50W·min/㎡ 이하이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 적층체와 상기 편광자를 중첩시킨 후, 상기 적층체와 상기 편광자를 한 쌍의 가압 부재 사이에 끼워 가압한다.
하나의 실시형태에서는, 상기 보호 필름은 폴리올레핀 필름이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 표면 처리층은 불소 또는 규소 중 적어도 하나를 포함한다.
하나의 실시형태에서는, 상기 적층 필름의 상기 표면 처리층 측의 반사율은 3% 이하이다.
본 발명의 실시형태에 따르면, 효율적이고 외관이 우수한 편광판을 제조할 수 있다.
도 1a는 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 제조 공정 1을 나타내는 도이다.
도 1b는 상기 공정 1에 이어지는 공정 2를 나타내는 도이다.
도 1c는 상기 공정 2에 이어지는 공정 3을 나타내는 도이다.
도 2a는 실시예 1의 편광판의 관찰 사진이다.
도 2b는 비교예 2의 편광판의 관찰 사진이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로 한정되지 않는다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위하여, 실시의 형태에 비하여 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 나타내는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것은 아니다.
(용어 및 기호의 정의)
본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.
(1) 굴절률(nx, ny, nz)
'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축(遲相軸) 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축(進相軸) 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.
(2) 면내 위상차(Re)
'Re(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'는 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.
(3) 두께 방향의 위상차(Rth)
'Rth(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'는 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.
본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 포함하는 보호 필름의 제1 주면을 표면 개질하는 것(표면 개질 공정, 공정 1)과, 기재와 표면 처리층을 포함하는 적층 필름의 표면 처리층에 보호 필름의 표면 개질면을 첩합하여 적층체를 얻는 것(첩착 공정, 공정 2)과, 적층체의 기재 측에 편광자를 적층하는 것(적층 공정, 공정 3)을 포함한다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법의 공정을 나타내는 도이다.
도 1a에 나타내는 공정 1에서는, 서로 대향하는 제1 주면(10a) 및 제2 주면(10b)을 포함하는 보호 필름(10)의 제1 주면(10a)에 대하여 표면 개질을 행하고 있다. 보호 필름(10)은 대표적으로는 장척(長尺)상으로 되어 롤 형상으로 권회 가능하다. 여기에서, '장척상'이란, 폭에 대하여 길이가 충분히 긴 세장(細長) 형상을 말하며, 예컨대 폭에 대하여 길이가 10배 이상, 바람직하게는 20배 이상의 세장 형상을 말한다.
공정 2에서는, 제1 주면(10a)이 표면 개질된 보호 필름(10)을, 기재(21)와 표면 처리층(22)을 포함하는 적층 필름(20)의 표면 처리층(22)에 첩합하고, 도 1b는 적층체(90)가 완성된 상태를 나타내고 있다. 도시한 바와 같이, 보호 필름(10)의 제1 주면(10a)을 표면 처리층(22)에 첩합하고 있다. 보호 필름(10)과 적층 필름(20)의 적층은, 예컨대 이들을 롤 반송하면서(이른바 롤 투 롤에 의해) 행하여진다. 표면 개질된 보호 필름을 이용함으로써, 적층 필름과의 밀착성이 우수한 적층체를 얻을 수 있다. 밀착성이 우수한 적층체는, 이후의 공정에서 적층 필름으로부터의 보호 필름의 박리가 억제되어, 제조 효율의 향상에 기여할 수 있다.
대표적으로는, 상기 표면 개질에 의해 상기 제1 주면의 표면 에너지를 상승시킨다. 표면 개질은 예컨대 코로나 처리, 플라즈마 처리에 의해 행하여진다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.
바람직하게는 코로나 처리가 채용된다. 코로나 처리는 예컨대 유전체와 절연된 전극 사이에 고주파로 고전압을 걸어서 코로나를 발생시키고, 유전체와 전극 사이에 보호 필름을 배치시킴으로써 행한다. 전극과 보호 필름의 거리는 예컨대 1.5mm∼2.5mm이다. 하나의 실시형태에서는, 보호 필름을 반송시키면서 코로나 처리를 실시한다. 구체적으로는, 장척상의 보호 필름의 장척 방향으로 반송시키면서 코로나 처리를 실시한다. 보호 필름의 반송 속도는, 예컨대 10m/min∼20m/min이다. 전극 폭(처리 폭)은, 예컨대 1.3m∼1.5m이다. 코로나 출력은 예컨대 0.5kW∼1.0kW이다. 하기 식으로부터 구할 수 있는 처리 강도는, 예컨대 10W·min/㎡ 이상이고, 바람직하게는 15W·min/㎡ 이상이며, 보다 바람직하게는 20W·min/㎡ 이상이다. 이와 같은 처리 강도에 의하면, 적층 필름에 대하여 우수한 밀착성을 얻을 수 있다. 한편, 하기 식으로부터 구할 수 있는 처리 강도는, 예컨대 50W·min/㎡ 이하이고, 바람직하게는 45W·min/㎡ 이하이며, 보다 바람직하게는 40W·min/㎡ 이하이다. 이와 같은 처리 강도에 의하면, 코로나 처리에 의해 보호 필름에 굴곡이 생기는 등의 문제가 억제될 수 있다.
처리 강도=코로나 출력/보호 필름의 반송 속도×전극 폭
상기 보호 필름으로서는, 바람직하게는 폴리올레핀 필름이 이용된다. 구체적으로는, 보호 필름은 바람직하게는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 혼합물로 구성된다. 여기에서, 폴리에틸렌에는 에틸렌의 호모폴리머 및 에틸렌과 다른 올레핀의 공중합체가 포함된다. 폴리프로필렌에는 프로필렌의 호모폴리머 및 프로필렌과 다른 올레핀의 공중합체가 포함된다.
상기 폴리에틸렌의 구체예로서는, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선 형상 저밀도 폴리에틸렌(L-LDPE)을 들 수 있다.
상기 다른 올레핀으로서는, 예컨대 에틸렌, 프로필렌, 부텐, 펜텐, 헥센, 헵텐, 옥텐, 노넨, 데센을 들 수 있다. 이들 중에서도 에틸렌, 프로필렌, 부텐이 바람직하게 이용된다. 에틸렌 또는 프로필렌과 다른 올레핀의 공중합체의 제작에 있어서, 다른 올레핀의 배합 비율은, 에틸렌 또는 프로필렌과 다른 올레핀의 합계 100중량부에 대하여 40중량부 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30중량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 20중량부 이하이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 폴리올레핀 필름은 폴리에틸렌을 포함하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 폴리올레핀 필름은 바람직하게는 폴리에틸렌 필름 또는 폴리에틸렌과 폴리프로필렌의 혼합물 필름이다. 폴리올레핀 필름이 폴리에틸렌과 폴리프로필렌의 혼합물을 포함하는 경우, 폴리에틸렌의 함유 비율은 폴리에틸렌과 폴리프로필렌의 합계 100중량부에 대하여 60중량부 이상 97중량부 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70중량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 80중량부 이상이다.
보호 필름(폴리올레핀 필름)은 입자, 안료, 착색제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 열 안정제, 염소 포획제 등의 다른 성분을 포함할 수 있다.
보호 필름(폴리올레핀 필름)은, 조성이 균일한 단일층이어도 되고, 조성이 상이한 2층 이상의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 적층 구조의 구체예로서는, 조성이 상이한 제1층과 제2층의 2층 구조, 제1층과 제2층과 제3층의 3층 구조를 들 수 있다. 또한, 제1층과 제3층은, 조성이 실질적으로 동일하여도 되고, 상이하여도 된다. 또한, 보호 필름(폴리올레핀 필름)은 무연신 필름이어도 되고, 연신 필름이어도 되지만, 무연신 필름인 것이 바람직하다.
보호 필름의 두께는, 예컨대 20㎛∼150㎛이고, 바람직하게는 30㎛∼100㎛이며, 보다 바람직하게는 40㎛∼80㎛이다.
표면 개질 전의 보호 필름의 제1 주면의 표면 조도 Ra는 0.5㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.4㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.3㎛ 이하이다. 이와 같은 보호 필름을 이용함으로써, 외관이 우수한 편광판을 얻을 수 있다. 한편, 표면 개질 전의 보호 필름의 제1 주면의 표면 조도 Ra는 예컨대 0.2㎛ 이상이다.
표면 개질에 의해, 보호 필름의 제1 주면의 표면 조도 Ra를 0.1㎛∼0.4㎛ 감소시키는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.15㎛∼0.25㎛ 감소시킨다.
표면 개질 후의 보호 필름의 제1 주면의 표면 조도 Ra는, 바람직하게는 0.15㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.05㎛ 이하이다. 한편, 표면 개질 처리 후의 보호 필름의 제1 주면의 표면 조도 Ra는, 예컨대 0.01㎛ 이상이다.
도시하지 않지만, 후술하는 공정 3 전에, 적층체(90)는 물을 이용한 처리에 제공되어도 된다. 구체적으로는, 적층체(90)는 물을 포함하는 처리욕에 침지되어도 된다. 하나의 실시형태에서는, 물을 이용한 처리에 의해 적층체(90)의 기재(21)는 화학적인 처리(예컨대, 비누화 처리)가 실시된다. 표면 개질된 보호 필름을 이용함으로써, 물을 이용한 처리에 제공된 경우에도, 적층체에서 박리가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 물을 이용한 처리 후, 적층체(90)는 건조 처리에 제공되어도 된다.
공정 3에서는, 적층체(90)와 편광자(30)를 적층하고, 도 1c는 편광판(100)이 완성된 상태를 나타내고 있다. 적층체(90)(적층 필름(20))의 기재(21)는 편광자의 보호층으로서 기능할 수 있다. 도시예에서는, 적층체(90)와의 적층시에, 편광자(30)의 편측에는 보호층(40)이 적층되어 있다. 보호층(40)은 위상차층(예컨대, λ/4판)으로서 기능하여도 된다. 적층체(90)와 편광자(30)(편광자(30)와 보호층(40)의 적층물)의 적층은, 예컨대 이들을 롤 반송하면서(이른바 롤 투 롤에 의해) 행하여진다.
바람직하게는, 적층체(90)와 편광자(30)의 적층을 확실하게 하는 관점에서, 적층체(90)와 편광자(30)를 중첩시킨 후(도시예에서는, 적층체(90)와 편광자(30)와 보호층(40)을 중첩시킨 후), 이들을 한 쌍의 가압 부재 사이에 끼워(도 1c 중의 화살표 방향으로) 가압하는 것이 바람직하다. 가압 조건으로서는, 예컨대 0.2MPa∼0.4MPa이다. 가압 부재의 재질로서는, 예컨대 고무나 금속이 이용된다. 상기 소정의 표면 조도 Ra를 만족하는 보호 필름을 이용함으로써, 외관이 우수한 편광판을 얻을 수 있다. 구체적으로는, 표면 조도 Ra의 값이 큰(예컨대, 0.5㎛를 초과하는) 보호 필름을 이용하면, 적층체(90)와 편광자(30)의 적층시에, 보호 필름 표면의 요철 형상에 기인하여, 얻어지는 편광판에 불균일이 발생할 우려가 있다.
도시하지 않지만, 편광판(100)은 다른 부재를 포함하고 있어도 된다. 예컨대, 편광자(30)의 적층 필름(20)이 배치되지 않는 측에 배치되는 위상차층(예컨대, λ/4판)을 포함하고 있어도 된다. 구체적으로는, 적층체(90)와 편광자(30)(편광자(30)와 보호층(40)의 적층물)의 적층 후에, 추가로 위상차층을 적층하여도 된다.
상기 각 부재는 임의의 적절한 접착층을 개재하여 적층될 수 있다. 접착층의 구체예로서는, 접착제층, 점착제층을 들 수 있다. 예컨대, 편광자와 보호층은 접착제층을 개재하여 첩합된다. 구체적으로는, 편광자와 보호층은 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여 첩합된다. 활성 에너지선 경화형 접착제의 경화 후의 두께(접착제층의 두께)는, 예컨대 0.2㎛∼3.0㎛이고, 바람직하게는 0.4㎛∼2.0㎛이며, 보다 바람직하게는 0.6㎛∼1.5㎛이다.
보호 필름(10)은 적층 필름(20)에 대하여 박리 가능하게 첩합되어 있다. 보호 필름(10)은 본 발명의 실시형태에 의해 얻어지는 편광판이 사용에 제공될 때까지(예컨대, 화상 표시 패널에 적층될 때까지), 또는, 최종 제품(화상 표시 장치)의 제조 과정에서 박리되어도 되고, 최종 제품에 그대로 탑재되어도 된다.
[편광자]
상기 편광자는 대표적으로는 이색성 물질(예컨대, 요오드)을 포함하는 수지 필름이다. 수지 필름으로서는, 예컨대 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름을 들 수 있다.
편광자의 두께는 바람직하게는 18㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 12㎛ 이하이다. 한편, 편광자의 두께는 바람직하게는 1㎛ 이상이다.
편광자는 바람직하게는 파장 380nm∼780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예컨대 41.5%∼46.0%이고, 바람직하게는 42.0%∼46.0%이며, 보다 바람직하게는 44.5%∼46.0%이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.
편광자는 임의의 적절한 방법으로 제작할 수 있다. 구체적으로는, 편광자는 단층의 수지 필름으로 제작하여도 되고, 2층 이상의 적층체를 이용하여 제작하여도 된다.
상기 단층의 수지 필름으로부터 편광자를 제작하는 방법은, 대표적으로는 수지 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리와 연신 처리를 실시하는 것을 포함한다. 수지 필름으로서는, 예컨대 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름이 이용된다. 당해 방법은 불용화 처리, 팽윤 처리, 가교 처리 등을 더 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 제조 방법은 당업계에서 주지 관용이기 때문에 상세한 설명은 생략한다.
상기 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대 수지 기재와 수지 필름 또는 수지층(대표적으로는 PVA계 수지층)의 적층체를 이용하여 제작될 수 있다. 구체적으로는, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에, 할로겐화물과 PVA계 수지를 포함하는 PVA계 수지층을 형성한다. 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 또한 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 적층체는, 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능하게 되어, 높은 광학 특성을 달성할 수 있다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성할 수 있다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에 있어서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비하여, PVA 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있어, 높은 광학 특성을 달성할 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 높은 광학 특성을 달성할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리한 박리면에, 또는, 박리면과는 반대 측의 면에 보호층을 적층하여 편광판이 얻어질 수 있다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호, 일본 특허 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.
[보호층]
상기 보호층은 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성될 수 있다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨 등의 시클로올레핀계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 수지를 들 수 있다.
보호층의 두께는 바람직하게는 5㎛∼80㎛이고, 보다 바람직하게는 10㎛∼40㎛이며, 더욱 바람직하게는 15㎛∼35㎛이다.
편광자(30)의 적층 필름(20)이 배치되지 않는 측에 배치되는 보호층(40)은, 하나의 실시형태에서는, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에서 '광학적으로 등방성이다'란, 면내 위상차 Re(550)가 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10nm∼+10nm인 것을 말한다.
[적층 필름]
상기 적층 필름은 기재와 기재 위에 형성된 표면 처리층을 포함한다. 기재는 편광자의 보호층으로서 기능할 수 있고, 그의 상세는 상술한 바와 같다. 본 발명 의 실시형태에 의해 얻어지는 편광판은 대표적으로는 화상 표시 장치의 시인 측에 배치되고, 적층 필름은 시인 측에 배치된다. 하나의 실시형태에서는, 적층 필름의 표면 처리층은 화상 표시 장치의 최표면에 위치한다. 따라서, 기재(시인 측의 보호층)에는, 하드 코트(HC) 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 방현(안티글레어) 처리, 방오 처리 등의 표면 처리층이 형성되어 있는 것이 바람직하다.
하나의 실시형태에서는, 표면 처리층은 방현 기능 및 반사 방지 기능을 갖는다. 구체적으로는, 표면 처리층은 방현층 및 반사 방지층을 기재 측으로부터 이 순서대로 포함한다. 방현층은 대표적으로는 수지 및 필러를 포함한다. 구체적으로는, 수지 중에 필러를 함유시켜, 얻어지는 층(방현층)의 표면에 미세한 요철 형상을 생기게 함으로써 방현성을 얻을 수 있다. 방현층을 마련함으로써, 예컨대, 화상 표시 장치 표면에서, 형광등이나 태양광 등의 외광을 산란시켜, 상의 비침을 억제하고, 콘트라스트의 저하를 방지할 수 있다. 반사 방지층은 방현층 표면의 반사를 저감시킬 수 있다. 적층 필름의 표면 처리층 측의 반사율은 3% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1% 이하이다.
상기 반사 방지층은, 예컨대 상기 방현층 위에 반사 방지층 형성용 도공액을 도공하여 얻어지는 도막을 건조, 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 반사 방지층 형성용 도공액은, 예컨대 수지 성분(경화성 화합물), 불소 함유 첨가제, 중공 입자, 중실 입자 및 용매 등을 포함하고 있어도 되고, 예컨대 이들을 혼합하여 얻을 수 있다.
반사 방지층 형성용 도공액에 포함되는 수지 성분(경화성 화합물)의 경화 메커니즘으로서는, 예컨대 열경화형, 광경화형을 들 수 있다. 수지 성분으로서는, 예컨대, 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기 중 적어도 한쪽의 기를 갖는 경화성 화합물이 이용되고, 예컨대 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 아크릴레이트나 메타크릴레이트 등의 올리고머 또는 프레폴리머 등을 들 수 있다. 이들은 1종류를 단독으로 이용하여도 되고, 2종류 이상을 병용하여도 된다.
상기 수지 성분에는, 예컨대 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기 중 적어도 한쪽의 기를 갖는 반응성 희석제를 이용할 수도 있다. 반응성 희석제는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2008-88309호에 기재된 반응성 희석제를 이용할 수 있고, 예컨대, 단관능 아크릴레이트, 단관능 메타크릴레이트, 다관능 아크릴레이트, 다관능 메타크릴레이트 등을 포함한다. 반응성 희석제로서는, 우수한 경도를 얻는 관점에서, 3관능 이상의 아크릴레이트, 3관능 이상의 메타크릴레이트가 바람직하게 이용된다. 반응성 희석제로서는, 예컨대, 부탄디올글리세린에테르디아크릴레이트, 이소시아누르산의 아크릴레이트, 이소시아누르산의 메타크릴레이트 등도 들 수 있다. 이들은 1종류를 단독으로 이용하여도 되고, 2종류 이상을 병용하여도 된다. 상기 수지 성분의 경화를 위하여, 예컨대 경화제를 이용하여도 된다. 경화제로서는, 예컨대, 공지의 중합 개시제(예컨대, 열중합 개시제, 광중합 개시제 등)를 이용할 수 있다.
상기 불소 함유 첨가제는, 예컨대 불소를 포함하는 유기 화합물이어도 되고, 불소를 포함하는 무기 화합물이어도 된다. 불소를 포함하는 유기 화합물로서는, 예컨대 불소 함유 방오 코팅제, 불소 함유 아크릴 화합물, 불소·규소 함유 아크릴 화합물을 들 수 있다. 불소를 포함하는 유기 화합물로서는 시판품을 이용할 수 있다. 시판품의 구체예로서는, 신에츠화학공업주식회사 제조의 상품명 'KY-1203', 디아이씨(DIC)주식회사 제조의 상품명 '메가팩' 등을 들 수 있다. 불소 함유 첨가제의 함유량은, 상기 수지 성분 100중량부에 대하여, 예컨대, 0.05중량부 이상, 0.1중량부 이상, 0.15중량부 이상, 0.20중량부 이상, 또는 0.25중량부 이상이어도 되고, 20중량부 이하, 15중량부 이하, 10중량부 이하, 5중량부 이하, 또는 3중량부 이하이어도 된다.
상기 중공 입자로서는, 예컨대 실리카 입자, 아크릴 입자, 아크릴-스티렌 공중합 입자가 이용된다. 중공 실리카 입자는, 시판품(예컨대, 닛키촉매화성공업주식회사 제조의 상품명 '스루리아 5320', '스루리아 4320')을 이용할 수 있다. 중공 입자의 중량 평균 입자경은, 예컨대 30nm 이상, 40nm 이상, 50nm 이상, 60nm 이상, 또는 70nm 이상이어도 되고, 150nm 이하, 140nm 이하, 130nm 이하, 120nm 이하, 또는 110nm 이하이어도 된다. 중공 입자의 형상은 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 대략 구형이다. 구체적으로는, 중공 입자의 애스펙트 비는 바람직하게는 1.5 이하이다. 중공 입자의 함유량은, 상기 수지 성분 100중량부에 대하여, 예컨대 30중량부 이상, 50중량부 이상, 70중량부 이상, 90중량부 이상, 또는 100중량부 이상이어도 되고, 300중량부 이하, 270중량부 이하, 250중량부 이하, 200중량부 이하, 또는 180중량부 이하이어도 된다.
상기 중실 입자로서는, 예컨대 실리카 입자, 지르코니아 입자, 티타니아 입자가 이용된다. 중실 실리카 입자는 시판품(예컨대, 닛산화학공업주식회사 제조의 상품명 'MEK-2140Z-AC', 'MIBK-ST', 'IPA-ST')을 이용할 수 있다. 중실 입자의 중량 평균 입자경은, 예컨대 5㎚ 이상, 10㎚ 이상, 15㎚ 이상, 20㎚ 이상, 또는 25㎚ 이상이어도 되고, 330㎚ 이하, 250㎚ 이하, 200㎚ 이하, 150㎚ 이하, 또는 100㎚ 이하이어도 된다. 중공 입자의 형상은 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 대략 구형이다. 구체적으로, 중공 입자의 애스펙트 비는 바람직하게는 1.5 이하이다. 중실 입자의 함유량은, 상기 수지 성분 100중량부에 대하여, 예컨대 5중량부 이상, 10중량부 이상, 15중량부 이상, 20중량부 이상, 또는 25중량부 이상이어도 되고, 150중량부 이하, 120중량부 이하, 100중량부 이하, 또는 80중량부 이하이어도 된다.
상기 용매로서는, 임의의 적절한 용매를 이용할 수 있다. 용매로서는, 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, TBA(터셔리부틸알코올), 2-메톡시에탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, MIBK(메틸이소부틸케톤), 시클로펜타논 등의 케톤류; 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, PMA(프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트) 등의 에스테르류; 디이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류를 들 수 있다. 이들은 1종류를 단독으로 이용하여도 되고, 2종류 이상을 병용하여도 된다. 용매의 함유량은, 예컨대 상기 반사 방지층 형성용 도공액 전체의 중량에 대한 고형분의 중량이, 예컨대 0.1중량% 이상, 0.3중량% 이상, 0.5중량% 이상, 1.0중량% 이상, 또는 1.5중량% 이상이 되도록 하여도 되고, 20중량% 이하, 15중량% 이하, 10중량% 이하, 5중량% 이하, 또는 3중량% 이하가 되도록 하여도 된다.
상기 반사 방지층 형성용 도공액의 도공 방법으로서는, 예컨대, 파운틴 코트법, 다이 코트법, 스핀 코트법, 스프레이 코트법, 그라비아 코트법, 롤 코트법, 바 코트법 등의 공지의 도공 방법을 이용할 수 있다. 상기 도막의 건조 온도는, 예컨대 30℃∼200℃이고, 건조 시간은 예컨대 30초∼90초이다. 상기 도막의 경화는, 예컨대 가열, 광 조사(대표적으로는 자외선 조사)에 의해 행할 수 있다. 광 조사의 광원으로서는, 예컨대 고압 수은 램프가 이용된다. 자외선 조사의 조사량은, 자외선 파장 365nm에서의 적산 노광량으로서, 50mJ/㎠∼500mJ/㎠인 것이 바람직하다.
바람직하게는, 상기 표면 처리층은 방오성을 가질 수 있다. 구체적으로는, 표면 처리층은 불소 또는 규소 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 한편, 이와 같은 표면 처리층은, 상기 보호 필름과의 밀착성을 저하시킬 수 있다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 이와 같은 표면 처리층(적층 필름)에 대해서도, 소정의 보호 필름을 표면 개질함으로써 밀착성이 우수한 적층체를 얻을 수 있고, 게다가 외관이 우수한 편광판을 제공할 수 있다.
표면 처리층의 두께는 예컨대 1㎛∼20㎛이고, 바람직하게는 2㎛∼15㎛이며, 보다 바람직하게는 3㎛∼10㎛이다.
표면 처리층(적층 필름)의 표면의 접촉각은, 예컨대 90° 이상 125° 이하이다. 또한, 적층 필름(표면 처리층)의 표면 조도 Ra는, 예컨대 0.01㎛ 이상 0.3㎛ 이하이다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 두께, 표면 조도 Ra 및 반사율은 하기의 측정 방법에 의해 측정한 값이다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예 및 비교예에서의 '부' 및 '%'는 중량 기준이다.
<두께>
10㎛ 이하의 두께는 주사형 전자 현미경(니혼덴시사 제조, 제품명 'JSM-7100F')을 이용하여 측정하였다. 10㎛를 초과하는 두께는 디지털마이크로미터(안리츠사 제조, 제품명 'KC-351C')를 이용하여 측정하였다.
<표면 조도 Ra>
JIS B 0601(1994년도판)에 따라 산술 평균 표면 조도 Ra(㎛)를 측정하였다. 구체적으로는, 유리판(마츠나미(MATSUNAMI)사 제조, MICRO SLIDE GLASS, 품번 S, 두께 1.3mm, 45mm×50mm)에 측정 대상을 점착제로 첩합하여 측정용 시료를 제작하였다. 다음으로, 선단부(다이아몬드)의 곡률 반경 R이 2㎛의 측정침을 갖는 촉침식 표면 조도 측정기(주식회사코사카연구소 제조, 고정밀도 미세 형상 측정기, 상품명 '서프 코더 ET4000')를 이용하여, 주사 속도 1㎜/초, 컷 오프 값 0.8㎜, 측정 길이 12㎜의 조건에서, 얻어진 측정용 시료의 최표면의 요철 형상을 일정 방향으로 측정하였다. 이 측정에 기초하여 산술 평균 표면 조도 Ra를 산출하였다. 또한, 상기 고정밀도 미세 형상 측정기는 측정값을 자동적으로 산출한다.
<반사율>
자외가시적외 분광광도계(히타치하이테크사이언스, 제품명 'U-4100')를 이용하여 측정하였다. 적층 필름의 표면 처리층 측의 반사율의 측정에 있어서, 적층 필름을 흑색의 아크릴판에 점착제로 첩합하여 측정용 시료로 하였다.
<접촉각>
적층 필름의 표면 처리층 측의 수(水) 접촉각을 측정하였다. 구체적으로는, 23℃, 50% RH의 환경하에서, 접촉각계(쿄와계면과학사 제조, 상품명 'DMo-501형', 컨트롤 박스 'DMC-2', 제어·해석 소프트 'FAMAS(버전 5.0.30)')를 이용하여 액적법에 의해 측정하였다. 증류수의 적하량은 2μL로 하고, 적하 5초 후의 화상으로부터 θ/2법에 의해 접촉각을 산출하였다.
[실시예 1]
(편광자의 제작)
두께 30㎛의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름(쿠라레 제조, 제품명 'PE3000')의 장척 롤을, 롤 연신기에 의해 긴 방향으로 5.9배가 되도록 긴 방향으로 1축 연신하면서 동시에 팽윤, 염색, 가교, 세정 처리를 이 순서대로 실시한 후, 마지막으로 건조 처리를 실시함으로써, 두께 12㎛의 편광자를 제작하였다.
상기 팽윤 처리는 20℃의 순수로 처리하면서 2.2배로 연신하였다. 이어서, 염색 처리는 얻어지는 편광자의 단체 투과율이 45.0%가 되도록 요오드 농도가 조정된 요오드와 요오드화칼륨의 중량비가 1:7인 30℃의 수용액 중에서 처리하면서 1.4배로 연신하였다. 이어서, 가교 처리는 2단계의 가교 처리를 채용하고, 1단계째의 가교 처리는 40℃의 붕산과 요오드화칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.2배로 연신하였다. 1단계째의 가교 처리의 수용액의 붕산 함유량은 5.0중량%로, 요오드화칼륨 함유량은 3.0중량%로 하였다. 2단계째의 가교 처리는 65℃의 붕산과 요오드화칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.6배로 연신하였다. 2단계째의 가교 처리의 수용액의 붕산 함유량은 4.3중량%로, 요오드화칼륨 함유량은 5.0중량%로 하였다. 이어서 세정 처리는, 20℃의 요오드화 칼륨 수용액에서 처리하였다. 세정 처리의 수용액의 요오드화칼륨 함유량은 2.6중량%로 하였다. 마지막으로, 70℃에서 5분간 건조 처리하여 편광자를 얻었다.
(적층물 A의 제작)
얻어진 편광자의 편측에 자외선 경화형 접착제를 개재하여 두께 25㎛의 TAC 필름을 첩합하고 적층물 A를 얻었다.
(적층체 B의 제작)
폴리에틸렌계 보호 필름(도레이필름가공주식회사 제조, '트레텍(등록상표) 7832C', 두께: 50㎛, 첩착면의 Ra: 0.23㎛)의 첩착면에 코로나 처리 강도 24W·min/㎡의 조건에서 코로나 처리를 실시한 후, 이 첩착면을 표면 처리층이 형성된 TAC 필름(두께 32㎛)의 표면 처리층 측에 첩합하여 적층체 B를 얻었다. 또한, 표면 처리층이 형성된 TAC 필름은, TAC 필름(두께 25㎛)에 표면 처리층(두께: 7㎛, 반사율: 1.4%, Ra: 0.06㎛, 접촉각: 100°)이 형성된 필름이고, 표면 처리층은 하기에 나타내는 순서에 의해 형성하였다. 또한, 코로나 처리 후의 보호 필름의 첩착면의 Ra는 0.03㎛이었다.
(표면 처리층의 형성)
1. 방현층의 형성
자외선 경화형 우레탄아크릴레이트 수지(일본합성화학공업(주) 제조, 상품명 'UV1700TL', 고형분 80%) 50중량부, 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 주성분으로 하는 다관능 아크릴레이트(오사카유기화학공업(주) 제조, 상품명 '비스코트 #300', 고형분 100%) 50중량부의 혼합물을 준비하였다. 혼합물의 수지 고형분 100중량부에 대하여, 가교 폴리메타크릴산메틸 입자(세키스이화성품공업(주) 제조, 상품명 '테크폴리머', 중량 평균 입경: 3㎛, 굴절률: 1.525)를 4중량부, 유기 점토(틱소트로피 부여제)인 합성 스멕타이트(코프케미컬(주) 제조, 상품명 '루센타이트 SAN')를 1.5중량부, 광중합 개시제(바스프(BASF)사 제조, 상품명 'OMNIRAD 907')를 3중량부, 레벨링제(쿄에이샤화학(주) 제조, 상품명 'LE303', 고형분 40%)를 0.15중량부 혼합하였다. 여기에서, 유기 점토는 톨루엔으로 고형분이 6%가 되도록 희석하여 이용하였다.
얻어진 혼합물을 고형분 농도가 40중량%가 되도록 톨루엔/초산에틸/시클로 펜타논(CPN) 혼합 용매(중량비 35/41/24)로 희석하여 방현층 형성 재료(도공액)를 조제하였다.
얻어진 방현층 형성용 재료(도공액)를 TAC 필름(두께 25㎛, 후지필름주식회사, 상품명 'TJ25UL') 위에 도공하였다. 그 후, 고압 수은 램프에 의해, 파장 365nm의 자외선을 적산 광량 300mJ/㎠가 되도록 도공막에 조사하고, 또한, 80℃에서 60초간 가열하여 건조시켜, 두께 7㎛의 방현층을 형성하였다.
2. 반사 방지층의 형성
펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 주성분으로 하는 다관능 아크릴레이트(오사카유기화학공업주식회사 제조, 상품명 '비스코트 #300', 고형분 100중량%) 100중량부, 중공 나노실리카 입자(닛키촉매화성공업주식회사 제조, 상품명 '스루리아 5320', 고형분 20중량%, 중량 평균 입자경 75nm) 100중량부, 중실 나노실리카 입자(닛산화학공업주식회사 제조, 상품명 'MEK-2140Z-AC', 고형분 30중량%, 중량 평균 입자경 10nm), 불소 함유 첨가제(신에츠화학공업주식회사 제조, 상품명 'KY-1203', 고형분 20중량%) 12중량부, 및 광중합 개시제(바스프사 제조, 상품명 'OMNIRAD 907', 고형분 100중량%) 3중량부를 혼합하였다. 그 혼합물에 용매로서 TBA, MIBK 및 PMA를 60:25:15 중량비로 혼합한 혼합 용매를 첨가하여 전체의 고형분이 4중량%가 되도록 하고, 교반하여 반사 방지층 형성용 도공액을 조제하였다.
얻어진 반사 방지층 형성용 도공액을, 상기 방현층 위에 와이어 바로 도공하였다. 도공한 도공액을 80℃에서 1분간 가열하고, 건조시켜 도막을 형성하였다. 얻어진 도막에, 고압 수은 램프로 적산 광량 300mJ/㎠의 자외선을 조사하여 경화 처리를 실시하고, 두께 0.1㎛의 반사 방지층을 형성하였다.
이와 같이 하여 표면 처리층을 형성하였다.
(편광판의 제작)
적층물 A의 편광자와 적층체 B의 TAC 필름이 대향하도록, 적층물 A와 적층체 B를 자외선 경화형 접착제를 개재하여 첩합하여 편광판을 얻었다. 적층물 A와 적층체 B의 첩합시에, 한 쌍의 가압 부재 사이에 적층물 A 및 적층체 B를 끼워 0.3MPa의 조건에서 가압하였다.
또한, 상기 각각의 첩합은 롤 반송하면서 행하였다.
[실시예 2]
보호 필름의 코로나 처리 강도를 36W·min/㎡로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판을 얻었다.
[실시예 3]
보호 필름의 코로나 처리 강도를 48W·min/㎡로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판을 얻었다.
[비교예 1]
보호 필름에 코로나 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판을 얻었다.
[비교예 2]
보호 필름으로서 폴리에틸렌계 보호 필름(도레이필름가공주식회사 제조, '트레텍(등록상표) R304C', 두께: 30㎛, 첩착면의 Ra: 0.72㎛)을 이용한 것, 및 보호 필름에 코로나 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판을 얻었다.
실시예 및 비교예에 대해서 하기의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1에 정리한다.
<평가>
1. 밀착력
얻어진 적층체 B로부터 폭 50mm, 길이 100mm의 사이즈로 절취한 샘플을, 만능 인장 시험기에서 박리 속도 300mm/분, 박리 각도 180°로 긴 방향으로 박리하였을 때의 박리력(N/50mm)을 측정하였다. 구체적으로는, 표면 처리층에 대한 보호 필름의 박리력을 측정하였다. 또한, 측정은 23℃, 50% RH의 환경하에서 행하였다.
2. 외관
얻어진 편광판의 외관을 육안으로 관찰하고, 불균일의 발생의 유무를 확인함으로써 평가하였다. 구체적으로는, 각 실시예 및 비교예에서 편광판을 2매 준비하고, 이들을 60℃, 90% RH 환경하에서 120시간 정치(靜置)한 후, 각각의 편광자의 흡수축이 직교하도록 중첩되게 하여 이 상태를 백라이트 위에서 관찰하였다.
3. 반송성
편광판이 얻어질 때까지의 필름의 반송성을 평가하였다.
[표 1]
Figure pat00001
실시예에서는, 우수한 밀착력을 얻을 수 있었다. 또한, 실시예 3에서는 코로나 처리에 의해 보호 필름에 굴곡이 생겨 롤 반송 불량이 일어나, 표면 처리층이 형성된 TAC 필름과의 적층을 양호하게 행할 수 없어, 밀착력을 평가할 수 없었다.
도 2a에 나타내는 바와 같이 실시예에서는 불균일은 확인되지 않고 우수한 외관을 얻을 수 있지만, 비교예 2에서는 도 2b에 나타내는 바와 같이 불균일(반점)이 확인된다.
본 발명의 실시형태에 의해 얻어지는 편광판은 화상 표시 장치의 편광판으로서 적합하게 이용될 수 있다. 화상 표시 장치로서는, 대표적으로는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치를 들 수 있다.
10: 보호 필름
20: 적층 필름
21: 기재(보호층)
22: 표면 처리층
30: 편광자
40: 보호층
100: 편광판

Claims (9)

  1. 서로 대향하는 제1 주면 및 제2 주면을 포함하고, 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra가 0.5㎛ 이하인 보호 필름의 상기 제1 주면을 표면 개질하는 것,
    기재와 표면 처리층을 포함하는 적층 필름의 상기 표면 처리층에, 상기 보호 필름의 상기 표면 개질면을 첩합하여 적층체를 얻는 것, 및
    상기 적층체의 상기 기재 측에 편광자를 적층하는 것을 포함하는,
    편광판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 표면 개질은 코로나 처리 또는 플라즈마 처리 중 적어도 하나에 의해 행하여지는, 편광판의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 표면 개질에 의해, 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra를 0.1㎛∼0.4㎛ 감소시키는, 편광판의 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 표면 개질 후의 상기 제1 주면의 표면 조도 Ra는 0.15㎛ 이하인, 편광판의 제조 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 표면 개질은 코로나 처리에 의해 행하여지고, 상기 코로나 처리의 처리 강도는 10W·min/㎡ 이상, 50W·min/㎡ 이하인, 편광판의 제조 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 적층체와 상기 편광자를 중첩시킨 후, 상기 적층체와 상기 편광자를 한 쌍의 가압 부재 사이에 끼워 가압하는, 편광판의 제조 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 보호 필름은 폴리올레핀 필름인, 편광판의 제조 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 표면 처리층은 불소 또는 규소 중 적어도 하나를 포함하는, 편광판의 제조 방법.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 적층 필름의 상기 표면 처리층 측의 반사율은 3% 이하인, 편광판의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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