KR20220170208A - 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시예에 의하면, 초고해상도 OLED 디스플레이를 위한 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크를 제공하는 데 있다. 이를 위해 특히 본 발명의 일 실시예는, 복수의 제1 개구부가 형성된 제1 층과, 제1 층 상부에 위치하고 복수의 제1 개구부에 대응하는 복수의 제2 개구부가 형성된 제2 층과, 제1, 2 층의 테두리를 따라 위치하는 비금속 소재로 형성된 프레임을 포함하고, 제2 개구부의 홀 폭은 제1 개구부의 홀 폭보다 크고, 제1, 2 층 각각의 두께는 1 ㎛ ~ 5 ㎛ 이며, 그리고 제1 층의 두께는, 제1 개구부의 상면 홀 폭과 제1 개구부의 저면 홀 폭의 제1 차이 값의 3 ~ 30 배로 형성되고, 제2 층의 두께는, 제2 개구부 상면 홀 폭과 제2 개구부 저면 홀 폭의 제2 차이 값의 1.8 ~ 3 배로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크를 포함한다.
Description
본 발명은 OLED, QD-LED, 기타 디스플레이 및 증착응용 제품에 사용되는 마스크에 관한 것이다.
다양한 형태의 디스플레이 장치가 있지만 최근에는 OLED(Organic Lighting Emitting Diode) 디스플레이 또는 유기 EL(Electro Luminescence) 디스플레이가 시장을 주도하고 있다.
진공 증착법을 통해 제조되는 OLED 디스플레이는, 대부분 금속 재질의 메탈 마스크(FMM, Fine Metal Mask)를 이용하여 제작된다. 특히 FMM은 내열특성을 갖는 합금 소재인 인바(Invar)를 이용하여 대면적 증착 마스크에 주로 이용된다. 이러한 종래 특허로는 대한민국 공개특허 제 10-2020-0034832호 "고해상도 FMM을 위한 FMM 프로세스" 등이 개시되어 있다.
그러나 디스플레이는 점점 고해상도를 구현하기 위해 더 높은 해상도의 증착마스크를 필요로 하는데 반하여, FMM의 경우 해상도를 더 높이는데 한계가 있으며 중량이 무겁다는 단점이 있다.
아울러 최근 고부가가치 산업으로 증강현실(AR) 또는 가상현실(VR)에 대한 수요가 급증할 것으로 전망되고 있으며, 이에 대비하기 위해서는 1000 ppi 이상의 초고해상도의 디스플레이를 구현할 수 있는 증착 마스크에 대한 필요성이 대두된다.
본 발명은 상기와 같은 필요성에 기하여 도출된 것으로서, 본 발명의 제1 목적은,(1) 대면적 디스플레이 (2) 초고해상도 OLED 디스플레이를 위한 "대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크"를 제공하는 데 있다.
본 발명의 제2 목적은, 다중박막을 사용하여, 기계적 성질, 열적성질 그리고 증착마스크에 필요한 여러 가지 특성을 구현하는 것이다. 다층 박막의 각각의 기능성을 부여하여 가벼우면서도 증착마스크에 필요한 요구특성을 구현한다. 특히, 열팽창계수 조절, 내열성 확보, 기계적 성질 확보, 경량 및 박막화를 통하여 정밀패턴(나노~마이크로)을 용이하게 제어하고 대면적 증착이 가능한 초고해상도 증착용 마스크를 제공하는 데 있다.
본 발명의 제3 목적은, ,(1) 대면적 디스플레이 (2) 초고해상도 OLED 디스플레이를 위한 Disposable 타입의 "대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크"를 제공하는 데 있다. 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크는 AR, VR용 웨이퍼 기반 마스크와 4G~10G의 OLED 및 QDOLED 증착공정용 마스크를 제공한다.
상기와 같은 본 발명의 목적은, 복수의 제1 개구부가 형성된 제1 층과, 제1 층 상부에 위치하고 복수의 제1 개구부에 대응하는 복수의 제2 개구부가 형성된 제2 층과, 제1, 2 층의 테두리를 따라 위치하는 금속 또는 비금속 소재로 형성된 프레임을 포함하고, 제2 개구부의 홀 폭은 제1 개구부의 홀 폭보다 크고, 제1, 2 층 각각의 두께는 0.5 ㎛ ~ 10 ㎛ 이며, 제1 층의 두께는, 제1 개구부의 상면 홀 폭과 제1 개구부의 저면 홀 폭의 제1 차이 값의 M 배로 형성되고, 그리고 제2 층의 두께는, 제2 개구부 상면 홀 폭과 제2 개구부 저면 홀 폭의 제2 차이 값의 N 배로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크를 제공함으로써 달성될 수 있다. 여기서 M은 1 이상 30 이하의 값이고, N은 M보다 작은 양의 값이다.
제1 층은, 기계적 강도가 구현된 골격층이고, 열팽창계수가 음수로 작용하는 소재이거나 또는 실리콘, 지르코니아, 타이타늄, SiC, SiN 및 CNT 중 적어도 하나를 포함하는 무기 소재로 형성될 수 있다. 박막 제1층은 포토리소그라피 공정이나 나노 임프린팅 공정을 활용하여 골격을 형성할 수도 있다.
그리고 제2 층은, 초고해상도 패터닝 특성을 갖는 유연층이고, 실록산 계열의 소재로 형성된 것일 수 있다.
또한 제1 층은 정전하 분포층이 형성된 것이고, 제1 층의 저면은 증착 대상 기판과 정전하 분포층에 기초한 정전기 인력에 의해 부착되는 것일 수 있다.
아울러 프레임은, 강화 글라스, 쿼츠 및 실리콘 웨이퍼 중 적어도 하나의 소재로 형성된 것일 수 있다.
초고해상도 증착용 마스크는, AR(Augmented Reality) 또는 VR(Virtual Reality) 용 OLED 디스플레이의 제조를 위한 증착용 마스크일 수 있다.
한편 본 발명의 목적은, 다른 카테고리로서, 스테이지에 골격층을 코팅하는 단계(S110); 나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 골격층 상부에 제2 개구부가 형성된 유연층을 적층하는 단계(S120); 유연층을 식각 마스크로 이용하여 골격층을 식각함으로써 골격층에 제1 개구부를 형성하는 식각단계(S130); 골격층 및 유연층의 테두리를 따라 프레임을 부착하는 단계(S140); 및 스테이지로부터 골격층, 유연층 및 프레임을 포함하는 증착용 마스크를 박리하는 단계(S150)를 포함하는 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크 제조방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.
또한 본 발명의 목적은, 스테이지에 제1 유연층과 제1 유연층 위에 골격층을 코팅하는 단계(S210); 나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 골격층 상부에 제4 개구부가 형성된 제2 유연층을 적층하는 단계(S220); 제2 유연층을 식각 마스크로 이용하여 제1 유연층 및 골격층을 식각함으로써 골격층에 제3 개구부를 형성하고 제1 유연층에 제5 개구부를 형성하는 식각단계(S230); 제1 유연층, 골격층 및 제2 유연층의 테두리를 따라 프레임을 부착하는 단계(S240); 및 스테이지로부터 제1 유연층, 골격층, 제2 유연층 및 프레임을 포함하는 증착용 마스크를 박리하는 단계(S250)를 포함하는 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크 제조방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 일 실시예에 의하면, 초고해상도 OLED 디스플레이를 위한 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크를 제공하는 데 있다.
기존의 FMM은 주로 모바일 디스플레이용 패널을 만든 반면, 대면적 TV나 모니터용 제품 생산에는 한계가 있었다. 본 발명인 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크의 일 실시예에 의하면, 모바일 제품, 중대형 모니터 그리고 TV에 이르기 까지 모든 대면적 제품에 유기물 및 무기물 증착이 가능하다. 또한, 대면적 기판 6GH, 6G~10G 또는 그 이상의 대면적 기판도 "대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크"를 사용하면 제조가 가능하다.
또한 FMM(500~600 ppi)을 사용시 해상도가 낮은 단점이 있어 증강현실(AR), 가상현실(VR) 등을 포함한 초고해상도 제품의 생산에 한계가 있어왔다. 그러나 본 발명인 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크의 일 실시예에 의하면, 초고해상도(500~3,500ppi)까지 모든 제품에 응용이 가능하고 최근 고부가가치 산업으로 대두되고 있는 증강현실(AR) 또는 가상현실(VR)에 필요한 OLED 디바이스를 제작할 수 있다.
아울러 기존의 FMM의 경우 해상도를 더 높이는데 한계가 있으며 중량이 무겁다는 단점이 있다. 그러나, “대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크”는 초경량 제품으로 증착 장비의 생산성이나 양산성이 증가한다.
도 1은 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 일 실시예의 평면을 나타낸 평면도이고,
도 2는 도 1에 도시된 일 실시예의 A-A 단면을 나타낸 단면도이고,
도 3은 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 다른 실시예의 단면을 나타낸 단면도이며,
도 4는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 일 실시예의 제조공정의 단면을 나타낸 도면이고,
도 5는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 다른 실시예의 제조공정의 단면을 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 일 실시예의 A-A 단면을 나타낸 단면도이고,
도 3은 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 다른 실시예의 단면을 나타낸 단면도이며,
도 4는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 일 실시예의 제조공정의 단면을 나타낸 도면이고,
도 5는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 다른 실시예의 제조공정의 단면을 나타낸 도면이다.
이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
아래 설명하는 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있다. 아래 설명하는 실시예들은 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 이들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고, 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
<이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크>
본 발명인 초고해상도 증착용 마스크의 일 실시예는, 유연층 이용하여 증착 홀을 패터닝하므로 1000 ppi 이상의 초고해상도를 구현할 수 있고, 동시에 증착 마스크의 제조공정이 용이해지고 저비용의 공정이 가능하게 한다. 또한 초고해상도 증착용 마스크의 일 실시예는, AR(Augmented Reality) 또는 VR(Virtual Reality) 용 OLED 디스플레이의 제조를 위한 증착용 마스크로 이용될 수 있다.
제1 실시예
이하 도 1 및 2를 참조하여 본 실시예인 초고해상도 증착용 마스크에 대하여 상술한다.
도 1은 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 일 실시예의 평면을 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 일 실시예의 A-A 단면을 나타낸 단면도이다. 본 실시예는, 도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 제1 층(10)과, 그 위의 제2 층(20)과, 제1, 2 층(10, 20)의 테두리를 따라 위치하는 프레임(30)을 포함하도록 구성된다.
제1 층(10)은 복수의 제1 개구부(112)가 형성되어 있고 증착 기판(도시되지 않음)에 대면하여 증착 가스가 선택적으로 제1 개구부(112)를 관통하여 증착되도록 한다. 여기서 제1 층(10)은 기계적 강도, 인열강도 및 내열성이 우수한 골격층을 형성한다. 또한 제1 층(10)은 감광성 폴리이미드(PSPI), 실록산 계열의 소재일 수 있다. 실록산 계열의 소재로서는 래더 타입(ladder type) 또는 케이지 타입(cage type) 또는 랜덤 타입(random type)의 폴리실세스퀴옥산(PSQ, Poly Silsequioxane)이 이용될 수 있다.
제2 층(20)은 제1 층(10) 상부에 위치하고 복수의 제1 개구부(112)에 대응하는 복수의 제2 개구부(122)가 형성되어 있다. 유기물이 증착되는 상황은, 제2 층(20) 방향에 유기물 소스(도시되지 않음)가 배치되고 제2 층(20)을 향하여 비산된다. 유기물 소스는 일반적으로 고진공 챔버에서 하부에서 상부를 향하여 방출되므로 증착 상황에서는 제2 층(20)이 하부를 향하지만 설명의 편의상 제1 층(10)은 하부에 제2 층(20)은 상부에 위치하는 것으로 표현하였다.
제1 층(10)은 골격층을 형성하여 하드한 특성이 있는 반면, 깨지기 쉬우므로 유연층으로 제2 층(20)을 상부에 적층하여 이를 보완한다. 제2 층(20)은, 제1 층(10)의 제1 개구부(112)를 통해 식각(dry etching)하여 제2 개구부(122)를 형성할 수 있다. 결국 제2 층(20)은 제조공정에서 제1 층의 제1 개구부(112) 식각을 위한 식각 마스크로도 이용된다.
이러한 제2 층(20)은 소프트하고 플렉서블한 특성을 가지는 실록산 계열의 소재로서, 예를 들어 RSiO3/2 화학식 구조를 가지는 폴리실세스퀴옥산이나 R2SiO3/2 화학식 구조를 갖는 폴리디알킬실록산(Polydialkylsiloxane)이 이용될 수 있다. 공정에 따라서 감광특성이 필요한 경우 적절한 관능기로서 페닐기, 실라놀기, 에폭시기, 아크릴기와 같은 유기 관능기를 도입할 수 있다.
프레임(30)은 제1, 2 층(10, 20)의 테두리를 따라 위치하는 비금속 소재로 형성될 수 있다. 이러한 프레임(30)은 투명 또는 반투명의 비금속 소재로서, 강화 글라스, 쿼츠 및 실리콘 웨이퍼 중 적어도 하나의 소재를 제2 층(20)에 UV 접착할 수 있다.
제2 개구부(122)의 홀 폭은 제1 개구부(112)의 홀 폭보다 크도록 형성하는 것이 바람직하다. 초고해상도 증착 마스크를 구현하기 위한 제1, 2 층(10, 20) 각각의 두께는 0.5 ㎛ ~ 10 ㎛ 에서 선택적으로 형성하는 것이 바람직하다. 구현하려는 해상도 ppi 에 따라 0.5 ㎛ ~ 10 ㎛ 범위에서 적절히 선택될 수 있을 것이다.
제1, 2 층(10, 20) 각각의 두께가 0.5 ㎛ ~ 10 ㎛ 로 형성되는 경우에, 제1 층(10)의 두께는, 제1 개구부(112)의 상면 홀 폭(W2)과 제1 개구부(112)의 저면 홀 폭(W1)의 제1 차이 값의 M(1 ~ 30) 배로 형성하는 것이 바람직하다. 아울러 제2 층(20)의 두께도, 제2 개구부(122) 상면 홀 폭(W3)과 제2 개구부(122) 저면 홀 폭(W2)의 제2 차이 값의 N(M보다 작은 값) 배로 형성될 수 있다.
전술한 제1 차이 값 및 제2 차이 값에 대한 제1, 2 층(10, 20)의 두께 배수는 최소 배수보다 작으면 초고해상도를 구현하기에 부적합하고 최고 배수보다 크면 쉐도우 이펙트에 따른 증착불량이 문제될 수 있다.
또한 제1 층(10)은 정전하 분포층을 형성할 수 있다. 제1 층(10)의 저면은 증착 공정 시에 증착 대상 기판과 정전하 분포층에 기초한 정전기 인력에 의해 부착되는 것이 바람직하다.
제2 실시예
도 3은 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 다른 실시예의 단면을 나타낸 단면도이다. 골격층(220)과 그 하부에 제1 유연층(210)과 골격층(220) 상부에 제2 유연층(230)이 형성되어 있으며, 제2 유연층(230)의 테두리를 따라 프레임(30)이 접합되어 있다. 제2 실시예도 제1 실시예 구성들을 동일하게 포함하지만 골격층(220) 하부에 제1 유연층(210)이 더 형성되어 있는 것에 차이가 있다. 찢어지거나 깨지기 쉬운 골격층(220)을 보완하기 위한 유연층을 골격층(220) 양면에 형성함으로써 마스크의 안정성을 보강할 수 있다. 제1 유연층(210)의 제3 개구부(212), 골격층(220)의 제4 개구부(222), 그리고 제2 유연층(230)의 제5 개구부(232)는 상하로 하나의 증착 홀을 이루는 것이 바람직하다.
제2 유연층(230)과 골격층(220) 사이에서 층 두께와 홀 폭 차이값과의 관계는 제1 실시예와 동일하다. 그리고 제1 유연층(210)의 경우에도 골격층(220)과의 관계에서 동일하게 적용될 수 있다. 다만 이 경우 제1 유연층(210)이 상대적으로 골격층(220) 하부에 있으므로 제1 실시예에서의 관계는 반대로 적용되는 것이 바람직하다.
제3 실시예
제1 실시예에서는 이중층, 제2 실시예에서는 3중층을 설명하였다. 본 실시예에서는 4중층 이상의 다층으로 형성될 수 있음을 설명한다.
예를 들어 4중층 경우 제2 실시예에서 제2 유연층(230) 위 또는 제1 유연층(210) 아래에 선택적으로 4번째 층을 적층할 수 있으며, 4번째 층은 자성을 띄는 자성층일 수 있다. 이후 다층을 이루는 각 층은 저마다 기능을 갖도록 형성할 수 있으며, 위치 또한 선택적으로 배치될 수 있다.
<증착용 마스크 제조방법>
제1 실시예
도 4 (a) ~ (f)는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 제1 실시예의 제조공정의 단면을 순차적으로 나타낸 도면이다. 도 4를 참조하면, 우선 스테이지(2)에 골격층(110)이 코팅되어 준비된다(S110).
다음 코팅된 골격층(110) 상면에 나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 제2 개구부(122)가 형성된 유연층(120)을 적층한다(S120). 나노임프린팅 리소그라피 공정의 경우 반대 요철을 갖는 스탬프를 이용하여 형성할 수 있고, 포토리소그래피의 공정의 경우 노광 및 현상을 통해 형성될 수 있을 것이다.
다음 유연층(120)을 식각 마스크로 이용하여 골격층(110)을 식각함으로써 골격층(110)에 제1 개구부(112)를 형성한다(S130).
다음 골격층(110, 220) 및 유연층(120)의 테두리를 따라 프레임(30)을 부착한다(S140).
마지막으로, 스테이지(2)로부터 골격층(110), 유연층(120) 및 프레임(30)을 포함하는 증착용 마스크를 박리함으로써(S150) 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크 제조방법의 제1 실시예가 수행될 수 있다. 여기서 마스크 박리는 레이저 리프트 오프(LLO) 또는 희생층을 이용하는 것이 바람직하다.
제2 실시예
도 5 (a) ~ (f)는 본 발명인 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크에 따른 제2 실시예의 제조공정의 단면을 순차적으로 나타낸 도면이다. 도 5를 참조하면, 우선 스테이지(2)에 제1 유연층(210)과 제1 유연층(210) 위에 골격층(110, 220)을 코팅한다(S210).
다음 나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 골격층(110, 220) 상부에 제4 개구부(222)가 형성된 제2 유연층(230)을 적층한다(S220).
다음 제2 유연층(230)을 식각 마스크로 이용하여 제1 유연층(210) 및 골격층(220)을 식각함으로써 골격층(220)에 제3 개구부(212)를 형성하고 제1 유연층(210)에 제5 개구부(232)를 형성하는 식각(Dry etching)이 수행된다(S230).
다음 제1 유연층(210), 골격층(220) 및 제2 유연층(230)의 테두리를 따라 프레임(30)을 부착한다(S240).
다음 스테이지(2)로부터 제1 유연층(210), 골격층(110, 220), 제2 유연층(230) 및 프레임(30)을 포함하는 증착용 마스크를 박리함으로써(S250) 이중층을 포함하는 초고해상도 증착용 마스크 제조방법의 제2 실시예가 수행될 수 있다. 여기서 마스크 박리는 레이저 리프트 오프(LLO) 또는 희생층을 이용하는 것이 바람직하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당 업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기의 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
2: 스테이지
10: 제1 층
112: 제1 개구부
20: 제2 층
122: 제2 개구부
30: 프레임
110, 220: 골격층
120: 유연층
210: 제1 유연층
212: 제3 개구부
222: 제4 개구부
230: 제2 유연층
232: 제5 개구부
10: 제1 층
112: 제1 개구부
20: 제2 층
122: 제2 개구부
30: 프레임
110, 220: 골격층
120: 유연층
210: 제1 유연층
212: 제3 개구부
222: 제4 개구부
230: 제2 유연층
232: 제5 개구부
Claims (7)
- 복수의 제1 개구부가 형성된 제1 층과, 상기 제1 층 상부에 위치하고 상기 복수의 제1 개구부에 대응하는 복수의 제2 개구부가 형성된 제2 층과, 상기 제1, 2 층의 테두리를 따라 위치하는 금속 또는 비금속 소재로 형성된 프레임을 포함하고,
상기 제2 개구부의 홀 폭은 상기 제1 개구부의 홀 폭보다 크고, 상기 제1, 2 층 각각의 두께는 0.5 ㎛ ~ 10 ㎛ 이며,
상기 제1 층의 두께는, 상기 제1 개구부의 상면 홀 폭과 상기 제1 개구부의 저면 홀 폭의 제1 차이 값의 M 배로 형성되고, 그리고 상기 제2 층의 두께는, 상기 제2 개구부 상면 홀 폭과 상기 제2 개구부 저면 홀 폭의 제2 차이 값의 N 배로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크.
여기서 M은 1 이상 30 이하의 값이고, N은 M보다 작은 양의 값이다.
- 제1 항에 있어서,
상기 제1 층은, 기계적 강도가 구현된 골격층이고, 열팽창계수가 음수로 작용하는 소재이거나 또는 실리콘, 지르코니아, 타이타늄, SiC, SiN 및 CNT 중 적어도 하나를 포함하는 무기 소재이고,
상기 제2 층은, 초고해상도 패터닝 특성을 갖는 유연층이고, 실록산 계열의 소재로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크.
- 제1 항에 있어서,
상기 제1 층은 정전하 분포층이 형성된 것이고,
상기 제1 층의 저면은 증착 대상 기판과 상기 정전하 분포층에 기초한 정전기 인력에 의해 부착되는 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크.
- 제1 항에 있어서,
상기 프레임은, 강화 글라스, 쿼츠 및 실리콘 웨이퍼 중 적어도 하나의 소재로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크.
- 제1 내지 제4항 중 어느 하나의 초고해상도 증착용 마스크는,
AR(Augmented Reality) 또는 VR(Virtual Reality) 용 OLED 디스플레이의 제조를 위한 증착용 마스크인 것을 특징으로 하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크.
- 스테이지에 골격층을 코팅하는 단계(S110);
나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 상기 골격층 상부에 제2 개구부가 형성된 유연층을 적층하는 단계(S120);
상기 유연층을 식각 마스크로 이용하여 상기 골격층을 식각함으로써 상기 골격층에 제1 개구부를 형성하는 식각단계(S130);
상기 골격층 및 상기 유연층의 테두리를 따라 프레임을 부착하는 단계(S140); 및
상기 스테이지로부터 상기 골격층, 상기 유연층 및 상기 프레임을 포함하는 증착용 마스크를 박리하는 단계(S150)를 포함하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크 제조방법.
- 스테이지에 제1 유연층과 상기 제1 유연층 위에 골격층을 코팅하는 단계(S210);
나노임프린팅 리소그라피 공정(Nano Imprinting Lithography) 또는 포토리소그래피 공정(photolithography)으로 상기 골격층 상부에 제4 개구부가 형성된 제2 유연층을 적층하는 단계(S220);
상기 제2 유연층을 식각 마스크로 이용하여 상기 제1 유연층 및 상기 골격층을 식각함으로써 상기 골격층에 제3 개구부를 형성하고 상기 제1 유연층에 제5 개구부를 형성하는 식각단계(S230);
상기 제1 유연층, 상기 골격층 및 상기 제2 유연층의 테두리를 따라 프레임을 부착하는 단계(S240); 및
상기 스테이지로부터 상기 제1 유연층, 상기 골격층, 상기 제2 유연층 및 상기 프레임을 포함하는 증착용 마스크를 박리하는 단계(S250)를 포함하는 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크 제조방법.
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| KR1020210080975A KR102615023B1 (ko) | 2021-06-22 | 2021-06-22 | 대면적 다중 박막 초고해상도 증착용 마스크 |
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